KR101901243B1 - 플렉서블 디스플레이 및 이의 제조 방법 - Google Patents

플렉서블 디스플레이 및 이의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101901243B1
KR101901243B1 KR1020110121765A KR20110121765A KR101901243B1 KR 101901243 B1 KR101901243 B1 KR 101901243B1 KR 1020110121765 A KR1020110121765 A KR 1020110121765A KR 20110121765 A KR20110121765 A KR 20110121765A KR 101901243 B1 KR101901243 B1 KR 101901243B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
flexible film
sacrificial layer
flexible
nano
inorganic particles
Prior art date
Application number
KR1020110121765A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20130056038A (ko
Inventor
최재경
박종현
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020110121765A priority Critical patent/KR101901243B1/ko
Publication of KR20130056038A publication Critical patent/KR20130056038A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101901243B1 publication Critical patent/KR101901243B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • H01L27/1259Multistep manufacturing methods
    • H01L27/1262Multistep manufacturing methods with a particular formation, treatment or coating of the substrate
    • H01L27/1266Multistep manufacturing methods with a particular formation, treatment or coating of the substrate the substrate on which the devices are formed not being the final device substrate, e.g. using a temporary substrate
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549Organic PV cells

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

본 발명은 플렉서블 기판의 재료를 달리하여 레이저 조사시 플렉서블 기판 상에 형성된 층의 손상을 방지한 플렉서블 디스플레이 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명의 플렉서블 디스플레이의 제조 방법은 지지 기판 상에 희생층을 형성하는 단계와, 상기 희생층 상에, 투명 고분자 용액과 나노 무기 파티클을 혼합한 혼합 용액을 희생층 상에 도포하여 플렉서블 필름을 형성하는 단계와, 상기 플렉서블 필름 상에 어레이를 형성하는 단계 및 상기 지지 기판측에 레이저를 조사하여 상기 플렉서블 필름을 상기 희생층으로부터 분리하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.

Description

플렉서블 디스플레이 및 이의 제조 방법{Flexible Display and Method for Manufacturing Flexible Display}
본 발명은 플렉서블 디스플레이에 관한 것으로 특히, 플렉서블 기판의 재료를 달리하여 레이저 조사시 플렉서블 기판 상에 형성된 층의 손상을 방지한 플렉서블 디스플레이 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
최근 음극선관(Cathode Ray Tube, CRT)의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 각종 평판 표시 장치들이 대두되고 있다.
이러한 평판 표시 장치로는 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display Device, LCD), 플라즈마 표시 패널(Plasma Display Panel, PDP) 및 유기 발광 표시 장치(Organic light emitting display device, OLED), 양자점 표시 장치(Quantum Display Device), 전기 영동 표시 장치(Electrophoresis Display Device) 등이 있다.
평판 표시 장치는 대개 고정된 형태로 이용 가능하지만, 최근 전자책이나 전자 종이와 같은, 플렉서블(flexible)한 형태로도 그 이용이 고려되고 있다. 이와 같이, 잡거나 말더라도 손상되지 않도록 플렉서블한 상태로 표시가 가능한 표시 장치를 플렉서블 디스플레이(flexible display)라 한다.
그런데, 플렉서블 디스플레이는 어레이가 형성되는 기판 자체가 유연성을 갖는 재료이며, 매우 얇다. 따라서, 기판 상에 표시를 위해 요구되는 배선 및 표시 전극 등의 형성 공정이나 유기 발광 소자 어레이 형성 공정 등에서, 가해지는 열이나 압력으로 기판이 특정 방향으로 변형을 일으킬 수 있어, 이를 방지하도록 별도의 지지 기판 상에 플렉서블 기판을 부착시켜 증착 공정 등의 형성 공정을 진행한다.
한편, 배선 및 표시 전극 등의 어레이 형성 공정을 진행한 후에, 다시 지지 기판으로부터 기판을 분리해내는 공정이 요구된다. 그런데, 이러한 분리 공정시 힘이나 열 혹은 광 등의 조사가 이루어지는데, 이 과정에서 기판 상에 형성된 표시 소자들이 손상되어버리는 문제점이 있다.
도 1은 플렉서블 디스플레이에서 기판의 분리 공정 후 미점등 구간이 발생한 현상을 나타낸 사진이다.
도 1과 같이, 지지 기판으로부터 기판을 분리하는 공정에서, 레이저 조사가 이루어지는데, 이러한 레이저 조사가 기판 상부에 형성된 어레이에까지 미쳐, 투과된 레이저로 인해 스위칭 소자 또는 유기 발광 다이오드에 데미지를 일으켜 일부 결함 화소 등이 발생한다.
한 번 손상된 표시 소자들은 해당 부위가 결함 화소(point defect) 혹은 결함 라인(line defect)으로 작용하여, 이는 수율을 떨어뜨리는 결정적인 역할을 하여 이를 방지하기 위한 노력이 제기되고 있다.
상기와 같은 종래의 플렉서블 디스플레이는 다음과 같은 문제점이 있다.
플렉서블 기판이 갖는 재료적 특징에 의해, 기판을 지지 기판에 부착시켜 어레이 공정을 진행하고, 이후에 플렉서블 기판을 분리해내는 공정을 진행하여 왔는데, 분리 공정시 플렉서블 기판 상에 형성된 어레이에 손상이 가해지기 쉽다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로 플렉서블 기판의 재료를 달리하여 레이저 조사시 플렉서블 기판 상에 형성된 층의 손상을 방지한 플렉서블 디스플레이 및 이의 제조 방법을 제공하는 데, 그 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 플렉서블 디스플레이의 제조 방법은, 지지 기판 상에 희생층을 형성하는 단계와, 상기 희생층 상에, 투명 고분자 용액과 나노 무기 파티클을 혼합한 혼합 용액을 희생층 상에 도포하여 플렉서블 필름을 형성하는 단계와, 상기 플렉서블 필름 상에 어레이를 형성하는 단계 및 상기 지지 기판측에 레이저를 조사하여 상기 플렉서블 필름을 상기 희생층으로부터 분리하는 단계를 포함하여 이루어진 것에 그 특징이 있다.
상기 나노 무기 파티클은 금속 또는 금속 산화물이다. 여기서, 상기 금속 산화물은 알루미나(Al2O3)일 수 있으며, 상기 금속은 알루미늄(Al)일 수 있다.
상기 혼합 용액 내의 상기 나노 무기 파티클은 상기 투명 고분자 용액의 총중량 대비 1wt% 내지 10wt%의 중량으로 섞여있다.
상기 혼합 용액의 점도는 12000cps 내지 13000cps 이다.
상기 나노 무기 파티클의 입도는 1㎛ 이하이다.
상기 희생층은 비정질 실리콘이다.
또한, 상기 투명 고분자 용액과 나노 무기 파티클을 혼합한 혼합 용액을 희생층 상에 도포한 후, 건조하는 공정을 더 포함할 수 있다.
그리고, 상기 플렉서블 필름 상에 어레이를 형성하는 단계는, 상기 플렉서블 필름 상에 매트릭스 상으로 정의되는 픽셀에 각각 박막 트랜지스터를 포함하는 박막 트랜지스터 어레이를 형성하는 단계와, 상기 각 박막 트랜지스터와 접속되는 유기 발광 소자를 형성하는 단계 및 상기 플렉서블 필름 상부를 덮어, 상기 박막 트랜지스터 어레이 및 유기 발광 소자를 외기로부터 보호하는 인캡슐레이션층을 형성하는 단계를 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 지지 기판측에 레이저를 조사하여 상기 플렉서블 필름을 상기 희생층으로부터 분리하는 단계는, 상기 플렉서블 필름과 상기 희생층간의 접합 에너지를 끊어낼 정도의 세기로 레이저를 조사한다.
상기 플렉서블 필름의 두께는 5㎛ 내지 50㎛이다.
또한, 동일한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 플렉서블 디스플레이는 투명 고분자 용액과 나노 무기 파티클의 혼합 용액을 건조시켜 형성된 플렉서블 필름과, 상기 플렉서블 필름 상에 박막 트랜지스터 및 이와 접속된 유기 발광 소자를 매트릭스 상으로 갖는 유기 발광 어레이 및 상기 유기 발광 어레이를 덮도록 상기 플렉서블 필름 상에 형성된 인캡슐레이션층을 포함하는 것에 그 특징이 있다.
여기서, 상기 나노 무기 파티클은 금속 또는 금속 산화물이다.
그리고, 상기 혼합 용액 내의 상기 나노 무기 파티클은 상기 투명 고분자 용액의 총중량 대비 1wt% 내지 10wt%의 중량으로 섞여있다.
상기 나노 무기 파티클의 입도는 1㎛ 이하이며, 상기 플렉서블 필름의 두께는 5㎛ 내지 50㎛이다.
상기와 같은 본 발명의 플렉서블 디스플레이 및 이의 제조 방법은 다음과 같은 효과가 있다.
플렉서블 필름의 성분을 투명 고분자 용액 외에 무기 파티클을 혼합하여 형성함으로써, 플렉서블 필름을 지지 기판으로 분리하는 공정에서 레이저 조사시 플렉서블 필름의 배면에서 입사되는 레이저 광을 무기 파티클이 차단하여 박막 트랜지스터 어레이 혹은 유기 발광 어레이에 손상이 일어남을 방지할 수 있다.
이러한 손상 방지로 암점을 방지할 수 있으며, 수율 향상을 꾀할 수 있다.
도 1은 플렉서블 디스플레이에서 기판의 분리 공정 후 미점등 구간이 발생한 현상을 나타낸 사진
도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 플렉서블 디스플레이의 제조 방법을 나타낸 공정 단면도
도 3a 내지 도 3c는 본 발명의 플렉서블 디스플레이의 플렉서블 기판 제조 방법을 나타낸 공정도
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 플렉서블 디스플레이의 분리 공정을 나타낸 공정 단면도
도 5는 도 3a 내지 도 3c의 플렉서블 기판 제조방법에서, 나노 무기 파티클 함량의 조절에 의해 형성되는 플렉서블 기판의 투과율을 나타낸 그래프
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 플렉서블 디스플레이 및 이의 제조 방법을 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 플렉서블 디스플레이의 제조 방법을 나타낸 공정 단면도이며, 도 3a 내지 도 3c는 본 발명의 플렉서블 디스플레이의 플렉서블 기판 제조 방법을 나타낸 공정도이다.
본 발명의 플렉서블 디스플레이의 제조 방법은, 도 2a와 같이, 먼저, 지지 기판(10) 상에 희생층(50)을 형성한다.
상기 지지 기판(10)은 유리 기판과 같이 투명하며, 일정한 두께를 유지하여 상대적으로 이후에 형성될 플렉서블 필름을 지지할 수 있을 정도의 경도를 갖는 재료에서 선택한다. 여기서, 지지 기판(10)이 투명한 이유는 이후의 공정에서 레이저 조사가 지지 기판(10)의 배면측에 이루어지는 데, 지지 기판(10)을 통과하여 희생층(50)까지 레이저가 조사되기 위함이다.
그리고, 상기 희생층(50)은 비정질 실리콘(amorphous silicon)으로 지지 기판(10) 상에 400Å 이상 1000Å의 두께로 증착하여 이루어지는 것이다.
여기서, 희생층(50)은 실제로 플렉서블 디스플레이의 기능과는 관계없이, 상기 지지 기판(10)으로부터 이후 형성되는 플렉서블 필름을 분리(releasing)하기 위해 레이저 조사 공정이 진행될 때, 분리가 이루어지는 층으로, 직접적으로 플렉서블 필름에 손상을 미치지 않게 하기 위해 구비된다.
도 2b와 같이, 상기 희생층(50) 상에 절연성의 플렉서블 필름(flexible film)(101)을 형성한다.
이러한 플렉서블 필름(101)은 도 3a와 같이, 투명 고분자 용액(1100)이 마련된 배쓰(200)를 준비한 후, 무기 파티클(1200)을 상기 투명 고분자 용액(1100)에 혼합하여 잘 섞은 다음, 도 3b와 같이, 무기 파티클(1200)이 투명 고분자 용액(1100)에 잘 분산된 혼합 용액(101a)을 준비하여 이루어진다.
즉, 도 3c와 같이, 상기 혼합 용액(101a)을 이를 희생층(50) 상에 용제 도포하여 형성한다. 도포 후에는 열 또는 에이징(aging)하여 상기 혼합 용액(101a) 중 솔벤트 성분을 건조시켜 경화된 플렉서블 필름(101)을 형성하게 된다.
여기서, 상기 플렉서블 필름(101) 내에 무기 파티클(1200)은 분산된 상태로 남아있으며, 무기 파티클(1200)은 금속 또는 금속 산화물로 이루어져 하부에서 들어오는 광을 파티클(1200) 표면에서 난반사시키는 기능을 갖는다.
예를 들어, 상기 금속 산화물은 알루미나(Al2O3)일 수 있으며, 상기 금속은 알루미늄(Al)일 수 있다. 그러나, 이러한 재료에 한정되지 않고, 상기 플렉서블 필름(101) 내에 존재하여 조사된 레이저를 난반사시킬 수 있는 성질을 갖고, 플렉서블 필름(101)의 투과율을 낮출 수 있는 재료라면 다른 재료로의 대체도 가능하다.
여기서, 상기 무기 파티클(1200)은 나노(nano) 사이즈의 파티클(particle)로 그 입도는 1㎛ 이하로 하는 것이 바람직하다.
보다 바람직하게는 10nm 내지 800nm일 수 있다. 이러한 수치는 상기 무기 파티클(1200)을 포함한 플렉서블 필름(101)은 약 총 5㎛ 내지 50㎛의 두께로 형성되는데, 표면 위로 돌출되지 않고, 플렉서블 필름(101) 내에 남아있게 하기 위함이며, 또한, 플렉서블 기판(101) 상에 형성되는 유기 발광 어레이에 영향을 미치지 않게 하기 위함이다.
한편, 상기 투명 고분자 용액(1100)은 예를 들어, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Ployethylene Terephthalate, PET), 폴리 카보네이트(polycarbonate, PC), 폴리 이미드(polyimide, PI), 폴리에틸렌 나프탈레이트(Polyethylene Naphthalate, PEN), COC(Cyclic olefin Copolymer), 아크릴(Acryl) 중 적어도 하나의 성분으로 이루어진다. 투명 고분자 용액(1100) 내에 상술한 성분들은 휘발가능한 솔벤트(solvent) 내에 함께 포함되어 있는 것으로, 상기 투명 고분자 용액(1100)은 상기 배쓰(200) 내에서 약간의 점성을 갖는 액상 성분이다.
상기 도 3b에서 제조된 혼합 용액(101a) 내의 상기 무기 파티클(1200)은 상기 투명 고분자 용액(1100)의 총중량 대비 1wt% 내지 10wt%의 중량으로 섞여있는 것이 바람직하다. 여기서, 투명 고분자 용액(1100) 내에 상기 솔벤트의 함량은 무시할 수 있을 정도의 중량으로 고려치 않은 것이다.
또한, 상기 혼합 용액(101a)의 점도는 12000cps 내지 13000cps 로 하여, 투명 고분자 용액(1100) 내에서 무기 파티클(1200)의 분산성을 좋게 한다.
이어, 도 2c와 같이, 상기 플렉서블 필름(101) 상에 어레이(110)를 형성한다.
상기 어레이(110)를 형성하는 단계는, 일 예로 플렉서블 필름(101) 상에 매트릭스 상의 화소 영역을 구분하여, 각 화소 영역에 박막 트랜지스터와 상기 박막 트랜지스터와 접속되는 유기 발광 소자를 형성하여 이루어진다. 또한, 상기 어레이를 덮도록, 상기 플렉서블 필름(101) 상에는 인캡슐레이션층(미도시)을 더 형성할 수도 있다. 예를 들어, 상기 인캡슐레이션층은 유기막/무기막의 교번 적층하여 형성할 수 있으며, 외부로부터 습기 혹은 외기 등의 영향을 막기 위해 가장 바깥 층은 무기막으로 하는 것이 바람직하다.
이 경우는 유기 발광 표시 어레이를 형성한 예를 설명한 것이고, 그 외로, 전기 영동 표시 어레이나, 양자점 표시 어레이, 액정 표시 어레이 혹은 그 밖의 플렉서블 필름 상에 형성될 수 있는 어레이라면 어느 형태로도 변경 가능하다 할 것이다. 어느 경우나, 어레이 형성 후, 플렉서블 필름을 상기 지지 기판으로부터 분리하는 공정에서 가해지는 열, 광, 압력 등에 변형하지 않을 정도인 것이 바람직하다. 만일, 액정 표시 어레이와 같이, 열 전이 온도를 갖는 액정을 이용하는 경우에는, 열이 아닌 다른 조건으로 분리 공정을 진행할 수 있을 것이다.
한편, 도 2c에 도시된 100은 플렉서블 필름(101) 상에 어레이(110)가 형성된 상태를 나타내며, 플렉서블 필름(101)과 어레이(110)를 통칭하여 이하에서는 플렉서블 디스플레이(100)라 한다.
그런데, 실질적으로 지지 기판(10)은 플렉서블 필름(101) 대비 상대적으로 경도가 높으며, 두께가 두꺼워 어레이 형성 후에는, 플렉서블 디스플레이(100)로부터 배제되어야 할 부분이다.
앞서 설명한 바와 같이, 플렉서블 필름(101)은 어레이 형성 공정에서 변형을 방지하기 위해, 지지 기판(10) 상에 부착한 상태에서 어레이를 형성한 점을 밝힌 바 있다.
이하에서는, 구체적으로 지지 기판(10)에서 플렉서블 디스플레이(100)를 분리(releasing)하는 방법에 대해 설명한다.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 플렉서블 디스플레이의 분리 공정을 나타낸 공정 단면도이다.
먼저, 도 4a와 같이, 상기 지지 기판(10)의 배면측으로 레이저를 조사하여 상기 플렉서블 필름(101)과 희생층(50) 사이의 접합 에너지를 약화시킨다.
이 때, 상기 레이저 조사의 세기는 상기 플렉서블 필름(101)과 상기 희생층(50)간의 접합 에너지를 끊어낼 정도의 세기로 한다. 즉, 플렉서블 필름(101)과 희생층(50) 사이에 OH 결합을 갖는 초기 상태에서, 레이저 조사가 진행되면, OH 결합이 끊어지며, 상기 희생층(50)과 플렉서블 필름(101)의 계면에서 수소(H)가 발생하며, 도 4b와 같이, 희생층(50)으로부터 플렉서블 필름(101)의 분리가 이루어진다.
그런데, 본 발명의 상기 플렉서블 필름(101)은 내부에 무기 파티클을 포함하여 형성된 것으로, 이러한 플렉서블 필름(101)을 포함하여 제조된 플렉서블 디스플레이는 분리(releasing) 공정에서 다음의 효과를 얻을 수 있다.
즉, 레이저 조사로 지지기판(10)으로부터 전달된 레이저 광이 무기 파티클 표면에서 난반사를 일으켜 플렉서블 필름(101) 상에 제조된 유기 발광 어레이에 레이저 광의 전달이 줄게 되어, 레이저 광 조사로 인한 박막 트랜지스터나 유기 발광 소자 손상에 의한 결함을 방지할 수 있다.
한편, 상기 조사하는 레이저의 파장은 320nm 이상 600nm 이하의 파장으로 한다. 이 중 녹색이나 자외선에 해당하는 530~570nm나, 320~360nm의 범위로 이용하는 것이 보다 바람직할 수 있다. 이러한 파장대의 레이저를 조사하기 위해, DPSSFD(Diode Pumped Solid State Frequency-Doubled)와 같은 장비를 이용할 수 있다. 그러나, 레이저 조사가 비단 DPSSFD 장비에 한정되지 않고, 상술한 파장대의 레이저 광을 조사할 수 있다면 다른 장비로도 변경할 수 있을 것이다.
도 5는 도 4a 내지 도 4c의 플렉서블 기판 제조방법에서, 나노 무기 파티클 함량의 조절에 의해 형성되는 플렉서블 기판의 투과율을 나타낸 그래프이다.
도 5와 같이, 플렉서블 기판 내의 무기 파티클 함량에 따른 투과율을 조사하면, 무기 파티클의 함량이 늘수록 투과율이 떨어짐을 알 수 있다.
예를 들어, 무기 파티클 함량이 전혀 없는 비교예 상태에서는 투과율이 파장에 따라 상이하지만, 파장이 클수록 투과율이 상승됨을 나타내고 있으며, 특히, 장파장인 적색 파장대에서는 약 70% 내지 90%의 수준을 나타냄을 알 수 있다. 그리고, 녹색 파장대 이후에서는 약 50% 이상의 수준을 나타내어, 레이저 조사시 레이저 조사 광이 플렉서블 필름을 통과하여 유기 발광 어레이에 전달될 수 있음을 예상할 수 있다.
실질적으로 레이저 조사는 자외선 또는 녹색에 해당하는 파장대로 레이저 조사가 이루어지는데, 비교예의 경우는 특히, 녹색 파장대에서 50% 이상을 플렉서블 기판 상부에 형성되는 유기 발광 어레이에 의한 영향을 줄 수 있고, 이에 따라, 도 1에서와 같은 암점 등이 발생됨이 예상된다. 특히, 레이저 조사 시간이 늘거나 에너지에 따라 녹색 파장대 이하에서도 도시된 수준 이상의 투과율을 갖게 되는 경우가 있는데, 이 경우 유기 발광 어레이의 손상이 우려되는 실정이다. 특히, 암점이 발생된 플렉서블 디스플레이는 불량으로 판단되어 수율 저하의 원인이기도 하다.
그런데, 무기 파티클의 함량 수준을 투명 고분자 용액의 총중량 대비 1%, 5%, 10%로 할 경우, 점차 투과율이 낮아짐을 알 수 있으며, 특히, 10%의 무기 파티클의 함량비를 갖는 경우, 상기 녹색 파장대에서는 5% 미만의 투과율을 갖는 것으로, 레이저 광의 전달이 유기 발광 어레이측으로 전달되지 않게 됨을 예상할 수 있다. 마찬가지로, 5%의 무기 파티클의 함량비를 갖는 경우, 상기 녹색 파장대에서 8% 이하의 수준의 투과율을 나타내고 있어, 이러한 5% 내지 10%의 함량비로 투명 고분자 용액 내에 무기 파티클을 포함시킬 경우, 녹색 파장대나 혹은 자외선 파장대로 레이저 광을 조사시 레이저 조사가 유기 발광 어레이로까지 전달됨을 거의 차단할 수 있다. 따라서, 상기 레이저 조사로 인한 유기 발광 어레이의 손상을 방지할 수 있다.
또한, 무기파티클을 포함하는 예 중 가장 낮은 함량비인 1%의 함량비를 갖는 경우, 녹색 파장대에서 40% 이하로 유지할 수 있어, 투과율 저하가 비교예보다 현저함을 알 수 있다.
상술한 실험을 통해 약 5% 내지 10%의 범위에서 레이저 조사 광에 의한 유기 발광 어레이에 의한 영향을 바람직하게 방지할 수 있음을 확인하였고, 1% 내지 5%의 수준으로 하였을 때도, 무기 파티클이 부재하는 비교예 대비 투과율 저하의 효과는 확인할 수 있었다.
상술한 실험은 무기 파티클의 입도는 500nm 의 수준으로 하고, 무기 파티클의 성분을 알루미나(Al2O3)로 한 경우에 예를 든 것으로, 입도의 정도와 무기 파티클의 종류를 달리할 경우, 함량비의 수준을 1% 의 정도로 할 경우에 투과율 저하 효과를 보다 현저히 얻을 수 있다.
이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시 예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 종래의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.
10: 지지 기판 50: 희생층
100: 플렉서블 디스플레이 101a: 혼합 용액
101: 플렉서블 필름 200: 배쓰
1100: 투명 고분자 용액 1200: 무기 파티클

Claims (17)

  1. 지지 기판 상에 희생층을 형성하는 단계;
    상기 희생층 상에, 투명 고분자 용액과 나노 무기 파티클을 혼합한 혼합 용액을 희생층 상에 도포하여 플렉서블 필름을 형성하는 단계;
    상기 플렉서블 필름 상에 어레이를 형성하는 단계; 및
    상기 지지 기판측에 레이저를 조사하여 상기 플렉서블 필름을 상기 희생층으로부터 분리하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이의 제조 방법.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 나노 무기 파티클은 금속 또는 금속 산화물인 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이의 제조 방법.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 금속 산화물은 알루미나(Al2O3)인 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이의 제조 방법.
  4. 제 2항에 있어서,
    상기 금속은 알루미늄(Al)인 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이의 제조 방법.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 혼합 용액 내의 상기 나노 무기 파티클은 상기 투명 고분자 용액의 총중량 대비 1wt% 내지 10wt%의 중량으로 섞여있는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이의 제조 방법.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 혼합 용액의 점도는 12000cps 내지 13000cps 인 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이의 제조 방법.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 나노 무기 파티클의 입도는 1㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이의 제조 방법.
  8. 제 1항에 있어서,
    상기 희생층은 비정질 실리콘인 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이의 제조 방법.
  9. 제 1항에 있어서,
    상기 투명 고분자 용액과 무기 파티클을 혼합한 혼합 용액을 희생층 상에 도포한 후, 건조하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이의 제조 방법.
  10. 제 1항에 있어서,
    상기 플렉서블 필름 상에 어레이를 형성하는 단계는,
    상기 플렉서블 필름 상에 매트릭스 상으로 정의되는 픽셀에 각각 박막 트랜지스터를 포함하는 박막 트랜지스터 어레이를 형성하는 단계;
    상기 각 박막 트랜지스터와 접속되는 유기 발광 소자를 형성하는 단계; 및
    상기 플렉서블 필름 상부를 덮어, 상기 박막 트랜지스터 어레이 및 유기 발광 소자를 외기로부터 보호하는 인캡슐레이션층을 형성하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이의 제조 방법.
  11. 제 1항에 있어서,
    상기 지지 기판측에 레이저를 조사하여 상기 플렉서블 필름을 상기 희생층으로부터 분리하는 단계는,
    상기 플렉서블 필름과 상기 희생층간의 접합 에너지를 끊어낼 정도의 세기로 레이저를 조사하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이의 제조 방법.
  12. 제 1항에 있어서,
    상기 플렉서블 필름의 두께는 5㎛ 내지 50㎛인 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이의 제조 방법.
  13. 투명 고분자 용액과 나노 무기 파티클의 혼합 용액을 건조시켜 형성되며, 녹색 파장 이하의 파장에서 40% 이하의 투과율을 갖는 플렉서블 필름;
    상기 플렉서블 필름 상에 박막 트랜지스터 및 이와 접속된 유기 발광 소자를 매트릭스 상으로 갖는 유기 발광 어레이; 및
    상기 유기 발광 어레이를 덮도록 상기 플렉서블 필름 상에 형성된 인캡슐레이션층을 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이.
  14. 제 13항에 있어서,
    상기 나노 무기 파티클은 금속 또는 금속 산화물인 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이.
  15. 제 13항에 있어서,
    상기 혼합 용액 내의 상기 나노 무기 파티클은 상기 투명 고분자 용액의 총중량 대비 1wt% 내지 10wt%의 중량으로 섞여있는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이.
  16. 제 13항에 있어서,
    상기 나노 무기 파티클의 입도는 1㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이.
  17. 제 13항에 있어서,
    상기 플렉서블 필름의 두께는 5㎛ 내지 50㎛인 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이.
KR1020110121765A 2011-11-21 2011-11-21 플렉서블 디스플레이 및 이의 제조 방법 KR101901243B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110121765A KR101901243B1 (ko) 2011-11-21 2011-11-21 플렉서블 디스플레이 및 이의 제조 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110121765A KR101901243B1 (ko) 2011-11-21 2011-11-21 플렉서블 디스플레이 및 이의 제조 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130056038A KR20130056038A (ko) 2013-05-29
KR101901243B1 true KR101901243B1 (ko) 2018-09-27

Family

ID=48664279

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110121765A KR101901243B1 (ko) 2011-11-21 2011-11-21 플렉서블 디스플레이 및 이의 제조 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101901243B1 (ko)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102032748B1 (ko) * 2013-06-28 2019-10-16 엘지디스플레이 주식회사 유기전계 발광소자의 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 유기전계 발광소자
KR102188030B1 (ko) 2013-12-31 2020-12-08 삼성디스플레이 주식회사 플렉서블 디스플레이 장치 및 그 제조방법
KR102296917B1 (ko) 2014-09-15 2021-09-02 삼성디스플레이 주식회사 플렉서블 디스플레이 장치 및 그 제조방법
KR20160130004A (ko) 2015-04-30 2016-11-10 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005339863A (ja) * 2004-05-25 2005-12-08 Toppan Printing Co Ltd フィルム有機el素子
JP2009070789A (ja) * 2007-08-21 2009-04-02 Konica Minolta Holdings Inc 透明導電性高分子材料フィルム及びその製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005339863A (ja) * 2004-05-25 2005-12-08 Toppan Printing Co Ltd フィルム有機el素子
JP2009070789A (ja) * 2007-08-21 2009-04-02 Konica Minolta Holdings Inc 透明導電性高分子材料フィルム及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20130056038A (ko) 2013-05-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI603508B (zh) 具有波長轉換層之微發光二極體
JP6301042B1 (ja) 有機elデバイスおよびその製造方法
JP5933900B2 (ja) 表示パネル
KR101686737B1 (ko) 광 변환 플레이트, 이를 포함하는 발광 다이오드 패키지, 백라이트 유닛 및 표시장치
KR100685853B1 (ko) 유기전계발광표시장치 및 그 제조방법
KR101912807B1 (ko) 플렉서블 디스플레이장치 제조방법 및 플렉서블 디스플레이장치
US9373812B2 (en) White OLED display device and packaging method thereof
KR20200000476A (ko) 발광 장치
KR20130048717A (ko) 나노와이어 기반의 투명 도전체 및 이를 패터닝하는 방법
KR20090112626A (ko) 나노와이어 기반의 투명 도전체 및 그의 응용
KR20180016271A (ko) 표시 장치
KR101901243B1 (ko) 플렉서블 디스플레이 및 이의 제조 방법
KR20160090455A (ko) 가요성 표시 장치의 제조 방법
KR20150137239A (ko) 플렉서블 유기 발광 표시 장치 및 그 제조방법
KR20170107309A (ko) 도전체, 그 제조 방법, 및 이를 포함하는 전자 소자
KR102332428B1 (ko) 플렉서블 표시장치
US20210296370A1 (en) Display device and production method thereof
EP3352238B1 (en) Method for preparing uneven particle layer, organic electroluminescent device, and display device
KR102205622B1 (ko) 광학 적층체 및 면광원 장치
CN111679496A (zh) 背光模组及其制作方法、显示终端
KR102029072B1 (ko) 플렉시블 표시장치 및 그 제조방법
TW201533206A (zh) 含被覆導電性纖維之粒子的薄膜狀接著劑
KR101845440B1 (ko) 플렉서블 표시장치의 제조 방법
KR20200077838A (ko) 발광다이오드를 이용한 발광장치
US20200238437A1 (en) Laser sealed housing for electronic device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant