JP2005329258A - 化粧料含浸シート - Google Patents

Abstract

【課題】 チキソトロピー性を有する化粧料基剤を、均一に皮膚に塗布し得る化粧料含浸シートを提供すること。
【解決手段】 チキソトロピー性を有する基剤を、基材シート２の実質的に一方の面にのみ含浸させてなる化粧料含浸シート１。基材シート２は、担持シート３、担持シート３の一方の面に積層された液不透過性シート４、及び液不透過性シート４における担持シート対向面と反対側の面に積層された柔軟性シート５からなり、担持シート３にのみ前記基剤が含浸されている。
【選択図】 図１

Description

本発明は、チキソトロピー性を有する化粧料基剤を、基材シートに含浸させてなる化粧料含浸シートに関する。

各種クリームなどのチキソトロピー性を有する化粧料は、これを適量手にとって皮膚に直接塗り込んだり、一旦脱脂綿に付着させた後に肌に塗り込んで使用されことが一般的である。しかし、この使用方法では、化粧料の皮膚への塗布量が不均一になったり、少量で大面積を迅速に塗布することが容易でない。

化粧水塗布、保湿パック、クレンジング、汗拭き、脂とり等の目的で、化粧料を基材シートに含浸させた対人用の清拭材も知られている。例えば特許文献１には、ポリプロピレンのスパンボンド不織布と、透湿性・防水性のポリエチレンフィルムと、ビスコースレーヨンの不織布とをこの順で積層させてなり、前記スパンボンド不織布にファンデーションオイル用組成物などの油性基剤を塗布してなる複合シートが記載されている。この複合シートは、汚れを裏抜けさせないこと、及び通気性を維持することでシーツ等に利用しても蒸れが起こらないようにすることを目的としている。しかし、実際に油性基剤を含浸させた場合、油性基剤が通気性のフィルムを短時間で透過してしまうため、手が基剤で汚れてしまう問題がある。また拭き取った汚れの裏抜け防止も十分でない。またポリプロピレンのスパンボンド不織布は厚みが薄く、少量の基剤しか含浸できないので、十分な拭き取り効果が期待できず、また油性製剤がスパンボンド不織布内で部分的に偏在し易い。更に薄く硬いため対人用としては好ましくない。その上、油性液剤は一般に表面張力が低く、その一方でレーヨンの不織布は繊維の親水性が高く吸液しやすいので、複合シートの保存中に、スパンボンド不織布に含浸されている油性基剤がレーヨンの不織布の側へ裏回りしてしまうこともあり、保存安定性に欠ける。

特許文献２には、界面活性剤水溶液を主基剤とする水溶液を含浸させたシート状クレンジング材料が記載されている。このクレンジング材料のように、メイクの汚れを浮かせてシートに捕集することを目的とする場合には、含浸液の液だれや均一性はあまり問題にならないが、化粧液を含浸させて、肌へ積極的に化粧液を展着させ、均一に塗り広げる目的の場合、展着後に液だれが起こったり、均一な転写性ができない問題がある。基剤である薬液が液だれしないシート状化粧料としてパック剤が知られているが、パック剤に含浸される基剤は高分子架橋ゲルであるため、肌に展着させて塗り広げることは非常に困難である。

特許文献３には、油性基剤をシートに含浸させたシート状化粧料として、乳化系の基剤を含浸させたシート状化粧料が提案されている。しかし、このシート状化粧料も、前述した液だれの問題を解消するものではない。しかも乳化系の基剤は油成分と水系成分とが分離しやすく、シート内やシート間で偏在、不均一化を起こしやすい問題もある。また、油性基材は、肌へのべたつき感が強いため、使用感も悪くなりやすい。

特開平１１−２８６０８１号公報 特開平１１−４９６４１号公報 特表２０００−５０３６８１号公報

従って、本発明は、チキソトロピー性を有する化粧料基剤を、均一に皮膚に塗布し得る化粧料含浸シート及び該含浸シートに用いられる基材シートを提供することを目的とする。
また本発明は、チキソトロピー性を有する化粧料基剤を、少量であっても大面積に迅速に塗布し得る化粧料含浸シート及び該含浸シートに用いられる基材シートを提供することを目的とする。
更に本発明は、保存中に化粧料基剤が偏在化することが防止され、また化粧料基剤の肌への転写性が良好な化粧料含浸シート及び該含浸シートに用いられる基材シートを提供することを目的とする。

本発明は、チキソトロピー性を有する基剤を、基材シートの実質的に一方の面にのみ含浸させてなる化粧料含浸シートを提供することにより前記目的を達成したものである。

また本発明は、担持シート及び該担持シートの一方の面に積層された液不透過性シートを有し、チキソトロピー性を有する基剤の含浸に用いられる基材シートを提供するものである。

本発明の化粧料含浸シートによれば、チキソトロピー性を有する化粧料基剤を、均一に皮膚に塗布することができる。また本発明の化粧料含浸シートによれば、チキソトロピー性を有する化粧料基剤を、少量であっても大面積に迅速に塗布することができる。更に本発明の化粧料含浸シートによれば、その保存中に基剤が偏在化したり、基材シートから漏出して裏面（非含浸面）側に回り込むおそれがない。更に本発明の化粧料含浸シートによれば、使用に際して手に基剤が付着することが防止される。

以下本発明を、その好ましい実施形態に基づき図面を参照しながら説明する。図１は、本発明の化粧料含浸シートの一実施形態を示す断面図である。図１に示す化粧料含浸シート１は、基材シート２に化粧料基剤が含浸されて構成されている。基材シート２は三層構造の積層体からなる。この積層体は、担持シート３、該担持シート３の一方の面に積層された液不透過性シート４、及び該液不透過性シート４における担持シート対向面と反対側の面に積層された柔軟性シート５からなる。その結果、基材シート２は、中間に液不透過性シート４が位置し、その両側に担持シート３及び柔軟性シート５がそれぞれ配され、該担持シート３及び該柔軟性シート５が基材シート２の外面をなす構造となっている。

化粧料基剤は、油性液剤、乳化液剤又は水性液剤からなり且つチキソトロピー性を有するものであり、基材シート２の実質的に一方の面にのみ含浸されている。詳細には、基材シート２を構成する担持シート３にのみ化粧料基剤が含浸されている。チキソトロピー性を有する化粧料基剤は、そのチキソトロピー性の故に含浸させることが困難であるが、後述する方法によれば容易に含浸させることが可能である。しかし、ひとたび化粧料基剤を基材シート２に含浸できれば、化粧料を均一に皮膚へ塗布することができ、また少量であっても大面積に迅速に塗布することが可能である。また、基材シート２に含浸された化粧料基剤は、通常の保存状態においては、そのチキソトロピー性の故に基材シート２内で安定に存在し、偏在化したり基材シート２から漏出するおそれがない。従って、化粧料基剤の肌への転写が良好に行われ、また保存中に化粧料基剤が化粧料含浸シート１における非含浸面である柔軟性シート５側に回り込むことがない。また、例えば化粧料含浸シート１を毎葉の状態としてピロー包装体などの包装体中に複数枚包装しても、包装体内が化粧料基剤で過度に濡れることがない。

更に、化粧料基剤は基材シート２を構成する担持シート３にのみ含浸されているので、化粧料含浸シート１を用いて化粧料基剤を皮膚に塗布する場合、液不透過性シート４が柔軟性シート５側への化粧料基剤の移行を阻止し、手に化粧料基剤が付着することが防止される。

化粧料基剤としては、各種スキンケアクリーム、紫外線防御クリーム、制汗剤、ファンデーション、口紅ベース、洗浄剤、メイク落とし剤など、油性液剤、乳化液剤又は水性液剤からなり且つチキソトロピー性を有するものであればその種類に特に制限はない。特に化粧料基剤は、２５℃においてレオメータによって測定された流動物性が以下の通りであることが、化粧料含浸シート１を保存した場合、シート１内で化粧料基剤が偏在化したり、シート１から漏出することがなく、また化粧料基剤を肌に塗布するときに該化粧料基剤の転写が良好に行われ、肌への展着も良く均一な塗布が出来る点から好ましい。

即ち、化粧料基剤は、剪断速度０．０５ｓ^-1における粘性係数η₁が１００Ｐａｓ以上３００００Ｐａｓ未満、特に１００Ｐａｓ以上１００００Ｐａｓ未満であることが、化粧料含浸シート１からの化粧料基剤の転写のさせ易さ、シート１内での化粧料基剤の偏在化、シート１からの化粧料基剤の漏出防止の点から好ましい。

また、化粧料基剤は、剪断速度５０．０ｓ^-1における粘性係数η₂が０．１Ｐａｓ以上１００Ｐａｓ未満、特に０．５Ｐａｓ以上５０Ｐａｓ未満であることが、化粧料基剤を肌に塗布するときに、肌への展着が良く均一な塗布が出来る点から好ましい。

前記のη₁及びη₂に関し、両者はη₁＞η₂の関係を満たすことが、剪断応力が加わる塗布操作のときにのみ化粧料基剤が流動し易くなり、保存安定性と塗布のし易さとが両立する点から好ましい。この効果を一層高めるために、η₁はη₂の１０〜１００００倍、特に５０〜５０００倍であることが好ましい。

化粧料基剤の含浸量は、３０〜３５０ｇ／ｍ²、特に８０〜２７０ｇ／ｍ²であることが、身体や顔に必要とされる量の化粧料を転写し得る点から好ましい。同様の理由により、化粧料基剤は、基材シート２の重量に対して１００〜８００重量％、特に２００〜７００重量％含浸されていることが好ましい。

化粧料基剤は、その全量のうちの８０重量％以上、特に９０重量％以上が担持シート３内に存在していることが、保存中における化粧料基剤の偏在防止、ひいては化粧料基剤の均一な塗布の点から好ましい（以下この値を基剤存在率という）。このような状態で化粧料基剤を存在させるためには、例えば後述する方法で化粧料基剤を基材シート２に含浸させればよい。

基剤存在率は以下の方法で測定される。化粧料含浸シートにおける化粧料基剤の含浸面である担持シートにドクターブレードを当てて、含浸されている化粧料基剤のうち、担持シート上に存するものを掻き取る。ドクターブレードのクリアランスは５０μｍとする。掻き取り面積は５０ｃｍ²とする。掻き取り面積当たりの化粧料基剤の含浸量（重量）から、ドクターブレードによって掻き取られた化粧料基剤の重量を差し引く。その値を、掻き取り面積当たりの化粧料基剤の含浸量（重量）で除し、１００を乗じて基剤存在率を算出する。

化粧料基剤を構成する成分としては、水；エタノール、イソプロパノール、セタノールなどのアルコール類；保湿剤としてのグリセリン又はソルビトールなどの多価アルコール類；固体状又は液体状パラフィン、スクワランなどの炭化水素類；オリーブ油、カルナバロウ等のエステル油；ステアリン酸、パルミチン酸等の高級脂肪酸；天然注出のスフィンゴシン誘導体；テトラデカメチルポリシロキサン、メチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサンなどのポリシロキサン類；オキタメチルシクロテトラシロキサン等のメチルポリシクロシロキサン；ポリエーテル・アルキル変性シリコーン、アルキルグリセリルエーテル変性シリコーン等の変性シリコーン；サルフェート系界面活性剤、カルボキシレート系界面活性剤、エーテルカルボン酸系界面活性剤、アシル化アミノ酸系界面活性剤、リン酸系界面活性剤等の陰イオン性界面活性剤；カルボベタイン系界面活性剤、スルホベタイン系界面活性剤、イミダゾリニウムベタイン系界面活性剤等の両イオン性界面活性剤；直鎖又は分岐鎖のアルキル基を有するモノ又はジアルキル付加型第４級アンモニウム塩等の陽イオン性界面活性剤；ポリオキシアルキレン付加型、ポリオキシプロピレン、ポリオキシエチレン付加型、アミンオキサイド系、モノあるいはジエタノールアミド系、その他ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、アルキルサッカライト系、Ｎ−ポリヒドロキシアルキル脂肪酸アミド系等の多価アルコール型等の非イオン性界面活性剤などが挙げられる。

化粧料基剤には更に粉体を配合することが出来る。粉体としては、例えばマイカ、タルク、セリサイト、カオリン、ナイロンパウダー、ポリメチルシルセスキオキサン等の体質顔料；パール等の無機顔料：赤色２０２号、赤色２２６号、黄色４号、アルミニウムレーキ等の有機顔料；酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化鉄などの紫外線防御用の無機粉体等を挙げることができる。これらの粉体は、メチルハイドロジェンメチルポリシロキサン、トリメチルシロキシケイ酸、メチルポリシロキサン等によるシリコーン処理、パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルコール等によるフッ素処理、レシチン処理、金属石鹸処理、脂肪酸処理、アルキルリン酸エステル処理がされていてもよい。

化粧料基剤には、通常化粧品、医薬部外品、医薬品等に配合される各種成分を配合することもできる。このような成分としては、例えば硫酸マグネシウム、塩化ナトリウム等の無機塩類；ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース、ヒアルロン酸等の粘度調整剤；パラベン等の防腐剤；ｐ−メチルペンジリデン、Ｄ，Ｌ−ショウノウ又はそのスルホン酸ナトリウム塩、２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸ナトリウム塩、３，４−ジメチルフェニルグルオキシル酸ナトリウム塩、４−フェニルベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン−２’−カルボン酸イソオクチルエステル、ｐ−メトキシ桂皮酸エステル、２−フェニル−５−メチルベンズオキサゾール、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エステル、４−ｔ−ブチル−４’−メトキシベンゾイルメタン、ベンゾイルビナコロン誘導体、ベンゾイルケトン誘導体等の紫外線吸収剤；アラントインクロルヒドロキシアルミニウム、塩化アルミニウム、クロルヒドロキシアルミニウム、アラントインジヒドロキシアルミニウム、硫酸アルミニウム、カリウムミョウバン、水酸化アルミニウム、アルミニウムジルコニウムテトラクロロヒドロキシグリシン、アルミニウムジルコニウムペンタクロロヒドレート、ｐ−フェノールスルホン酸亜鉛、サリチル酸、タンニン酸などの発汗抑制剤；殺菌剤；ｐＨ調整剤；湿潤剤；色素；薬効成分；香料等を挙げることができる。

次に、化粧料基剤が含浸される基材シート２について説明する。基材シート２を構成する担持シート３としては、化粧料基剤を含浸可能な構造を有するものが用いられる。担持シート３としては、多孔性の構造を有するものや、吸水性の構造を有するものが挙げられる。多孔性及び吸液性の構造を有する担持シート３の例としては、不織布、布、編物等の繊維構造体、発泡体、ネット、立体成形フィルムなどが挙げられる。

化粧料基剤の含浸性を良好にするためには、担持シート３は、その密度が０．２〜０．０１ｇ／ｃｍ³であることが好ましい。常温（２５℃、以下常温というときにはこの温度をいう）で低粘度である化粧料基剤に対しては、含浸性、放出性、展着性の点から、担持シート３はその密度が０．２〜０．０６ｇ／ｃｍ³であることが好ましい。

化粧料基剤は表面エネルギーが低いものが多いので、水系の基剤に比べて毛細管構造の中に保持し難い。このため、担持シート３の表面は疎水性であることが好ましい。具体的にはその接触角が、イオン交換水に対して７０度以上、特に８５度以上、とわりけ１００度以上であることが、化粧料基剤の含浸性と放出性とのバランスが良くなることから好ましい。この場合、接触角が１００度を超える担持シートであっても、オレフィン系（ポリプロピレン系、ポリスチレン系）樹脂を含有する担持シートの場合には、化粧料基剤が浸透し易く、成分の分離が起こるおそれがあることから、該樹脂の組成比率は少ないほうが良い。

常温で粘度が高い（例えばＢ型粘度計で測定された常温での粘度が０．５Ｐａｓを超える）化粧料基剤を用いる場合には、担持シート３として、発泡体、立体成形フィルム、高空隙の繊維構造体を用いることが好ましい。この理由は、粘度の高い化粧料基剤は、担持シートに含浸させにくく、また化粧料基剤を肌に展着させるときに、担持シートから放出されにくいからである。特に化粧料基剤の含浸性、放出性、展着性の点で、担持シート３の密度は０．１〜０．０１ｇ／ｃｍ³、特に０．０８〜０．０２ｇ／ｃｍ³であることが好ましい。

化粧料基剤の保持性の点から、担持シート３の厚みは、３．７ｇ／ｃｍ²の荷重下で０．３〜５ｍｍであることが好ましく、携帯性の点から０．３〜０．８ｍｍであることが更に好ましい。

担持シート３として例示した前記シートのうち、特に均一展着性や肌感触の点から繊維構造体を用いることが好ましく、経済性の点で不織布を用いることが更に好ましい。中でも、エアースルー法、レジンボンド法、スパンレース法、エアレイド法により製造された不織布は低密度であることから好ましい。とりわけ、肌への化粧料基剤の均一展着性や肌感触の良さから、繊維が動きやすい構造であるスパンレース法により製造された不織布を用いることが好ましい。

担持シート３が不織布等の繊維構造体から構成される場合、繊維としては親水性繊維及び疎水性繊維の何れをも用いることができる。その例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル系繊維、ポリアクリルニトリル等のアクリル系繊維、ポリアミド系繊維、ポリプロピレン（ＰＰ）やポリエチレン（ＰＥ）等のポリオレフィン系繊維、ポリウレタン系繊維、ポリビニルアルコール系繊維、ポリフルオロエチレン系繊維などの合成繊維；綿、麻、毛、絹などの天然繊維；レーヨン、ポリノジック、キュプラなどの再生繊維；アセテートなどの半合成繊維；及びこれらの変性物や共重合体からなる繊維を用いることができ、また、これらの材料を二種以上組み合わせた複合繊維を用いることもできる。これらの繊維は異形の断面をしていてもよい。また、化粧料基剤の表面張力、繊維の濡れ性及び繊維構造体の毛細管径を考慮して、前記繊維を複数種類組み合わせて用いてもよい。但し、前述した理由により、化粧料基剤と非常に馴染み易いポリオレフィン系繊維の含有量は５０重量％以下であることが好ましい。

化粧料基剤がＷ／Ｏ系やＯ／Ｗ系である場合、吸水性の繊維を用いると、繊維構造体の毛細管径が小さい場合に、化粧料基剤が油分と水分とに分離してしまったり、繊維構造体から化粧料基剤が放出し難いことがある。従って、綿、パルプ、レーヨン等の吸水繊維を主体とする繊維構造体を構成する場合には、該繊維構造体は、毛細管径の大きな構造であるエアレイド法で製造された不織布からなることが好ましい。

担持シート３が不織布等の繊維構造体から構成される場合、その構成繊維の繊度は、０．０１〜１５デニール、特に０．１〜１２デニールであることが、化粧料基剤の含浸性の点から好ましい。不織布を構成する繊維は、そのすべてが前記範囲の繊度であることが最も好ましいが、不織布全体の３０重量％以上、特に５０重量％以上の繊維が前記範囲の繊度であれば、化粧料基剤の含浸性が十分に高くなる。また繊維間距離は１０〜５００μｍ、特に２０〜３００μｍであることが、化粧料基剤の含浸性、放出性、肌への展着性の点から好ましい。

繊維間距離Ｄｐ（μｍ）は以下の方法で測定される。繊維構造体の厚みをｙ（ｍ）、繊維構造体の坪量をａ（ｇ／ｍ²）、構成繊維の繊度をＦ（デニール）、構成繊維の直径をｆｄ（μｍ）とすると、繊維間距離Ｄｐは、Ｄｐ＝０．０１５×√（Ｆｙ／ａ）−ｆｄで算出される。繊維構造体の厚みｙは、１００ｍｍ×１００ｍｍの大きさの担持シートに３．７ｇ／ｃｍ²の荷重を加えた条件下にテクロック製のモデルPF-11を用いて測定する。測定は５枚の担持シートについて行い、その平均値を求める。構成繊維の直径ｆｄは走査型電子顕微鏡を用いて撮影された繊維の拡大写真から測定し、サンプル数５の平均値を求める。繊度Ｆは、示差走査熱量計を用いて繊維の種類を特定し、特定された繊維の密度ρ（ｇ／ｍ³）を調べ、Ｆ＝π（ｆｄ／２）²×９０００ρから算出する。

担持シート３として発泡体が用いられる場合、その構成材料としては、ポリウレタン系樹脂、ポリエチレン及びポリプロピレン等のオレフィン系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、不飽和ポリエステル、フェノール系樹脂、ポリブタジエン及び合成ポリイソプレン等のゴム系樹脂、セルロース系樹脂などが挙げられる。特に、柔らかく、低摩擦であり、加工性の良好なポリウレタン系樹脂やポリオレフィン系樹脂を用いることが好ましい。化粧料基剤の含浸量を高めたい場合には、発泡体はクローズドセル型よりもオープンセル型の構造であることが好ましい。

担持シート３として立体成形フィルムが用いられる場合、該フィルムは立体開孔構造のものであることが好ましく、その場合の見掛け密度は、前述した範囲の値であることが好ましい。フィルムを構成する材料としては、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリビニルアルコール、これらの変性物や共重合体が挙げられる。特に線状低密度ポリエチレンや低密度ポリエチレンを用いることが、柔らかさ及び肌感触の点で好ましい。

担持シート３は、その坪量が１０〜２００ｇ／ｍ²、特に１５〜１５０ｇ／ｍ²であることが、化粧料基剤を十分な量含浸し得る点、肌に対する感触が良好である点、及び製造経費の点から好ましい。

液不透過性シート４としては、担持シート３に含浸されている化粧料基剤が、化粧料含浸シート１の使用中に柔軟性シート５へ透過することを阻止し得るものが用いられる。液不透過性シート４の具体例としては、防油性のものが好ましい。例えば、一般的な熱可塑性樹脂、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、エチレンー酢酸ビニル共重合体、ポリアミド、セロハン、ポリエーテルイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリサルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン等の樹脂からなるフィルムが挙げられる。ヒートシール性、柔軟性の点から、これらの樹脂の一部変性体や共重合体を用いても良い。前記樹脂を二種以上組み合わせて用いてもよく、或いは二層以上の積層構造で組み合わせることもできる。中でも、延伸ポリプロピレンフィルム、高密度ポリエチレンやアイオノマー樹脂からなるフィルムが、加工性が良好なことから好ましく、特にアイオノマー樹脂からなるフィルムが、柔軟性、シール性、耐ピンホール性、化粧料基剤の透過阻止性が高い点で好ましい。

液不透過性シート４は、その坪量が５〜１００ｇ／ｍ²、特に１０〜８０ｇ／ｍ²であることが、化粧料基剤の透過を十分に阻止し得る点、基材シート２の風合い維持の点、及び製造経費の点から好ましい。

柔軟性シート５は、化粧料含浸シート１の使用時に手と接するシートであり、化粧料基剤は含浸ない。柔軟性シート５としては、風合いの良好なものが用いられる。そのような柔軟性シートとしては布様の風合いを有するものが好ましく、不織布、織布、編物、発泡体、ネット、開孔フィルムなど、担持シート３を構成するシートと同様のものが用いられる。化粧料基剤の裏周りを防止する点、空隙率が高い点、及び肌感触が良好である点から不織布を用いることが好ましい。

柔軟性シート５として不織布を用いる場合、その種類、坪量、構成繊維、繊度などの詳細は担持シート３を構成する不織布と同様である。特に、構成繊維としては、疎水性繊維であるポリエステル系繊維、アクリル系繊維、ポリアミド系繊維などが好ましい。

担持シート３、液不透過性シート４及び柔軟性シート５から構成される基材シート２は、その坪量が１５〜５００ｇ／ｍ²、特に２５〜３８０ｇ／ｍ²であることが、風合いと製造経費とのバランスの点から好ましい。

担持シート３、液不透過性シート４及び柔軟性シート５は積層一体化されて基材シート２を構成している。図２には、基材シート２を製造する工程図が示されている。図２に示すように、基材シート２は押し出しラミネート法（サンドイッチラミネート法）によって製造されることが好ましい。この方法には、各シート間の剥離が起こりにくく、また液不透過性シート４にピンホールが発生し難いという利点がある。ピンホールの発生は、化粧料含浸シート１の使用中に化粧料基剤が柔軟性シート５へ透過する原因となる。

図２に示す基材シート２の製造方法においては、特に制限されないが例えば、予め担持シート３及び柔軟性シート５を別工程で製造しておく。これを原反３’，５’として装置に取り付けておき、該原反３’，５’から担持シート３及び柔軟性シート５をそれぞれ繰り出す。これと共にＴダイ６から溶融状態の合成樹脂をシート状に押し出し、液不透過性シート４を成形する。固化する前の状態の液不透過性シート４の両側に担持シート３及び柔軟性シート５をそれぞれ重ね合わせ、ニップロール７，７間で挟圧することで、これら三者が積層一体化された基材シート２が得られる。

別法として、担持シート３の原反３’又は柔軟性シート５の原反５’を装置に取り付けておき、該担持シート３又は柔軟性シート５を繰り出す。これと共にＴダイ６から溶融状態の合成樹脂をシート状に押し出し、液不透過性シート４を成形する。固化する前の状態の液不透過性シート４の片面に担持シート３又は柔軟性シート５を重ね合わせ、ニップロール７，７間で挟圧することで、これら二者が積層一体化された積層シートを得る。次いで、該積層シートにおける液不透過性シート４の面に、柔軟性シート５又は担持シート３を重ね合わせ、エンボスによって積層シートと柔軟性シート５又は担持シート３とを積層一体化させ、担持シート３、不透過性シート４及び柔軟性シート５が積層一体化された基材シート２が得られる。

担持シート３及び柔軟性シート５として同種のものを用いる場合には次の方法を用いることもできる。先ず、固化する前の状態の液不透過性シート４の片面に、担持シート３（柔軟性シート５）を重ね合わせ、これら二者が積層一体化された積層シートを得る。次に、この積層シートにおける液不透過性シート４の面同士が対向するように２枚の積層シートを重ね合わせ、エンボスによって２枚の積層シートを一体化させる。これによって基材シート２が得られる。これらの方法において用いられるエンボスの方法に特に制限はなく、圧力下に熱を伴うか又は伴わずに行うことができる。

前述の各方法においては、Ｔダイ６から溶融状態の合成樹脂をシート状に押し出し液不透過性シートを成形する場合に、剥離防止性を向上させる目的で、２機以上のＴダイを用い、多層同時押し出しを行って２層以上の樹脂層が積層されてなる液不透過性シートを製造してもよい。この場合、各層を構成する樹脂は同種でも異種でも良い。

このようにして得られた基材シートにおける担持シート３に化粧料基剤が含浸される。含浸は、担持シート３の全面に限られず部分的でもよい。含浸は例えば次の方法で行うことができる。即ち、ドクターブレードを用い、ガラス板などの平坦な板上に、化粧料基剤の塗膜を形成する。塗膜の上に、含浸させるべき坦持シートの面が密着するように基材シートを載せる。基材シートの上面に一定速度でローラーをかけて、基材シートと塗膜とが均一に接するようにした後、基材シートを剥がし化粧料含浸シートを得る。ローラーとしては、一定荷重のローラーを使用する。不足であれば手で更に荷重を加える。荷重が不足すると化粧料基剤を基材シートに十分に含浸させることができない場合があり、荷重が過剰であると化粧料基剤が基材シートから押し出されるので目的量の化粧料基剤を含浸させることができない場合がある。ローラーは複数回かけて含浸時間を長くとることが、化粧料基剤を十分に含浸させ得る点、及びむら無く含浸できて化粧料基剤の肌への転写を効率的に行い得る点から好ましい。連続的に含浸させる場合には、一般的なグラビアコーターのようなロールコーターを用い、前述のように含浸時間を長くとるように基材シートをロールに長く抱かせたり、コーターを複数台用いて含浸を繰り返せばよい。

得られた化粧料含浸シートは、所定の大きさに裁断され、所定の形状に折り畳まれて、所定枚数重ねられた状態で、ピロー包装体などの包装体に包装される。

本発明の化粧料含浸シートは前記実施形態に制限されない。例えば前述の実施形態においては、基材シートが三層構造であったが、化粧料含浸シートの用途によっては、基材シートが、担持シート及び該担持シートの一方の面に積層された液不透過性シートからなる二層構造であって、担持シートにのみ化粧料基剤が含浸されていてもよい。この場合、担持シート及び液不透過性シートの詳細は、前記実施形態と同様とすることができる。

また、化粧料含浸シートの用途によっては、基材シートが担持シートのみから構成され、該担持シートの一方の面にのみ実質的に化粧料基剤が含浸されていてもよい。この場合、担持シートの詳細は、前記実施形態と同様とすることができる。担持シートの一方の面にのみ化粧料基剤を含浸させるには、例えば化粧料基剤として適切な流動特性を有するものを用いればよい。

以下の例中、特に断らない限り、「％」及び「部」はそれぞれ「重量％」及び「重量部」を意味する。

〔実施例１〕
（１）化粧料基剤の調製
以下の処方を用いてＯ／Ｗクリーム（乳化基剤）を調製した。先ず、７０℃に加熱した油相にエタノールを除く水相を加え、撹拌しながら２０分かけて室温まで冷却した。次いでエタノールを加え、更に１０分間撹拌してＯ／Ｗクリームを得た。得られたＯ／Ｗクリーム（化粧料基剤）はチキソトロピー性を示し、その２５℃における粘性係数η₁及びη₂は、レオメーター(Rheometrics社製、FluidsSpectromter RFS-11)で測定したところ、それぞれ以下の表１に示す通りであった。

流動パラフィン ８．０部
ジカプリン酸ネオペンチルグリコール ２．０部
１，３ブチレングリコール ６．０部
ポリエチレングリコール ４．０部
カルボキシビニルポリマー ０．５部
アクリル酸・メタクリル酸アルキル共重合体 ０．２部
水酸化ナトリウム水溶液（５０％） ０．３部
パラオキシ安息香酸メチル ０．５部
エタノール １５．０部
精製水 ６３．５部
１００．０部

（２）基材シートの製造
表１に示す担持シート及び柔軟性シートを予め製造しておき、これらのシートと表１に示す液不透過性シートの原料樹脂とを用いて図２に示す押し出しラミネート法によって基材シートを得た。各シートの詳細は表１に示す通りである。

（３）化粧料含浸シートの製造
前述の方法で得られたＯ／Ｗクリームを平坦なガラス板の上に載せ、ドクターブレードを用いてこのＯ／Ｗクリームの塗膜を形成した。１５０ｍｍ×１００ｍｍに裁断された基材シートにおける坦持シートの面が塗膜に密着するように、この基材シートを塗膜の上に載せた。自重１８０ｇのローラーを用い、手で更に約５０ｇの荷重を加えた状態下、基材シートの上面に該ローラーを８回（速度３００ｍｍ／ｓ）かけて基材シートと塗膜とが均一に接するようにした後、基材シートを剥がした。この操作を２回繰り返して化粧料含浸シートを作製した。３ｇの化粧料基剤（基剤含浸量２００ｇ／ｍ²）が基材シートに含浸された。

〔実施例２〕
以下の処方を用いてＷ／Ｏ紫外線防止クリームを調製した。先ず、８０℃に加熱した油相に粉体を均一に分散させた。次いで、７０℃に加熱した水相をゆっくり加え、撹拌しながら２０分間かけて室温まで冷却してＷ／Ｏクリームを得た。得られたＷ／Ｏクリーム（化粧料基剤）はチキソトロピー性を示し、その２５℃における粘性係数η₁及びη₂はそれぞれ以下の表１に示す通りであった。その後は実施例１と同様にして化粧料含浸シートを得た。但し、基材シートの材料及び基剤含浸量は表１に示す通りであった。

流動パラフィン １２．０部
シリコーン油 ５．０部
グリセリン脂肪酸エステル １．０部
ジステアリン酸アルミニウム １．５部
ポリシロキサン共重合体 １．５部
１，３ブチレングリコール ２．０部
ポリエチレングリコール ０．５部
パラオキシ安息香酸メチル ０．５部
硫酸マグネシウム ０．５部
酸化亜鉛 ８．０部
酸化チタン ７．０部
精製水 ６０．５部
１００．０部

〔実施例３〕
以下の処方を用いて油性ファンデーション（油性基剤）を調製した。先ず、８０℃に加熱した油相に粉体を均一に分散させながら加え、２０分間撹拌する。その後撹拌を止め室温まで冷却して油性ファンデーションを得た。得られた油性ファンデーション（化粧料基剤）はチキソトロピー性を示し、その２５℃における粘性係数η₁及びη₂はそれぞれ以下の表１に示す通りであった。その後は実施例１と同様にして化粧料含浸シートを得た。但し、基材シートの材料及び基剤含浸量は表１に示す通りであった。

流動パラフィン ３４．２９部
ワセリン ３０．００部
精製ラノリン ２０．００部
パルミチン酸デキストリン １０．００部
パラオキシ安息香酸ブチル ０．１０部
ジブチルヒドロキシトルエン ０．０１部
タルク ５．００部
黒酸化鉄 ０．２０部
赤酸化鉄 ０．３０部
黄酸化鉄 ０．１０部
１００．００部

〔実施例４〕
以下の処方を用いて口紅ベースを調製した。先ず、８０℃に加熱した油相に粉体を均一に分散させながら加え、２０分間撹拌する。その後撹拌を止め室温まで冷却して口紅ベースを得た。得られた口紅ベース（化粧料基剤）はチキソトロピー性を示し、その２５℃における粘性係数η₁及びη₂はそれぞれ以下の表１に示す通りであった。その後は実施例１と同様にして化粧料含浸シートを得た。但し、基材シートの材料及び基剤含浸量は表１に示す通りであった。

流動パラフィン ３７．６８部
ワセリン ２０．００部
マイクロクリスタリンワックス ２０．００部
精製ラノリン １０．００部
パルミチン酸デキストリン １０．００部
パラオキシ安息香酸ブチル ０．１０部
ジブチルヒドロキシトルエン ０．０１部
セラミド ２．００部
赤色４号アルミニウムレーキ ０．０８部
黄色４号アルミニウムレーキ ０．０３部
雲母／酸化チタン ０．１０部
１００．００部

〔実施例５及び６〕
表１にそれぞれ示す基材シートに、実施例１で用いたＯ／Ｗクリーム（乳化基剤）を実施例１と同様の方法で含浸させて化粧料含浸シートを得た。基剤含浸量は表１に示す通りであった。

〔比較例１〕
以下の処方を用いてスキンケアペーストを調製した。先ず、８０℃に加熱した油相に粉体を均一に分散させながら加え、２０分間撹拌する。その後撹拌を止め室温まで冷却してスキンケアペーストを得た。得られたスキンケアペースト（化粧料基剤）の２５℃における粘性係数η₁及びη₂はそれぞれ以下の表１に示す通りであった。このスキンケアペーストはチキソトロピー性を有していなかった。その後は実施例１と同様にして化粧料含浸シートを得た。但し、基材シートの材料及び基剤含浸量は表１に示す通りであった。

流動パラフィン ３９．６８部
固形パラフィン ２０．００部
マイクロクリスタリンワックス ２０．００部
精製ラノリン １０．００部
パルミチン酸デキストリン １０．００部
パラオキシ安息香酸ブチル ０．１０部
ジブチルヒドロキシトルエン ０．０１部
１００．００部

〔比較例２〕
以下の処方を用いてＷ／Ｏ乳液を調製した。先ず、８０℃に加熱した油相に、７０℃に加熱した水相をゆっくり加えた。次いで、撹拌しながら２０分間かけて室温まで冷却してＷ／Ｏ乳液を得た。得られたＷ／Ｏ乳液（化粧料基剤）の２５℃における粘性係数η₁及びη₂はそれぞれ以下の表１に示す通りであった。このＷ／Ｏ乳液はチキソトロピー性を有していなかった。その後は実施例１と同様にして化粧料含浸シートを得た。但し、基材シートの材料及び基剤含浸量は表１に示す通りであった。

流動パラフィン ２．０部
シリコーン油 ３６．０部
ポリシロキサン共重合体 ２．５部
１，３ブチレングリコール ２．０部
ポリエチレングリコール ０．５部
パラオキシ安息香酸メチル ０．５部
硫酸マグネシウム ０．５部
精製水 ５６．０部
１００．０部

〔性能評価〕
実施例及び比較例で得られた含浸シートについて、以下の方法で使用感、保存安定性及び転写性を評価した。その結果を表１に示す。

〔使用感〕
１０人の専門パネラーの両腕及び首を含浸シートで拭き、化粧料基剤を皮膚に塗布して、含浸シートの使用感をのびやすさ及びべたつきのなさの観点から評価した。のびやすさ又はべたつきのなさが悪いと判断した人数が５人以下を○、６人以上を×と評価した。

〔保存安定性〕
含浸シートをその短辺（１００ｍｍ）同士が突き合わさるように三つ折り（Ｃ字折り）にし、１０枚一組にして重ねた。この状態で、アルミニウムを主成分とするピロー容器に入れ、４０℃及び５０℃の各温度にそれぞれ保存した。保存に際しては、三つ折りされたシートの短辺（７５ｍｍ）が上下方向となるように、ピロー容器を縦置きにした。１ヶ月経過後、ピロー容器から含浸シートを取り出し、基剤だれ及び基剤の裏回りの観点から保存安定性を評価した。
基剤だれは、三つ折りされ縦置きにされた含浸シートを上下半分に切断し、切断されたそれぞれの重量を測定することで評価した。上部の重量が下部の重量の７割以上になった場合を○、７割未満になった場合を×とした。
基剤の裏回りは、含浸シート裏面の縁から上方へ向かって滲む基剤の高さで評価した。シートの縁から滲んだ基剤の高さが１０ｍｍ未満の場合を○、１０ｍｍ以上の場合を×とした。

〔転写性〕
１０人の専門パネラーの両腕及び首を含浸シートで拭き、化粧料基剤を皮膚に塗布した。基剤を肌によくのせるために、塗布を数回繰り返して基剤を丁寧にのばし、基剤の転写が感じられなくなった時点を終了点とした。塗布の前後の含浸シートの重量を測定し、塗布後の含浸シートの重量が塗布前の含浸シートの重量の７５％以下の場合を○、７５％超の場合を×とした。

表１に示す結果から明らかなように、各実施例の含浸シートは、化粧料基剤を皮膚にのばし易く、その際にべたつき感がないものであることが判る。また各実施例の含浸シートは、保存しても化粧料基剤が偏在化したり、基材シートから漏出しないことが判る。更に、化粧料基剤の皮膚への転写性も良好であることが判る。

本発明の化粧料含浸シートの一実施形態を示す断面図である。 基材シートの製造方法を示す工程図である。

符号の説明

１ 化粧料含浸シート
２ 基材シート
２’基材シートの原反
３ 担持シート
３’担持シートの原反
４ 液不透過性シート
５ 柔軟性シート
５’柔軟性シートの原反
６ Ｔダイ
７ ニップロール

Claims (7)

1. チキソトロピー性を有する基剤を、基材シートの実質的に一方の面にのみ含浸させてなる化粧料含浸シート。
2. 前記基材シートが、担持シート及び該担持シートの一方の面に積層された液不透過性シートからなり、該担持シートにのみ前記基剤が含浸されている請求項１記載の化粧料含浸シート。
3. 前記基材シートが、担持シート、該担持シートの一方の面に積層された液不透過性シート、及び該液不透過性シートにおける担持シート対向面と反対側の面に積層された柔軟性シートからなり、該担持シートにのみ前記基剤が含浸されている請求項１記載の化粧料含浸シート。
4. ２５℃において、前記基剤は、剪断速度０．０５ｓ^-1における粘性係数η₁が１００Ｐａｓ以上３００００Ｐａｓ未満で且つ剪断速度５０．０ｓ^-1における粘性係数η₂が０．１Ｐａｓ以上１００Ｐａｓ未満であり、更にη₁＞η₂である関係を満たすものである請求項１〜３の何れかに記載の化粧料含浸シート。
5. 前記液不透過性シートが、延伸ポリプロピレンフィルム又はアイオノマー樹脂のフィルムからなる請求項２〜４の何れかに記載の化粧料含浸シート。
6. 担持シート及び該担持シートの一方の面に積層された液不透過性シートを有し、チキソトロピー性を有する基剤の含浸に用いられる基材シート。
7. 前記液不透過性シートにおける前記担持シート対向面と反対側の面に積層された柔軟性シートを更に有する請求項６記載の基材シート。
   

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