JP2005346043A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2005346043A5
JP2005346043A5 JP2005130607A JP2005130607A JP2005346043A5 JP 2005346043 A5 JP2005346043 A5 JP 2005346043A5 JP 2005130607 A JP2005130607 A JP 2005130607A JP 2005130607 A JP2005130607 A JP 2005130607A JP 2005346043 A5 JP2005346043 A5 JP 2005346043A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
pattern
layer
conductive film
display device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005130607A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2005346043A (ja
JP4877871B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2005130607A priority Critical patent/JP4877871B2/ja
Priority claimed from JP2005130607A external-priority patent/JP4877871B2/ja
Publication of JP2005346043A publication Critical patent/JP2005346043A/ja
Publication of JP2005346043A5 publication Critical patent/JP2005346043A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4877871B2 publication Critical patent/JP4877871B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2005130607A 2004-04-28 2005-04-27 表示装置の作製方法、液晶テレビジョン、及びｅｌテレビジョン Expired - Fee Related JP4877871B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005130607A JP4877871B2 (ja) 2004-04-28 2005-04-27 表示装置の作製方法、液晶テレビジョン、及びｅｌテレビジョン

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004134154 2004-04-28
JP2004134154 2004-04-28
JP2005130607A JP4877871B2 (ja) 2004-04-28 2005-04-27 表示装置の作製方法、液晶テレビジョン、及びｅｌテレビジョン

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2005346043A JP2005346043A (ja) 2005-12-15
JP2005346043A5 true JP2005346043A5 (ko) 2008-06-19
JP4877871B2 JP4877871B2 (ja) 2012-02-15

Family

ID=35498443

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005130607A Expired - Fee Related JP4877871B2 (ja) 2004-04-28 2005-04-27 表示装置の作製方法、液晶テレビジョン、及びｅｌテレビジョン

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4877871B2 (ko)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI466779B (zh) 2006-12-27 2015-01-01 Hitachi Chemical Co Ltd Gravure and use of its substrate with a conductive layer pattern
JP4953166B2 (ja) * 2007-11-29 2012-06-13 カシオ計算機株式会社 表示パネルの製造方法
TWI452419B (zh) * 2008-01-28 2014-09-11 Az Electronic Mat Ip Japan Kk 細微圖案光罩及其製造方法、及使用其之細微圖案形成方法
US9305496B2 (en) 2010-07-01 2016-04-05 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Electric field driving display device
JP2013115098A (ja) * 2011-11-25 2013-06-10 Sony Corp トランジスタ、トランジスタの製造方法、表示装置および電子機器
KR101888174B1 (ko) * 2011-12-09 2018-08-13 주성엔지니어링(주) 발광 소자
WO2019175704A1 (ja) * 2018-03-16 2019-09-19 株式会社半導体エネルギー研究所 電気モジュール、表示パネル、表示装置、入出力装置、情報処理装置、電気モジュールの作製方法
KR102620103B1 (ko) * 2021-09-17 2024-01-02 주식회사 레티널 증강 현실용 광학 장치의 제조 방법 및 이에 의해 제조된 증강 현실용 광학 장치

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11340129A (ja) * 1998-05-28 1999-12-10 Seiko Epson Corp パターン製造方法およびパターン製造装置
JP2003124215A (ja) * 2001-10-15 2003-04-25 Seiko Epson Corp パターン形成方法、半導体デバイス、電気回路、表示体モジュール、カラーフィルタおよび発光素子
JP2003317945A (ja) * 2002-04-19 2003-11-07 Seiko Epson Corp デバイスの製造方法、デバイス、及び電子機器
JP2003331662A (ja) * 2002-05-10 2003-11-21 Seiko Epson Corp 薄膜のパターニング方法、有機エレクトロルミネッセンス装置、回路基板及び電子機器
JP4378767B2 (ja) * 2002-09-26 2009-12-09 セイコーエプソン株式会社 発光装置及び電子機器

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2005346043A5 (ko)
JP2006100808A5 (ko)
WO2016206236A1 (zh) 低温多晶硅背板及其制造方法和发光器件
WO2016101719A1 (zh) 阵列基板及其制作方法和显示装置
WO2015096308A1 (zh) Oled显示面板及其制作方法
WO2018090482A1 (zh) 阵列基板及其制备方法、显示装置
US20150171224A1 (en) Thin film transistor and manufacturing method thereof, array substrate and display device
JP2010135384A (ja) 薄膜トランジスタアレイ基板、その製造方法及び液晶表示装置
TW200625028A (en) A method for etching and for forming a contact hole using thereof
JP2005311325A5 (ko)
KR20170026327A (ko) 어레이 기판의 제조 방법, 어레이 기판 및 디스플레이 디바이스
WO2018006446A1 (zh) 薄膜晶体管阵列基板及其制造方法
GB2425402B (en) Method for fabricating thin film transistor of liquid crystal display device
WO2015096309A1 (zh) 薄膜晶体管及其制造方法、阵列基板、显示装置
TW200638547A (en) Method for fabricating thin film transistor of liquid crystal display device
CN105679775B (zh) 一种阵列基板及其制作方法、显示面板和显示装置
TW200733399A (en) Thin film transistor array panel and method of manufacturing thereof
TW200622996A (en) Method of fabricating a pixel structure of a thin film transistor liquid crystal display
JP2021015954A5 (ko)
CN104409361A (zh) 一种薄膜晶体管、其制备方法、阵列基板及显示装置
JP2005190992A5 (ko)
GB2542094B (en) Method for manufacturing coplanar oxide semiconductor TFT substrate
JP6560760B2 (ja) 共平面型酸化物半導体ｔｆｔ基板構造及びその製作方法
JP7001590B2 (ja) アレイ基板およびその製造方法、駆動用トランジスタ、並びに表示パネル
JP2005129919A5 (ko)