JP2005290558A - 真空処理ユニット用ロックチャンバー装置およびその動作プロセス - Google Patents

Abstract

【課題】真空処理ユニット用ロックチャンバー装置においてより短いクロックサイクルすなわちサイクル時間で、より低い通過圧力を得る。
【解決手段】 少なくとも２つの、好ましくは２つまたは３つのロックチャンバーと、主として第１ロックチャンバーＥＫ１を排気するために設けられた第１ポンプセットＰ１と、主として第２ロックチャンバーを排気するために設けられた第２ポンプセットＰ２、Ｐ３とを有する多段ロックチャンバー装置に関し、第１ポンプセットが、第１ロックチャンバーＥＫ１と第２ロックチャンバーＥＫ２との両方を、または両方一緒に排気することができ、特に、第１ポンプセットはまた、第２ポンプセットの前段ポンプとして利用しうる。加えて、第３ポンプセットＰ４を結合することが予見され、第３ポンプセットは、第２ポンプセットおよび／または第１ポンプセットの前段ポンプとして利用することができる。
【選択図】 図１

Description

本発明は、請求項１および１４それぞれのプリアンブルによるロックチャンバー装置に関し、また多段ロックチャンバー装置を動作させるためのプロセスに関する。

ガラスパネルは、例えば真空コーティングプラントにおいて、スパッタリングプロセスに適した５×１０^−４ｈＰａから１×１０^−２ｈＰａまで、特には３×１０^−３ｈＰａまでの範囲内の圧力の高真空状態のもとで、コーティングされている。生産性数値を向上させ、各基板について装置全体を、特に高真空部を排気しなければならないという必要を避けるために、ロードロックとアンロードロックとが、各基板に対して用いられている。

材料の流れの速度を改善し、生産性数値を向上させるために、最新のインライン・コーティングプラントにおいては、別個のロードロックおよびアンロードロックチャンバーが用いられている。単純ないわゆる３チャンバー・コーティングユニットは、基板が大気圧から例えばｐ＝５×１０^−２ｈＰａといった適当な移行圧力までのポンプでの排気を受けるロードロックと、続く真空コーティング部（処理チャンバー）と、通気することによって基板が再び大気圧レベルへの調節を受けるアンロードロックとからなる。

ロックチャンバーの仕事は、処理範囲に対して十分かつ可能な限り低い移行圧力に、可能な限り急速に排気することである。通気は、ポンプを用いずに数秒のうちに行うことができるが、排気の目的のために一定の真空ポンプスタンドをロックチャンバーに接続しなければならない。

生産性と、共同して作用するインライン・コーティングユニットの経済的な設備使用率とに対する共通の決定的ファクターは、いわゆるサイクル時間、すなわちステーション時間であり、すなわち次のバッチの基板をユニット内に導入しうる前に基板のバッチ毎に使わなければならない時間、すなわち、連続的動作条件のもとでの基板のバッチ毎の平均処理時間である。例えば、２分のサイクル時間を達成するためには、ロックチャンバーは、ｔ≦２min以内に、所定の大気圧地点Ａから所定の（高）真空領域地点Ｂへと、またその逆に、基板を送り出すのに適していなければならない。この目的のために、基板をロックチャンバー内におよびロックチャンバー内から搬送するのには、それぞれ、ロックチャンバーを排気および通気すること、そして全ての適切な弁を開きまた最終的には閉じることが必要とされる。これは、そのような場合には、排気のために利用可能な時間が、常に、サイクル時間よりも短くされて（例えば、１２０秒のうち９０秒）いるということを意味しており、なぜなら、全ての他の仕事（上記参照）も、このサイクル時間内に完遂しなければならないからである。

既知の関係によれば、
ｔ＝（Ｖ／Ｓ）・ｌｎ（Ｐ_０／Ｐ_１）
ここで、ｔ＝ポンプ時間
ｖ＝容積
ｓ＝ポンプ能力
Ｐ_０＝開始圧力（大気圧）
Ｐ_１＝目標圧力（搬送圧力、ロック逆転圧力）
であり、ポンプ時間を、また結果としてサイクル時間をも減らすために、明らかに２つの実行可能な手段がある。
＞ロックチャンバーの容積縮小
＞ロックチャンバーに結合されたポンプ能力の向上

この両方の実行可能な手段には技術的、経済的制限があるため、高い生産性と、対応する短縮されたサイクル時間とを有するこれらのインライン・コーティングプラントにおいては、排気／通気プロセスを、２つ以上のロックチャンバーにさらに分割するという方法が取られている。導入側に関しては、これは、例えば、第１ロードロック内で、大気圧から例えば１０ｈＰａといった中程度の圧力までの排気が行われ、一方、第２ロックチャンバー内で、中程度の圧力（すなわち均等化圧力）から例えば５×１０^−２ｈＰａといった搬送圧力までの排気が行われるということを含意している。そのような５チャンバーユニット（２つのロードロックチャンバー、２つのアンロードロックチャンバー、１つの処理チャンバー）においては、ロード／アンロード動作は、２つのチャンバー間で分割されており、したがって２ステップで行われ、２つのサイクルに割り当てられている。これにより、例えば、約２ｍ^３から５ｍ^３までのロックチャンバー容積を有する建築用ガラスパネル・コーティングユニットにおいて、サイクル時間を、約６０ｓから９０ｓまでから、約４０ｓから５０ｓまでへと短縮することができた。さらに短いサイクルタイム、例えばｔ＜３０ｓを得るために、二段搬送原理がもう１つのステップによって補足され、プラントが、３つずつのロードロックチャンバーおよびアンロードロックチャンバーを伴って組み立てられた。これらのいわゆる７チャンバーユニット、また高速５チャンバーユニットにも、３チャンバーユニットと比べて、ポンプ時間（排気時間）だけでは、約半分（例えば３５ｓのうちの１７ｓ）しかかからず、さらに高速なユニットにおいては、例えば、サイクル時間の２５％（２０ｓのうちの５ｓ）しかかからないという特徴がある。一方、より低速で古いユニットによると、ポンプ時間は、やはりサイクル時間の大きな部分にわたる（例えば９０ｓのうちの６０ｓ）。従来技術によると、各ロックチャンバー（ロック段）に対して、それぞれの動作範囲に対応する真空ポンプスタンドが割り当てられており、すなわち、例えば、第１ロードロックチャンバー（１）には、１０００ｈＰａから例えば１０ｈＰａまでの圧力範囲のための、雰囲気適性ポンプスタンドが割り当てられ、一方、第２ロードロックチャンバー（２）には、１０ｈＰａから２×１０^−２ｈＰａまでの圧力範囲のための、多段の、例えば三段のルーツポンプスタンドが割り当てられていた。

文献、米国特許第４，５０４，１９４号には、エアロックの高速真空ポンプ用装置が開示されている。この目的のために、エアロックの容積よりも大きな容積を有する膨張タンクが設けられている。膨張タンクは、該膨張タンクに接続された真空ポンプによって排気される。しかし、この装置は、小さな容積を有するロックチャンバーに対して、また処理周期が排気周期と比べて長い処理に対して適しているにすぎない。大きな容積のロックチャンバーを有するユニットに、例えば建築用ガラスパネル・コーティングユニットにこの装置を用いることは、実現不可能である。

したがって、本発明の課題は、真空コーティングプラント用のロックチャンバーユニットの、特に既存の５チャンバーシステムまたは７チャンバーシステムそれぞれの動作効率を向上させることにあり、これらは、２つから３つまでのロードロックチャンバーおよびアンロードロックチャンバー、ならびに、処理チャンバーにおいて改良されており、特に、排気時間の短縮が、またこれによりロックチャンバーユニットのサイクル時間の短縮が達成される。向上した動作効率のゆえに、ロックチャンバーのポンプセットのコストも低減されるはずであり、すなわち、ロックチャンバーがセーブされ、やはり、コストとスペースとの利点がある。本発明の他の態様は、所定のサイクル時間およびポンプ時間で、より低い移行圧力を得ることにある。

この課題は、請求項１または１４の特徴を有するロックチャンバー装置によって、また、請求項２５または２８の特徴を有するロックチャンバー装置動作プロセスを用いて解決される。有利な実施形態は、従属請求項の対象である。

第１の態様によれば、本発明は、対応する要求に従ってポンプセットがそれぞれのロードロックチャンバーに可変的に適合される場合、ポンプセットの動作能力、したがってロックチャンバーを排気するための時間を改善することができ、すなわち短縮することができ、なぜなら、ポンプセットの可能な限り高い利用率が予見されているからである。したがって、既存の圧送ポンプを用いて、実際のポンプ能力向上、すなわち、１つのロードロックチャンバーから他のチャンバーへの基板の搬送の短縮を図ることが可能である。本発明によれば、もはやかたくなに、あるポンプユニットが特定のロードロックチャンバーに対して利用可能であるとは考えられず、本発明の基本的な着想は、理想的なポンプ能力を得るために、すなわち、まだ高いレベルにある搬送圧力で、１つのロックチャンバーから他のチャンバーへの可能な限り速い搬送を実現可能とするために、異なるポンプセットを、導入プロセス中、適当に相互にグループ化、結合または再グループ化しうるということにある。

したがって、主として第１ロックチャンバー向けに設計された第１ポンプユニットは、このチャンバーに用いられるだけでなく、第２ロックチャンバーにも用いられ、第１ポンプユニットから第１ロックチャンバーへの、および第２ロックチャンバーへの、対応する接続だけを与える必要がある。ローディングプロセスの要求と段階によって、第１ポンプユニットのポンプ能力、すなわち吸込能力を、第１ロードロックチャンバーにも、第２ロードロックチャンバーにも、または同時に両方のチャンバーにも提供することができる。

加えて、この第１ポンプセットは、第２ロードロックチャンバーに直接にまたは間接的に割り当てられるのみならず、好ましい代替実施形態によれば、第１ポンプセットは、第２ロックチャンバーを排気するために主として設計された第２ポンプセット用の前段ポンプとして、付加的に、すなわち交互にロードロックチャンバーに順次に付加される。

したがって、第１ポンプセットの利用の可能性をさらに拡大することができ、より効率的なポンプ能力の配分がもたらされる。

本発明の他の好ましい実施形態によれば、第３ポンプセットが予見されており、第３ポンプセットは、特に第１ポンプセットが、第１ロックチャンバーに主として用いられるべきであるために、もはや前段ポンプとして利用可能でないときに、第２ポンプセットのために順次に付加されるポンプ段として、特により低い圧力を有するロックチャンバーのエリアにおいて、第２ポンプセットを増強するものである。

上記のかわりに、他の実施形態によれば、第３ポンプセットを、第１ポンプセットおよび第２ポンプセットのための共通の前段ポンプとして割り当てることができ、かつ、第３ポンプセットを、第１ポンプセットのための、または第２ポンプセットのための、または共通してその両方のための前段ポンプとしても、用いることができる。したがってまた、第１ポンプセットと同様に、第３ポンプセットは、確実に、特にローディングプロセス中、変えられるポンプ能力をロードロックチャンバーに提供することができる。したがって、得られたポンプ能力が、排気時間短縮に利用され、またはより低い搬送圧力が実現可能となる。

本発明の他の有利な実施形態によれば、並列方向に隣接して接続されたポンプセットのポンプの場合には、対応するバイパスを予見することができ、これにより、バイパスを活動化／解放し、残りの接続導管を適当に切り離すことによって、このポンプは、多段ポンプスタンドを生じさせるために、前の並列に接続されたポンプに順次に接続されていく。これには、要求されるポンプ能力、すなわち圧力条件次第で、単にポンプを再グループ化することによって、ポンプ能力を要求により調節することができるという利点がある。例えば、第１ポンプセットが第２ポンプセットのための前段ポンプとして利用可能であるときには、対応するポンプを第２ポンプセットの他のポンプと並列に動作させることができ、一方、第１ポンプセットを前段ポンプとして働かなくさせると同時に、バイパスを有するポンプは、多段ポンプスタンドをこれらのセットと組み合わせるために、第２ポンプセットの他のポンプと、順次に接続される。

他の有利な実施形態によれば、隣接する並列位置に接続されたポンプ、特に第２ロックチャンバーのための第２ポンプセットのポンプの場合に、これらのポンプに並列な位置に、差圧バイパス蓋を組み込むことができ、これにより、並列なポンプセット、特に第２ポンプセットを、高い吸気圧の場合にも、実現されている圧力状態にしたがって自動的に動作させることができる。差圧バイパス蓋Ｋ２の動作によって、並列に結合されたポンプの出口部は、最高の差圧を与えるために、例えば第２ロックチャンバーについて、吸込部と接続、すなわち短絡させられている。並列に結合されたポンプの最高の圧縮比、そして結果としてそれらの機械的すなわち電気的な許容能力も限定されており、これにより、これらのポンプは、差圧バイパス蓋がない場合よりもかなり高い吸気圧ですでに用いることができる。結果として、そのような並列に結合されたポンプ（例えばルーツポンプ）は、比較的高い圧力でもポンプ動作が伴われ、前ポンプ排気段階にそれらのポンプ能力が提供される。したがって、例えば８００ｈＰａを超える高い許容差圧をコントロールすることができる、吸気段階の前に冷却される第２ポンプセットのための複雑なポンプ（例えばルーツポンプ）を用いないことが可能である。加えて、これにより、ロックチャンバーにつながる導管の、対応する弁を閉じる必要なしに、第２ポンプセットを第２ロックチャンバーと常に接続させることも可能である。またこれにより、第２ポンプセットのポンプのより優れたポンプ利用率がもたらされ、すなわちポンプセットの完全により単純な設計がもたらされる。ただ１つの並列に組み込まれた差圧バイパス蓋ではなく、それぞれのポンプは、それら自身の差圧バイパス蓋を有していてもよく、またかわりに、組み込まれた（差圧）バイパス蓋を有する各ポンプを用いることが可能である。

明らかに、異なるポンプセットは、例えば、オイルシールされた、またはドライ圧縮の真空ポンプ、特にはロータリーベーンポンプ、ロータリーピストンポンプ、ロータリープランジャポンプ、ルーツ真空ブースター、ドライ運転ポンプ、特には軸流ポンプ、ルーツポンプ、特には流入前冷却ルーツポンプ等の、１つまたはさまざまな互いに並列に結合された、単段または多段の真空ポンプを含みうる。

ポンプ能力可変実施形態によって、特に、オイルシールされたポンプセットを全く用いずに、例えば軸流ポンプのようなドライ圧縮真空ポンプのみを用いることも可能である。

第２の態様によれば、搬送プロセスの加速が、バッファ装置を設けることにより達成され、バッファ装置はバッファ容量を提供するもので、バッファ容量は、例えば、あるポンプセットのポンプ能力が当面の排気プロセスに必要とされていない間、または直接の排出動作がまだ実行不可能である間、排気されているものである。吸込能力、すなわちポンプ能力が、こうしてバッファセット内に蓄えられており、都合の良いときに、ロックチャンバーの排気、すなわち減圧の目的のために、急激な圧力均等化によってロックチャンバーに与えられている。急激な圧力均等化によって、瞬時の、すなわち実質的に「ゼロ時間」での著しく高速な排気が可能とされる。

優先的には、それぞれのロックチャンバーに対して、特定のバッファ装置が、対応するバッファ容積で設けられていてもよく、また、これらの外部バッファ装置に加えて、特にロックチャンバーもまたバッファとして機能してもよく、この場合、真空エリアに最も近いロックチャンバーが予め排気されており、続けて、前のロックチャンバーに、急激な減圧のための圧力均等化をもたらす。

外部バッファ装置は、別個のポンプセットを備えていてもよいが、特に好都合なのは、バッファ装置の別個のポンプセットと別にまたはそれに加えて、既にロックチャンバーに設けられている既存のポンプセットを用いることである。これにより、任意選択でこのロックチャンバー・ポンプセットを用いることを確実にしうる。

記載した解決法は、ロックのロード側およびアンロード側の両方で実現することができるということは、当業者には明らかである。

本発明の他の利点、特徴および特性は、以下の、添付の図面に基づく、好ましい実施形態の詳細な説明に基づいて明確となるであろう。図面は、単に概略的な形式で各図を示している。

図１には、２つの導入チャンバーＥＫ１およびＥＫ２、ならびに搬送チャンバーＴＫおよびスパッタリングチャンバーＳＫ１を有する真空処理プラント、今の場合、ガラス・コーティングプラントの、導入部の概略図が描かれている。スパッタリングチャンバーＳＫ１および搬送チャンバーＴＫは、コーティングエリアに適した高真空状態を調節するために、複数の高真空ポンプを備える。

導入チャンバーＥＫ１およびＥＫ２は、弁フラップＶＫ１によって外部環境に対して隔てられ、弁フラップＶＫ３によって搬送チャンバーＴＫに対して隔てられる。上記の装置の間では、隔離は弁フラップＶＫ２によってもたらされている。

導入チャンバーＥＫ１を通気するためのバルブＶ_Ｆｌｕｔが、導入チャンバーＥＫ１に設けられている。

加えて、導入チャンバーＥＫ１では、第１ポンプセットＰ１には、５つの並列に結合されたロータリーベーンポンプが設けられ、導管１および弁Ｖ１によって導入チャンバーＥＫ１と接続されている。さらに、ポンプセットＰ１は、導管２および弁Ｖ２を通して導入チャンバーＥＫ２と接続されている。また、弁Ｖ５によって閉じることができる導管３を通して、ポンプセットＰ１は、並列に結合されたルーツポンプＰ２およびＰ３によって形成される、第２ポンプセットＰ２、Ｐ３と接続されている。

第２ポンプセットのルーツポンプＰ２およびＰ３は、出口側で導管５を通して相互接続されており、導管５は弁Ｖ７によって閉鎖することができる。ポンプＰ２およびＰ３は、また、各導管４ならびにこれらに組み込まれた弁Ｖ３およびＶ４を通して導入チャンバーＥＫ２と接続されている。加えて、第３ポンプセットＰ４が、ルーツポンプと、次に結合されたロータリーベーンポンプとを有する二段ルーツポンプスタンドに基づいて設けられており、弁Ｖ６を備える導管６を通して第２ポンプセットと、ここでは特に導管５と接続されている。

さらに、導入チャンバーＥＫ２では、各高真空ポンプが設けられ、並列な投影で互いに接続されており、弁Ｖｈ１からＶｈ３によって導入チャンバー２と結合させることができる。

このようなロックチャンバーユニットにおける導入プロセスは、最初に、第１導入チャンバーＥＫ１の弁蓋ＶＫ１が開かれており、基板が導入チャンバーＥＫ１内に搬送されていくようにして行われる。次に、弁蓋ＶＫ１が閉じられ、弁Ｖ１がポンプ段Ｐ１に向けて開かれ、これにより、導入チャンバーＥＫ１を排気することができる。

次に、弁Ｖ３、Ｖ４およびＶ５は閉じられていて、また弁Ｖ２および弁蓋ＶＫ２は開かれている。これは、例えば２００ｈＰａの圧力で行われる。同時に、基板が次に第１導入チャンバーＥＫ１から第２導入チャンバーＥＫ２へと移動させられていく。

ひとたび適当な圧力レベル、例えば、８０ｈＰａに達したら、弁Ｖ５およびＶ３が開かれ、弁Ｖ１およびＶ２が閉じられる。同時に、または切り詰められた遅延を伴って、弁Ｖ４およびＶ７が開かれる。また、弁Ｖ６が次に開かれるが、この弁Ｖ６は任意に設けられており、一定のタイプのポンプスタンドＰ４と共にのみ存在しなければならない。例えば、第３ポンプセットＰ４が、バイパス導管を伴ってフォアポンプおよびルーツポンプによって構成されている場合、任意の弁Ｖ６は用いなくてもよく、なぜなら、この場合、第３ポンプセットＰ４を作動させて、大気圧または非常に高い吸気圧、例えば１００ｈＰａから３００ｈＰａまでの圧力で連続的に動作させることができるからである。

次に、弁Ｖ１および弁蓋ＶＫ２が閉じられていて、これにより、次の基板を導入チャンバーＥＫ１に受け入れるために、導入チャンバーＥＫ１を再び通気することができ、弁蓋ＶＫ１を開くことができる。

また、次に、弁Ｖ５が閉じられていて、これにより、第１ポンプセットＰ１はもはや第２ポンプセットＰ２、Ｐ３のフォアポンプスタンドとして、すなわち、第３ポンプセットＰ４に対して並列には動作しないが、第３ポンプセットＰ４が、維持ポンプスタンドとして、第２ポンプセットＰ２、Ｐ３に次に接続されるだけでなく、一方で、弁Ｖ１が開けられることにより、第１ポンプセットが、再び第１導入チャンバーＥＫ１を排気するために用いられる。

第２導入チャンバーＥＫ２において、高真空状態に導入チャンバーＥＫ２を調節するために、任意の高真空弁Ｖｈ１からＶｈ３までを次に開くことができる。およその圧力が０．３ｈＰａにある状態で、弁Ｖ３およびＶ４を閉じることができ、対応する真空状態が得られた後、例えば２×１０^−３ｈＰａの圧力で、基板を処理エリア（搬送チャンバー）内に搬送するために、弁蓋ＶＫ３を開くことができる。

この段階中に重要であるのは、上記のプロセスが内部で行われ、すなわち２つの導入チャンバーで一部同時に行われ、これにより、可能な限り短いサイクル時間が達成されているということである。第１ポンプセットＰ１が、導入チャンバーＥＫ１のみならず、第２導入チャンバーＥＫ２とも接続されているということから、より短い導入時間、すなわち進入時間をもたらすために、第１ポンプセットＰ１を、より長い時間用いてもよい。

説明した本ユニットの、すなわち上記プロセスの利点は、導入チャンバーＥＫ１と導入チャンバーＥＫ２との間の弁蓋ＶＫ２は、第２ポンプセットのルーツポンプＰ２およびＰ３の受容圧力、すなわち約１５ｈＰａでのみ開くことができないもので、これは、１００ｈＰａから２００ｈＰａまでの範囲、特には１５０ｈＰａといった高い圧力で既に行いうるということである。したがって、ポンプ時間が、導入チャンバーＥＫ１内で、約１／３だけ削減され、または、ポンプセットＰ１は、ポンプ能力を１／３だけ減少させることもできうる。

加えて、有利であるのは、第１ポンプセットＰ１を、第２ポンプセットのフォアポンプスタンドとして、弁Ｖ５を通して、ポンプＰ２およびＰ３とともに用いることができ、これにより、ポンプＰ２およびＰ３を有する第２ポンプセットを、より高い圧力で用いうるということである。１０ｈＰａではなく、約１００ｈＰａの利用率が、今や実現可能となる。

特に、異なる弁の開閉時期、特に弁Ｖ５、Ｖ７、Ｖ３およびＶ４を開く時期、ならびにＶ２を閉じる時期は、ポンプ能力の妨害が起こされず、したがって、サイクル時間の切換え時間に悪影響が及ぼされないように、相互に同期させることができる。

第３ポンプセットＰ４は、任意の高真空ポンプＰ_Ｈ１からＰ_Ｈ３までの、必要な搬送圧力、すなわち起動圧力が得られるまで、第２ポンプセットＰ２、Ｐ３と共に、多段ポンプスタンドを形成するように設計される。また、第３ポンプセットＰ４は、第１ポンプセットＰ１が導入チャンバーＥＫ１を排気するよう要求され、これによりもはや第２ポンプセットＰ２、Ｐ３のフォアポンプスタンドとして利用可能ではないときに、第２ポンプセットＰ２、Ｐ３を増強するように設計される。

図１の実施形態とほとんど一致し、したがって、以後その相違点に関してのみ説明する図３の代替実施形態においては、第２ポンプセットに、ルーツポンプＰ２およびＰ３に加えて第３ポンプＰ５が並列に結合されており、追加の導管１４およびこれに配置された弁Ｖ１０とによって導入チャンバーＥＫ２と接続されている。加えて、第３ポンプＰ５に対して並列に、導管８が予見され、導入チャンバー導管１４と、ポンプＰ２、Ｐ３およびＰ５の出口側を接続する導管５との間に配置され、一方、弁Ｖ１１が導管８に組み込まれている。導管８は、弁Ｖ１０とポンプＰ５との間から導管5へと放出する。さらに、弁Ｖ１２が、導管５における導管８の入口と、導管５における導管６の入口との間に組み込まれている。弁Ｖ１０および弁Ｖ１２を閉じ、かつ弁Ｖ１１を開くことによってポンプＰ５に向けられるこのバイパスは、ポンプＰ５を順次ルーツポンプＰ２およびＰ３と組み合わせることを可能とし、これにより、ポンプＰ５は、第３ポンプセットＰ４（ここではロータリーベーンポンプによる単段ポンプセットにより形成される）と共に、多段ルーツポンプスタンドを形成する。

結果的に、ふたたび第１ポンプセットＰ１が導入チャンバーＥＫ１を排気しなければならないために、第１ポンプセットＰ１がもはや第２ポンプセットの順次に結合されたポンプ段としては利用可能でなくなったときに、ポンプＰ５を再グループ化することにより、すなわちポンプＰ５を順次ポンプＰ２およびＰ３に結合することにより、導入チャンバーＥＫ２のための、潜在的な多段ポンプセットを得るということが実現可能である。したがって、弁Ｖ５またはＶ７が閉じられる前に、ポンプＰ５をポンプＰ２およびＰ３と順次に結合するために、弁Ｖ１０およびＶ１２が閉じられており、かつ弁１１が開かれる。上記の点以外は、シーケンスは、図１の導入エリアにおける導入プロセスと一致する。しかし、弁Ｖ１０およびＶ１２を閉じ、かつ弁Ｖ１１を開くことによる、第２ポンプセットＰ２、Ｐ３、Ｐ５を用いた排気段階、すなわち放出段階中に、三段ルーツポンプスタンドが、第２ポンプセットおよび第３ポンプセットＰ４をフォアポンプユニットとして形成しうるということに、この変形の利点は見られる。ルーツポンプＰ２およびＰ３を用いた第三段は、Ｖ７を開く／閉じることにより、倍にも、または半分にもすることができ、または、第１ポンプセットＰ１と第３ポンプセットＰ４との間で、それぞれ分配することもできる。

図２の実施形態においては、第１ポンプセットは、２つの並列に結合された、単段流入前冷却ルーツポンプにより形成され、これらは、導管１および弁Ｖ１によって導入チャンバーＥＫ１と接続され、導管２および弁Ｖ２によって導入チャンバーＥＫ２と接続されている（流入前ガス冷却は不図示）。

第２ポンプセットは、二段並列ルーツポンプＰ２およびＰ３からなり、これらは、再び、導管４および対応する弁Ｖ３およびＶ４によって導入チャンバーＥＫ２と接続されている。

第１ポンプセットＰ１と第２ポンプセットＰ２、Ｐ３との吐出側には、並列に結合された、例えば軸流ポンプの形の、単段ドライ運転ポンプの第三ポンプセットP4ａ、Ｐ4ｂが予見され、これは、導管６によって、第２ポンプセットＰ２、Ｐ３と、すなわちそれらの接続導管５と接続され、一方、導管７によって、第１ポンプセットＰ１と接続されている。導管６には弁Ｖ６があり、導管７には弁Ｖ８が予見され、これにより、対応する接続を分離することができる。加えて、並列に結合された軸流ポンプＰ４ａおよびＰ４ｂの間の接続導管には、弁Ｖ９が予見される。図２の実施形態によれば、導入チャンバーＥＫ１および導入チャンバーＥＫ２の両方を、多段ポンプスタンドによって排気することができ、特に、この配置によって、オイルシールされたフォアポンプは用いなくてもよく、代わりに、特に有利な形態では、ドライ圧縮ポンプだけを用いてもよい。

図２の真空処理プラント内への基板の進入は、最初に、第１導入チャンバーＥＫ１の弁蓋ＶＫ１が開かれており、基板が導入チャンバーＥＫ１内に搬送されていくようにして行われる。次に、弁蓋ＶＫ１が閉じられ、弁Ｖ１が第１ポンプセットＰ１に向けて開かれ、第３ポンプセットＰ４のフォアポンプレベル次第である例えば５００から１０００ｈＰａまでの高い圧力レベルで運ばれるガスが、排出蓋Ｋ１によって大気中に排気される。例えば３００ｈＰａの受容圧力Ｐ_ｕの時点では、弁Ｖ８、すなわちＶ８およびＶ９が開かれており、これにより、多段ポンプセットが、導入チャンバーＥＫ１を排気するのに提供される。

次に、弁Ｖ３およびＶ４が閉じられており、一方、弁Ｖ２、および導入チャンバーＥＫ１と導入チャンバーＥＫ２との間の弁蓋ＶＫ２は開かれている。次に基板が、第１導入チャンバーＥＫ１から第２導入チャンバーＥＫ２内へと搬送されていく。

次に、弁Ｖ６、Ｖ３およびＶ４が開かれており、最終的に、弁Ｖ８およびＶ９は閉じられている。それから、次の基板を導入チャンバーＥＫ１内へと導入することができるように、弁蓋ＶＫ２および弁Ｖ１は再び閉じられており、進入チャンバーすなわち導入チャンバーＥＫ１は通気されていて、弁蓋ＶＫ１は開くことができる。

次に、弁Ｖ８およびＶ２が閉じられており、Ｖ１が、第１導入チャンバーＥＫ１を排気するために開かれる。高真空ポンプＰ_Ｈ１からＰ_Ｈ３ までは、図１による第１実施形態の動作に準じて、弁Ｖｈ１からＶｈ３までによって、導入チャンバーＥＫ２と接続することができ、これにより、弁Ｖ３およびＶ４をその後閉じることができる。導入チャンバーＥＫ２がスパッタリングチャンバー１の真空状態と一致したときに、弁蓋ＶＫ３が開かれ、基板が処理エリア内に導入される。またここでは、明らかに、ロードロックチャンバーＥＫ１およびＥＫ２の両方におけるプロセスは、一部同時に行われる。

この配置の利点は、第１ポンプセットＰ１、また第３ポンプセットＰ４も、１００％近く利用することができる、すなわち、実質的に導入周期すなわち進入周期の全期間にわたって利用することができるということにある。加えて、ここでも、チャンバー弁ＶＫ２は、例えば１００から４００ｈＰａまで、特に２５０ｈＰａといった高い圧力レベルですでに開くことができ、これは、ルーツポンプＰ２およびＰ３の受容圧力に対応する約１５ｈＰａで開くのに比べて、導入チャンバーＥＫ１を排気するための明らかにより短いポンプ時間に対応し、すなわち、よりコンパクトな構造の対応するポンプスタンドが実現可能とされる。

第３ポンプセットＰ４を、第１ポンプセットＰ１と第２ポンプスタンドＰ２、Ｐ３との両方のフォアポンプスタンドとして用いるさまざまな状態によって、導入チャンバーＥＫ１および導入チャンバーＥＫ２にも、多段ポンプスタンドがさまざまな利用のために設けられている。特に、示される全ての実施形態によって、ポンプ能力、すなわち吸込能力が、導入側で、または一般に大気圧から真空への排気方向に沿って、すなわちポンプ能力の局所的な要求に従って基板を随伴しうるもので、これにより、著しい能力向上と時間の短縮がもたらされる。

図４は、本発明によるロックチャンバーユニットの他の実施形態を示しており、図３とほとんど一致するものである。

第１の相違点は、並列に結合されたポンプＰ２、Ｐ３およびＰ５を有する第２ポンプセットが、図３におけるようなポンプＰ５に並列なバイパス８を備えておらず、ポンプＰ２、Ｐ３およびＰ５がそれにより第２導入チャンバーＥＫ２に接続される導管４に並列に、差圧バイパス蓋Ｋ２が設けられ、導管９および弁Ｖ１７によって第２導入チャンバーＥＫ２に接続されているという点に見出されるものである。この配置によって、高い吸気圧ですでに（調節された差圧に従って）それらの吸込能力の一部を急速排気のために利用することができるようにするために、比較的高い吸気圧に、並列に結合されたルーツポンプＰ２、Ｐ３およびＰ５を結合することができる。ポンプＰ２、Ｐ３およびＰ５の出口側を吸込側に接続することによって、第２導入チャンバーＥＫ２について、バイパス蓋Ｋ２には、ポンプＰ２、Ｐ３およびＰ５はバイパス蓋Ｋ２で調節することができる差圧に打ち勝つだけでよいということが予見される。この目的のために、例えば、このバイパス蓋は、ばね負荷弁またはウェイト負荷弁で構成されてもよく、これは、ルーツポンプＰ２、Ｐ３およびＰ５の排気側で所定の過圧力が生じた際に、チャンバーの方向に向かって開くものである。したがって、弁Ｖ３、Ｖ４およびＶ１０は、より高い吸込圧力で、開くことも、または開いたままにすることもでき、かつ／または、より高い圧力でも用いうる流入前冷却ルーツポンプを利用することを避けることができ、これにより、第２ポンプセットのコストを削減することができ、同時に、より高いポンプ能力が提供される。明らかに、差圧バイパス蓋Ｋ２のかわりに、さまざまな差圧蓋を、例えば、各ポンプＰ２、Ｐ３またはＰ５毎に設けることもでき、または、組み込まれたバイパス蓋を有するルーツポンプを用いることも可能である。

このバイパス蓋Ｋ２の配置には、弁Ｖ１７、Ｖ３、Ｖ４およびＶ１０を、それらの動作中、常に開いたままとすることができ、すなわち、それらは、特に高真空ポンプＰ_Ｈ１からＰ_Ｈ３までが用いられない場合に、各サイクルにおいて強制的に閉じる必要がないという、他の利点がある。したがって、動作も簡単化される。

図３の実施形態と比べて、図４の実施形態の第２の相違点は、第１ポンプセットＰ１の並列に結合された真空ポンプを、導管１０およびそこに予見される弁Ｖ１３およびＶ１５によって、第３ポンプセットＰ４に対しての次の段として結合することができ、または他のポンプ、すなわち弁Ｖ１６によってポンプＰ９と、Ｖ１３によってＰ１０と並列に結合することができる。弁Ｖ５を閉じ、弁Ｖ６、Ｖ１３、Ｖ１５および最終的にはＶ９をも開くことによって、排気段階中に、第１ポンプセットＰ１、第３ポンプセットＰ４および第２ポンプセットＰ２、Ｐ３およびＰ５による多段ポンプレベルを形成することが可能となる。このように、二段ポンプレベルで始めて、ポンプ能力を妨害することなく、ほとんど完全な三段ポンプレベルへの移行を行うことができ、または、一般的に言えば、ｎ段ポンプレベルからｎ＋１段ポンプレベルを形成することができる。結果として、バルブＶ１６を伴うポンプＰ９は、任意で設けうるにすぎないものであるということが明らかである。

前の実施形態と比べて、図４の実施形態の他の本質的な相違点は、さらに、弁Ｖ１４、導管８および導管１を通して第１導入チャンバーＥＫ１と接続されている外部バッファユニットＥＢ１を備える点にある。バッファユニットＥＢ１は、任意に予見される第５ポンプセットＰ６または第１ポンプセットＰ１によって吸い込みうるバッファ容積を提供する。このように排気されたバッファ容積によって、弁Ｖ１およびＶ１４を開いた後に、第１導入チャンバーＥＫ１内の圧力を急激に下げることができる。この形態においては、導入チャンバーＥＫ１およびＥＫ２を直接排気するためのポンプ能力すなわち吸込能力が要求されていない期間に、または、圧力条件に起因して、第５ポンプセットＰ６および導入チャンバーＥＫ１をさらに組み合わせることが有利でないときに、ポンプ能力、すなわち吸込能力を利用することが可能である。このポンプ能力、すなわち吸込能力は、いわば、バッファユニットＥＢ１内に蓄えられており、その後、必要なときに、第１導入チャンバーＥＫ１に提供されている。

同様に、第２導入チャンバーＥＫ２も内部バッファユニットとして機能しうるもので、この場合、弁Ｖ１およびＶ２を開くことによって、導入チャンバーＥＫ１およびＥＫ２の間で圧力均等化がなされ、これにより、ここでも、圧力が急激に低下する。特に、第１導入チャンバーＥＫ１およびバッファユニットＥＢ１の間の圧力均等化と、続く、第１導入チャンバーＥＫ１および第２導入チャンバーＥＫ２の間の圧力均等化との、相互に調整された組合せの場合には、二段階の急速な減圧を得ることができ、またここでも、搬送プロセスの長い期間中、第２導入チャンバーＥＫ２に関連する吸込能力を利用することができる。

さらに、第２外部バッファユニットＥＢ２には、任意で、対応する任意に予見される他の第６ポンプセットＰ７を設けることができ、この第６ポンプセットＰ７によって、第２導入チャンバーＥＫ２と第２バッファユニットＥＢ２との間の圧力均等化もまた、急激な減圧をもたらす。第６ポンプセットＰ７のかわりに、第２バッファユニットＥＢ２のバッファ容積はまた、第２（Ｐ２、Ｐ３、Ｐ５）、第３（Ｐ４）および／または例えばＰ９のような、第２導入チャンバーＥＫ２のためにすでに設けられている他のポンプセットによって排気してもよい。

図４の実施形態においては、第２導入チャンバーＥＫ２の吸込能力によって十分な真空が得られる場合には、高真空ポンプＰ_Ｈ１からＰ_Ｈ３まではどの実施形態においても用いなくてよく、したがって任意のものにすぎないということも示されている。

弁Ｖ３、Ｖ４、Ｖ１０およびＶ１７は、第２導入チャンバーＥＫ２をポンプスタンドから隔てることができ、かつ、チャンバーの、またはポンプスタンドの、それぞれ独立した通気を可能とするように設計される。これが必要とされないと考えられる場合には、これらの弁も用いなくてもよい。しかし、第２バッファユニットＥＢ２が第２ポンプセットＰ２、Ｐ３、Ｐ５によって排気されるものであり、したがって、第２導入チャンバーＥＫ２からの分離が要求される場合には、いかなる場合でも弁Ｖ３、Ｖ４、Ｖ１０およびＶ１７は必要とされる。しかし、第２バッファユニットＥＢ２が第６ポンプセットＰ７によってのみ排気されるものである場合には、第２バッファユニットＥＢ２をＶ１８によって第２導入チャンバーＥＫ２と直接結合してもよい。

図４による実施形態においては、搬送プロセスは、以下のようにして行われる。最初に、第１導入チャンバーＥＫ１の弁蓋ＶＫ１が開かれており、基板が第１導入チャンバーＥＫ１内に搬送されていく。次に、弁蓋ＶＫ１が閉じられ、弁Ｖ１がポンプスタンドＰ１に向けて開かれる。弁Ｖ１４がこのプロセス中に開かれ、弁Ｖ２、Ｖ５およびＶ１３またはＶ１５が閉じられる。排気された第１バッファユニットＥＢ１のバッファ容積を用いた圧力均等化によって、第１導入チャンバーＥＫ１内の圧力は、大気圧から約４００ｈＰａまで急激に下げられる。次にＶ１４は閉じられており、Ｖ２は開かれていて、これにより、ちょうど第１導入チャンバーＥＫ１と排気された第２導入チャンバーＥＫ２との間で、第２の続いて起こる圧力均等化が行われる。第１および第２導入チャンバーＥＫ１およびＥＫ２のおよそ等しいチャンバー容積によって、両方のチャンバー内の圧力は、約２００ｈＰａまで急激に調節される。次に弁蓋ＶＫ２は開かれており、基板が第１導入チャンバーＥＫ１から第２導入チャンバーＥＫ２内へと移動させられる。このプロセス中、弁Ｖ５は開かれており、弁Ｖ１およびＶ２は閉じられている。

同時に、または切り詰められた遅延を伴って、弁Ｖ６およびＶ１５、および最終的にＶ１３も開かれていて、弁５は閉じられており、これにより、第３ポンプセットＰ４に対するバイパスはもはや存在せず、第１ポンプセットＰ１、第２ポンプセットＰ２、Ｐ３、Ｐ５および第３ポンプセットＰ４からのポンプ段を有する多段ポンプレベルが提供される。

次に弁蓋ＶＫ２は閉じられており、第１導入チャンバーＥＫ１は弁Ｖ_Ｆｌｕｔによって通気されている。次に、弁蓋ＶＫ１を開くことができ、次の基板を第１導入チャンバーＥＫ１内に搬送することができる。次に任意に設けられた高真空ポンプＰ_Ｈ１からＰ_Ｈ３までを、弁ＶＨ１からＶＨ３までを開くことにより、第２導入チャンバーＥＫ２と接続することができる。この場合、弁Ｖ３、Ｖ４、Ｖ１０およびＶ１７を閉じる。第２導入チャンバーＥＫ２に高真空ポンプが予見されない場合には、これらの弁は、必要であれば、動作中、常に開いたままとすることができる。次に弁蓋ＶＫ３を開くことができ、基板を処理エリアに向けて、すなわち搬送チャンバーＴＫ内に搬送することができる。弁Ｖ１３およびＶ１５は閉じられており、弁Ｖ１４が開かれ、これにより、第１ポンプセットは、第１バッファユニットＥＢ１のバッファ容積を排気することができる。第５ポンプセットＰ６が予見される場合には、第１バッファユニットＥＢ１のバッファ容積を、第１ポンプセットＰ１および第５ポンプセットＰ６によって共同で排気することができる。その後、この導入プロセスが再び開始される。

図４のロックチャンバー構成を用いた場合、第２外部バッファユニットＥＢ２が設けられ、その場合、基板が第２導入チャンバーＥＫ２に達し、弁蓋ＶＫ２が閉じられた後、弁Ｖ１８が、第２導入チャンバーＥＫ２と、予め排気された第２バッファユニットＥＢ２のバッファ容積との間での圧力均等化のために開かれる。こうして第２導入チャンバーＥＫ２内の圧力を約３０ｈＰａから１０ｈＰａまで急激に下げることができる。

基板を第２導入チャンバーＥＫ２から搬送チャンバーＴＫ内に搬送する間、第２ポンプセットＰ２、Ｐ３およびＰ５を用いて第２バッファユニットＥＢ２のバッファ容積を排気するために、弁Ｖ３、Ｖ４、Ｖ１０およびＶ１７は閉じられている。

図４の実施形態による、バッファによる解決法に基づいてたった今提案された解決法によれば、速やかに基板を第２ロックチャンバー内へと搬送することができるように、非常に短い期間内、すなわち１秒よりも非常に短い期間内で、第１ロックチャンバー内を2段の圧力均等化を通して減圧することができる。第２バッファユニットを用いれば、この効果は、第２導入チャンバーＥＫ２に対しても活用することができる。

当業者は、簡単に、対応する適応化に着手することができるため、導入エリアにおいてたった今示したプロセスは、より綿密な説明の必要なしに、対応する類似の様式で、排出エリア、すなわちアンロードエリアに用いることもできる。

対応するポンプセットを有する、ガラスコーティングユニットの導入部の概略図である。 図１のものに類似の、導入部を有するロックチャンバーの他の実施形態の図である。 図１と類似の導入部の第３の実施形態の図である。 ロックチャンバーの他の実施形態の図である。

符号の説明

１，２，３，４，５，６，７…導管、８…バイパス、ＥＫ１…第１ロツクチャンバー、ＥＫ２…第２ロックチャンバー。

Claims (31)

1. 二段または多段の圧力均等化プロセスを行うための、少なくとも２つの、好ましくは２つまたは３つの順次に配置されたロックチャンバー（ＥＫ１、ＥＫ２）と、第１ロックチャンバーを排気するための第１ポンプセット（Ｐ１）と、第２ロックチャンバーを排気するための第２ポンプセット（Ｐ２、Ｐ３）とを有する、真空処理プラント用の、特には連続動作インライン・ガラスコーティングプラント用のロックチャンバー装置において、
   前記第１ポンプセット（Ｐ１）が、閉鎖可能な導管（１、２）によって、第１ロックチャンバー（ＥＫ１）および第２ロックチャンバー（ＥＫ２）と接続されており、これにより、前記第１ポンプセットが、前記第１もしくは第２ロックチャンバー、または両方のロックチャンバーを排気することができることを特徴とするロックチャンバー装置。
2. 第３ポンプセット（Ｐ４ａ、ｂ）が設けられ、対応して閉鎖可能な導管（６、７）を通して前記第１ポンプセット（Ｐ１）および前記第２ポンプセット（Ｐ２）に接続されており、これにより、前記第３ポンプセットは、前記第１ポンプセットもしくは前記第２ポンプセット、または両方のポンプセットに順次に結合することができることを特徴とする請求項１に記載のロックチャンバー装置。
3. 前記第１ポンプセット（Ｐ１）が、閉鎖可能な導管（３）によって前記第２ポンプセット（Ｐ２、Ｐ３）と接続されており、これにより、前記第１ポンプセットを、前記第２ポンプセットと順次に結合することができることを特徴とする請求項１に記載のロックチャンバー装置。
4. 第３ポンプセット（Ｐ４）が設けられ、適当な閉鎖可能な導管（６）によって前記第２ポンプセット（Ｐ２、Ｐ３）と接続されており、これにより、前記第３ポンプセットを前記第２ポンプセットと順次に結合することができることを特徴とする請求項３に記載のロックチャンバー装置。
5. 前記ポンプセットが、さまざまな並列におよび／または順次に結合されているポンプを含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のロックチャンバー装置。
6. 前記ポンプセットは、オイルシールされた真空ポンプかつ／またはドライ圧縮真空ポンプを、特にはロータリーベーンポンプ、ロータリーピストンポンプ、ロータリープランジャポンプ、真空ルーツブースター、ドライ運転ポンプ、特には軸流ポンプ、ルーツポンプ、特には流入前冷却ルーツポンプを含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のロックチャンバー装置。
7. １つのポンプセットに並列に結合されたポンプが、閉鎖可能なバイパス（８）を備え、多段ポンプスタンドを構成するために、前記バイパス（８）を通して、これらのポンプのうちの少なくとも１つをその他のポンプに対して順次に接続することができることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のロックチャンバー装置。
8. 前記ロックチャンバーにおいて、処理チャンバーに隣接して、１つまたはさまざまな高真空ポンプ（Ｐ_Ｈ１、Ｐ_Ｈ２、Ｐ_Ｈ３）が、閉鎖可能な導管を用いて設けられていることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のロックチャンバー装置。
9. １つのポンプセット、特には前記第２ポンプセットに並列して、差圧により制御されるバイパス蓋（Ｋ）が組み込まれており、該バイパス蓋（Ｋ）は、特には前記第２ロックチャンバー（ＥＫ２）において、排気側に高い圧力が加えられた場合に、ポンプセット（Ｐ２、Ｐ３、Ｐ５）の出口側から入口側に向けてバイパスとなり、これにより、並列に結合されたポンプセットに与えられている、好ましくは調節可能な、最大の限界差圧レベルが超えられておらず、前記ポンプセットのポンプ能力が、圧力に依存して、連続的に利用し続けられることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載のロックチャンバー装置。
10. １つまたは異なる並列に結合された単段または多段の真空ポンプ、特には雰囲気適性の真空ポンプを有する前記第１ポンプセット（Ｐ１）が、第１弁（Ｖ１）を備える第１導管（１）を通して前記第１ロックチャンバー（ＥＫ１）と接続されており、第２弁を備える第２導管を通して前記第２ロックチャンバー（ＥＫ２）と接続されており、かつ、第３弁（Ｖ５）を備える第３導管（３）を通して前記第２ポンプセット（Ｐ２、Ｐ３）と接続されており、前記第２ポンプセットは、１つまたはさまざまな並列に結合された単段または多段の真空ポンプを備えており、該真空ポンプは、第４弁（Ｖ３、Ｖ４）を備える第４または他の導管（４）によって前記第２ロックチャンバー（ＥＫ２）と接続されており、前記第２ポンプセットの前記並列に結合されたポンプが、第５弁（Ｖ７）を有する第５導管（５）を通して相互接続されていることを特徴とする請求項１または３〜９のいずれかに記載のロックチャンバー装置。
11. 前記第２ポンプセット（Ｐ２、Ｐ３）の出口側において、特に前記第２ポンプセットのポンプ（Ｐ２、Ｐ３）を結合する前記第５導管（５）において、前記第３ポンプセット（Ｐ４）が、１つまたはさまざまな並列に結合された単段または多段の真空ポンプと、好ましくは設けられている第６弁（Ｖ６）に接続された第６導管（６）を通して結合されていることを特徴とする請求項１０に記載のロックチャンバー装置。
12. 前記第１ポンプセットがロータリーベーンポンプを含み、前記第２ポンプセットがルーツポンプを含み、前記第３ポンプセットが二段ルーツポンプスタンドまたはロータリーベーンポンプを有する単段ポンプスタンドを含むことを特徴とする請求項１０または１１に記載のロックチャンバー装置。
13. 前記第４導管（１４）と前記第５導管（５）との間に、第７導管（８）が第７弁（Ｖ１１）とともに設けられており、これにより、第２ポンプセットの並列に結合されたポンプ（Ｐ５）を、その他のポンプに対して順次に結合することができることを特徴とする請求項１０〜１２のいずれかに記載のロックチャンバー装置。
14. 二段または多段の圧力均等化プロセスを行うための、少なくとも２つの、好ましくは２つまたは３つの順次に配置されたロックチャンバー（ＥＫ１、ＥＫ２）と、第１ロックチャンバー（ＥＫ１）を排気するための第１ポンプセット（Ｐ１）とを有する、真空処理プラント用の、特には連続動作インライン・ガラスコーティングプラント用のロックチャンバー装置であって、閉鎖可能な導管（１、８）を通して前記第１ロックチャンバー（ＥＫ１）と接続することができるバッファユニット（ＥＢ１）が設けられていることを特徴とする、特には請求項１〜１３のいずれかに記載の、ロックチャンバー装置。
15. 前記バッファユニット（ＥＢ１）が第５ポンプセット（Ｐ６）を備え、該第５ポンプセット（Ｐ６）はバッファ容積を排気することを特徴とする請求項１４に記載のロックチャンバー装置。
16. 前記第１ポンプセット（Ｐ１）が前記バッファユニット（ＥＢ１）と接続されていることを特徴とする請求項１４または１５に記載のロックチャンバー装置。
17. 前記バッファユニット（ＥＢ１）が、閉鎖可能な導管（２、８）を通して前記第２ロックチャンバー（ＥＫ２）と接続されていることを特徴とする請求項１４〜１６のいずれかに記載のロックチャンバー装置。
18. 第２バッファユニット（ＥＢ２）が設けられており、該第２バッファユニット（ＥＢ２）が、閉鎖可能な導管を通して前記第２ロックチャンバー（ＥＫ２）と接続されていることを特徴とする請求項１から１７のいずれかに記載のロックチャンバー装置。
19. 第６ポンプセット（Ｐ７）が前記第２バッファユニット（ＥＢ２）に割り当てられており、前記第２バッファユニット（ＥＢ２）のバッファ容積の吐出しを行うことを特徴とする請求項１８に記載のロックチャンバー装置。
20. １つまたはさまざまな並列に結合された単段または多段の真空ポンプ、特には雰囲気適性の真空ポンプを有する前記第１ポンプセット（Ｐ１）が、第１弁（Ｖ１）を備える第１導管（１）を通して前記第１ロックチャンバー（ＥＫ１）と接続されており、かつ、第２弁（Ｖ２）を備える第２導管（２）を通して前記第２ロックチャンバー（ＥＫ２）と接続されており、前記第２ポンプセット（Ｐ２、Ｐ３）は、１つまたはさまざまな並列に結合された単段または多段の真空ポンプを備えており、該真空ポンプは、第４弁（Ｖ３、Ｖ４）を備える第４または他の導管（４）によって前記第２ロックチャンバー（ＥＫ２）と接続されており、前記第２ポンプセット（Ｐ２、Ｐ３）の吐出側が、第６導管（６）を通して第６弁（Ｖ６）と接続されており、前記第１ポンプセット（Ｐ１）が、第８導管（７）を通して、第８弁（Ｖ８）を用いて、１つまたはさまざまな並列に結合された単段または多段の真空ポンプ（Ｐ４ａ、Ｐ４ｂ）を有する前記第３ポンプセット（Ｐ４）と接続されていることを特徴とする、請求項１、２、５〜９、または１４〜１９のいずれかに記載のロックチャンバー装置。
21. 前記第１ポンプセットおよび前記第２ポンプセットがルーツポンプを含み、前記第３ポンプセットがドライ運転ポンプ、特には軸流ポンプを含むことを特徴とする請求項２０に記載のロックチャンバー装置。
22. 前記第１および第２ロックチャンバーが、相互に隣接する位置に配置され、特には、二段もしくは三段ロックの第１および第２ロックチャンバーを、または三段ロック装置の第２および第３ロックチャンバーを構成していることを特徴とする請求項１〜２１のいずれかに記載のロックチャンバー装置。
23. 前記ロックチャンバーが導入エリアおよび／または排出エリアに設けられていることを特徴とする請求項１〜２２のいずれかに記載のロックチャンバー装置。
24. 前記閉鎖可能な導管が弁を含み、該弁によって、前記導管を気密位置において閉鎖することができる請求項１〜２３のいずれかに記載のロックチャンバー装置。
25. 二段または多段の圧力均等化プロセスを行うための、少なくとも２つの順次に配置されたロックチャンバーを有する、特には請求項１〜２４のいずれかに記載の多段ロックチャンバー装置を動作させるプロセスであって、第１ポンプセット（Ｐ１）が、第１ロックチャンバー（ＥＫ１）の吐出しを行うためのみならず、第２ロックチャンバー（ＥＫ２）を排気するためにも用いられており、１サイクル中に、最初は前記第１ロックチャンバーだけが、次に前記第１および第２ロックチャンバーが、そして最後に前記第２ロックチャンバーだけが排気されていることを特徴とするプロセス。
26. 第２ポンプセット（Ｐ２、Ｐ３）が、前記第２ロックチャンバー（ＥＫ２）を排気するために、加えておよび／または代わりに用いられ、前記第１ポンプセット（Ｐ１）が、前記第２ロックチャンバーのための前記第２ポンプセットの順次に結合されるポンプ段としても用いられていることを特徴とする請求項２５に記載のプロセス。
27. 第２ポンプセット（Ｐ２、Ｐ３）が、前記第２ロックチャンバーを排気するために、加えておよび／または代わりに用いられ、第３ポンプセット（Ｐ４ａ、Ｐ４ｂ）が前記第１および第２ポンプセットに順次に結合され、該第３ポンプセットが、前記第１または第２ポンプセットまたはその両方の前段ポンプ動作を交互に行うことを特徴とする請求項２５に記載のプロセス。
28. 二段または多段の圧力均等化プロセスを行うための、少なくとも２つの順次に配置されたロックチャンバーを有する、特には請求項１４〜２４のいずれかに記載の多段ロックチャンバー装置を動作させるプロセスであって、第１ロックチャンバー（ＥＫ１）が、排気されたバッファユニットを用いた圧力均等化による急激な減圧を受けていることを特徴とするプロセス
29. 第２ロックチャンバー（ＥＫ２）が内部バッファユニットとして機能し、これにより、排気された前記第２ロックチャンバー（ＥＫ２）と前記第１ロックチャンバー（ＥＫ１）との間の急激な減圧によって、前記第１ロックチャンバー（ＥＫ１）における圧力レベルが急激に下げられていることを特徴とする請求項２５〜２８のいずれかに記載のプロセス。
30. 多段の、特には二段の圧力均等化が、外部および／または内部バッファ装置を用いた一連の圧力均等化を通して行われ、特には、１つの圧力均等化が、請求項２８および２９の特徴部分によるステップの直接的シーケンスを通して行われることを特徴とする請求項２５〜２９のいずれかに記載のプロセス。
31. 排気された第２バッファユニット（ＥＢ２）と、前記第２ロックチャンバー（ＥＫ２）との間の圧力均等化によって、前記第２ロックチャンバー（ＥＫ２）内の圧力が急激に下げられていることを特徴とする請求項２５〜３０のいずれかに記載のプロセス。
    

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