JP2005505897A - 水性現像可能な光画像形成性厚膜組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
本発明は、フォトパターニング法で使用するための光画像形成性厚膜組成物に関し、より詳細には、コーティングされた銀粒子を使用する組成物に関する。
【背景技術】
【0002】
より小型でより安価な電子デバイスが製造され、性能のためにより高い解像度が得られることが当業界における傾向であるため、このようなデバイスを製造するために新規な光画像形成性材料の開発が必要となっている。従来のスクリーン印刷法と比較すると、フォトパターニング技術は、均一でより微細な線および空間解像度が得られる。本願特許出願人のフォーデル(FODEL)(登録商標)印刷システムなどのフォトパターニング法は、米国特許公報(特許文献1)、米国特許公報(特許文献2)、および米国特許公報(特許文献3)に見出されるような光画像形成性有機媒体を使用しており、この方法によると、最初に基板は光画像形成性厚膜組成物によって完全に覆われ(印刷、吹き付け、コーティング、または積層が行われ)、そして乾燥される。回路パターンの画像は、回路パターンを有するフォトマスクを通して光画像形成性厚膜組成物に化学線を露光することによって形成される。露光した基板は次に現像される。回路パターンの未露光部分は洗い流され、光画像形成された厚膜組成物が基板上に残留し、続いてこれが焼成されて、残留する有機材料は除去され、無機材料は焼結される。このようなフォトパターニング法では、基板の平滑さ、無機粒子の粒径分布、露光、および現像の変量に依存するが、約30μmの線解像度が得られる。
【0003】
【特許文献1】
米国特許第4,912,019号明細書
【特許文献2】
米国特許第4,925,771号明細書
【特許文献3】
米国特許第5,049,480号明細書
【特許文献4】
米国特許第3,380,831号明細書
【特許文献5】
米国特許第2,927,022号明細書
【特許文献6】
米国特許第2,760,863号明細書
【特許文献7】
米国特許第2,850,445号明細書
【特許文献8】
米国特許第2,875,047号明細書
【特許文献9】
米国特許第3,097,096号明細書
【特許文献10】
米国特許第3,074,974号明細書
【特許文献11】
米国特許第3,097,097号明細書
【特許文献12】
米国特許第3,145,104号明細書
【特許文献13】
米国特許第3,427,161号明細書
【特許文献14】
米国特許第3,479,185号明細書
【特許文献15】
米国特許第3,549,367号明細書
【特許文献16】
米国特許第4,162,162号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
このようなシステムの上記のような進歩にもかかわらず、製造業者らはフォトスピードが改善される組成物を絶えず探し求めている。さらに、このような材料は、回路パターンの線および空間の高解像度を損なうことなく製造プロセスの速度を増加させる。本発明はそのような組成物に関する。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本発明は、少なくとも1種類の界面活性剤で少なくとも部分的にコーティングされているコーティングされた銀と、ガラス転移温度が325〜600℃の範囲にあり、表面積の重量に対する比が10m2/g以下であり、粒子の少なくとも85重量%が0.1〜10μmの範囲の粒径を有する無機バインダーとの微粉砕粒子が、有機媒体であって、コポリマー、インターポリマー、またはそれらの混合物である水性現像可能な光架橋性ポリマーであって、各コポリマーまたはインターポリマーは、(1)C1〜10アルキルメタクリレート、C1〜10アルキルアクリレート、スチレン、置換スチレン、またはそれらの組み合わせを含む非酸性コモノマーと、(2)エチレン系不飽和カルボン酸含有部分を含む酸性コモノマーとを含み、前記カルボン酸含有部分の2〜20%が、第1および第2の官能性単位を有する反応性分子と反応し、前記第1の官能性単位はビニル基であり、前記第2の官能性単位は、前記カルボン酸部分と反応することによって化学結合を形成することができ、全ポリマー重量の少なくとも10重量%の酸含有率を有し、ガラス転移温度が50〜150℃の範囲にあり、重量平均分子量が2,000〜250,000の範囲にある前記コポリマー、インターポリマー、または混合物が形成される水性現像可能な光架橋性ポリマーと、光開始系と、溶媒とを含む有機媒体中に分散した混合物を含む光画像形成性組成物に関する。
【0006】
本発明はさらに、界面活性剤で少なくとも部分的にコーティングされているコーティングされた銀と、ガラス転移温度が325〜600℃の範囲にあり、表面積の重量に対する比が10m2/g以下であり、粒子の少なくとも85重量%が0.1〜10μmの範囲の粒径を有する無機バインダーとの微粉砕粒子が、有機媒体であって、コポリマー、インターポリマー、またはそれらの混合物である有機ポリマーバインダーであって、各コポリマーまたはインターポリマーは、(1)C1〜10アルキルメタクリレート、C1〜10アルキルアクリレート、スチレン、置換スチレン、またはそれらの組み合わせを含む非酸性コモノマーと、(2)エチレン系不飽和カルボン酸含有部分を含む酸性コモノマーとを含み、前記コポリマー、インターポリマー、または混合物は、全ポリマー重量の少なくとも10重量%の酸含有率を有し、ガラス転移温度が50〜150℃の範囲にあり、重量平均分子量が2,000〜250,000の範囲にある有機ポリマーバインダーと、光硬化性モノマーと、光開始系と、溶媒とを含む有機媒体中に分散したものを含む光架橋性組成物に関する。
【発明を実施するための最良の形態】
【0007】
本発明の組成物は、コーティングされた銀粒子を使用する伝導性相を有する。本発明の光画像形成性組成物の他の成分とともに使用される有機媒体は、感光性を有する場合も有さない場合もあるポリマーを含む。本発明の組成物の成分について、本明細書において以下に説明する。
【0008】
(I.無機材料)
(A.コーティングされた銀粒子)
一般に、伝導性厚膜光画像形成性組成物は、伝導性、および誘電性などの適切な電気的機能性を付与する機能性相を含む。機能性相によって電気的性質が決定され、機能性相は、粉末の担体として機能する有機媒体中に分散した電気的機能性粉末を含む。機能性相は、加工寛容度、線および空間の解像度、ならびに焼成した厚膜の機械的性質にも影響を与える。本発明の組成物の機能性相は、導電性であるコーティングされた銀粒子である。
【0009】
コーティングされた銀粒子は、界面活性剤で少なくとも部分的にコーティングされている。この界面活性剤は、ステアリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸塩、パルミチン酸塩、およびそれらの混合物から選択される。この対イオンは、水素、アンモニウム、ナトリウム、カリウム、およびそれらの混合物であってよいが、これらに限定されるものではない。
【0010】
ステアリン酸およびパルミチン酸またはそれらの塩の混合物が使用される場合、好ましくは30/70〜70/30の比率の範囲内であり、比率のこの範囲内のすべての範囲が含まれる。界面活性剤は、銀粒子の重量を基準にして0.10〜1重量%の範囲内で組成物中に見られ、銀粒子表面に見出されるか、または組成物に添加されるかのいずれかである。
【0011】
銀粒子は、溶媒および適切な量の界面活性剤と粒子を混合することによってコーティングされる。一部の好適な溶媒の例としては、水、アルコール類、テキサノール、テルピネオール、グリコール類、および厚膜形成産業において公知の他のあらゆる溶媒が挙げられる。この溶媒によって、界面活性剤は、コーティング工程を行うのに十分な溶解性となるべきである。一実施態様では、未乾燥の銀が水に十分に分散したスラリーを使用するが、別の実施態様では有機溶媒および/または乾燥銀粉末を使用することもできる。混合工程は、あらゆる混合手段によって実施することができるが、通常は、回転インペラを備えた撹拌容器、ボールミル、撹拌メディアミル、振動ミル、および超音波分散機などの装置が使用される。
【0012】
本発明の組成物は典型的にはスクリーン印刷されるので、最大粒径がスクリーンの厚さを超えるべきではないが、乾燥した光画像形成性フィルムを形成するために分散体を使用する場合は、最大粒径はフィルムの厚さを超えてはならない。本発明の粒子は、全組成物を基準にして20〜90重量%の範囲で組成物中に見られ、それに含まれるあらゆる範囲で見出される。
【0013】
(B.無機バインダー)
コーティングされた銀粒子および無機バインダーは有機媒体中に分散され、さらに任意選択で金属酸化物、セラミックス、フィラー、および同様の他の粉末または固体も混入される。組成物中の無機バインダーの機能は、焼成後に粒子を互いに結合させ、粒子を基板とも結合させることである。無機バインダーの例としては、ガラスバインダー(フリット)、金属酸化物、およびセラミックスが挙げられる。本発明の組成物に有用なガラスバインダーは、当技術分野で従来使用されているものである。一部の例としては、ホウケイ酸ガラスおよびアルミノケイ酸ガラスが挙げられる。さらに別の例としては、B2O3、SiO2、Al2O3、CdO、CaO、BaO、ZnO、SiO2、Na2O、PbO、およびZrOなどの酸化物の組み合わせが挙げられ、これらは独立して使用される場合もあるし、ガラスバインダーを形成するために組み合わせて使用される場合もある。厚膜組成物に有用な典型的な金属酸化物は当技術分野で従来使用されており、たとえばZnO、MgO、CoO、NiO、FeO、MnO、およびこれらの組み合わせであってよい。
【0014】
最も好ましく使用されるガラスフリットは、ホウケイ酸塩フリットであり、たとえばホウケイ酸鉛フリット、ビスマス、カドミウム、バリウム、カルシウム、またはその他のアルカリ土類のホウケイ酸塩フリットである。このようなガラスフリットの製造はよく知られており、たとえば、酸化物の形態であるガラスの成分を互いに溶融させ、このように溶融させた組成物を水に投入してフリットが形成される。当然ながらこれらのバッチ成分は、通常のフリット製造条件下で所望の酸化物が得られるあらゆる化合物であってよい。たとえば、三酸化二ホウ素はホウ酸から得られ、二酸化ケイ素はフリントから生成され、酸化バリウムは炭酸バリウムから生成される、などである。フリットの粒径を減少させ、実質的に均一な粒径のフリットを得るために、ガラスは好ましくは水を加えてボールミルで粉砕される。次に、水中で沈降させて、微粒子および微粒子を含む上澄み液が除去される。他の分級方法も同様に使用してよい。
【0015】
ガラスは、所望の成分を所望の比率で混合し、その混合物を加熱して溶融物を得ることによる従来のガラス製造技術によって製造される。当技術分野で公知であるが、加熱は、溶融物が全体的に液体となり均一となるピーク温度および時間で実施される。ガラス転移温度は325〜600℃の範囲である。
【0016】
本発明を限定するものではないが、好ましくは、無機バインダー粒子の少なくとも85%は、0.1〜10μmの範囲内となり、この範囲内のすべての範囲が含まれる。この理由は、より小さい粒子はより大きな表面積を有し、有機材料を吸着する傾向にあり、そのため、良好な焼結特性を示すがきれいな分解は妨害されるからである。好ましくは無機バインダーの固形分に対する比率は0.1〜2であり、より好ましくは0.1〜0.75であり、この範囲内のすべての範囲が含まれる。
【0017】
(II.有機媒体)
本発明の有機媒体の主要な目的は、セラミックまたはその他の基板に容易に適用できる形態で、組成物の微粉砕した固形分を分散させるビヒクルとして機能させることである。したがって、第1に有機媒体は、十分な安定性で固形分を分散可能な媒体であることが必要である。第2に、有機媒体のレオロジー特性は、良好な適用特性を分散体に付与するようなレオロジー特性である必要がある。
【0018】
(A.ポリマー)
本発明のポリマーバインダーは、本発明の組成物にとって重要である。本発明のポリマーバインダーは、水性現像性を有し、高い解像度が得られる。これらの要求は、以下のバインダーから選択することによって満たされることが分かった。本発明の種々の実施態様で使用される、2種類の一般的なポリマーバインダーの説明が存在する。これらは市販のポリマーである。これらのバインダーは、独立して使用される場合もあるし、配合物中で併用される場合もある。第1は、(1)C1〜10アルキルメタクリレート、C1〜10アルキルアクリレート、スチレン、置換スチレン、またはそれらの組み合わせを含む非酸性コモノマーと、(2)エチレン系不飽和カルボン酸含有部分を含む酸性コモノマーとから生成されるコポリマー、インターポリマー、またはそれらの混合物から製造されるバインダーであり、このコポリマー、インターポリマー、またはそれらの混合物は、酸含有率が全ポリマー重量の少なくとも10重量%であり、平均のガラス転移温度(Tg)が50〜150℃であり、重量平均分子量は2,000〜250,000の範囲にあり、この範囲内のすべての範囲が含まれる。
【0019】
第2は、光架橋性ポリマーバインダーである。これらのバインダーは、コポリマー、インターポリマー、またはそれらの混合物から製造され、各コポリマーまたはインターポリマーは、(1)C1〜10アルキルメタクリレート、C1〜10アルキルアクリレート、スチレン、置換スチレン、またはそれらの組み合わせを含む非酸性コモノマーと、(2)エチレン系不飽和カルボン酸含有部分を含む酸性コモノマーとを含み、カルボン酸含有部分の2〜20%は、第1および第2の官能性単位を有する反応性分子と反応し、第1の官能性単位はビニル基であり、第2の官能性単位は、カルボン酸部分と反応して化学結合を形成することができる。ビニル基の例としては、メタクリレート基およびアクリレート基が挙げられるが、これらに限定されるものではない。第2の官能性単位の例としては、エポキシド、アルコール、およびアミンが挙げられるが、これらに限定されるものではない。結果として得られるコポリマー、インターポリマー、またはそれらの混合物は、酸含有率が全ポリマー重量の少なくとも10重量%であり、ガラス転移温度は50〜150℃の範囲にあり、重量平均分子量は2,000〜250,000の範囲にあり、この範囲内のすべての範囲が含まれる。
【0020】
組成物中に酸性コモノマー成分が存在することは、本発明の技術において重要である。酸性官能基があることによって、0.4〜2.0%の範囲の炭酸ナトリウム水溶液などの塩基水溶液中で現像可能となる。酸性コモノマーが10%未満の濃度で存在する場合は、組成物は塩基水溶液では完全には洗い流されない。酸性コモノマーが30%を超える濃度で存在すると、組成物は、現像条件下での抵抗性が減少し、画像部分で部分的な現像が起こる。適切な酸性コモノマーとしては、エチレン系不飽和モノカルボン酸、たとえばアクリル酸、メタクリル酸、またはクロトン酸、およびエチレン系不飽和ジカルボン酸、たとえばフマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、ビニルコハク酸、およびマレイン酸、ならびにそれらのヘミエステル、ならびに場合によってはそれらの無水物、ならびにそれらの混合物が挙げられる。低酸素雰囲気で燃焼してより除去しやすいため、メタクリル系ポリマーがアクリル系ポリマーよりも好ましい。
【0021】
非酸性コモノマーが前述のアルキルアクリレートまたはアルキルメタクリレートである場合は、これらの非酸性コモノマーはポリマーバインダーの少なくとも50重量%、好ましくは70〜75重量%を構成することが好ましい。非酸性コモノマーがスチレンまたは置換スチレンである場合は、これらの非酸性コモノマーがポリマーバインダーが50重量%を構成し、残りの50重量%は無水マレイン酸のヘミエステルなどの酸無水物が構成すると好ましい。好ましい置換スチレンはα−メチルスチレンである。
【0022】
好ましいわけではないが、本発明のポリマーバインダーの非酸性部分は、約50重量%までの他の非酸性コモノマーを、本発明のポリマーのアルキルアクリレート部分、アルキルメタクリレート部分、スチレン部分、または置換スチレンの代わりとして含むことができる。例としては、アクリロニトリル、酢酸ビニル、アクリルアミドが挙げられる。しかし、これらは完全に焼失させることがより困難であるので、全ポリマーバインダー中に約25重量%未満でこのようなモノマーが使用されることが好ましい。バインダーとしての1種類のコポリマーまたはコポリマーの組み合わせの使用は、前述の種々の基準をこれらのそれぞれが満たしている限りは認められる。上記のコポリマー以外に、少量の他のポリマーバインダーを加えることもできる。一部の例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリイソブチレン、およびエチレン−プロピレンコポリマーなどのポリオレフィン、ポリビニルアルコールポリマー(PVA)、ポリビニルピロリドンポリマー(PVP)、ビニルアルコールとビニルピロリドンのコポリマーが挙げられ、さらにはポリエチレンオキシドなどの低級アルキレンオキシドポリマーであるポリエーテルも挙げることができる。
【0023】
前述の第2のポリマーバインダーにおいては、酸性コモノマーによって、反応性分子を有するポリマーが得られ、光架橋性官能性単位などの官能性単位が導入される。これは、2〜20%のカルボン酸含有部分を使用して、ビニル基を含有する反応性分子と反応させることによって実現され、以下に概略的に説明される。これに示されるように、最終的なポリマーは3つの繰り返し単位を有する。これらのポリマーは当業者には公知である。
【0024】
【化1】
【0025】
(式中、
R1、R2、およびR4は、メチル基または水素、あるいはそれらの混合物であり、
R3は、直鎖、分岐、または環状のアルキル基であり、このアルキル基は芳香族基または酸素などの他の原子を含んでよく、
R5はアルキル(C1〜C10)である。)
【0026】
本明細書に記載されるポリマーは、一般的に使用される溶液重合技術による当業者のアクリレート重合によって生成することができる。通常、このような酸性アクリレートポリマーの生成は、α−またはβ−エチレン系不飽和酸(酸性コモノマー)を1種類以上の共重合性ビニルモノマー(非酸性コモノマー)と比較的低沸点(75〜150℃)の有機溶媒中で混合して10〜60%のモノマー混合物溶液を得て、続いて、重合触媒を加え、常圧下で溶媒の還流温度まで混合物を加熱することによってモノマーを重合させることで行われる。重合反応が実質的に完了した後に、生成した酸性ポリマー溶液を室温まで冷却される。第1の種類のポリマーバインダー(感光性を有さないポリマーバインダー)を得るために、この方法はこの段階で終了する。試料を採取し、ポリマーの粘度、分子量、および酸当量を測定する。
【0027】
光架橋性ポリマーバインダーを得るためには、反応性分子と、フリーラジカル重合防止剤と、触媒触媒とが、前述の冷却したポリマー溶液に加えられる。この溶液を、反応が完了するまで撹拌する。任意選択で、反応を加速するために溶液を加熱してもよい。反応が完了し、反応性分子がポリマー主鎖に化学的に結合した後で、ポリマー溶液を室温まで冷却し、試料を採取し、ポリマーの粘度、分子量、および酸当量を測定する。
【0028】
さらに、本発明のポリマーバインダーの重量平均分子量は2,000〜250,000の範囲にあり、この範囲内のすべての範囲が含まれる。ポリマーバインダーの分子量は用途に依存する。10,000未満の分子量がペースト組成物に一般に有用であり、10,000を超える粘度はテープまたはシートに一般に有用である。分子量が10,000のポリマーは一般にフィルム形成性がより低い。これらを、テープ配合物に使用してもよいが、フィルムまたはテープを形成するためには他の相溶性高分子量ポリマーと混合することが一般には必要となる。
【0029】
上記組成物をコーティングして乾燥フィルムを形成する場合、好ましくはポリマーバインダーのTg(ガラス転移温度)は50〜150℃の範囲にあり、より好ましくは50〜100℃の範囲である。このポリマーは組成物中に全組成物を基準にして5〜70重量%の範囲で見られ、この範囲内のすべての範囲が含まれる。
【0030】
(B.光硬化性モノマー)
従来の光硬化性メタクリレートモノマーを本発明に使用してよい。用途に依存するが、光架橋性ポリマーを使用する場合、本発明の組成物中にモノマーが含まれることは必ずしも必要とは限らない。モノマー成分は、乾燥光重合性層の全重量を基準にして1〜20重量%の範囲の量で存在する。このような好ましいモノマーとしては、t−ブチルアクリレートおよびメタクリレート、1,5−ペンタンジオールジアクリレートおよびジメタクリレート、N,N−ジエチルアミノエチルアクリレートおよびメタクリレート、エチレングリコールジアクリレートおよびジメタクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレートおよびジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレートおよびジメタクリレート、ヘキサメチレングリコールジアクリレートおよびジメタクリレート、1,3−プロパンジオールジアクリレートおよびジメタクリレート、デカメチレングリコールジアクリレートおよびジメタクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレートおよびジメタクリレート、2,2−ジメチロールプロパンジアクリレートおよびジメタクリレート、グリセロールジアクリレートおよびジメタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートおよびジメタクリレート、グリセロールトリアクリレートおよびトリメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレートおよびトリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびトリメタクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリレートおよびトリメタクリレート、および米国特許公報(特許文献4)に記載されるような同様の化合物、2,2−ジ(p−ヒドロキシ−フェニル)−プロパンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートおよびテトラメタクリレート、2,2−ジ−(p−ヒドロキシフェニル)−プロパンジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシエチル−2,2−ジ−(p−ヒドロキシフェニル)プロパンジメタクリレート、ビスフェノールAのジ−(3−メタクリロキシ−2−ヒドロキシプロピル)エーテル、ビスフェノールAのジ−(2−メタクリロキシエチル)エーテル、ビスフェノールAのジ−(3−アクリロキシ−2−ヒドロキシプロピル)エーテル、ビスフェノールAのジ−(2−アクリロキシエチル)エーテル、1,4−ブタンジオールのジ−(3−メタクリロキシ−2−ヒドロキシプロピル)エーテル、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレングリコールジアクリレートおよびジメタクリレート、1,2,4−ブタントリオールトリアクリレートおよびトリメタクリレート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジアクリレートおよびジメタクリレート、1−フェニルエチレン−1,2−ジメタクリレート、ジアリルフマレート、スチレン、1,4−ベンゼンジオールジメタクリレート、1,4−ジイソプロペニルベンゼン、および1,3,5−トリイソプロペニルベンゼンが挙げられる。また、有用なものとしては、重量平均分子量が少なくとも300であるエチレン系不飽和化合物、たとえば、2〜15個の炭素原子を有するアルキレングリコールから調製されるアルキレンまたはポリアルキレングリコールジアクリレート、あるいは1〜10個のエーテル結合を有するポリアルキレンエーテルグリコール、および米国特許公報(特許文献5)に開示される化合物、たとえば特に末端結合として存在する場合の複数のフリーラジカル重合性エチレン系結合を有する化合物も挙げられる。特に好ましいモノマーは、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリレート、エチル化ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、および1,10−デカンジオールジメタクリレートである。
【0031】
(C.光開始系)
好適な光開始系は、周囲温度で化学光に曝露することによってフリーラジカルを発生する光開始系である。これらの光開始系としては、共役炭素環構造中に2つの環内炭素原子を有する化合物である置換または未置換の多核キノンが挙げられ、たとえば、2−ベンジル−2−(ジメチルアミノ)−1−(4−モルホリノフェニル)−1−ブタノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、9,10−アントラキノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−tert−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,4−ナフトキノン、9,10−フェナントレンキノン、ベンズ(a)アントラセン−7,12−ジオン、2,3−ナフタセン−5,12−ジオン、2−メチル−1,4−ナフトキノン、1,4−ジメチル−アントラキノン、2,3−ジメチルアントラキノン、2−フェニルアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノン、レテンキノン、7,8,9,10−テトラヒドロナフタセン−5,12−ジオン、1,2,3,4−テトラヒドロベンズ(a)アントラセン−7,12−ジオンが挙げられる。一部は85℃程度の温度で熱的に活性化しうるが有用であるその他の光開始剤は、米国特許公報(特許文献6)に記載されており、たとえばビシナルケタールドニルアルコール、たとえばベンゾイン、ピバロインなど、アシロインエーテル、たとえばベンゾインメチルエーテルおよびエチルエーテルなど、α−炭化水素置換芳香族アシロイン、たとえばα−メチルベンゾイン、α−アリルベンゾイン、およびα−フェニルベンゾインなど、チオキサントンおよび/またはチオキサントン誘導体、ならびに適切な水素供与体が挙げられる。米国特許公報(特許文献7)、米国特許公報(特許文献8)、米国特許公報(特許文献9)、米国特許公報(特許文献10)、米国特許公報(特許文献11)、および米国特許公報(特許文献12)に開示される光還元性染料および還元剤、ならびにフェナジン、オキサジン、およびキノンに分類される染料、ミヒラーケトン、ベンゾフェノン、米国特許公報(特許文献13)、米国特許公報(特許文献14)、および米国特許公報(特許文献15)に記載されるロイコ染料などの水素供与体との2,4,5−トリフェニルイミダゾリル二量体およびそれらの混合物を開始剤として使用することができる。また、光開始剤および光抑制剤と併用すると有用なものは米国特許公報(特許文献16)に開示される増感剤である。光開始剤または光抑制剤系は、乾燥した光重合性層の全重量を基準にして0.05〜10重量%で存在する。
【0032】
(D.有機溶媒)
有機媒体の溶媒成分は、複数種類の溶媒の混合物であってもよく、ポリマーおよびその他の有機成分をその溶媒中に含む完全な溶液が得られるように選択される。溶媒は、組成物の他の成分に対して不活性(非反応性)であるべきである。スクリーン印刷可能で光画像形成性のペーストの場合、溶媒はペースト組成物の他の成分に対して不活性(非反応性)であるべきである。大気圧で比較的少ない量の熱を加えることによって分散体から溶媒を蒸発させることができるように、溶媒は十分に高い揮発性を有するべきであるが、印刷工程中に通常の室温でスクリーン上でペーストが急速に乾燥するほど溶媒が揮発性となるべきではない。ペースト組成物に使用すると好ましい溶媒は、大気圧における沸点が300℃未満、好ましくは250℃未満となるべきである。このような溶媒としては、脂肪族アルコール、そのようなアルコールのエステル、たとえば酢酸エステルおよびプロピオン酸エステルなど、テルペン類、たとえばパイン油およびα−またはβ−テルピネオール、あるいはそれらの混合物など、エチレングリコールおよびそのエステル、たとえばエチレングリコールモノブチルエーテルおよびブチルセロソルブアセテートなど、カルビトールエステル、たとえばブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテート、およびカルビトールアセテートなど、ならびにその他の適切な溶媒、たとえばテキサノール(Texanol)(登録商標)(2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールモノイソブチレート)などが挙げられる。キャスティングテープの場合は、溶媒は、スクリーン印刷可能なペーストに使用される溶媒よりも低い沸点を有する。そのような溶媒としては、酢酸エチル、メタノール、イソプロパノール、アセトン、キシレン、エタノール、メチルエチルケトン、およびトルエンが挙げられる。
【0033】
(E.その他の成分)
一般的には、さらにフィルムの柔軟性が必要であれば、本発明の有機媒体は、1種類以上の可塑剤も含む。このような可塑剤は、基板への良好な積層を促進し、組成物の未露光部分の現像性を向上させる。しかし、キャストしたフィルムを焼成するときに除去する必要がある有機材料の量を減少させるために、このような材料の使用は最小限にすべきである。可塑剤の選択は、主として改質する必要があるポリマーによって決定される。種々のバインダー系で使用されてきた可塑剤の中では、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ブチルベンジル、フタル酸ジベンジル、リン酸アルキル、ポリアルキレングリコール、グリセロール、ポリ(エチレンオキシド)、ヒドロキシエチル化アルキルフェノール、トリクレシルホスフェートトリエチレングリコールジアセテート、およびポリエステルの可塑剤が挙げられる。本発明の組成物は、当業者に公知の別の界面活性剤を含んでもよい。好ましい界面活性剤は、ステアリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸塩、パルミチン酸塩、およびそれらの混合物から選択される。当業者に公知の別の成分が本発明の組成物中に存在してもよく、たとえば、分散剤、安定剤、離型剤、分散性物質、剥離剤、および消泡剤が存在してもよい。好適な材料の全般的な開示は米国特許公報(特許文献3)が提供している。
【0034】
(一般的なペーストの調製)
通常、厚膜組成物は、ペースト様の粘稠性を有するように配合され、「ペースト」と呼ばれる。一般に、本発明のペーストは、黄色光下で有機ビヒクル、モノマー、およびその他の有機成分を混合容器中で混合することによって調製される。次に、無機材料が、有機成分の混合物に加えられる。次に、有機材料によって無機粉末がぬれるまで組成物全体が混合される。次に、混合物は三本ロールミルを使用してロールミル粉砕される。この時点でのペーストの粘度は、適切なビヒクルまたは溶媒を加えて調節することができ、これによって加工に最適な粘度を得ることができる。
【0035】
ペースト組成物またはその一部を調製する工程中にほこりによって汚染されないように注意する。このような汚染が欠陥の原因となりうるからである。
【0036】
(一般的な焼成プロファイル)
本発明の組成物は、焼成プロファイルを使用して処理してよい。焼成プロファイルは、厚膜技術の当業者には公知である。有機媒体の除去および無機材料の焼結は、焼成プロファイルに依存する。このプロファイルによって、媒体が最終物品から実質的に除去されるかどうか、および無機材料が最終物品中で実質的に焼結するかどうかが決定される。本明細書で使用される場合、用語「実質的に」は、意図する使用法または用途に少なくとも適切である抵抗率または伝導性が得られる点までの、少なくとも95%の媒体の除去、および少なくとも95%の無機材料の焼結を意味する。
【0037】
(一般的なテープの作製)
本発明の組成物は、テープの形態で使用してよい。本発明の組成物がテープの形態で使用される場合、スリップが作製され、テープのキャスティングに使用される。スリップは、テープ製造における組成物に対して使用される一般用語であり、有機媒体中に分散した無機粒子が適切に分散した混合物である。有機媒体中に無機粉末を十分に分散させるための一般的な方法は、従来のボールミル粉砕法による方法である。ボールミル粉砕は、セラミック粉砕ジャーと、粉砕メディア(球状または円柱状に成形したアルミナまたはジルコニアペレットである)とからなる。全体の混合物を粉砕ジャーに入れ、粉砕メディアを加える。漏れ止めのふたでジャーを閉じた後で、混合効率が最適化される回転速度で混転することによって、ジャー内部の粉砕メディアに粉砕作用が生じる。この回転の長さは、性能基準に適合する十分分散した無機粒子を得るために必要な時間である。このスリップは、ナイフコーティングまたはバーコーティング法によって基板に適用した後、周囲条件または加熱して乾燥させることができる。乾燥後のコーティングの厚さは、用途に依存して数μm〜数十μmの範囲となりうる。
【0038】
このテープは、カバーシートに積層してから、ワイドストックロールとして巻き取ってもよい。シリコーンをコーティングしたテレフタレートPETフィルム、ポリプロピレン、またはポリエチレンをカバーシートとして使用してもよい。最終基板に積層する前に、カバーシートは除去される。
【0039】
(実施例に使用される試験手順)
実施例1〜14の組成物の試験に使用される手順を以下に示す。
【0040】
(乾燥試料厚さ)
印刷した試料を80℃で20分間乾燥させる。乾燥させた2つの部品をスパチュラで擦過した。テンコール・アルファ・ステップ2000(Tencor Alpha Step 2000)を使用して4箇所の異なる場所で厚さを測定した。測定した厚さは、その部分全体で一様となるべきである。
【0041】
(除去時間)
除去時間(TTC)は、基板上にコーティングまたは印刷した光画像形成性ペーストが、水中に0.5重量%の炭酸ナトリウムを含有するコンベヤを備えた噴霧処理装置を約30℃において噴霧圧10〜20psiで使用して現像することによって完全に除去される時間として定義される。TTCは、ペーストを乾燥させた後でUV光に露光する前に決定される。
【0042】
(現像ラティチュード)
現像ラティチュードは、露光中に得られる潜像から許容される画像を現像することができる時間範囲である。この時間範囲は、TTCの倍数で通常は規定され、たとえば2×TTCなどで規定される。この倍数が大きいほど、現像ラティチュードが優れている。言い換えると、現像ラティチュードは、その範囲内にあれば許容される画像を現像することができる作業時間間隔である。
【0043】
(1)すべての線が現像中に除去されずに基板に接着すること、および(2)線の間のすべての材料が除去された十分に確定された線が残留することの基準に適合する最小線幅を測定することによって、試料の線および空間解像度が評価される。
【0044】
(フォトスピードステップウェッジ)
フォトスピードは、フォトスピードステップウェッジによって測定される。リストン(Riston)(登録商標)25−ステップ・デンシティ・タブレット(25−Step Density Tablet)が結果の測定に使用される。このタブレットは、本願特許出願人より入手可能である。
【0045】
リストン(Riston)(登録商標)25−ステップ・デンシティ・タブレット(25−Step Density Tablet)(ステップタブレット)は、光学濃度が増加していく25個のブロック(ステップ)を有するマイラー(MYLAR)(登録商標)ポリエステルフィルムのストリップである。これは、プリントプリント配線板の製造の画像形成ステップで紫外(UV)光に露光した本願特許出願人のリストン(Riston)(登録商標)フォトポリマーフィルムの重合度の測定に使用される。
【0046】
ステップタブレットは、各ステップの光学濃度が特定の量で増加するように作製される。ステップ数が増加するにつれて、各ステップを透過するUV光の量が減少する。所与の露光エネルギーにおいて、光画像形成性ペースト試料を重合させるのに十分な光がステップタブレットを透過しないステップが存在する。したがってステップタブレットは、光画像形成性ペースト試料が露光中に受け取る光の全量の尺度として使用される。
【0047】
記録されるウェッジステップ数は、試験される組成物で50%を超える部分が覆われる最も大きな数字のステップである。
【0048】
(線解像度)
画像形成した試料を、20倍の最小倍率で10倍の接眼レンズを備えるズーム式顕微鏡を使用して検査する。線の間の短絡または接続が存在しない完全に無傷の線の最も微細な群が、その試料の線解像度である。これらの線は、層化、切れ目、短絡、または浮きが存在しない状態も可能である。
【0049】
実際的な実施例を提供することによって本発明をより詳細に説明する。しかし本発明の範囲がこれらの実際的な実施例に限定されることは決してない。
【実施例】
【0050】
実施例1〜14の組成物の調製手順を以下に示す。
【0051】
(A.媒体の調製)
溶媒とアクリル系ポリマーとを、80℃で撹拌しながら混合し加熱した。すべてのバインダーポリマーが溶解するまで、加熱および撹拌を続けた。この溶液を次に70℃に冷却し、残りの有機成分を加えた。次にこの混合物を、すべての固形分が溶解するまで70℃で撹拌した。この溶液を、必要であれば325メッシュのフィルタースクリーンに通し、そして冷却した。
【0052】
(B.ガラスフリットの作製)
ガラスフリットは入手したものをそのまま使用するか、または必要であれば、直径0.5インチ×長さ0.5インチのアルミナ円柱体を使用してスウェコ・ミル(Sweco Mill)で水力粉砕して作製するかした。次に、ガラスフリット混合物を、凍結乾燥または熱風乾燥した。熱風乾燥は、通常150℃の温度で実施した。
【0053】
(C.ペーストの配合)
ペーストは、黄色光下で、有機媒体と、モノマーと、他の有機成分とを混合容器中で混合することによって調製した。次に無機材料を、この有機成分の混合物に加えた。次に、有機材料によって無機粉末がぬれるまで組成物全体を混合した。次に、混合物を、三本ロールミルを使用してロールミル粉砕するか、またはフーバー・オートマチック・マラーのモデルM5(Hoover Automatic Muller,Model M5)を使用して混練するかのいずれかを行った。次に、ペーストを、直接使用するか、または635メッシュスクリーンに通すかのいずれかを行った。この時点でのペーストの粘度は、適切なビヒクルまたは溶媒を加えて調節することができ、これによって加工に最適な粘度を得ることができた。本発明の組成物の処方を表1に示す。
【0054】
(D.銀の調製)
(I.コーティングされていない銀粉末の調製)
銀アルカノールアミン錯体溶液を、最初に105.4gの硝酸銀を1000mlの脱イオン水中に溶解することによって調製した。撹拌しながら、88mlのモノエタノールアミンを加えて、溶解性銀アルカノールアミン錯体を得た。17gのヒドロキノンを600mlの脱イオン水に溶解することによって、還元性溶液を調製した。撹拌しながら、700mlのモノエタノールアミンを加えた。1時間後、銀アルカノールアミン錯体溶液を、還元性溶液に5秒未満の時間で加えた。2分後、反応混合物を70℃に加熱した。この結果得られた銀粉末を脱イオン水で洗浄し、洗浄水の導電性が10マイクロモー未満になるまで洗浄を続けた。次に、粉末を回収し、凍結乾燥した。
【0055】
(II.コーティングされた銀粉末の調製)
洗浄終了後に、粉末を2000mlの脱イオン水と混合し、得られたスラリーにコーティング材料(界面活性剤)を加えたことを除けば、Iと同様の方法を使用した。混合は15分間続けた。このスラリーを、焼結ガラスフィルターを使用してろ過し、コーティングされた粉末を凍結乾燥した。
【0056】
(E.工程条件)
ペースト組成物またはその一部を調製する工程中にほこりによって汚染されないように注意した。このような汚染が欠陥の原因となりうるからである。325メッシュスクリーンを使用してスクリーン印刷することによって、ペーストをガラス基板に適用した。これらの部品を空気雰囲気のオーブン中約80℃で乾燥させた。乾燥コーティング厚さを測定すると約10μmであった。
【0057】
次に、これらの部品を、試料表面と接触するフォトツールを通して、平行化したUV露光源に露光した。露光した部品は、水中に0.5重量%の炭酸ナトリウムを現像溶液として含有するコンベヤを備えた噴霧処理装置を使用して現像した。現像剤の温度は約30℃に維持し、現像溶液を10〜20psiで噴霧した。最適な露光時間および現像速度は、各組成物についてある範囲の露光時間および現像速度で部品のマトリックスを作成することによって決定した。現像後の部品を顕微鏡検査することによって、各組成物について最小の線幅またはバイア直径を再現可能にあるために最良の露光時間および現像速度に関する情報が得られた。現像した部品は、現像後に、強制気流を使用して過剰の水分を吹き飛ばすことによって乾燥させた。乾燥した部品は、次に通常は、520℃のピーク温度の空気雰囲気中で焼成した。
【0058】
(表の説明)
表1は、実施例1〜14の処方を示している。これらの組成物は前述のように配合した。
【0059】
表2は、実施例1〜14の配合物について前述のように試験した結果を示している。
【0060】
実施例1は、コーティングされた銀粉末をしており、フォトスピードの最良の改善が得られる。
【0061】
実施例2〜4は、バインダーポリマーを変化させることによる線および空間解像度、ならびに現像ラティチュードに対する影響を示すために使用している。実施例2は非光架橋性バインダーポリマーを使用している。実施例3および4は光架橋性バインダーポリマーを使用しており、線および空間解像度、ならびに現像ラティチュードの改善が得られる。
【0062】
実施例5および8は、コーティングされた銀粉末を使用し非光架橋性バインダーポリマーを併用した場合の影響を示している。コーティングされた銀粉末を含有する実施例5は、コーティングされていない銀粉末を含有する実施例8と比較してフォトスピードの改善が得られる。
【0063】
実施例6は、テープを作製するためのスリップとして使用するための配合物である。
【0064】
実施例7は、銀粒子上に界面活性剤が存在しない比較例である。
【0065】
表に記載されるすべての値は、組成物全体の重量を基準にした重量%を単位としている。
【0066】
【表1】
【0067】
【表2】
【0068】
(実施例の用語集)
(I.ガラスフリット)
ガラスフリットは、SiO2(9.1)、Al2O3(1.4)、PbO(77.0)、B2O3(12.5)の成分の重量%で構成される。
【0069】
(II.ポリマー)
ポリマーI:PVP/VA S−630、60%のビニルピロリドンと40%の酢酸ビニルとのコポリマー。K値=30〜50。
【0070】
ポリマーII:B.F.グッドリッチ(B.F.Goodrich)のカーボセットXPD1708G(Carboset XPD1708G)、75%のメチルメタクリレートと25%のメタクリル酸とのコポリマー、重量平均分子量Mw=約7,000、酸価=150。
【0071】
ポリマーIII:B.F.グッドリッチ(B.F.Goodrich)のカーボセットXPD1234(Carboset XPD1234)、80%のメチルメタクリレートと20%のメタクリル酸とのコポリマー、重量平均分子量Mw=約6,000、酸価=120。
【0072】
ポリマーIV:メタクリル酸メチル75重量%と、メタクリル酸16%と、メタクリル酸グリシジルおよびメチルアクリル酸の反応によって生成したメタクリル酸エステル9%とを含む光架橋性コポリマー。これは転移温度が102℃であり、平均分子量は約6,500であった。このポリマーの化学構造は以下の通りである。
【0073】
ポリマーIV:メタクリル酸メチル75重量%と、メタクリル酸16%と、メタクリル酸グリシジルおよびメチルアクリル酸の反応によって生成したメタクリル酸エステル9%とを含む光架橋性コポリマー。これは転移温度が102℃であり、平均分子量は約6,500であった。このポリマーの化学構造は以下の通りである:
【0074】
【化2】
【0075】
ポリマーV:日本のディアセル・ケミカル・インダストリーズ(Diacel Chemical Industries)より購入した光架橋性シクロマー−P(Cyclomer−P)。
【0076】
ポリマーVI:ポリマーIVと同じであるが、平均分子量は約32,000である。
【0077】
(III.モノマー)
モノマーI:サートマー(Sartomer)のTMPEOTAトリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート。
【0078】
モノマーII:サートマー(Sartomer)のプロポキシル化3トリメチロールプロパントリアクリレート。
【0079】
モノマーIII:エトキシル化15トリメチロールプロパントリアクリレート。
【0080】
(IV.コーティングされた銀粒子)
コーティングされた銀粒子Aは、50/50の比率のステアリン酸/パルミチン酸0.5重量%をコーティングした。
【0081】
コーティングされた銀粒子B1は、0.5重量%のステアリン酸をコーティングした。
【0082】
B2は0.3重量%のステアリン酸をコーティングした。B3は0.7重量%ステアリン酸をコーティングした。
【0083】
コーティングされた銀粒子Cは、0.5重量%のパルミチン酸をコーティングした。
【0084】
コーティングされた銀粒子Dは、15/85の比率のステアリン酸/パルミチン酸0.5重量%をコーティングした。
【0085】
コーティングされた銀粒子Eは、85/15の比率のステアリン酸/パルミチン酸0.5重量%をコーティングした。
【0086】
テキサノール(Texanol)(登録商標):ユニオン・カーバイド(Union Carbide)供給のものであった。
【0087】
【表3】
Claims (16)
- 光画像形成性組成物であって、
(I)無機材料の微粉砕粒子であって、
(a)少なくとも1種類の界面活性剤で少なくとも部分的にコーティングされているコーティングされた銀と、
(b)ガラス転移温度が325〜600℃の範囲にあり、表面積の重量に対する比が10m2/g以下であり、粒子の少なくとも85重量%が0.1〜10μmの範囲の粒径を有する無機バインダーと
を含む無機材料の微粉砕粒子が、
(II)有機媒体であって、
(a)コポリマー、インターポリマー、またはそれらの混合物である水性現像可能な光架橋性ポリマーであって、各コポリマーまたはインターポリマーは、(1)C1〜10アルキルメタクリレート、C1〜10アルキルアクリレート、スチレン、置換スチレン、またはそれらの組み合わせを含む非酸性コモノマーと、(2)エチレン系不飽和カルボン酸含有部分を含む酸性コモノマーとを含み、前記カルボン酸含有部分の2〜20%が、第1および第2の官能性単位を有する反応性分子と反応し、前記第1の官能性単位はビニル基であり、前記第2の官能性単位は、前記カルボン酸部分と反応することによって化学結合を形成することができ、全ポリマー重量の少なくとも10重量%の酸含有率を有し、ガラス転移温度が50〜150℃の範囲にあり、重量平均分子量が2,000〜250,000の範囲にある前記コポリマー、インターポリマー、またはそれらの混合物が形成される水性現像可能な光架橋性ポリマーと、
(b)光開始系と、
(c)有機溶媒と
を含む有機媒体中に分散したものを含むことを特徴とする光画像形成性組成物。 - ステアリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸塩、パルミチン酸塩、およびそれらの混合物から選択される界面活性剤をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の組成物。
- 前記コーティングされた銀は、ステアリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸塩、パルミチン酸塩、およびそれらの混合物から選択される界面活性剤で少なくとも部分的にコーティングされていることを特徴とする請求項1に記載の組成物。
- 前記界面活性剤が、前記組成物中に、前記コーティングされた銀粒子を基準にして0.1〜1重量%の範囲内で見出されることを特徴とする請求項3に記載の組成物。
- 前記反応性分子がエポキシド基またはヒドロキシ基を含有することを特徴とする請求項1に記載の組成物。
- 光硬化性モノマーをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の組成物。
- スクリーン印刷に好適なペースト粘稠性を有することを特徴とする請求項1に記載の組成物。
- 請求項1に記載の組成物のキャスト層を含み、前記組成物が乾燥されて揮発性溶媒が除去されていることを特徴とするシート。
- 請求項1に記載の組成物のキャスト層を含み、前記組成物が加熱されて前記有機媒体が実質的に除去されていることを特徴とする物品。
- 光画像形成性組成物であって、
(1)無機材料の微粉砕粒子であって、
(a)界面活性剤で少なくとも部分的にコーティングされているコーティングされた銀と、
(b)ガラス転移温度が325〜600℃の範囲にあり、表面積の重量に対する比が10m2/g以下であり、粒子の少なくとも85重量%が0.1〜10μmの範囲の粒径を有する無機バインダーと
を含む無機材料の微粉砕粒子が、
(2)有機媒体であって、
(c)コポリマー、インターポリマー、またはそれらの混合物である有機ポリマーバインダーであって、各コポリマーまたはインターポリマーは、(1)C1〜10アルキルメタクリレート、C1〜10アルキルアクリレート、スチレン、置換スチレン、またはそれらの組み合わせを含む非酸性コモノマーと、(2)エチレン系不飽和カルボン酸含有部分を含む酸性コモノマーとを含み、前記コポリマー、インターポリマー、または混合物は、全ポリマー重量の少なくとも10重量%の酸含有率を有し、ガラス転移温度が50〜150℃の範囲にあり、重量平均分子量が2,000〜250,000の範囲にある有機ポリマーバインダーと、
(d)光硬化性モノマーと、
(e)光開始系と、
(f)有機溶媒と
を含む有機媒体中に分散したものを含むことを特徴とする光画像形成性組成物。 - ステアリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸塩、パルミチン酸塩、およびそれらの混合物から選択される界面活性剤をさらに含むことを特徴とする請求項10に記載の組成物。
- 前記コーティングされた銀は、ステアリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸塩、パルミチン酸塩、およびそれらの混合物から選択される界面活性剤で少なくとも部分的にコーティングされていることを特徴とする請求項10に記載の組成物。
- 前記界面活性剤が、前記組成物中に、前記コーティングされた銀粒子を基準にして0.1〜1重量%の範囲内で見出されることを特徴とする請求項10に記載の組成物。
- スクリーン印刷に好適なペースト粘稠性を有することを特徴とする請求項10に記載の組成物。
- 請求項10に記載の組成物のキャスト層を含み、前記組成物が乾燥されて揮発性溶媒が除去されていることを特徴とするシート。
- 請求項10に記載の組成物のキャスト層を含み、前記組成物が加熱されて、前記有機媒体が実質的に除去され、前記無機材料が実質的に焼結されていることを特徴とする、物品。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008509439A (ja) * | 2004-08-06 | 2008-03-27 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 光パターン化方法において使用するための水性の現像可能な光画像形成性前駆組成物 |
JP2009138243A (ja) * | 2007-12-07 | 2009-06-25 | Dowa Electronics Materials Co Ltd | 極性媒体との親和性に優れた銀微粉および銀インク並びに銀粒子の製造方法 |
JP2012509965A (ja) * | 2008-11-24 | 2012-04-26 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | Rfidおよび他の用途に使用するための高導電率ポリマー厚膜銀導体組成物 |
JP2013151753A (ja) * | 2013-03-04 | 2013-08-08 | Dowa Electronics Materials Co Ltd | 極性媒体との親和性に優れた銀微粉および銀インク |
WO2015093136A1 (ja) * | 2013-12-16 | 2015-06-25 | 日立化成株式会社 | 樹脂ペースト組成物及び半導体装置 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4071171B2 (ja) * | 2003-08-21 | 2008-04-02 | 太陽インキ製造株式会社 | 感光性導電組成物およびプラズマディスプレイパネル |
US7618704B2 (en) | 2003-09-29 | 2009-11-17 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Spin-printing of electronic and display components |
KR100996235B1 (ko) * | 2004-06-01 | 2010-11-25 | 주식회사 동진쎄미켐 | PDP 어드레스 전극용 Pb 미함유 Ag 페이스트 조성물 |
JP2006133378A (ja) * | 2004-11-04 | 2006-05-25 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 感光性樹脂組成物、およびこれを用いた感光性ドライフィルム |
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US7291292B2 (en) | 2005-08-26 | 2007-11-06 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Preparation of silver particles using thermomorphic polymers |
WO2008031601A1 (en) * | 2006-09-13 | 2008-03-20 | Dsm Ip Assets B.V. | Antimicrobial hydrophilic coating comprising metallic silver particles |
DE102008034946B4 (de) * | 2008-07-26 | 2016-05-19 | Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg | Herstellungsverfahren eines Edelmetallverbindungsmittels |
DE102008045148A1 (de) * | 2008-09-01 | 2010-03-04 | Allgemeine Gold- Und Silberscheideanstalt Aktiengesellschaft | Silberkatalysator zur Formaldehyd-Herstellung |
US7887992B2 (en) | 2008-12-23 | 2011-02-15 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive paste and process for production of pattern using the same |
JP2014179321A (ja) * | 2013-03-13 | 2014-09-25 | Samsung Sdi Co Ltd | セパレータおよびこれを含むリチウム二次電池 |
KR102220531B1 (ko) * | 2018-04-23 | 2021-02-24 | 삼성에스디아이 주식회사 | 전극 형성용 조성물 및 이로부터 제조된 전극과 태양전지 |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5080999A (en) * | 1985-06-10 | 1992-01-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive diazo resin composition containing a higher fatty acid or higher fatty acid amide |
EP0259812A3 (en) * | 1986-09-10 | 1990-01-31 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymerizable compositions containing inorganic fillers |
US5134175A (en) * | 1987-12-16 | 1992-07-28 | Michael Lucey | Curable composition for electrical and electronic components |
US5180757A (en) * | 1987-12-16 | 1993-01-19 | Michael Lucey | Photopolymerizable compositions used in electronics |
US4912019A (en) * | 1988-05-31 | 1990-03-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive aqueous developable ceramic coating composition |
US4925771A (en) * | 1988-05-31 | 1990-05-15 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Process of making photosensitive aqueous developable ceramic coating composition including freeze drying the ceramic solid particles |
US5032490A (en) | 1989-08-21 | 1991-07-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive aqueous developable copper conductor composition |
US5049480A (en) * | 1990-02-20 | 1991-09-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive aqueous developable silver conductor composition |
JP3672105B2 (ja) | 1991-09-09 | 2005-07-13 | 東レ株式会社 | 感光性導電ペースト |
JP3218767B2 (ja) | 1992-01-24 | 2001-10-15 | 東レ株式会社 | 感光性導電ペースト |
US6004705A (en) * | 1992-07-07 | 1999-12-21 | Toray Industries, Inc. | Photosensitive ceramics green sheet |
JPH06313948A (ja) * | 1993-04-28 | 1994-11-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 写真感光材料用成形品及びその成形方法並びにそれを用いた包装体 |
CN1179557A (zh) * | 1996-05-21 | 1998-04-22 | 纳幕尔杜邦公司 | 采用乙烯吡咯烷酮聚合物的可水显影光敏厚膜组合物 |
TW367504B (en) | 1996-05-21 | 1999-08-21 | Du Pont | Photosensitive aqueous developable thick film composition employing vinylpyrrolidone polymer |
JP3510761B2 (ja) * | 1997-03-26 | 2004-03-29 | 太陽インキ製造株式会社 | アルカリ現像型光硬化性導電性ペースト組成物及びそれを用いて電極形成したプラズマディスプレイパネル |
JP3686749B2 (ja) * | 1997-11-04 | 2005-08-24 | 太陽インキ製造株式会社 | パターン状無機質焼成被膜及びプラズマディスプレイパネルの製造方法 |
JP4090103B2 (ja) * | 1998-03-02 | 2008-05-28 | 太陽インキ製造株式会社 | 感光性組成物及びそれを用いて得られる焼成物パターン |
JP3953625B2 (ja) * | 1998-03-02 | 2007-08-08 | 太陽インキ製造株式会社 | 感光性組成物 |
JPH11246638A (ja) * | 1998-03-02 | 1999-09-14 | Taiyo Ink Mfg Ltd | 感光性組成物及びそれを用いて得られる焼成物パターン |
EP1008909B1 (en) | 1998-12-11 | 2003-08-13 | E.I. Dupont De Nemours And Company | Composition for a photosensitive silver conductor tape and tape comprising the same |
JP3394938B2 (ja) * | 1999-03-25 | 2003-04-07 | 株式会社村田製作所 | 感光性導体ペースト |
US6194124B1 (en) * | 1999-08-12 | 2001-02-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive ceramic compositions containing polycarbonate polymers |
US6762009B2 (en) * | 2001-10-12 | 2004-07-13 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous developable photoimageable thick film compositions with photospeed enhancer |
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008509439A (ja) * | 2004-08-06 | 2008-03-27 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 光パターン化方法において使用するための水性の現像可能な光画像形成性前駆組成物 |
JP4769803B2 (ja) * | 2004-08-06 | 2011-09-07 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 光パターン化方法において使用するための水性の現像可能な光画像形成性前駆組成物 |
JP2009138243A (ja) * | 2007-12-07 | 2009-06-25 | Dowa Electronics Materials Co Ltd | 極性媒体との親和性に優れた銀微粉および銀インク並びに銀粒子の製造方法 |
JP2012509965A (ja) * | 2008-11-24 | 2012-04-26 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | Rfidおよび他の用途に使用するための高導電率ポリマー厚膜銀導体組成物 |
JP2013151753A (ja) * | 2013-03-04 | 2013-08-08 | Dowa Electronics Materials Co Ltd | 極性媒体との親和性に優れた銀微粉および銀インク |
WO2015093136A1 (ja) * | 2013-12-16 | 2015-06-25 | 日立化成株式会社 | 樹脂ペースト組成物及び半導体装置 |
JP2015135805A (ja) * | 2013-12-16 | 2015-07-27 | 日立化成株式会社 | 樹脂ペースト組成物及び半導体装置 |
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