JP2005339863A - フィルム有機el素子 - Google Patents
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Abstract
【課題】フィルム有機EL素子に対して、フレキシブル性を損なわずに、十分に高度なバリアを実現できる封止手段を提供すること。
【解決手段】バリア層を有するフィルム基板30と、透明電極(陽極)、正孔輸送層、発光層、金属電極(陰極)で構成される発光機能層6と、発光機能層の封止手段20とからなるフィルム有機EL素子において、封止手段が、発光機能層の全体を覆うように形成したバリア性の無機薄膜からなる封止膜7と、封止膜上に接着剤8を介して貼り合せた、バリア層を有するプラスチックフィルムからなる封止フィルム9の組み合せであること。
【選択図】図1
【解決手段】バリア層を有するフィルム基板30と、透明電極(陽極)、正孔輸送層、発光層、金属電極(陰極)で構成される発光機能層6と、発光機能層の封止手段20とからなるフィルム有機EL素子において、封止手段が、発光機能層の全体を覆うように形成したバリア性の無機薄膜からなる封止膜7と、封止膜上に接着剤8を介して貼り合せた、バリア層を有するプラスチックフィルムからなる封止フィルム9の組み合せであること。
【選択図】図1
Description
本発明は、フレキシブルなフィルム有機エレクトロルミネッセンス素子(以下フィルム有機EL素子という)に関するものであり、特に、封止手段が封止膜と封止フィルムの組合わせからなるフィルム有機EL素子に関する。
有機EL素子は、電界発光する機能を有する有機材料を用いて、例えば、ガラス基板の上に透明電極(陽極)、有機発光層(正孔輸送層等含む)、金属電極等(陰極)を積層し、さらにガラスキャップ等を発光層全体を覆うよう被せ、接着剤で密封封止するなどして構成され、各種情報端末やモニター、テレビ等の表示装置に利用できる。
一方、各種表示装置について、多様な機能が要求されるようになり、薄型化、軽量化、曲面表示、フレキシブル性などもその要求のひとつである。しかし、ガラス基板を用いた表示装置では、これらの機能を満たすには限界があり、フィルム基板を用いた表示装置への期待が高まりつつある。
一方、各種表示装置について、多様な機能が要求されるようになり、薄型化、軽量化、曲面表示、フレキシブル性などもその要求のひとつである。しかし、ガラス基板を用いた表示装置では、これらの機能を満たすには限界があり、フィルム基板を用いた表示装置への期待が高まりつつある。
有機EL素子を用いた表示装置において、フィルム化する最大の問題点は、有機層や陰極に対する酸素や水蒸気のバリアである。一般に、有機EL素子中に酸素や水分が進入すると、有機層や陰極がダメージを受け、非発光部分が広がるなどの悪影響がある。
ガラス基板を用いてガラスキャップで封止する場合には、ガラス自体は酸素や水分を全く透さないため、基板や封止体自体をとおして進入する酸素や水分はほとんど無視して良いが、フィルム自体はある程度酸素や水分を透すため、フィルム基板を用いる場合には、如何にして酸素や水分の進入を防ぐ手段を講じるかが重要な課題となる。
ガラス基板を用いてガラスキャップで封止する場合には、ガラス自体は酸素や水分を全く透さないため、基板や封止体自体をとおして進入する酸素や水分はほとんど無視して良いが、フィルム自体はある程度酸素や水分を透すため、フィルム基板を用いる場合には、如何にして酸素や水分の進入を防ぐ手段を講じるかが重要な課題となる。
フィルム有機EL素子における、酸素や水分の進入を防止する手段としては、一つには基板となるフィルムのバリアを高めることが重要であり、フィルム上に無機薄膜等のバリア層を設ける等の手段が一般的である。しかし、基材フィルムのバリア性をいくら高めたとしても、封止部分のバリアが不十分では意味がない。しかもフレキシブル性を損なわずにバリアを確保する必要があり、このような手段として光硬化型の樹脂塗膜による膜封止や樹脂塗膜と無機薄膜との積層膜による膜封止等が提案されている(特許文献1、特許文献2参照)。
特開2003−257615号公報
特開2001−176653号公報
しかし、本発明らが鋭意実験を重ねた結果、まず、光硬化型の樹脂塗膜による膜封止だけでは、有機EL素子の非発光部の拡大抑制には不十分であることがわかった。光硬化型の樹脂として、撥水性の高いエポキシ樹脂を用いたが、エポキシ樹脂でも多少は水分の透過があり、また発光機能層と樹脂層の界面からの水分等の進入も考えられる。
つぎに、無機薄膜を直接有機ELの発光機能層の上に形成して封止膜とする方法では、酸化珪素(SiOx)膜、酸窒化珪素(SiOxNy)膜、窒化珪素(SiNx)膜等で試したが、窒化珪素膜では比較的良好な結果が得られたものの、やはりこれらの膜封止単独では不十分であった。これらの単膜では、無機薄膜に存在するピンホールの影響や応力によるクラックの発生や膜がむき出しになっていることによる傷つきなどの影響があるも
のと考えられる。
のと考えられる。
さらに、無機薄膜と光硬化型の樹脂塗膜との積層膜での封止も試したが、それぞれ単独の膜として用いた場合よりは良好な結果であったが、やはり非発光部の拡大はみられ、フィルム有機ELの封止手段としては不十分であった。無機薄膜の上に樹脂を塗膜することで、ピンホールやクラック、傷つき等の問題はかなり解消されると思われる。しかし、高度なバリア性を要求される有機EL素子に対してはもっと高度なバリアが必要であった。本発明は、フィルム有機EL素子に対して、フレキシブル性を損なわずに、十分に高度なバリアを実現できる封止手段を提供することを課題とする。
本発明は、バリア層を有するプラスチックフィルムからなるフィルム基板と、該フィルム基板上に形成された透明電極(陽極)、正孔輸送層、発光層、金属電極(陰極)で構成される発光機能層と、該発光機能層を封止する封止手段とからなるフィルム有機EL素子において、該封止手段が、発光機能層の全体を覆うように形成したバリア性の無機薄膜からなる封止膜と、該封止膜上に接着剤を介して貼り合せた、バリア層を有するプラスチックフィルムからなる封止フィルムの組み合せであることを特徴とするフィルム有機EL素子である。
また、本発明は、上記発明によるフィルム有機EL素子において、前記封止膜が、窒化珪素膜(SiNx)または酸窒化珪素膜(SiOxNy)であることを特徴とするフィルム有機EL素子である。
また、本発明は、上記発明によるフィルム有機EL素子において、前記封止フィルムのバリア層が、窒化珪素膜(SiNx)または酸窒化珪素膜(SiOxNy)であることを特徴とするフィルム有機EL素子である。
また、本発明は、上記発明によるフィルム有機EL素子において、前記フィルム基板のバリア層が、少なくとも発光機能層を形成する側に形成されており、該バリア層と封止膜が同一組成の材料であることを特徴とするフィルム有機EL素子である。
本発明は、バリア層を有するフィルム基板と、発光機能層と、発光機能層の封止手段とからなるフィルム有機EL素子において、封止手段が、発光機能層の全体を覆うように形成したバリア性の無機薄膜からなる封止膜と、封止膜上に接着剤を介して貼り合せた、バリア層を有するプラスチックフィルムからなる封止フィルムの組み合せであるので、フレキシブル性を損なわずに、十分に高度なバリアを実現できるフィルム有機EL素子となる。
以下に、本発明によるフィルム有機EL素子を具体的に説明する。
図1は、本発明によるフィルム有機EL素子の一実施例の断面図である。図1に示すように、本発明によるフィルム有機EL素子は、バリア層2を有するプラスチックフィルム1をフィルム基板30とし、フィルム基板30上に陽極となる透明電極3、正孔輸送層3’、発光層4、陰極となる金属電極5が順次積層して形成され、これらの発光に機能する層(発光機能層6)全体を覆うように無機薄膜からなる封止膜7が形成され、さらに封止膜7上に接着剤8を介してバリア層10を有するプラスチックフィルム11が封止フィルム9として貼り合せされている。封止手段20は、封止膜7と、接着剤を介して貼り合せたバリア層を有するプラスチックフィルムからなる封止フィルム9との組み合せである。
図1は、本発明によるフィルム有機EL素子の一実施例の断面図である。図1に示すように、本発明によるフィルム有機EL素子は、バリア層2を有するプラスチックフィルム1をフィルム基板30とし、フィルム基板30上に陽極となる透明電極3、正孔輸送層3’、発光層4、陰極となる金属電極5が順次積層して形成され、これらの発光に機能する層(発光機能層6)全体を覆うように無機薄膜からなる封止膜7が形成され、さらに封止膜7上に接着剤8を介してバリア層10を有するプラスチックフィルム11が封止フィルム9として貼り合せされている。封止手段20は、封止膜7と、接着剤を介して貼り合せたバリア層を有するプラスチックフィルムからなる封止フィルム9との組み合せである。
フィルム基板30用のプラスチックフィルムとしては、透明で比較的耐熱性の高いフィルムが適するが、ポリカーボネートフィルム、ポリアクリレートフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルフォンフィルム等を用いることができる。
フィルム基板30のバリア層としては、要求されるバリアレベルや透明性から、酸化珪素(SiOx)、酸窒化珪素(SiOxNy)、窒化珪素(SiNx)等のスパッタまたはCVD等で付けた薄膜が適当である。
透明電極3、正孔輸送層3’、発光層4、金属電極5等からなる発光機能層6は一般的な有機ELの素子構成で良く、上記以外に正孔注入層、電子注入層、電子輸送層等を有してもよい。正孔輸送層や発光層等の有機層の材料は、低分子材料でも良く、高分子材料でも良い。
封止膜7としては、やはり酸化珪素(SiOx)、酸窒化珪素(SiOxNy)、窒化珪素(SiNx)等の無機薄膜が適するが、中でも酸窒化珪素(SiOxNy)および窒化珪素(SiNx)が好ましい。
封止膜7の上に接着剤8を介して貼り付けるプラスチックフィルム11は、やはりバリア層10を有するフィルムで、バリア層10としては酸化珪素(SiOx)、酸窒化珪素(SiOxNy)、窒化珪素(SiNx)等の無機薄膜が好ましく、中でも酸窒化珪素(SiOxNy)および窒化珪素(SiNx)が好ましい。
封止膜7の上に接着剤8を介して貼り付けるプラスチックフィルム11は、やはりバリア層10を有するフィルムで、バリア層10としては酸化珪素(SiOx)、酸窒化珪素(SiOxNy)、窒化珪素(SiNx)等の無機薄膜が好ましく、中でも酸窒化珪素(SiOxNy)および窒化珪素(SiNx)が好ましい。
このように、本発明におけるフィルム有機EL素子では、封止手段として封止膜7と封止フィルム9を組合せたことで、無機薄膜からなる封止膜におけるピンホールの問題は封止膜の上に塗布する熱硬化型樹脂からなる接着剤により軽減でき、同じく封止膜が受ける応力によるクラックの発生もフィルムを貼り合せることで軽減され、封止膜が露出していることによる傷つきの恐れも軽減できる。さらに、封止フィルム自体もバリア性の高いフィルムを用いるので二重のバリア効果も期待でき、封止性能が格段に向上する。
また、フィルム基板30上のバリア層が形成されている側に、発光機能層を形成し、その上から封止膜を形成するが、このときフィルム基板上のバリア層を構成する無機薄膜と封止膜を構成する無機薄膜を同一の組成にすることで、両方の膜が接する界面における密着性が向上し、界面からの水分の進入を抑えることが可能となる。
以下、本発明の実施例について具体的に説明するが、本発明はこれに限定される物ではない。
実施例1から5、及び比較するための例として実施例6から9、におけるフィルム有機EL素子は次のようにして作成した。フィルム基板30は、プラスチックフィルム1としての、膜厚200μmのポリエーテルスルフォンフィルムに、バリア層2として無機薄膜(SiNx)を形成したフィルム基板を用い、そのバリア層2上にITO膜をスパッタリング法で成膜し、エッチングによりパターンニングして透明電極(陽極)3を形成した。この上に蒸着法により正孔輸送層3’、発光層4、および金属電極(陰極)5を順次形成した。
実施例1から5、及び比較するための例として実施例6から9、におけるフィルム有機EL素子は次のようにして作成した。フィルム基板30は、プラスチックフィルム1としての、膜厚200μmのポリエーテルスルフォンフィルムに、バリア層2として無機薄膜(SiNx)を形成したフィルム基板を用い、そのバリア層2上にITO膜をスパッタリング法で成膜し、エッチングによりパターンニングして透明電極(陽極)3を形成した。この上に蒸着法により正孔輸送層3’、発光層4、および金属電極(陰極)5を順次形成した。
正孔輸送層の材料としてはα−ナフチルフェニルジアミン(α−NPD)を、発光層の材料としてはトリス(8−キノリノール)アルミニウム(Alq)を、金属電極(陰極)の材料としてカルシウムおよび銀を用いた。
最後に発光機能層6全体を覆うように封止膜7を形成して膜封止を行うか、接着剤8を介して封止フィルム9を貼り合せるフィルム封止を行うか、その両方を行うかの各種封止手段を講じてフィルム有機EL素子とした。
最後に発光機能層6全体を覆うように封止膜7を形成して膜封止を行うか、接着剤8を介して封止フィルム9を貼り合せるフィルム封止を行うか、その両方を行うかの各種封止手段を講じてフィルム有機EL素子とした。
封止膜の形成は、酸化珪素、酸窒化珪素、窒化珪素膜の何れかをCVD(Chemical Vapor Deposition)を用いた成膜により行った。封止フィルムには、無機薄膜層を有する膜厚100μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、熱硬化型のエポキシ樹脂等からなる接着剤を使って、封止膜上または発光機能層上に直接貼り合せた。
フィルム基板は、バリア層として膜厚200nmの窒化珪素膜(SiNx)を形成したフィルムを用い、封止手段は、膜厚200nm酸化珪素膜(SiOx)からなる封止膜と、膜厚100nmの窒化珪素膜(SiNx)を有するフィルムを用いた封止フィルムとの組合わせで行い、その他は上記素子作成法に従ってフィルム有機EL素子を作成した。
フィルム基板は、バリア層として膜厚200nmの窒化珪素膜(SiNx)を形成したフィルムを用い、封止手段は、膜厚200nm酸窒化珪素膜(SiOxNy)からなる封止膜と、膜厚100nmの窒化珪素膜(SiNx)を有するフィルムを用いた封止フィルムとの組合わせで行い、その他は上記素子作成法に従ってフィルム有機EL素子を作成した。
フィルム基板は、バリア層として膜厚200nmの窒化珪素膜(SiNx)を形成したフィルムを用い、封止手段は、膜厚200nm窒化珪素膜(SiNx)からなる封止膜と、膜厚100nmの窒化珪素膜(SiNx)を有するフィルムを用いた封止フィルムとの組合わせで行い、その他は上記素子作成法に従ってフィルム有機EL素子を作成した。
フィルム基板は、バリア層として膜厚200nmの窒化珪素膜(SiNx)を形成したフィルムを用い、封止手段は、膜厚200nm窒化珪素膜(SiNx)からなる封止膜と、膜厚100nmの酸化珪素膜(SiOx)を有するフィルムを用いた封止フィルムとの組合わせで行い、その他は上記素子作成法に従ってフィルム有機EL素子を作成した。
フィルム基板は、バリア層として膜厚200nmの窒化珪素膜(SiNx)を形成したフィルムを用い、封止手段は、膜厚200nm窒化珪素膜(SiNx)からなる封止膜と、膜厚100nmの酸窒化珪素膜(SiOxNy)を有するフィルムを用いた封止フィルムとの組合わせで行い、その他は上記素子作成法に従ってフィルム有機EL素子を作成した。
フィルム基板は、バリア層として膜厚200nmの窒化珪素膜(SiNx)を形成したフィルムを用い、封止手段は、膜厚200nm窒化珪素膜(SiNx)からなる封止膜と、バリア層を持たないフィルムを用いた封止フィルムとの組合わせで行い、その他は上記素子作成法に従ってフィルム有機EL素子を作成した。
フィルム基板は、バリア層として膜厚200nmの窒化珪素膜(SiNx)を形成したフィルムを用い、封止手段は、膜厚200nm窒化珪素膜(SiNx)からなる封止膜のみで行い、その他は上記素子作成法に従ってフィルム有機EL素子を作成した。
フィルム基板は、バリア層として膜厚200nmの窒化珪素膜(SiNx)を形成したフィルムを用い、封止手段は、膜厚100nmの窒化珪素膜(SiNx)を有するフィルムを用いた封止フィルムのみで行い、その他は上記素子作成法に従ってフィルム有機EL素子を作成した。
フィルム基板は、バリア層として膜厚200nmの窒化珪素膜(SiNx)を形成したフィルムを用い、封止手段は、バリア層を持たないフィルムを用いた封止フィルムのみで行い、その他は上記素子作成法に従ってフィルム有機EL素子を作成した。
上記実施例1から5、及び比較するための例として実施例6から9、のように作成したフィルム有機EL素子を、60℃湿度90%の促進条件下で保存試験を行い、非発光部(ダークスポット)の拡大を観察して、バリア性能を評価した。その結果を表1に示す。表1中、DSはダークスポット(非発光部)を、また、DS面積拡大率は、初期のDS面積に対する、60℃・90%・500時間保存後のDS面積の倍率を表している。
実施例1から5は、いずれも無機薄膜による封止膜とバリア層を有するフィルムを用いた封止フィルムとの組合わせによる封止手段をとったものだが、これらは何れも温度60℃、湿度90%で500時間の保存においてもDSの拡大が少なく、良好な性能を示した。封止膜に用いる無機薄膜は窒化珪素(SiNx)、酸窒化珪素(SiOxNy)、酸化珪素(SiOx)の順で良好であり、封止フィルムのバリア層として用いる無機薄膜としても同じ順でバリア性能は良好であった。よって、両方の薄膜に窒化珪素(SiNx)を用いた実施例3のバリア性能が最も優れたものであった。
無機薄膜による封止膜と封止フィルムとの組合わせであっても、フィルムがバリア層を有しない実施例6の場合や、無機薄膜による封止膜のみの実施例7では、各実施例1から5のものに比べてDSの拡大が大きく、バリア性能は良くなかった。
また、無機薄膜による封止を行わずにバリア層を有するフィルムを用いた封止フィルムのみの実施例8でもDSの拡大が大きくバリア性能は不良であった。バリア層を持たないフィルムのみによる封止の実施例9では60℃湿度90%で500時間の保存後にはすでに非発光となった。
また、無機薄膜による封止を行わずにバリア層を有するフィルムを用いた封止フィルムのみの実施例8でもDSの拡大が大きくバリア性能は不良であった。バリア層を持たないフィルムのみによる封止の実施例9では60℃湿度90%で500時間の保存後にはすでに非発光となった。
上記の結果からみても、無機薄膜による封止膜とバリア層を有するフィルムを用いた封止フィルムの組合わせによる封止手段が、フィルム有機EL素子には有効であることがわかる。
1、11・・・プラスチックフィルム
2、10・・・バリア層
3・・・透明電極(陽極)
3’・・・正孔輸送層
4・・・発光層
5・・・金属電極(陰極)
6・・・発光機能層
7・・・封止膜
8・・・接着剤
9・・・封止フィルム
20・・・封止手段
30・・・フィルム基板
2、10・・・バリア層
3・・・透明電極(陽極)
3’・・・正孔輸送層
4・・・発光層
5・・・金属電極(陰極)
6・・・発光機能層
7・・・封止膜
8・・・接着剤
9・・・封止フィルム
20・・・封止手段
30・・・フィルム基板
Claims (4)
- バリア層を有するプラスチックフィルムからなるフィルム基板と、該フィルム基板上に形成された透明電極(陽極)、正孔輸送層、発光層、金属電極(陰極)で構成される発光機能層と、該発光機能層を封止する封止手段とからなるフィルム有機EL素子において、該封止手段が、発光機能層の全体を覆うように形成したバリア性の無機薄膜からなる封止膜と、該封止膜上に接着剤を介して貼り合せた、バリア層を有するプラスチックフィルムからなる封止フィルムの組み合せであることを特徴とするフィルム有機EL素子。
- 前記封止膜が、窒化珪素膜(SiNx)または酸窒化珪素膜(SiOxNy)であることを特徴とする請求項1記載のフィルム有機EL素子。
- 前記封止フィルムのバリア層が、窒化珪素膜(SiNx)または酸窒化珪素膜(SiOxNy)であることを特徴とする請求項1又は請求項2記載のフィルム有機EL素子。
- 前記フィルム基板のバリア層が、少なくとも発光機能層を形成する側に形成されており、該バリア層と封止膜が同一組成の材料であることを特徴とする請求項1、請求項2、又は請求項3記載のフィルム有機EL素子。
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