TWI384333B - Development processing device - Google Patents

Description

顯像處理裝置

該發明係關於對例如光柵等之光罩用玻璃基板供給顯像液而施予處理之顯像處理裝置。

一般，例如，在半導體裝置或光柵等之基板之製程中的光微影工程中，在基板上塗布光阻液而形成光阻膜之光阻塗布處理、在對基板上之光阻膜執行特定之圖案之曝光的曝光處理、對曝光處理後之基板上供給顯像液而顯像基板上之光阻膜的顯像處理等。

在以往之該種顯像處理裝置中，因噴嘴頭執行顯像液之吐出和吸引，故為了防止所謂吐泡現象，所知的有顯像處理裝置，該顯像處理裝置具備可與能夠旋轉之旋轉基台一起旋轉，並且用以在包圍被保持於基板保持構件之基板之外圍部的基板之表面的相同平面上，形成自基板表面上連續的液膜的外周板例如助跑台；可對旋轉基台，相對性升降移動，並且吸附基板而予以保持之基板保持台；和基板保持台吸附保持基板，並且經密封構件使基板保持台與外周板密接，並且基板保持台和旋轉基台密接而所形成之液貯留空間；和朝向被保持於旋轉基台及基板保持台之基板和液貯留空間供給洗淨液而執行液擴展的洗淨液供給噴嘴(例如，參照專利文獻1)。

然而，隨著近年來圖案之微細化，面對現實不久將來會使用EUV(超紫外線)基板。該EUV基板相對於以往之透過型基板在基板背面設置有導電膜(例如，CrN等)，藉由靜電吸盤吸附背面。因此，可預想由於基板背面之污染使得定位精度惡化或吸盤污染等。依此，EUV基板對於背面之污染比起透過型基板非常弱。

[先行技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]　日本特開2008-177436號公報(申請專利範圍、第1圖)

但是，在以往之該種顯像處理裝置中，因在將基板保持水平之狀態下，於顯像處理前朝向基板和液貯留空間供給洗淨液而執行液擴展，故不會除去基板之背面的空氣。因此，有在基板背面殘留氣泡，其氣體則有成為產生多數微粒的原因之虞。

該發明係鑑於上述情形而硏究出，其課題為提供除去附著於顯像前處理(液擴展)時之基板背面的氣泡，以謀求降低基板背面之微粒的顯像處理裝置。

為了達成上述目的，申請專利範圍第1項所記載之發明的特徵為具備：將基板保持水平狀態之可旋轉的旋轉基台；和使上述旋轉基台旋轉驅動的旋轉驅動機構；和可與上述旋轉基台同時旋轉，並且包圍被保持於旋轉基台之基板的外周部，用以在基板表面之相同平面上形成自基板表面上連續之液膜的外周板；和可對上述旋轉基台相對性升降移動，並且吸附保持基板之同時，密接於上述旋轉基台和外周板而形成液貯留空間的基板保持台；和朝向上述旋轉基台及被保持於基板保持台之基板和液貯留空間，供給洗淨液而執行液擴展的洗淨液供給噴嘴；和同時執行對被保持於上述基板保持台之基板供給和吸引顯像液的噴嘴頭；和用以在可在上述旋轉基台之上方移動之基板搬運臂之間執行基板之收授的可升降之多數支撐銷；用以使上述多數支撐銷升降移動的升降驅動機構；控制上述旋轉驅動機構和升降驅動機構的控制手段，在上述多數支撐銷中之至少一個支撐銷之上端部，形成支撐水平狀態之基板之下面的第1支撐面，和支撐傾斜狀態之基板之下端部的第2支撐面，藉由上述旋轉驅動機構，形成可調整被保持於上述旋轉基台之基板之水平面上之角度，根據來自上述控制手段之控制訊號，於在上述基板搬運臂之間收授基板之時，使基板之角度成為可在上述支撐銷之第1支撐面將基板支撐成水平狀態之位置，於對上述基板及液貯留空間內供給洗淨液或供給後，使成為可在上述第2支撐面支撐傾斜狀態之基板之下端部的位置，並且在上述第2支撐面支撐基板之下端部的傾斜狀態下使基板下降，除去附著於基板下面之氣泡。

藉由如此構成，於藉由升降驅動機構之驅動升降支撐銷而在基板搬運臂之間收授基板之時，可以在支撐銷之第1支撐面將基板支撐成水平狀態而執行基板之收授。再者，於對基板及液貯留空間內供給洗淨液之時或洗淨液供給後，藉由旋轉驅動機構之驅動，將基板在水平方向旋轉特定角度而在支撐銷之第2支撐面將基板支撐成傾斜狀態，並且藉由升降驅動機構之驅動使支撐銷下降而在第2支撐面支撐基板之下端部之傾斜狀態下使基板下降，依此可以除去附著於基板下面之氣泡。

在該發明中，在上述支撐銷之上端部設置小徑部，該小徑部之上端面形成第1支撐面，小徑部和大徑部之階段部形成第2支撐面，並且以合成樹脂製構件或合成橡膠製構件形成用以形成上述第1支撐面及第2支撐面之支撐銷之上端部而構成為佳(申請專利範圍第2項)。

藉由構成如此，可以減少支撐銷和基板之接觸面積，並且可以使基板之傾斜狀態安定，並且可以抑制因與基板之支撐銷的接觸導致基板損傷。

再者，在該發明中，即使又具備朝向藉由上述多數支撐銷而被支撐成傾斜狀之基板的下面供給洗淨液，並對液貯留空間內之洗淨液賦予流動的第2洗淨液供給噴嘴亦可(申請專利範圍第3項)。

藉由構成如此，當使支撐成傾斜狀態之基板之下面接觸於貯留於液貯留空間內之洗淨液之時，藉由自第2洗淨液供給噴嘴被供給之洗淨液使液貯留空間內之洗淨液賦予流動而可以除去附著於基板下面之氣泡。

再者，在該發明中，在上述基板保持台中之形成有液貯留空間之底部配設振動子，同時於該振動子連接超音波振盪器而構成(申請專利範圍第4項)。

藉由構成如此，當使支撐成傾斜狀態之基板之下面接觸於貯留於液貯留空間內之洗淨液之時，藉由對振動子施加來自超音波振盪器之適當頻率之高頻電壓而予以激振，產生超音波振動，其超音波振動傳播至貯留於液貯留空間內之液體而可以除去附著於基板下面之洗淨液。

若藉由該發明，因構成上述般，故可以取得下般之優良效果。

(1)若藉由申請專利範圍第1項所記載之發明時，於顯像處理前之洗淨處理時，藉由除去附著於基板下面即是基板背面之氣泡，因在基板背面不存在界面，故可以謀求減少基板背面之微粒。

(2)若藉由申請專利範圍第2項時，除上述(1)之外，可以更減少支撐銷和基板之接觸面積，並且可以使基板之傾斜狀態安定，並且可以抑制因與基板之支撐銷的接觸導致基板損傷。

(3)若藉由申請專利範圍第3項所記載之發明時，因當使支撐成傾斜狀態之基板之下面接觸於貯留於液貯留空間內之洗淨液之時，藉由自第2洗淨液供給噴嘴被供給之洗淨液使液貯留空間內之洗淨液賦予流動而可以除去附著於基板下面之氣泡，故除上述(1)、(2)之外，又可以謀求減少基板背面之微粒。

(4)若藉由申請專利範圍第4項所記載之發明時，因可以使超音波傳播於貯留於液貯留空間內之洗淨液而除去附著於基板下面之洗淨液，故除上述(1)、(2)之外，又可以謀求減少基板背面之微粒。

以下，針對該發明之實施型態，根據附件圖面，予以詳細說明。在該實施型態中，針對將該發明所涉及之顯像處理裝置適用於光罩用之基板，例如對例如光柵用之玻璃基板施予顯像處理之顯像處理裝置之時予以說明。

該發明所涉及之顯像處理裝置係如第1圖及第2圖所示般，具有殼體1，在該殼體1內，具有保持成能夠旋轉玻璃基板G(以下，稱為基板G)之旋轉基台2，和可與該旋轉基台2同時旋轉，並且包圍被保持於旋轉基台2之基板G之外周部，用以在與基板G表面相同之平面上，形成自基板G之表面上連續之液膜的外周板3(以下稱為助跑台3)，和能夠對旋轉基台2相對性升降移動，並且吸附基板G而保持之基板保持台4，和沿著被保持於該基板保持台4之基板G之表面而能夠移動，同時進行對基板G供給和吸引顯像液之噴嘴頭5，和能夠對旋轉基台2相對性升降移動，並且能夠在旋轉基台2之上方移動之基板搬運臂80之間執行基板G之收授的多數例如3個支撐銷28a、28b、28c。

再者，上述旋轉基台2、助跑台3及基板保持台4係形成能夠收容在杯部6內，在杯部6之外方側，配設有朝向旋轉基台2及被保持於基板保持台4之基板G和後述之液貯留空間7供給洗淨液(沖洗液)例如純水之洗淨液供給噴嘴8(以下稱為沖洗噴嘴8)。

此時，上述旋轉基台2係如第4圖所示般，在與旋轉軸10連結之圓盤形基部11之外周4處，延伸有水平支撐片12，並在水平支撐片12之前端連結環狀水平片13，在被豎立設置在環狀水平片13之4處的各第1支撐柱片14之頂部，各豎立設置有用以保持基板G之角部的一對定位銷15。再者，在與環狀水平片13中之第1支撐柱片14大約偏斜45度之4處豎立設置第2支撐柱片16，藉由各第2支撐柱片16將助跑台3支撐成水平狀態。該旋轉基台2經旋轉軸10與馬達等之旋轉驅動機構17連結，可以將旋轉軸10視為中心軸以特定之旋轉速度進行旋轉。

再者，上述助跑台3係如第2圖所示般，俯視觀看係具有圓形之薄板形狀，在中央部形成有收容基板G之四角開口部3a。藉由如此地將助跑台3之外形形成圓形狀，於使助跑台3旋轉之時，防止在助跑台3之外周部附近，形成亂流。此時，助跑台3係被固定在與基板G之表面相同平面上，或是些許低之位置例如低200～400μm之位置。依此，可以在從基板G之表面橫跨助跑台3之表面之同一平面上形成連續之液膜。助跑台3之開口部3a形成比基板G些許大，在被基板保持台4保持之基板G和助跑台3之間，形成有基板G之收授用的間隙9。

再者，上述基板保持台4係如第5圖及第6圖所示般，具備具有可旋轉地插入旋轉基台2之旋轉軸10之貫通孔21的有底圓筒狀之本體20，和豎立於該本體20之底部22上，在其頂面23a具有吸引基板G之吸引口23b的吸附保持部23，在本體20之圓筒狀之側壁24之頂面24a，設置有嵌合後述之第1環狀密封構件25a之第1周溝24b，在本體20之底部22中之貫通孔21之緣部，設置有嵌合後述之第2環狀密封構件25b之第2周溝24c。並且，基板保持台4係被形成藉由例如汽缸或馬達機構等之升降驅動機構4A而可對旋轉基台2作相對性升降移動。升降驅動機構4A係電性連接屬於控制手段之控制器90，根據來自控制器90之訊號，使基板保持台4對旋轉基台2作相對性移動。

被嵌合於上述基板保持台4之第1周溝24b內之第1環狀密封構件25a，係被形成可在整個助跑台3之背面之全周密接，嵌合於第2周溝24c內之第2環狀密封構件25b係被形成可在整個旋轉基台2之背面之密接。

此時，上述第1環狀密封構件25a及第2環狀密封構件25b係使用例如可撓性之PCTFE(聚三氟氯乙烯:Polychlorotrifluoroethylene)、PTFE(聚四氟乙烯:Polytetrafluoroethylene)等之樹脂，或例如含有矽之耐藥性優良之橡膠材等，具備擁有各朝向成為密接對象之助跑台3之背面側及旋轉基台2之背面側傾斜狀延伸之可撓性的密封片(無圖示)。如此一來，藉由在第1及第2環狀密封構件25a、25b設置具有朝向助跑台3之背面側及旋轉基台2之背面側傾斜狀延伸之可撓性的密封片，可以使助跑台3之背面及旋轉基台2之背面之接觸面積變寬，並且可以容易進行調整。

再者，上述吸附保持部23係如第7圖所示般，為了迴避與旋轉基台2之4條水平支撐片12的干擾，被形成在周方向分成4等分，在各吸附保持部23之頂面23a，正交狀設置有具有沿著基板G之角部的縫隙狀之吸引孔23b的兩個吸引口形成部23c。

再者，在基板保持台4之底部22之一處，設置有排液口26，底部22之底面22a朝向排液口26側而被形成下坡梯度狀。依此，可以使附著於底部22之底面22a之液的脫液變成良好。

並且，在基板保持台4之底部22之適當位置，設置有流通自屬於第2洗淨液供給噴嘴之背沖洗噴嘴70噴射之沖洗液例如純水的通路22b(參照第6圖及第7圖)。

藉由如上述般所形成之基板保持台4，吸附保持基板G，並且經第1環狀密封構件25a而密接基板保持台4和助跑台3，並且經第2環狀密封構件25b而密接基板保持台4和旋轉基台2，依此形成液貯留空間7。再者，在解除依據基板保持台4之吸附保持及解除依據第1及第2環狀密封構件25a、25b的密接的狀態下，形成旋轉基台2及助跑台3同時可與基板G旋轉。因此，因不使基板保持台4旋轉，使旋轉基台2及助跑台3旋轉，固可以縮小旋轉驅動機構17之動力。

並且，在對應於迴避與基板保持台4中之旋轉基台2干擾的基板G之外周部的3處，設置有貫通於垂直方向之貫通孔27。在各貫通孔27內，可升降地插入支撐基板G升降之支撐銷28a、28b、28c。支撐銷28a、28b、28c係藉由例如汽缸等之升降驅動機構28A而升降自如，突出於旋轉基台2上，可以在與基板搬運臂80之間執行對旋轉基台2收授基板G。

此時，3個支撐銷28a、28b、28c中之至少一個(在圖面中表示一個之時)之支撐銷28a，係如第7圖(b)所示般，在支撐銷28a之上端部設置小徑部29a，該小徑部29a之上端面形成第1支撐面，小徑部29a和大徑部29b之階段部29c，形成第2支撐面，並且形成第1支撐面及第2支撐面之支撐銷28a之上端部係利用合成樹脂製構件例如導電性PEEK或合成橡膠構件例如氟橡膠所形成。

在如上述般所形成支撐銷28a之小徑部29a之上端面(第1支撐面)和其他支撐銷28b、29c之上端面支撐基板G之下面(背面)，依此基板G被支撐成水平狀態。再者，在支撐銷28a之小徑部29a和大徑部29b之階段部29c(第2支撐面)支撐基板G之端部，在其他支撐銷28b、29c之上端面支撐基板G之下面(背面)，依此基板G被支撐成傾斜狀態。

並且，升降驅動機構28A係電性連接屬於控制手段之控制器90，形成根據來自控制器90之訊號而能夠升降移動。再者，旋轉驅動機構17也電性連接於屬於控制手段之控制器90，形成可根據來自控制器90之訊號以特定旋轉數進行驅動，並且形成以特定角度旋轉而能夠調整被保持於旋轉基台2之基板G之水平面上之角度。執行基板G之角度調整之時序，係如後述般，藉由基板搬運臂80，基板G被搬入至旋轉基台2之上方，支撐銷28a、28b、28c上升，在支撐銷28a之小徑部29a之上端面(第1支撐面)和其他支撐銷28b、29c之上端面支撐基板G之下面(背面)而接收到基板後，支撐銷28a、28b、28c下降而在旋轉基台保持基板G之狀態下，將旋轉驅動機構17及旋轉基台2旋轉特定角度。藉由該角度調整基板G之一端部(角部之一邊)在支撐銷28a之小徑部29a和大徑部29b之段部29c(第2支撐面)移動至可支撐之位置，藉由之後的支撐銷28a、28b、28c之上升在支撐銷28a之小徑部29a和大徑部29b之階段部29c(第2支撐面)支撐基板G之端部(角部之一邊)，在另外之支撐銷28b、29c之上端面，支撐基板G之下面(背面)，依此基板G被支撐成傾斜狀態。

再者，旋轉基台2和基板保持台4係接受自基板G飛散或落下之液體，被收容在回收用之杯部6內。杯部6係以覆蓋旋轉基台2及基板保持台4之側方和下方之方式，形成例如下面被閉鎖上面開口之四角形的略筒狀。在杯部6之下面，連接有與例如工場之排液部連通之排出管6a，將在杯部6回收到之液體排出至顯像處理裝置之外部。

再者，如第2圖所示般，在杯部6之Y方向負方向(第2圖之左方向)側，設置有第1待機部61。在第1待機部61，執行顯像液及洗淨液(沖洗液)之供給和吸引之噴嘴頭5可待機。噴嘴頭5具有例如至少與基板G之邊的尺寸相同或較長，沿著X方向之略長方體形狀。噴嘴頭5係被門型之噴頭臂5b支撐，藉由安裝有噴頭臂5b之例如滾珠螺桿和由其旋轉馬達等所構成之水平移動機構5c，形成可自第1待機部61至少水平移動(掃描)至杯部6之Y方向正方向(第2圖之右方向)側之端部附近。再者，噴嘴頭5係被形成藉由被安裝於例如噴頭臂5b之滾珠螺桿和由其旋轉馬達等所構成之升降驅動機構(無圖示)，也可在上下方向移動。

如第3圖所示般，噴嘴頭5之下面5a，係以與基板G表面平行之方式，形成水平。在噴嘴頭5之下面5a中之噴嘴頭5之行進方向之Y方向之中央部，形成有顯像液吐出口30。顯像液吐出口30係沿著例如噴嘴頭5之長邊方向(X方向)形成較例如基板G之邊長的縫隙狀，可以將顯像液以帶狀吐出。顯像吐出口30係與形成在噴嘴頭5之內部之第1貯留部31連通，第1貯留部31係經顯像液供給管33而與設置在顯像處理裝置之外部的顯像液供給源32連接。顯像液供給源32係可以通過顯像液供給管33而將特定流量之顯像液供給至噴嘴頭5。噴嘴頭5係將被供給之顯像液暫時貯留於第1貯留部31而予以壓力調整，之後成為可以自顯像液吐出口30均勻吐出。

在夾著噴嘴頭5之下面5a之顯像液吐出口30的兩側，開口設置有吸引基板G上之顯像液的顯像液吸引口40。顯像液吸引口40係被形成例如與顯像液吐出口30平行之縫隙狀。顯像吐出口40係與形成在噴嘴頭5之內部之第2貯留部41連通，第2貯留部41係經吸引管43而與設置在顯像處理裝置1之外部的吸引裝置42連接。吸引裝置42可以通過吸引管43而以特定壓力吸引。因此，可以以特定壓力自顯像液吐出口30之兩側之顯像液吸引口40吸引自顯像液吐出口30被供給至基板G上之顯像液。其結果，在基板G之表面上，可以形成從顯像液吐出口30朝向顯像液吸引口40的顯像液流動。

在噴嘴頭5之下面5a之各顯像液吐出口40的更外側，各形成有吐出純水等之沖洗液之沖洗液吐出口50。沖洗液吐出口50係形成例如與上述顯像液吐出口30平行之縫隙狀，可以將沖洗液吐出成沿著X方向之帶狀。沖洗液吐出口50係與被形成在噴嘴頭5之內部的第3貯留部51連通，經沖洗液供給管53而與設置在顯像處理裝置1之外部的沖洗液供給源52連接。沖洗液供給源52係可以通過沖洗液供給管53而將特定流量之顯像液供給至噴嘴頭5。噴嘴頭5係將被供給之沖洗液暫時貯留於第3貯留部51而予以壓力調整，之後成為可以自沖洗液吐出口50均勻吐出。

再者，如第2圖所示般，在杯部6之Y方向正方向側，設置有第2待機部62。成為在第2待機部62，洗淨液供給噴嘴之沖洗噴嘴8可待機。沖洗噴嘴8係被支撐於安裝在例如旋轉驅動軸8a之噴嘴臂8b之前端部，可以藉由旋轉驅動軸8a之旋轉，從第2待機部62移動至杯部6內之基板G之中央部上方。沖洗噴嘴8係藉由沖洗液供給管64，連接於設置在例如顯像處理裝置1之外部之沖洗液供給源63，可以將自沖洗液供給源63所供給之沖洗液(純水)朝下方吐出。

並且，控制器90除上述旋轉驅動機構17、升降驅動機構4A、28A之外，電性連接於噴嘴頭5之驅動部、沖洗噴嘴8之驅動部等，形成可根據事先記憶之程式而控制旋轉驅動機構17、升降驅動機構4A、28A、噴嘴頭5之驅動部、沖洗噴嘴8之驅動部等。

接著，針對如上述般構成之顯像處理裝置之顯像處理，參照第8圖至第20圖所示之說明圖以及第21圖所示之流程圖而予以說明。

首先，當藉由顯像處理裝置之外部之基板搬運臂80而搬運之基板G被搬運至顯像處理裝置時，基板G被轉交至事先上升之支撐銷28a、28b、28c(S-1；參照第8圖(a)、(b))、藉由支撐銷28a、28b、28c之下降而載置於旋轉基台2上，同時藉由定位銷15進行定位(S-02；參照第9圖(a)、(b))。

接著，驅動旋轉驅動機構17而保持基板G之旋轉基台2旋轉特定角度，調整基板G之水平面上之角度(S-3；參照第10圖(a)、(b))。藉由該角度調整在基板G之一端部(角部之一邊)在支撐銷28a之小徑部29a和大徑部29b之階段部29c(第2支撐面)移動至可支撐之位置。

接著，升降驅動機構4A驅動，基板保持台4上升，在吸附保持部23抵接於基板G之背面的狀態下，藉由吸附保持部23之吸引吸附保持基板G，並且經第1環狀密封構件25a而密接基板保持台4和助跑台3，並且經第2環狀密封構件25b而密接基板保持台4和旋轉基台2，依此形成液貯留空間7(S-4；參照第11圖(a)、(b))。在該狀態下，沖洗噴嘴8移動至基板G之中心部上方，朝向下方吐出純水，在液貯留空間7內貯留沖洗液(純水)，同時在基板G表面和助跑台3表面形成液膜L而液擴展(S-5；參照第12圖(a)、(b)、第13圖(a)、(b))。如此一來，進行提升基板G表面之浸濕性的預濕處理。於液擴展後，沖洗噴嘴8返回至第2待機部62。

接著，驅動升降驅動機構28A，支撐銷28a、28b、28c上升，在支撐銷28a之小徑部29a和大徑部29b之階段部29c(第2支撐面)支撐基板G之端部(角部之一邊)，在其他支撐銷28b、29c之上端面支撐基板G之下面(背面)，依此基板G被支撐成傾斜狀態(S-6；參照第14圖(a)、(b)、(c))。在該狀態下，驅動升降驅動機構28A，支撐銷28a、28b、28c上升，將基板G移動至上方之後，支撐銷28a、28b、28c下降，將存在於基板G之下面(背面)側之氣泡從基板G之下面(背面)排出至外部(除去)(S-7；參照第15圖(a)、(b))。如此一來，於除去附著於下面(背面)之氣泡之後，基板G被吸附保持於基板保持台4之吸附保持部23。

接著，在第1待機部61待機之噴嘴頭5從基板G移動至Y方向負方向側之助跑台3上，在噴嘴頭5之沖洗液吐出口50、顯像液吐出口30及顯像液吸引口40的下面5a則配置在助跑台3上。然後，噴嘴頭5下降，接近於屬於啟動位置之助跑台3之表面。接著，從沖洗液吐出口50吐出沖洗液，從顯像液吐出口30吐出顯像液，自顯像液吸引口40一面吸引其沖洗液和顯像液，一面移動至Y方向正方向側(S-8：參照第16圖)。此時，在噴嘴頭5之下面5a和助跑台3之表面之間常充滿沖洗液和和顯像液，防止對噴嘴頭5之下面5a吐泡的現象。噴嘴頭5前進至Y方向正方向側，在基板G之表面上移動時，自顯像液吐出口30吐出在基板G上之顯像液從位於噴嘴頭5之行進方向之前方側和後方側之顯像液吸引口40被吸引，在基板G之表面之一部分區域形成帶狀之顯像液流動。藉由該顯像液之流動，基板G之表面被顯像。藉由顯像產生之溶解生成物立即自顯像液吸引口40被排出。

噴嘴頭5一面連續執行例如顯像液之供給和吸引，一面移動(掃描)至助跑台3之Y方向正方向側之端部附近。藉由如此情形，產生顯像液之流動之區域逐漸移動，基板G之表全體被顯像。當噴嘴頭5移動至助跑台3之Y方向正方向側之端部附近時，則停止顯像液及沖洗液之供給和其吸引，噴嘴頭5則返回至第1待機部61。

如上述般顯像處理結束後，貯留在液貯留空間7內之液(顯像液和沖洗液之混合液)從排液口26被排出外部(S-9；參照第17圖)。接著，解除藉由基板保持台4之吸附保持，基板保持台4下降，解除基板保持台4和助跑台3及旋轉基基台2之密接(S-10；參照第18圖)。

接著，在第2待機部62待機之沖洗噴嘴8移動至基板G之中心部上方：藉由旋轉基台2基板G與助跑台3同時旋轉。自沖洗噴嘴8吐出沖洗液至旋轉之基板G上而洗淨基板G(S-11；參照第19圖)。此時，即使也自例如背沖洗噴嘴70吐出洗淨液，將洗淨液供給至基板G之背面亦可。於該洗淨處理時，因旋轉基台2及助跑台3和基板保持台4成為非接觸，故可以執行藉由基板G背面之吸附保持部23被吸附之部分的洗淨。

如上述般，於特定時間洗淨基板G之後，基板G高速旋轉，使基板G乾燥(S-12；參照第20圖)。

於基板G之乾燥處理結束後，旋轉驅動機構17驅動使旋轉基台2及基板G成為以特定角度旋轉至與角度調整時之旋轉相反方向而可搬出基板G之狀態(S-13)。接著，升降驅動機構28A驅動，支撐銷28a、28b、28c再次上升而提起基板G，藉由顯像處理裝置之外部之基板搬運臂80而被搬出至基板處理裝置之外部(S-14)。

若藉由以上之實施型態時，於顯像處理前，當在液貯留空間7內貯留液之同時，因在基板G表面及助跑台3之表面連續形成液膜，故可以防止於藉由噴嘴頭5供給和吸引顯像液時對顯像液內吐泡。再者，於顯像處理前，使基板G成為傾斜狀態使基板G之下面(背面)接觸於貯留在液貯留空間7內之沖洗液(純水)，依此可以除去附著於基板G之下面(背面)之氣泡。

再者，因在液貯留空間7內貯留(充滿)液之狀態下，執行顯像處理，故可以防止基板G上之液體包覆至基板G之背面側。

而且，於洗淨處理時，因使基板保持台4自基板G及助跑台3離開之狀態，故可以執行藉由基板G背面之吸附保持部23被吸附之部分的洗淨。其結果，可以消除基板G背面之沖洗殘留物或基板污染。再者，可以使吸引管線或密封部之構造簡單化，並且謀求降低驅動動力。

並且，在上述實施型態中，針對於洗淨液之液擴展後使基板G傾斜而除去附著於基板G之下面(背面)之氣泡之時，予以說明，但是如第22圖(a)、(b)所示般，即使在支撐銷28a之小徑部29a和大徑部29b之階段部29c(第2支撐面)支撐基板G之端面(角部之一邊)，在其他之支撐銷28b、29c之上端面支撐基板G之下面(背面)之基板G之傾斜狀態執行洗淨液之液擴展之同時，使基板G下降而除去附著於基板G之下面(背面)之氣泡亦可。

再者，如第23圖所示般，即使在支撐銷28a之小徑部29a和大徑部29b之階段部29c(第2支撐面)支撐基板G之端部(角部之一邊)，在其他支撐銷28b、29c之上端面支撐基板G之下面(背面)而使基板G傾斜之狀態下，自被配設在旋轉基台2之底部的第2洗淨液供給噴嘴之背沖洗噴嘴70朝向傾斜狀之基板之下面吐出(供給)，使液貯留空間7內之洗淨液賦予流動，依此除去附著於基板G之下面(背面)之氣泡亦可。

再者，如第24圖所示般，即使設為在形成基板保持台4之液貯留空間7之底部22配設振動子101，並且在該振動子101連接超音波振盪器100之構造亦可。藉由構成如此，在去泡時即是使基板G成為傾斜狀態而將基板G之下面(背面)接觸於貯留於液貯留空間7內之洗淨液之狀態下，藉由驅動超音波振盪器102而自超音波振盪器100對振動子101施加適當頻率之高頻電壓而予以激振，產生超音波振動，其超音波振動傳播貯留於液貯留空間7內之液體而可以除去附著於基板G背面之氣泡(參照第25圖)。

並且，在上述實施型態中，雖然針對在一個支撐銷28a設置小徑部29a、大徑部29b及階段部29c，而形成第1支撐面和第2支撐面之時予以說明，但是即使與例如兩個支撐銷28a、28b相同設置小徑部29a、大徑部29b及段部29c，形成第1支撐面和第2支撐面亦可。此時，可以藉由在剩下之一條支撐銷28c之上端面支撐基板G之下面(背面)，在兩條具有階段之支撐銷28a、28b之第2支撐面(階段部29c)支撐基板G之端部，使基板G支撐成傾斜狀態。

並且，上述實施型態表示該發明之一例，該發明並不限定於該例，可採用各種態樣。例如，該發明並不限定於光柵、LCD、FPD(平面顯示器)等之方形之基板，亦可以適用於晶圓等之圓形基板等之其他基板。

G．．．玻璃基板(基板)

2．．．旋轉基台

3．．．助跑台(外周板)

4．．．基板保持台

5．．．噴嘴頭

7．．．液貯留空間

17．．．旋轉驅動機構

28a、28b、28c．．．支撐銷

28A．．．升降驅動機構

29a．．．小徑部

29b．．．大徑部

29c．．．階段部

70．．．背沖洗噴嘴(第2洗淨液供給噴嘴)

80．．．基板搬運臂

90．．．控制器(控制手段)

100．．．超音波振盪器

101．．．振動子

102．．．超音波驅動電源

第1圖為表示該發明所涉及之顯像處理裝置之第1實施型態之概略縱剖面圖。

第2圖為上述顯像處理裝置之概略俯視圖。

第3圖為表示該發明中之噴嘴頭的剖面圖。

第4圖為表示該發明中之旋轉基台之俯視圖(a)及(a)之I部的放大斜視圖(b)。

第5圖為表示該發明中之基板保持台的剖面圖。

第6圖為沿著第5圖中之線II-II線之剖面圖。

第7圖為表示上述顯像處理裝置之重要部位的概略斜視圖(a)及(a)之III部的放大斜視圖(b)。

第8圖為表示該發明中之基板之搬入狀態的概略俯視圖(a)及(a)之A向視概略剖面圖(b)。

第9圖為表示該發明中之支撐銷之下降狀態的概略俯視圖(a)及(a)之B向視概略剖面圖(b)。

第10圖為表示該發明中之基板之角度調整之狀態的概略俯視圖(a)及概略剖面圖(b)。

第11圖為表示該發明中之基板保持台之上升狀態的概略俯視圖(a)及概略剖面圖(b)。

第12圖為表示藉由該發明中之洗淨液供給噴嘴的液擴展之開始狀態的概略俯視圖(a)及概略剖面圖(b)。

第13圖為表示上述液擴展之結束狀態的概略俯視圖(a)及概略剖面圖(b)。

第14圖為表示藉由該發明中之支撐銷使基板傾斜而上升之狀態的概略俯視圖(a)，為概略剖面圖(b)及(b)之IV部放大圖(c)。

第15圖為表示藉由上述支撐銷使基板傾斜而下降，除去基板下面之氣泡之狀態的概略俯視圖(a)及概略剖面圖(b)。

第16圖為表示該發明中之顯像處理狀態的概略剖面圖。

第17圖為表示該發明中之液體抽出的概略剖面圖。

第18圖為表示該發明中之基板保持台之下降及杯部之上升狀態的概略剖面圖。

第19圖為表示該發明中之洗淨處理狀態的概略剖面圖。

第20圖為表示該發明中之乾燥處理狀態的概略剖面圖。

第21圖為表示該發明中之處理工程的流程圖。

第22圖為表示該發明中之液擴展的另外狀態之概略剖面圖。

第23圖為表示除去該發明中之基板下面之氣泡的另外狀態之概略剖面圖。

第24圖為表示該發明所涉及之顯像處理裝置之第2實施型態之重要部位的概略剖面圖。

第25圖為表示除去第2實施型態中之基板下面之氣泡之狀態的概略剖面圖。

G．．．玻璃基板(基板)

1．．．殼體

2．．．旋轉基台

3．．．助跑台(外周板)

4．．．基板保持台

4A．．．升降驅動機構

5．．．噴嘴頭

6．．．杯部

6a．．．排出管

7．．．液貯留空間

8．．．沖洗噴嘴

9．．．間隙

10．．．旋轉軸

17．．．旋轉驅動機構

20．．．本體

21．．．貫通孔

22．．．底部

23．．．吸附保持部

24．．．第2周溝

25a．．．第1環狀密封構件

25b．．．第2環狀密封構件

28a、28b、28c．．．支撐銷

29．．．升降驅動機構

61．．．第1待機部

62．．．第2待機部

90．．．控制器(控制手段)

Claims (4)

1. 一種顯像處理裝置，其特徵為：具備可旋轉的旋轉基台，用以將基板保持水平狀態；和旋轉驅動機構，用以使上述旋轉基台旋轉驅動；和外周板，可與上述旋轉基台同時旋轉，並且包圍被保持於旋轉基台之基板的外周部，用以在基板表面之相同平面上形成自基板表面上連續之液膜；和基板保持台，可對上述旋轉基台相對性升降移動，並且吸附保持基板之同時，密接於上述旋轉基台和外周板而形成液貯留空間；和洗淨液供給噴嘴，朝向上述旋轉基台及被保持於基板保持台之基板和液貯留空間，供給洗淨液而執行液擴展的洗淨液供給噴嘴；和噴嘴頭，同時執行對被保持於上述基板保持台之基板供給和吸引顯像液；可升降之多數支撐銷，用以在可在上述旋轉基台之上方移動之基板搬運臂之間執行基板之收授；升降驅動機構，用以使上述多數支撐銷升降移動；和控制手段，用以控制上述旋轉驅動機構和升降驅動機構，在上述多數支撐銷中之至少一個支撐銷之上端部，形成支撐水平狀態之基板之下面的第1支撐面，和支撐傾斜狀態之基板之下端部的第2支撐面，藉由上述旋轉驅動機構，形成可調整被保持於上述旋轉基台之基板之水平面上之角度，根據來自上述控制手段之控制訊號，於在上述基板搬運臂之間收授基板之時，使基板之角度成為可在上述支撐銷之第1支撐面將基板支撐成水平狀態之位置，於對上述基板及液貯留空間內供給洗淨液或供給後，使成為可在上述第2支撐面支撐傾斜狀態之基板之下端部的位置，並且在上述第2支撐面支撐基板之下端部的傾斜狀態下使基板下降，除去附著於基板下面之氣泡。
2. 如申請專利範圍第1項所記載之顯像處理裝置，其中在上述支撐銷之上端部設置小徑部，該小徑部之上端面形成第1支撐面，小徑部和大徑部之階段部形成第2支撐面，並且以合成樹脂製構件或合成橡膠製構件形成用以形成上述第1支撐面及第2支撐面之支撐銷之上端部而構成。
3. 如申請專利範圍第1或2項所記載之顯像處理裝置，其中又具備第2洗淨液供給噴嘴，用以朝向藉由上述多數支撐銷而被支撐成傾斜狀之基板之下面供給洗淨液，並對液貯留空間內之洗淨液賦予流動。
4. 如申請專利範圍第1或2項所記載之顯像處理裝置，其中在上述基板保持台中之形成有液貯留空間之底部配設振動子，同時於該振動子連接超音波振盪器而構成。