JP2005251908A - 現像処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 回転基台2に基板Wを収容する凹部7を設け,凹部7の底面に液体供給口9と液体吸引口10を形成する。凹部7の底面上には,基板Wを凹部7の底面との間に隙間を設けて支持する支持ピン8が配置される。凹部7に基板Wが収容され,基板Wが支持ピン8上に支持されると,基板Wの裏面と凹部7の底面との間の隙間C2に,液体供給口9から純水が供給され,液体吸引口10から純水が吸引される。この液体吸引口10による吸引により,隙間C2内の純水が陰圧になり,基板Wに対する吸引力が生じる。ノズルヘッド41によって基板Wの表面に現像液の供給と吸引が行われ,基板Wに対して上方向の吸引力が生じた時にも,基板Wの裏面側の吸引力によって,基板Wの浮き上がりを防止できる。
【選択図】 図8
Description
2 回転基台
4 外周平坦部
7 凹部
8 支持ピン
9 液体供給口
10 液体吸引口
41 ノズルヘッド
C1,C2 隙間
W 基板
Claims (11)
- 基板を収容可能な凹部が形成された基台と,
前記基台の凹部に収容された基板の表面に沿って移動可能で,前記基板の表面に対して現像液の供給と吸引を同時に行うことができるノズルヘッドと,
前記凹部内の基板の裏面を支持して,前記基板の裏面と前記凹部の底面との間に隙間を形成するスペーサ部材と,
前記隙間に所定の液体を供給する液体供給口と,
前記隙間に供給された液体を前記凹部の底面側から吸引する液体吸引口と,を備えたことを特徴とする,現像処理装置。 - 前記基台は,前記凹部の周囲に,前記凹部に収容された基板の表面と同程度の高さの平坦面を備えていることを特徴とする,請求項1に記載の現像処理装置。
- 前記凹部に収容された基板の外側面と前記凹部の内周面との間に隙間ができるように前記凹部が形成されていることを特徴とする,請求項1又は2のいずれかに記載の現像処理装置。
- 前記液体吸引口は,前記凹部に収容された基板の裏面の中央部に対向する位置に設けられていることを特徴とする,請求項1,2又は3のいずれかに記載の現像処理装置。
- 前記液体供給口は,前記凹部の底面に複数開口し,平面から見て前記液体吸引口を中心とした同一円周上に等間隔で配置されていることを特徴とする,請求項4に記載の現像処理装置。
- 前記基台には,前記凹部内の液体を排出する排液孔が形成されていることを特徴とする,請求項1,2,3,4又は5のいずれかに記載の現像処理装置。
- 前記基台を回転させる回転駆動部をさらに備え,
前記排液孔は,前記基台の回転による遠心力によって前記凹部内の液体が排出されるように形成されていることを特徴とする,請求項6に記載の現像処理装置。 - 前記基台の凹部内には,収容した基板の外側面に当接し基板の位置決めを行う複数の位置決めピンが設けられていることを特徴とする,請求項1,2,3,4,5,6又は7のいずれかに記載の現像処理装置。
- 基板を支持して昇降する昇降ピンをさらに備え,
前記凹部の底部には,前記昇降ピンが通過する貫通孔が形成され,
前記貫通孔には,前記凹部内の液体の漏洩を防止するシール部材が設けられていることを特徴とする,請求項1,2,3,4,5,6,7又は8のいずれかに記載の現像処理装置。 - 前記シール部材は,前記貫通孔を覆う膜形状を有し,中心部に前記昇降ピンが通過する切り込みが形成されていることを特徴とする,請求項9に記載の現像処理装置。
- 前記シール部材は,前記貫通孔を覆う膜形状を有し,前記昇降ピンによる押圧により上下方向に伸縮自在に構成されていることを特徴とする,請求項9に記載の現像処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004058975A JP4034280B2 (ja) | 2004-03-03 | 2004-03-03 | 現像処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004058975A JP4034280B2 (ja) | 2004-03-03 | 2004-03-03 | 現像処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005251908A true JP2005251908A (ja) | 2005-09-15 |
JP4034280B2 JP4034280B2 (ja) | 2008-01-16 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004058975A Expired - Fee Related JP4034280B2 (ja) | 2004-03-03 | 2004-03-03 | 現像処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP4034280B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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A621 | Written request for application examination |
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