JP2005506579A - キノンジアジド硫酸エステル化合物を含む感光性樹脂組成物 - Google Patents
キノンジアジド硫酸エステル化合物を含む感光性樹脂組成物 Download PDFInfo
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Abstract
Description
【0001】
本発明は、LCD製造工程で用いられるポジ型感光性樹脂組成物に係り、より詳しくは、アルカリ可溶性樹脂と新規なキノンジアジドスルホン酸エステル化合物を含み、現像性、残膜率、耐薬品性などの多様な性能が優れており、パターン形成が容易であり、透過率が優れていて、液晶表示素子、集積回路素子などの層間絶縁膜を形成するのに適したポジ型感光性樹脂組成物に関するものである。
【背景技術】
【0002】
TFT型液晶表示素子や集積回路素子には、層間に配置される配線の間を絶縁するために層間絶縁膜を用いている。
【0003】
このような層間絶縁膜を形成する場合には、必要とするパターン形状の層間絶縁膜を得るための、工程数が少なくて平坦性に優れた感光性材料が用いられている。
【0004】
また、TFT型液晶ディスプレイ(LCD)の表示品位向上に伴ってTFT型液晶表示素子の構造も変化し、最近、層間絶縁膜の膜厚を厚くして平坦性を高めて用いる場合が増加している。
【0005】
しかし、前記のように層間絶縁膜用感光性樹脂組成物の厚さが厚くなると、膜厚の増加による透明性の低下が問題になった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
したがって、本発明は、前記のような従来技術の問題点を考慮して、ポジ型感光性絶縁膜樹脂に適する感光性化合物を提供することを目的とする。
【0007】
本発明の他の目的は、前記感光性化合物を含み、層間絶縁膜に使用すると、パターン形成性、感光性、溶解性、耐薬品性、耐熱性などが優れる感光性樹脂組成物を提供することにある。
【0008】
本発明のまた他の目的は、厚い膜であっても透過率が優れていて、LCDの絶縁膜として適する感光性樹脂組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0009】
前記目的を達成するために、本発明は、感光性組成物において、
(A)i)不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物、又はこれらの混合物;
ii)エポキシ基含有不飽和化合物;及び
iii)オレフィン系不飽和化合物;を共重合して得られたポリスチレン換算の重量平均分子量が5000〜20000であるアルカリ可溶性のアクリル系共重合体樹脂;並びに
(B)下記の化学式1に表示される化合物を反応して得られた感光性キノンジアジドスルホン酸エステル化合物を感光性成分として含む感光性樹脂組成物を提供する。
【0010】
【化1】
前記化学式1で、R1乃至R6は、各々独立的に又は同時に、水素、ハロゲン、炭素数1乃至4のアルキル基、炭素数1乃至4のアルケニル基又は水酸基であり;R7及びR8は、各々独立的に又は同時に、水素、ハロゲン又は炭素数1乃至4のアルキル基であり;R9乃至R11は、各々独立的に又は同時に、水素又は炭素数1乃至4のアルキル基である。
【発明を実施するための最良の形態】
【0011】
以下、本発明を詳細に説明する。
【0012】
本発明は、アルカリ可溶性樹脂と新規な感光性化合物を含む感光性樹脂組成物を提供する。この組成物は、LCD製造工程で層間絶縁膜を形成する際に用いられる。これによれば、感光性、残膜率、耐薬品性などが優れており、パターン形成が容易であり、透過率が優れていて、液晶表示素子、集積回路素子などの層間絶縁膜を形成するのに適している。
【0013】
〔感光性樹脂組成物〕
本発明の感光性樹脂組成物の各成分についてより具体的に説明すれば下記の通りである。
【0014】
(A)アルカリ可溶性樹脂
本発明の感光性樹脂組成物において、(A)アルカリ可溶性樹脂は、i)不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物、又はこれらの混合物;ii)エポキシ基含有不飽和化合物;及びiii)オレフィン系不飽和化合物を単量体として用いる。これらは溶媒及び重合開始剤の存在下でラジカル反応して、未反応のモノマーと重合開始剤の量比が5%未満であり、最終的に得られた共重合体の分子量が5000〜20000になるように製造するのが重要である。
【0015】
これをより具体的に説明する。
【0016】
本発明で共重合時に用いられるi)不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物又はこれらの混合物の使用量は、単量体全体に対して5〜40重量%であるのが好ましく、10〜30重量%であるのがより好ましい。前記単量体の使用量が5重量%未満であるとアルカリ水溶液に溶解するのが難しくなり、反面、40重量%を超えると、アルカリ水溶液に対する溶解性が過度に大きくなる。
【0017】
前記i)化合物の具体的な例としては、アクリル酸、メタクリル酸などの不飽和モノカルボン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸などの不飽和ジカルボン酸、及びこれら不飽和ジカルボン酸の無水物などがあり、これらを単独又は2種以上混合して用いることができる。これらの中で、アクリル酸、メタクリル酸、又は無水マレイン酸を用いるのが、共重合反応性とアルカリ水溶液に対する溶解性が優れているので好ましい。
【0018】
また、本発明で共重合時に用いられるii)エポキシ基含有不飽和化合物の使用量は、単量体全体に対して10〜70重量%が好ましく、20〜60重量%がより好ましい。前記エポキシ基含有不飽和化合物の使用量が10重量%未満であると、得られるパターンの耐熱性が低下する傾向があり、70重量%を超えると、共重合体の保存安定性が低下する傾向がある。
【0019】
前記エポキシ含有不飽和化合物としては、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、α−エチルグリシジルアクリレート、α−n−プロピルグリシジルアクリレート、α−n−ブチルグリシジルアクリレート、アクリル酸−β−メチルグリシジル、メタクリル酸−β−メチルグリシジル、アクリル酸−β−エチルグリシジル、メタクリル酸−β−エチルグリシジル、アクリル酸−3,4−エポキシブチル、メタクリル酸−3,4−エポキシブチル、アクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、メタクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテルなどがあり、これらを単独又は2種以上混合して用いることができる。好ましくは、グリシジルメタクリレート、メタクリル酸−β−メチルグリシジル、メタクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテルなどを用いるのが、共重合反応性及び得られたパターンの耐熱性を高めるので良い。
【0020】
また、本発明で共重合時に用いられるiii)オレフィン系不飽和化合物の使用量は、単量体全体に対して10〜70重量%が好ましく、20〜50重量%がより好ましい。前記オレフィン系不飽和化合物の使用量が10重量%未満であると、アクリル系共重合体の保存安定性が低下する傾向があり、70重量%を超えると、アクリル系共重合体がアルカリ水溶液に溶解し難くなる。
【0021】
前記オレフィン系不飽和化合物の具体的な例としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、sec−ブチルメタクリレート、t−ブチルメタクリレート、メチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、2−メチルシクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−メチルシクロヘキシルアクリレート 、ジシクロペンタニルオキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、フェニルメタクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ビニルトルエン、p−メチルスチレン、1,3−ブタジエン、イソプレン、及び2,3−ジメチル 1,3−ブタジエンなどがあり、これらを単独又は2種以上混合して用いることができる。好ましくは、スチレン、ジシクロペンタニルメタクリレート、又はp−メチルスチレンが、共重合反応性及びアルカリ水溶液に対する溶解性の側面から有利である。
【0022】
前記アルカリ可溶性樹脂の重合に用いられる溶媒の具体的な例としては、メタノール、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエチルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエチルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブチルエーテルプロピオネート、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、4−ヒドロキシ 4−メチル 2−ペンタノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、2−ヒドロキシエチルプロピオネート、2−ヒドロキシ2−メチルメチルプロピオネート、2−ヒドロキシ2−メチルエチルプロピオネート、ヒドロキシメチルアセテート、ヒドロキシエチルアセテート、ヒドロキシブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、3−ヒドロキシメチルプロピオネート、3−ヒドロキシエチルプロピオネート、3−ヒドロキシプロピルプロピオネート、3−ヒドロキシブチルプロピオネート、2−ヒドロキシ 3−メチルメチルブタノエート、メトキシメチルアセテート、メトキシエチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、メトキシブチルアセテート、エトキシメチルアセテート、エトキシエチルアセテート、エトキシプロピルアセテート、エトキシブチルアセテート、プロポキシメチルアセテート、プロポキシエチルアセテート、プロポキシプロピルアセテート、プロポキシブチルアセテート、ブトキシメチルアセテート、ブトキシエチルアセテート、ブトキシプロピルアセテート、ブトキシブチルアセテート、2−メトキシメチルプロピオネート、2−メトキシエチルプロピオネート、2−メトキシプロピルプロピオネート、2−メトキシブチルプロピオネート、2−エトキシメチルプロピオネート、2−エトキシエチルプロピオネート、2−エトキシプロピルプロピオネート、2−エトキシブチルプロピオネート、2−ブトキシメチルプロピオネート、2−ブトキシエチルプロピオネート、2−ブトキシプロピルプロピオネート、2−ブトキシブチルプロピオネート、3−メトキシメチルプロピオネート、3−メトキシエチルプロピオネート、3−メトキシプロピルプロピオネート、3−メトキシブチルプロピオネート、3−エトキシメチルプロピオネート、3−エトキシエチルプロピオネート、3−エトキシプロピルプロピオネート、3−エトキシブチルプロピオネート、3−プロポキシメチルプロピオネート、3−プロポキシエチルプロピオネート、3−プロポキシプロピルプロピオネート、3−プロポキシブチルプロピオネート、3−ブトキシメチルプロピオネート、3−ブトキシエチルプロピオネート、3−ブトキシプロピルプロピオネート、3−ブトキシブチルプロピオネートなどがあり、これらを単独又は2種以上混合して用いることができる。
【0023】
前記アルカリ可溶性樹脂の重合に用いられる重合開始剤としてはラジカル重合開始剤を用い、具体的な例としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル))、2,2’−アゾビス(4−メトキシ2,4−ジメチルバレロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、ジメチル2,2’−アゾビスイソブチレートなどがある。
【0024】
本発明で用いる(A)アルカリ可溶性樹脂は、ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)が5000〜20000であるのが好ましい。前記Mwが5000未満であると、得られた膜の現像性、残膜率などが低下したりパターン形状、耐熱性などが劣る傾向があり、Mwが20000を超えると、感度が低下したりパターン形状が劣る傾向がある。
【0025】
本発明で用いられる(A)アルカリ可溶性樹脂の重合は、共重合体に対する溶解度が優れた溶媒で反応を行い、その後得られた共重合体溶液に、(A)の共重合体に対して溶解度の低い貧溶媒を滴下又は混合して共重合体溶液を沈殿させる。その次に、沈殿した共重合体を含む溶液層を分離し、回収して、未反応のモノマーと重合開始剤の量比が5%以下である共重合体溶液を得る。前記貧溶媒は、水、ヘキサン、ヘプタン、及びトルエンからなる群より1種以上選択されるのが好ましい。
【0026】
この時、未反応モノマーと重合開始剤の量比が5%を超えると、透過率と残膜率が低下し、耐熱性と耐薬品性にも悪い影響を与える虞がある。
【0027】
(B)キノンジアジドスルホン酸エステル化合物
本発明の感光性樹脂組成物において、感光性化合物として前記キノンジアジドスルホン酸エステル化合物を用いるのが好ましい。
【0028】
本発明で用いられるキノンジアジド化合物としては、1,2−キノンジアジド4−スルホン酸エステル、1,2−キノンジアジド 5−スルホン酸エステル、1,2−キノンジアジド 6−スルホン酸エステルなどの1,2−キノンジアジド化合物が挙げられる。
【0029】
このようなキノンジアジドスルホン酸エステル化合物は、ナフトキノンジアジドスルホン酸ハロゲン化合物と前記化学式1に表示されるフェノール化合物とを弱塩基下で反応して得られる。
【0030】
前記化学式1に表示される化合物の具体的な例は次の通りである:
【0031】
【化1a】
【0032】
【化1b】
【0033】
【化1c】
【0034】
【化1d】
前記化合物の合成時、エステル化の程度は50〜85%が最も好ましく、エステル化の程度が50%未満であると残膜率が悪くなる傾向があり、85%を超えると保管安定性が低下する傾向がある。
【0035】
その他、キノンジアジドスルホン酸エステル化合物に用いられるフェノール化合物の例としては、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,4,6−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,2’−テトラヒドロキシベンゾフェノン又は4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4,3’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4,2’−テトラヒドロキシ 4’−メチルベンゾフェノン、2,3,4,4’−テトラヒドロキシ 3’−メトキシベンゾフェノン、2,3,4,2’又は2,3,4,6’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、2,4,6,3’、2,4,6,4’又は2,4,6,5’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、3,4,5,3’、3,4,5,4’又は3,4,5,5’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、ビス(2,4−ジヒドロキシフェニル)メタン、ビス(p−ヒドロキシフェニル)メタン、トリ(p−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,1−トリ(p−ヒドロキシフェニル)エタン、ビス(2,3,4−トリヒドロキシフェニル)メタン、2,2−ビス(2,3,4−トリヒドロキシフェニル)プロパン、1,1,3−トリス(2,5−ジメチル 4−ヒドロキシフェニル)−3−フェニルプロパン、4,4’−[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール、ビス(2,5−ジメチル 4−ヒドロキシフェニル)−2−ヒドロキシフェニルメタンなどがあり、これらを反応して得られたキノンジアジドスルホン酸エステル化合物を単独又は2種以上混合して用いる。
【0036】
キノンジアジドスルホン酸エステル化合物の使用量は、(A)のアルカリ可溶性樹脂100重量%に対して5〜100重量%用いるのが好ましく、10〜50重量%がより好ましい。前記キノンジアジドスルホン酸エステル化合物の使用量が5重量%未満であると、露光部と非露光部の溶解度の差が小さくなってパターン形成が難しくなり、100重量%を超えると、短時間だけ光を照射する際、未反応のキノンジアジドスルホン酸エステル化合物が多量残存するため、アルカリ水溶液への溶解度が過度に低くなり、現像が難しくなる。
【0037】
また、本発明の感光性樹脂組成物は必要に応じて、(C)アルカノール基が含まれた窒素含有架橋剤、(D)エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物、(E)エポキシ樹脂、(F)接着促進剤、及び(G)界面活性剤をさらに含むことができる。
【0038】
前記(C)アルカノール基が含まれた窒素含有架橋剤は、化合物中に少なくとも一つ以上が炭素数1乃至4のアルカノール基を含み、(A)成分のアルカリ可溶性樹脂の分子と架橋構造を形成する。このような窒素含有架橋剤としては、尿素とホルムアルデヒドの縮合生成物、メラミンとホルムアルデヒドの縮合生成物、アルコール類から得られたメチロール尿素アルキルエーテル類、メチロールメラミンアルキルエーテル類などが利用できる。前記アルカノール基が含まれた窒素含有架橋剤としては、下記の化学式2、3、4、5、6、7又は8に表示される化合物を用いるのがより好ましい。
【0039】
【化2】
前記化学式2で、R1、R2、及びR3は、−CH2O(CH2)nCH3であり、この時、nは0乃至3の整数であり;R4、R5、及びR6は、水素原子、−(CH2)mOH(mは1乃至4の整数)、又は−CH2O(CH2)nCH3(nは0乃至3の整数)であり、少なくとも一つ以上がアルカノールであり、
【0040】
【化3】
前記化学式3で、Rは、炭素数1乃至4のアルキル又はフェニル基であり;R’は、水素原子、−(CH2)mOH(mは1乃至4)、又は−CH2O(CH2)nCH3(nは0乃至3)であり、少なくとも一つ以上がアルカノールであり、
【0041】
【化4】
【0042】
【化5】
【0043】
【化6】
【0044】
【化7】
【0045】
【化8】
前記化学式4乃至8で、Rは、水素原子、−(CH2)mOH(mは1乃至4)、又は−CH2O(CH2)nCH3(nは0乃至3)であり、少なくとも一つ以上がアルカノールである。
【0046】
前記尿素−ホルムアルデヒド縮合生成物の具体的な例としては、モノメチロール尿素、ジメチロール尿素などがある。前記メラミン−ホルムアルデヒド縮合生成物の具体的な例としてはヘキサメチロールメラミンがあり、その他に、メラミンとホルムアルデヒドの部分的な縮合生成物も利用できる。前記メチロール尿素アルキルエーテル類は、尿素−ホルムアルデヒド縮合生成物にアルコール類を反応して得られるものであって、その具体的例としては、モノメチル尿素メチルエーテル、ジメチル尿素メチルエーテルがある。
【0047】
前記メチロールメラミンアルキルエーテル類は、メラミン−ホルムアルデヒド縮合生成物にアルコール類を反応して得られるものであって、その具体的例としては、ヘキサメチロールメラミンヘキサメチルエーテル、ヘキサメチロールメラミンヘキサブチルエーテルがある。また、メラミンのアミノ基の水素原子がヒドロキシメチル基又はメトキシメチル基で置換された構造の化合物、メラミンのアミノ基の水素原子がブトキシメチル基又はメトキシメチル基で置換された構造の化合物などが挙げられる。これらの中でメチロールメラミンアルキルエーテル類を用いるのが最も好ましい。
【0048】
(C)の窒素含有架橋剤の使用量は、(A)のアルカリ可溶性樹脂100重量%に対して2乃至35重量%を用いるのが好ましく、さらに好ましくは5乃至25重量%である。前記(C)成分の含量が2重量%未満であると充分な架橋構造が得られなくなり、また、35重量%を超えると非露光部の厚さが過度に減少し、透過率が低下する。
【0049】
前記(D)エチレン性不飽和二重結合を有する重合物は、感光性樹脂組成物から得られるパターンの耐熱性、感度などを向上させることができる。前記エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物の例としては、単官能メタクリレート、2官能メタクリレート又は3官能以上のメタクリレートを用いることができる。好ましくは、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、3−メトキシブチルメタクリレート、2−メタクリルオキシエチル 2−ヒドロキシプロピルフタレートなどの単官能メタクリレート;エチレングリコールメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、1,9−ノナンジオールジメタクリレート、プロピレングリコールメタクリレート、テトラエチレングリコールメタクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレートなどの2官能メタクリレート;トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトルトリメタクリレート、ペンタエリスリトルテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトルペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトルヘキサメタクリレートなどの3官能以上のメタクリレートなどがあり、これらを単独又は2種以上混合して用いることができる。前記(D)化合物の使用量は、前記(A)アルカリ可溶性樹脂100重量%に対して1乃至50重量%、より好ましくは5乃至30重量%用いるのが良い。
【0050】
前記(E)エポキシ樹脂は、感光性樹脂組成物から得られるパターンの耐熱性、感度などを向上させることができる。前記エポキシ樹脂の具体的例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、(A)アルカリ可溶性樹脂とは異なるグリシジルメタクリレートを(共)重合した樹脂などがある。最も好ましくは、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、又はグリシジルエステル型エポキシ樹脂である。前記エポキシ樹脂の使用量は、アルカリ可溶性樹脂100重量%に対して0.1乃至30重量%であるのが好ましく、その使用量が30重量%を超えるとアルカリ可溶性樹脂に対する相溶性が低下し、塗布が困難になる。
【0051】
前記(F)接着促進剤は基板との接着性を向上させるために用い、アルカリ可溶性樹脂100重量%に対して0.1乃至20重量%用いることが好ましい。このような接着促進剤としては、カルボキシル基、メタクリル基、イソシアネート基、エポキシ基などの反応性置換基を有するシランカップリング剤などが用いられる。具体的例としては、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシランなどがある。
【0052】
また、前記(G)界面活性剤は、感光性組成物の塗布性や現像性を向上させるために用いる。このような界面活性剤としては、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、F171、F172、F173(商品名;大日本インキ社)、FC430、FC431(商品名;住友スリーエム社)、KP341(商品名;信越化学工業社)などがある。前記界面活性剤の使用量は、固形分100重量%に対して0.0001乃至2重量%用いるのが好ましい。
【0053】
一方、本発明は、前記(A)アルカリ可溶性樹脂、及び(B)1,2−キノンジアジド化合物を含み、必要に応じて(C)〜(G)成分をさらに含む感光性樹脂組成物に溶媒を添加して、感光性樹脂組成物コーティング溶液を提供する。
【0054】
このような本発明の感光性樹脂組成物コーティング溶液の固形分濃度は30〜70重量%であるのが好ましいが、これは0.2μm程度のミリポアフィルターなどで濾過した後に用いる。
【0055】
前記感光性樹脂組成物コーティング溶液の製造に用いる溶媒としては、メタノール、エタノールなどのアルコール類;テトラヒドロフランなどのエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテル類;メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類;ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどのジエチレングリコール類;プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールブチルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類;プロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブチルエーテルプロピオネートのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、4−ヒドロキシ 4−メチル 2−ペンタノンなどのケトン類;、及び酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、2−ヒドロキシエチルプロピオネート、2−ヒドロキシ2−メチルメチルプロピオネート、2−ヒドロキシ2−メチルエチルプロピオネート、ヒドロキシメチルアセテート、ヒドロキシエチルアセテート、ヒドロキシブチルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、3−ヒドロキシメチルプロピオネート、3−ヒドロキシエチルプロピオネート、3−ヒドロキシプロピルプロピオネート、3−ヒドロキシブチルプロピオネート、2−ヒドロキシ 3−メチルメチルブタノエート、メトキシメチルアセテート、メトキシエチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、メトキシブチルアセテート、エトキシメチルアセテート、エトキシエチルアセテート、エトキシプロピルアセテート、エトキシブチルアセテート、プロポキシメチルアセテート、プロポキシエチルアセテート、プロポキシプロピルアセテート、プロポキシブチルアセテート、ブトキシメチルアセテート、ブトキシエチルアセテート、ブトキシプロピルアセテート、ブトキシブチルアセテート、2−メトキシメチルプロピオネート、2−メトキシエチルプロピオネート、2−メトキシプロピルプロピオネート、2−メトキシブチルプロピオネート、2−エトキシメチルプロピオネート、2−エトキシエチルプロピオネート、2−エトキシプロピルプロピオネート、2−エトキシブチルプロピオネート、2−ブトキシメチルプロピオネート、2−ブトキシエチルプロピオネート、2−ブトキシプロピルプロピオネート、2−ブトキシブチルプロピオネート、3−メトキシメチルプロピオネート、3−メトキシエチルプロピオネート、3−メトキシプロピルプロピオネート、3−メトキシブチルプロピオネート、3−エトキシメチルプロピオネート、3−エトキシエチルプロピオネート、3−エトキシプロピルプロピオネート、3−エトキシブチルプロピオネート、3−プロポキシメチルプロピオネート、3−プロポキシエチルプロピオネート、3−プロポキシプロピルプロピオネート、3−プロポキシブチルプロピオネート、3−ブトキシメチルプロピオネート、3−ブトキシエチルプロピオネート、3−ブトキシプロピルプロピオネート、3−ブトキシブチルプロピオネートなどのエステル類などがある。最も好ましくは、溶解性、各成分との反応性、及び塗布膜の形成が容易なグリコールエーテル類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、及びジエチレングリコール類から選択して用いるのが良い。
【0056】
本発明は、前記で得られた感光性樹脂組成物をスプレー法、ロールコーター法、回転塗布法によって基板表面に塗布し、プリベークによって溶媒を除去して絶縁膜を形成する。前記プリベークの条件は、70〜110℃で1〜15分間に実施するのが好ましい。その後、可視光線、紫外線、遠紫外線、エックス線などを塗布膜に照射した後、現像液で現像して不必要な部分を除去することによって所定パターンを形成する。
【0057】
前記現像液としてはアルカリ水溶液が用いられる。例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウムなどの無機アルカリ類;エチルアミン、n−プロピルアミンなどの1級アミン類;ジエチルアミンなどの2級アミン類;トリメチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエチルアミン、トリエチルアミンなどの3級アミン類;ジメチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアルコールアミン類;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシドなどの4級アンモニウム塩;の水溶液を用いることができる。前記現像液は、アルカリ性化合物を0.1〜10%の濃度に溶解して用い、メタノール、エタノールなどのような水溶性有機溶媒、及び界面活性剤を適量添加することができる。
【0058】
前記現像後、超純水で30〜90秒間洗浄して不必要な部分を除去し、乾燥してパターンを形成する。形成されたパターンに紫外線などの光を照射した後、パターンをオーブンなどの加熱装置により150〜250℃で30〜90分間加熱処理して最終パターンを得る。
【0059】
したがって、本発明は、前記のように透過率に優れたパターンが形成された液晶表示素子や半導体素子を提供できるようになる。
【0060】
以下、本発明を下記の実施例及び比較例を参照して説明する。しかし、これらの例は本発明を例示するためのものであり、本発明がこれらに限られるわけではない。
【実施例】
【0061】
合成例1
3口フラスコに前記化学式1−9の化合物20g、1,2−ナフトキノンジアジド 5−スルホン酸クロライド26.57g、及びジオキサン186.29gを投入し、常温で攪拌して溶解した。充分に溶解した後、トリエチルアミン20%ジオキサン溶液60.07gを30分間ゆっくり滴下し、3時間反応をさせた。その後、析出したトリエチルアミン塩酸塩を濾過して除去し、濾液を弱酸性水溶液にゆっくり滴下して反応生成物を析出させた。析出した反応生成物を超純水で充分に洗浄し、濾過した後、40℃のオーブンで乾燥してキノンジアジド化合物(B1)を得た。
【0062】
合成例2
3口フラスコに前記化学式1−9の化合物20g、1,2−ナフトキノンジアジド 5−スルホン酸クロライド30.37g、及びジオキサン201.48gを投入し、常温で攪拌して溶解した。充分に溶解した後、トリエチルアミン20%ジオキサン溶液68.65gを30分間ゆっくり滴下し、3時間反応をさせた。その後、析出したトリエチルアミン塩酸塩を濾過して除去し、濾液を弱酸性水溶液にゆっくり滴下して反応生成物を析出させた。析出した反応生成物を超純水で充分に洗浄し、濾過した後、40℃のオーブンで乾燥してキノンジアジド化合物(B2)を得た。
【0063】
合成例3
3口フラスコに前記化学式1−11の化合物20g、1,2−ナフトキノンジアジド 5−スルホン酸クロライド22.18g、及びジオキサン168.71gを投入し、常温で攪拌して溶解した。充分に溶解した後、トリエチルアミン20%ジオキサン溶液50.13gを30分間ゆっくり滴下し、3時間反応をさせた。その後、析出したトリエチルアミン塩酸塩を濾過して除去し、濾液を弱酸性水溶液にゆっくり滴下して反応生成物を析出させた。析出した反応生成物を超純水で充分に洗浄し、濾過した後、40℃のオーブンで乾燥してキノンジアジド化合物(B3)を得た。
【0064】
合成例4
3口フラスコに前記化学式1−11の化合物20g、1,2−ナフトキノンジアジド 5−スルホン酸クロライド25.35g、及びジオキサン181.38gを投入し、常温で攪拌して溶解した。充分に溶解した後、トリエチルアミン20%ジオキサン溶液57.29gを30分間ゆっくり滴下し、3時間反応をさせた。その後、析出したトリエチルアミン塩酸塩を濾過して除去し、濾液を弱酸性水溶液にゆっくり滴下して反応生成物を析出させた。析出した反応生成物を超純水で充分に洗浄し、濾過した後、40℃のオーブンで乾燥してキノンジアジド化合物(B4)を得た。
【0065】
合成例5
3口フラスコに化学式1−25の化合物20g、1,2−ナフトキノンジアジド 5−スルホン酸クロライド22.62g、及びジオキサン170.50gを投入し、常温で攪拌して溶解した。充分に溶解した後、トリエチルアミン20%ジオキサン溶液51.14gを30分間ゆっくり滴下し、3時間反応させた。その後、析出したトリエチルアミン塩酸塩を濾過して除去し、濾液を弱酸性水溶液にゆっくり滴下して反応生成物を析出させた。析出した反応生成物を超純水で充分に洗浄し、濾過した後、40℃のオーブンで乾燥してキノンジアジド化合物(B5)を得た。
【0066】
合成例6
3口フラスコに化学式1−25の化合物20g、1,2−ナフトキノンジアジド 5−スルホン酸クロライド25.86g、及びジオキサン183.43gを投入し、常温で攪拌して溶解した。充分に溶解した後、トリエチルアミン20%ジオキサン溶液58.45gを30分間ゆっくり滴下し、3時間反応させた。その後、析出したトリエチルアミン塩酸塩を濾過して除去し、濾液を弱酸性水溶液にゆっくり滴下して反応生成物を析出させた。析出した反応生成物を超純水で充分に洗浄し、濾過した後、40℃のオーブンで乾燥してキノンジアジド化合物(B6)を得た。
【0067】
合成例7
3口フラスコに化学式1−26の化合物20g、1,2−ナフトキノンジアジド 5−スルホン酸クロライド25.49g、及びジオキサン181.97gを投入し、常温で攪拌して溶解した。充分に溶解した後、トリエチルアミン20%ジオキサン溶液61.93gを30分間ゆっくり滴下し、3時間反応させた。その後、析出したトリエチルアミン塩酸塩を濾過して除去し、濾液を弱酸性水溶液にゆっくり滴下して反応生成物を析出させた。析出した反応生成物を超純水で充分に洗浄し、濾過した後、40℃のオーブンで乾燥してキノンジアジド化合物(B7)を得た。
【0068】
合成例8
3口フラスコに化学式1−26の化合物20g、1,2−ナフトキノンジアジド 5−スルホン酸クロライド29.13g、及びジオキサン196.54gを投入し、常温で攪拌して溶解した。充分に溶解した後、トリエチルアミン20%ジオキサン溶液65.86gを30分間ゆっくり滴下し、3時間反応させた。その後、析出したトリエチルアミン塩酸塩を濾過して除去し、濾液を弱酸性水溶液にゆっくり滴下して反応生成物を析出させた。析出した反応生成物を超純水で充分に洗浄し、濾過した後、40℃のオーブンで乾燥してキノンジアジド化合物(B8)を得た。
【0069】
合成例9
3口フラスコに化学式1−27の化合物20g、1,2−ナフトキノンジアジド 5−スルホン酸クロライド23.97g、及びジオキサン175.89gを投入し、常温で攪拌して溶解した。充分に溶解した後、トリエチルアミン20%ジオキサン溶液54.19gを30分間ゆっくり滴下し、3時間反応させた。その後、析出したトリエチルアミン塩酸塩を濾過して除去し、濾液を弱酸性水溶液にゆっくり滴下して反応生成物を析出させた。析出した反応生成物を超純水で充分に洗浄し、濾過した後、40℃のオーブンで乾燥してキノンジアジド化合物(B9)を得た。
【0070】
合成例10
3口フラスコに化学式1−27の化合物20g、1,2−ナフトキノンジアジド 5−スルホン酸クロライド27.40g、及びジオキサン189.59gを投入し、常温で攪拌して溶解した。充分に溶解した後、トリエチルアミン20%ジオキサン溶液61.93gを30分間ゆっくり滴下し、3時間反応させた。その後、析出したトリエチルアミン塩酸塩を濾過して除去し、濾液を弱酸性水溶液にゆっくり滴下して反応生成物を析出させた。析出した反応生成物を超純水で充分に洗浄し、濾過した後、40℃のオーブンで乾燥してキノンジアジド化合物(B10)を得た。
【0071】
合成例11
冷却管と撹拌器を備えたフラスコに、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)7重量%及びテトラヒドロフラン200重量%、メタクリル酸13重量%、グリシジルメタクリレート24重量%、スチレン28重量%、2−ヒドロキシエチルアクリレート5重量%、イソボルニルアクリレート30重量%を投入し、窒素置換した後、緩慢に攪拌を始めた。反応溶液を62℃まで上昇させ、この温度を8時間維持して、共重合体[a−1]を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液[a−1]にヘキサン900重量%を滴下して共重合体を沈殿させた。沈殿した共重合体溶液を分離し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート150重量%を入れて、40℃まで加熱及び減圧蒸留して共重合体[A−1]を得た。得られた共重合体溶液の固形分濃度は30%であり、GPC分析結果、未反応モノマーと重合開始剤の量比が1.6%であり、重量平均分子量(Mw)は9400であった。
【0072】
合成例12
冷却管と撹拌器を備えたフラスコに、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)7重量%及びテトラヒドロフラン200重量%、メタクリル酸15重量%、グリシジルメタクリレート15重量%、スチレン30重量%、2−ヒドロキシエチルアクリレート7重量%、イソボルニルアクリレート33重量%を投入し、窒素置換した後、緩慢に攪拌を始めた。反応溶液を62℃まで上昇させ、この温度を8時間維持して、共重合体[a−2]を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液[a−2]にヘキサン900重量%を滴下して共重合体を沈殿させた。沈殿した共重合体溶液を分離し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート150重量%を入れて、40℃まで加熱及び減圧蒸留して共重合体[A−2]を得た。得られた共重合体溶液の固形分濃度は30%であり、GPC分析結果、未反応モノマーと重合開始剤の量比が0.7%であり、重量平均分子量(Mw)は9300であった。
【0073】
[実施例1]
ポジ型感光性硬化膜組成物の製造
合成例11で得られた重合体溶液(共重合体[A−1])100重量%(固形分と同一)、及び合成例1で得られた化合物B1を25重量%混合し、固形分濃度が35重量%になるようにジエチレングリコールジメチルエーテルに溶解した後、0.2μmのミリポアフィルターで濾過して、ポジ型感光性硬化膜組成物の溶液を製造した。
【0074】
前記で製造された感光性樹脂組成物に対して下記のような方法で物性を評価した後、その結果を下記表1に示した。
【0075】
1)感度:ガラス基板上にスピンコーターを用いて前記組成物溶液を塗布した後、90℃で2分間ホットプレート上でプリベークして膜を形成した。
【0076】
前記で得られた膜に所定パターンマスクを用いて、365nmでの強度が15mW/cm2である紫外線を20秒間照射した。その次に、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド2.38重量%の水溶液で25℃で1分間現像した後、超純水で1分間洗浄した。
【0077】
その後、前記で形成されたパターンに365nmでの強度が15MW/cm2である紫外線を34秒間照射し、オーブンで220℃で60分間加熱することによって硬化させた。
【0078】
2)解像度:前記で得られたパターン膜において形成された最小の大きさにした。
【0079】
3)残膜率:現像前後の膜の厚さの変化率で評価した。
【0080】
4)透明性:分光光度計を用い、パターン膜の400nmの透過率を測定した。
【0081】
[実施例2]
合成例1で製造された1,2−キノンジアジド化合物(B1)を含む重合体溶液の代わりに、合成例2で製造された1,2−キノンジアジド化合物(B2)を含む重合体溶液を用いたことを除いては、前記実施例1と同じ方法で組成物溶液を製造して物性を評価し、その結果を下記表1に示した。
【0082】
[実施例3]
合成例1で製造された1,2−キノンジアジド化合物(B1)を含む重合体溶液の代わりに、合成例3で製造された1,2−キノンジアジド化合物(B3)を含む重合体溶液を用いたことを除いては、前記実施例1と同じ方法で組成物溶液を製造して物性を評価し、その結果を下記表1に示した。
【0083】
[実施例4]
合成例1で製造された1,2−キノンジアジド化合物(B1)を含む重合体溶液の代わりに、合成例4で製造された1,2−キノンジアジド化合物(B4)を含む重合体溶液を用いたことを除いては、前記実施例1と同じ方法で組成物溶液を製造して物性を評価し、その結果を下記表1に示した。
【0084】
[実施例5]
合成例1で製造された1,2−キノンジアジド化合物(B1)を含む重合体溶液の代わりに、合成例5で製造された1,2−キノンジアジド化合物(B5)を含む重合体溶液を用いたことを除いては、前記実施例1と同じ方法で組成物溶液を製造して物性を評価し、その結果を下記表1に示した。
【0085】
[実施例6]
合成例1で製造された1,2−キノンジアジド化合物(B1)を含む重合体溶液の代わりに、合成例6で製造された1,2−キノンジアジド化合物(B6)を含む重合体溶液を用いたことを除いては、前記実施例1と同じ方法で組成物溶液を製造して物性を評価し、その結果を下記表1に示した。
【0086】
[実施例7]
合成例11で製造された共重合体溶液[A−1]の代わりに、合成例12で製造された共重合体溶液[A−2]を用い、合成例1で製造された1,2−キノンジアジド化合物(B1)の代わりに、合成例7で製造された1,2−キノンジアジド化合物(B7)を含む重合体溶液を用いたことと、現像液としてテトラメチルアンモニウムヒドロキシド0.8重量%水溶液を用いたことを除いては、前記実施例1と同じ方法で組成物溶液を製造し、評価した。その結果を下記表1に示した。
【0087】
[実施例8]
合成例11で製造された共重合体溶液[A−1]の代わりに、合成例12で製造された共重合体溶液[A−2]を用い、合成例1で製造された1,2−キノンジアジド化合物(B1)の代わりに、合成例8で製造された1,2−キノンジアジド化合物(B8)を含む重合体溶液を用いたことと、現像液としてテトラメチルアンモニウムヒドロキシド0.8重量%水溶液を用いたことを除いては、前記実施例1と同じ方法で組成物溶液を製造し、評価した。その結果を下記表1に示した。
【0088】
[実施例9]
合成例11で製造された共重合体溶液[A−1]の代わりに、合成例12で製造された共重合体溶液[A−2]を用い、合成例1で製造された1,2−キノンジアジド化合物(B1)の代わりに、合成例9で製造された1,2−キノンジアジド化合物(B9)を含む重合体溶液を用いたことと、現像液としてテトラメチルアンモニウムヒドロキシド0.8重量%水溶液を用いたことを除いては、前記実施例1と同じ方法で組成物溶液を製造し、評価した。その結果を下記表1に示した。
【0089】
[実施例10]
合成例11で製造された共重合体溶液[A−1]の代わりに、合成例12で製造された共重合体溶液[A−2]を用い、合成例1で製造された1,2−キノンジアジド化合物(B1)の代わりに、合成例10で製造された1,2−キノンジアジド化合物(B10)を含む重合体溶液を用いたことと、現像液としてテトラメチルアンモニウムヒドロキシド0.8重量%水溶液を用いたことを除いては、前記実施例1と同じ方法で組成物溶液を製造し、評価した。その結果を下記表1に示した。
【0090】
[比較例1]
合成例1で製造された1,2−キノンジアジド化合物(B1)を含む重合体溶液の代わりに、2,3,4,4−テトラヒドロキシベンゾフェノン1モルと1,2−ナフトキノンジアジド 5−スルホン酸クロライド3モルを反応して得られた縮合物である2,3,4,4−テトラヒドロキシベンゾフェノン 1,2−ナフトキノンジアジド 5−スルホン酸エステル15重量%と、トリ(p−ヒドロキシフェニル)メタン1モルと1,2−ナフトキノンジアジド 5−スルホン酸クロライド2モルを反応して得られた縮合物であるトリ(p−ヒドロキシフェニル)メタン 1,2−ナフトキノンジアジド 5−スルホン酸エステル15重量%とを含む重合体溶液を用いたことを除いては、前記実施例1と同じ方法で組成物溶液を製造して物性を評価し、その結果を下記表1に示した。
【0091】
[比較例2]
合成例11で製造された共重合体溶液[A−1]の代わりに、合成例12で製造された共重合体溶液[A−2]を用い、合成例1で製造された1,2−キノンジアジド化合物(B1)を含む重合体溶液の代わりに、2,3,4,4−テトラヒドロキシベンゾフェノン1モルと1,2−ナフトキノンジアジド 5−スルホン酸クロライド3モルを反応して得られた縮合物である2,3,4,4−テトラヒドロキシベンゾフェノン 1,2−ナフトキノンジアジド 5−スルホン酸エステル15重量%と、トリ(p−ヒドロキシフェニル)メタン1モルと1,2−ナフトキノンジアジド 5−スルホン酸クロライド2モルを反応して得られた縮合物であるトリ(p−ヒドロキシフェニル)メタン 1,2−ナフトキノンジアジド 5−スルホン酸エステル15重量%とを含む重合体溶液を用いたことを除いては、前記実施例1と同じ方法で組成物溶液を製造して物性を評価し、その結果を下記表1に示した。
【0092】
【表1】
上記の表1から見れば、本発明による実施例1乃至10のポジ型感光性層間絶縁膜組成物は、前記化学式1に表示されるフェノール化合物から誘導されるキノンジアジドスルホン酸エステル化合物を含むことにより感度、解像度が優れており、特に、透明性、残膜率及び耐熱性が優れているので、高平坦性のための膜の厚さの厚い層間絶縁膜形成に好適であることが分かる。これに反し、比較例1及び2の場合は透明性や耐熱性が良好でないことだけでなく、特に残膜率が劣っているので、厚い層間絶縁膜に適用するのは困難である。
【0093】
本発明によるポジ型感光性層間絶縁膜樹脂組成物は、感光性、残膜率、耐熱性、耐薬品性、平坦性などの性能が優れており、特に、層間絶縁膜としてパターン形成が容易であり、厚い膜でも透過率が優れている。このため、液晶表示素子、集積回路素子などの層間絶縁膜を形成するための材料として用いるのに適している。
Claims (11)
- 感光性樹脂組成物において、
(A)i)不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物、又はこれらの混合物;
ii)エポキシ基含有不飽和化合物;及び
iii)オレフィン系不飽和化合物;を共重合して得られたポリスチレン換算の重量平均分子量が5000〜20000であるアルカリ可溶性のアクリル系共重合体樹脂;並びに
(B)下記の化学式1に表示される化合物を反応して得られた感光性キノンジアジドスルホン酸エステル化合物を感光性成分として含むことを特徴とする感光性樹脂組成物:
- (A)i)不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物、又はこれらの混合物5乃至40重量%;
ii)エポキシ基含有不飽和化合物10乃至70重量%;及び
iii)オレフィン系不飽和化合物10乃至70重量%;を共重合して得られたポリスチレン換算の重量平均分子量が5000〜20000であるアルカリ可溶性のアクリル系共重合体樹脂100重量%;並びに
(B)前記化学式1に表示される化合物を反応して得られた感光性キノンジアジドスルホン酸エステル化合物5乃至100重量%
を含むことを特徴とする、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。 - 前記(A)のアルカリ可溶性樹脂は、
(A)のアルカリ可溶性樹脂に対して溶解度の低い貧溶媒を、i)不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物、又はこれらの混合物;ii)エポキシ基含有不飽和化合物;及びiii)オレフィン系不飽和化合物;の共重合体溶液に滴下又は混合して共重合体溶液を沈殿させた後に分離する段階を含んで製造されることを特徴とする、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。 - 前記貧溶媒が、水、ヘキサン、ヘプタン、及びトルエンからなる群より1種以上選択されることを特徴とする、請求項3に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記(A)i)の不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物、又はこれらの混合物が、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、及びこれらの不飽和カルボン酸無水物からなる群より1種以上選択されることを特徴とする、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記(A)ii)のエポキシ基含有不飽和化合物が、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、α−エチルグリシジルアクリレート、α−n−プロピルグリシジルアクリレート、α−n−ブチルグリシジルアクリレート、アクリル酸−β−メチルグリシジル、メタクリル酸−β−メチルグリシジル、アクリル酸−β−エチルグリシジル、メタクリル酸−β−エチルグリシジル、アクリル酸−3,4−エポキシブチル、メタクリル酸−3,4−エポキシブチル、アクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、メタクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、及びp−ビニルベンジルグリシジルエーテルからなる群より1種以上選択されることを特徴とする、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記(A)iii)のオレフィン系不飽和化合物が、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、sec−ブチルメタクリレート、t−ブチルメタクリレート、メチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、2−メチルシクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−メチルシクロヘキシルアクリレート 、ジシクロペンタニルオキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、フェニルメタクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ビニルトルエン、p−メチルスチレン、1,3−ブタジエン、イソプレン、及び2,3−ジメチル 1,3−ブタジエンからなる群より1種以上選択されることを特徴とする、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物が、
(C)アルカノール基が含まれた窒素含有架橋剤2乃至35重量%、(D)エチレン性不飽和2重結合を有する重合性化合物1乃至50重量%、(E)エポキシ樹脂0.1乃至30重量%、(F)接着促進剤0.1乃至20重量%、及び(G)界面活性剤0.0001乃至2重量%からなる群より1種以上選択される添加剤を含むことを特徴とする、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。 - 前記アルカノール基が含まれた窒素含有架橋剤が、下記の化学式2、3、4、5、6、7又は8に表示される化合物であることを特徴とする、請求項8に記載の感光性樹脂組成物:
- 請求項1に記載の感光性樹脂組成物をコーティングして製造された層間絶縁膜をパターニングする段階を含むフォトレジストパターン形成方法。
- 請求項10記載の方法で形成されたフォトレジストパターンを含む半導体素子。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007052359A (ja) * | 2005-08-19 | 2007-03-01 | Jsr Corp | パターン形成方法、その硬化物および回路基板 |
KR101000327B1 (ko) * | 2008-10-28 | 2010-12-13 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 감방사선성 수지 조성물, 층간 절연막 및 마이크로 렌즈, 그리고 그들의 형성 방법 |
JP2014167560A (ja) * | 2013-02-28 | 2014-09-11 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 層間絶縁膜用感光性樹脂組成物 |
JP2015501954A (ja) * | 2011-12-13 | 2015-01-19 | ドンジン セミケム カンパニー リミテッド | フォトレジスト組成物 |
WO2015033880A1 (ja) * | 2013-09-04 | 2015-03-12 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置および有機el表示装置 |
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KR100867948B1 (ko) * | 2006-12-13 | 2008-11-11 | 제일모직주식회사 | 유기 절연막 형성용 감광성 수지 조성물 및 이를 포함하는소자 |
TW200836002A (en) * | 2006-12-19 | 2008-09-01 | Cheil Ind Inc | Photosensitive resin composition and organic insulating film produced using the same |
JP2010515784A (ja) * | 2007-01-15 | 2010-05-13 | エルジー・ケム・リミテッド | 新規な高分子樹脂化合物およびそれを含む感光性樹脂組成物 |
KR100922843B1 (ko) * | 2007-12-13 | 2009-10-20 | 제일모직주식회사 | 절연막 형성용 감광성 수지 조성물 |
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US6214517B1 (en) * | 1997-02-17 | 2001-04-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive photoresist composition |
KR100538968B1 (ko) * | 1997-02-18 | 2006-07-11 | 후지 샤신 필름 가부시기가이샤 | 포지티브감광성조성물 |
JP2000347397A (ja) * | 1999-06-04 | 2000-12-15 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物およびその層間絶縁膜への使用 |
KR100784672B1 (ko) * | 2001-08-20 | 2007-12-12 | 주식회사 동진쎄미켐 | 감광성 수지 조성물 |
US6984476B2 (en) * | 2002-04-15 | 2006-01-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Radiation-sensitive resin composition, forming process for forming patterned insulation film, active matrix board and flat-panel display device equipped with the same, and process for producing flat-panel display device |
-
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007052359A (ja) * | 2005-08-19 | 2007-03-01 | Jsr Corp | パターン形成方法、その硬化物および回路基板 |
KR101000327B1 (ko) * | 2008-10-28 | 2010-12-13 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 감방사선성 수지 조성물, 층간 절연막 및 마이크로 렌즈, 그리고 그들의 형성 방법 |
JP2015501954A (ja) * | 2011-12-13 | 2015-01-19 | ドンジン セミケム カンパニー リミテッド | フォトレジスト組成物 |
JP2014167560A (ja) * | 2013-02-28 | 2014-09-11 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 層間絶縁膜用感光性樹脂組成物 |
WO2015033880A1 (ja) * | 2013-09-04 | 2015-03-12 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置および有機el表示装置 |
JP2021512179A (ja) * | 2018-12-21 | 2021-05-13 | エルジー・ケム・リミテッド | 架橋剤化合物、これを含む感光性組成物、およびこれを利用した感光材料 |
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