JP2010278094A - 現像処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】現像前処理時の基板裏面の気泡を除去し、基板裏面のパーティクルの低減を図れるようにすること。
【解決手段】基板Ｇを保持する回転基台２と、基板保持台４に保持された基板と液貯留空間７に洗浄液を供給して液張りを行うリンスノズル８と、基板に現像液を供給するノズルヘッド５と、基板搬送アームとの間で基板の受け渡しを行う昇降可能な複数の支持ピン２８ａ，２８ｂ，２８ｃとを具備し、支持ピンのうちの一つの支持ピンに、水平状態の基板の下面を支持する第１の支持面と、傾斜状態の基板の下端部を支持する第２の支持面を形成し、回転基台に保持された基板の水平面上の角度を調整可能に形成し、基板を受け渡しする際は、支持ピンの第１の支持面で基板を水平状態に支持可能な位置にし、基板及び液貯留空間内に洗浄液を供給又は供給後は、第２の支持面で基板の下端部を支持した傾斜状態で基板を下降して、基板下面に付着する気泡を除去する。
【選択図】 図１

Description

この発明は、例えばレチクル等のフォトマスク用ガラス基板に現像液を供給して処理を施す現像処理装置に関するものである。

一般に、例えば、半導体デバイスやレチクル等の基板の製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程では、基板上にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成するレジスト塗布処理，基板上のレジスト膜に対し所定のパターンの露光を行う露光処理，露光処理後の基板上に現像液を供給して基板上のレジスト膜を現像する現像処理等が行われている。

従来のこの種の現像処理装置においては、ノズルヘッドが現像液の吐出と吸引を行うため、いわゆる泡噛み現象を防止するために、回転可能な回転基台と共に回転可能で、かつ基板保持部材に保持された基板の外周部を囲む基板の表面の同一平面上に基板の表面上から連続する液膜を形成するための外周板例えば助走ステージと、回転基台に対して相対的に昇降移動可能で、かつ基板を吸着して保持する基板保持台と、基板保持台が基板を吸着保持すると共に、シール部材を介して基板保持台と外周板が密着し、かつ基板保持台と回転基台が密着して形成される液貯留空間と、回転基台及び基板保持台に保持された基板と液貯留空間に向かって洗浄液を供給して液張りを行う洗浄液供給ノズルと、を具備する現像処理装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。

ところで、近年のパターンの微細化に伴い、近い将来にＥＵＶ（超紫外線）基板を使用することが現実視されている。このＥＵＶ基板は、従来の透過型基板に対して基板裏面に導電膜（例えば、ＣｒＮ等）を設け、裏面を静電チャック等により吸着される。そのため、基板裏面の汚れにより位置決め精度の悪化やチャックの汚染などが予想される。これらのことより、ＥＵＶ基板は裏面の汚れに対して透過型基板に比べて非常にデリケートである。

特開２００８−１７７４３６号公報（特許請求の範囲、図１）

しかしながら、従来のこの種の現像処理装置においては、基板を水平に保持した状態で、現像処理前に基板と液貯留空間に向かって洗浄液を供給して液張りを行うため、基板の裏面の空気が抜けない。そのため、基板裏面に気泡が残り、その気泡が原因で多数のパーティクルが発生する懸念があった。

この発明は、上記事情に鑑みなされたもので、現像前処理（液張り）時の基板裏面に付着する気泡を除去し、基板裏面のパーティクルの低減を図れるようにした現像処理装置を提供することを課題とする。

上記目的を達成するため、請求項１記載の発明は、基板を水平状態に保持する回転可能な回転基台と、上記回転基台を回転駆動する回転駆動機構と、上記回転基台と共に回転可能で、かつ回転基台に保持された基板の外周部を囲み、基板表面の同一平面上に基板の表面上から連続する液膜を形成するための外周板と、上記回転基台に対して相対的に昇降移動可能で、かつ、基板を吸着保持すると共に、上記回転基台と外周板に密着して液貯留空間を形成する基板保持台と、上記回転基台及び基板保持台に保持された基板と液貯留空間に向かって洗浄液を供給して液張りを行う洗浄液供給ノズルと、上記基板保持台に保持された基板に対する現像液の供給と吸引を同時に行うノズルヘッドと、上記回転基台の上方に移動可能な基板搬送アームとの間で基板の受け渡しを行う昇降可能な複数の支持ピンと、上記複数の支持ピンを昇降移動する昇降駆動機構と、上記回転駆動機構と昇降駆動機構を制御する制御手段と、を具備し、 上記複数の支持ピンのうちの少なくとも一つの支持ピンの上端部に、水平状態の基板の下面を支持する第１の支持面と、傾斜状態の基板の下端部を支持する第２の支持面を形成し、 上記回転駆動機構により上記回転基台に保持された基板の水平面上の角度を調整可能に形成し、 上記制御手段からの制御信号に基づいて、上記基板搬送アームとの間で基板を受け渡しする際は、基板の角度を上記支持ピンの第１の支持面で基板を水平状態に支持可能な位置にし、上記基板及び液貯留空間内に洗浄液を供給又は供給後は、上記第２の支持面で傾斜状態の基板の下端部を支持可能な位置にし、かつ、上記第２の支持面で基板の下端部を支持した傾斜状態で基板を下降して、基板下面に付着する気泡を除去する、ことを特徴とする。

このように構成することにより、昇降駆動機構の駆動により支持ピンを昇降して基板搬送アームとの間で基板を受け渡しする際は、支持ピンの第１の支持面で基板を水平状態に支持して基板の受け渡しを行うことができる。また、基板及び液貯留空間内に洗浄液を供給する際又は洗浄液の供給後は、回転駆動機構の駆動により基板を水平方向に所定角度回転して支持ピンの第２の支持面で基板を傾斜状態に支持し、かつ、昇降駆動機構の駆動により支持ピンを下降して第２の支持面で基板の下端部を支持した傾斜状態で基板を下降することにより、基板下面に付着する気泡を除去することができる。

この発明において、上記支持ピンの上端部に小径部を設け、この小径部の上端面で第１の支持面を形成し、小径部と大径部との段部によって第２の支持面を形成し、更に上記第１の支持面及び第２の支持面を形成する支持ピンの上端部を合成樹脂製部材又は合成ゴム製部材にて形成する方が好ましい（請求項２）。

このように構成することにより、支持ピンと基板との接触面積を少なくすることができると共に、基板の傾斜状態を安定させることができ、かつ、基板の支持ピンとの接触による基板のダメージを抑制することができる。

また、この発明において、上記複数の支持ピンによって傾斜状に支持された基板の下面に向かって洗浄液を供給し、液貯留空間内の洗浄液に流動を与える第２の洗浄液供給ノズルを更に具備する構成としてもよい（請求項３）。

このように構成することにより、傾斜状態に支持された基板の下面を液貯留空間内に貯留された洗浄液に接触させる際に、第２の洗浄液供給ノズルから供給される洗浄液によって液貯留空間内の洗浄液に流動を与えて基板下面に付着する気泡を除去することができる。

また、この発明において、上記基板保持台における液貯留空間を形成する底部に振動子を配設すると共に、この振動子に超音波発振器を接続する構成としてもよい（請求項４）。

このように構成することにより、傾斜状態に支持された基板の下面を液貯留空間内に貯留された洗浄液に接触させる際に、振動子に超音波発振器からの適当な周波数の高周波電圧を印加して励振することにより、超音波振動が発生し、その超音波振動が液貯留空間内に貯留された液体を伝播して基板下面に付着する洗浄液を除去することができる。

この発明によれば、上記のように構成されているので、以下のような優れた効果を奏する。

（１）請求項１記載の発明によれば、現像処理前の洗浄処理時に基板下面すなわち基板裏面に付着する気泡を除去することで、基板裏面に界面が存在しないため、基板裏面のパーティクルの低減を図ることができる。

（２）請求項２記載の発明によれば、上記（１）に加えて、更に支持ピンと基板との接触面積を少なくすることができると共に、基板の傾斜状態を安定させることができ、かつ、基板の支持ピンとの接触による基板のダメージを抑制することができる。

（３）請求項３記載の発明によれば、傾斜状態に支持された基板の下面を液貯留空間内に貯留された洗浄液に接触させる際に、第２の洗浄液供給ノズルから供給される洗浄液によって液貯留空間内の洗浄液に流動を与えて基板下面に付着する気泡を除去することができるので、上記（１），（２）に加えて、更に基板裏面のパーティクルの低減を図ることができる。

（４）請求項４記載の発明によれば、液貯留空間内に貯留された洗浄液に超音波を伝播して基板下面に付着する洗浄液を除去することができるので、上記（１），（２）に加えて、更に基板裏面のパーティクルの低減を図ることができる。

この発明に係る現像処理装置の第１実施形態を示す概略縦断面図である。 上記現像処理装置の概略平面図である。 この発明におけるノズルヘッドを示す断面図である。 この発明における回転基台の平面図（ａ）及び（ａ）のＩ部を示す拡大斜視図（ｂ）である。 この発明における基板保持台を示す平面図である。 図５のII−II線に沿う断面図である。 上記現像処理装置の要部を示す概略斜視図（ａ）及び（ａ）のIII部の拡大斜視図（ｂ）である。 この発明における基板の搬入状態を示す概略平面図（ａ）及び（ａ）のＡ矢視概略断面図（ｂ）である。 この発明における支持ピンの下降状態を示す概略平面図（ａ）及び（ａ）のＢ矢視概略断面図（ｂ）である。 この発明における基板の角度調整の状態を示す概略平面図（ａ）及び概略断面図（ｂ）である。 この発明における基板保持台の上昇状態を示す概略平面図（ａ）及び概略断面図（ｂ）である。 この発明における洗浄液供給ノズルによる液張りの開始状態を示す概略平面図（ａ）及び概略断面図（ｂ）である。 上記液張りの終了状態を示す概略平面図（ａ）及び概略断面図（ｂ）である。 この発明における支持ピンにより基板を傾斜させて上昇する状態を示す概略平面図（ａ）、概略断面図（ｂ）及び（ｂ）のIV部拡大図（ｃ）である。 上記支持ピンにより基板を傾斜させて下降し、基板下面の気泡を除去する状態を示す概略平面図（ａ）及び概略断面図（ｂ）である。 この発明における現像処理状態を示す概略断面図である。 この発明における液抜き状態を示す概略断面図である。 この発明における基板保持台の下降及びカップの上昇状態を示す概略断面図である。 この発明における洗浄処理状態を示す概略断面図である。 この発明における乾燥処理状態を示す概略断面図である。 この発明における処理工程を示すフローチャートである。 この発明における液張りの別の状態を示す概略断面図である。 この発明における基板下面の気泡を除去する別の状態を示す概略断面図である。 この発明に係る現像処理装置の第２実施形態の要部を示す概略断面図である。 第２実施形態における基板下面の気泡を除去する状態を示す概略断面図である。

以下、この発明の実施の形態について、添付図示に基づいて詳細に説明する。この実施形態では、この発明に係る現像処理装置を、フォトマスク用の基板、例えばレチクル用のガラス基板に現像処理を施す現像処理装置に適用した場合について説明する。

この発明に係る現像処理装置は、図１及び図２に示すように、ケーシング１を有し、このケーシング１内に、ガラス基板Ｇ（以下に基板Ｇという）を回転可能に保持する回転基台２と、この回転基台２と共に回転可能で、かつ回転基台２に保持された基板Ｇの外周部を囲む、基板Ｇの表面の同一平面上に基板Ｇの表面上から連続する液膜を形成するための外周板３（以下に助走ステージ３という）と、回転基台２に対して相対的に昇降移動可能で、かつ基板Ｇを吸着して保持する基板保持台４と、この基板保持台４に保持された基板Ｇの表面に沿って移動可能で、基板Ｇに対する現像液の供給と吸引を同時に行うノズルヘッド５と、回転基台２に対して相対的に昇降移動可能で、かつ、回転基台２の上方に移動可能な基板搬送アーム８０との間で基板Ｇの受け渡しを行う複数例えば３個の支持ピン２８ａ，２８ｂ，２８ｃと、を具備している。

また、上記回転基台２，助走ステージ３及び基板保持台４は、カップ６内に収容可能に形成されており、カップ６の外方側には、回転基台２及び基板保持台４に保持された基板Ｇと後述する液貯留空間７に向かって洗浄液（リンス液）例えば純水を供給する洗浄液供給ノズル８（以下にリンスノズル８という）が配設されている。

この場合、上記回転基台２は、図４に示すように、回転軸１０に連結する円盤形基部１１の外周４箇所に水平支持片１２を延在し、水平支持片１２の先端に環状水平片１３を連結してなり、環状水平片１３の４箇所に立設される各第１の支持柱片１４の頂部に、それぞれ基板Ｇの角部を保持する一対の位置決めピン１５を立設してなる。また、環状水平片１３における第１の支持柱片１４と約４５度偏倚した４箇所には第２の支持柱片１６が立設され、各第２の支持柱片１６によって助走ステージ３が水平状態に支持されている。この回転基台２は回転軸１０を介してモータ等の回転駆動機構１７に連結され、回転軸１０を中心軸として所定の回転速度で回転できる。

また、上記助走ステージ３は、図２に示すように、平面から見て円形の薄い板形状を有し、中央部に基板Ｇを収容する四角の開口部３ａが形成されている。このように助走ステージ３の外形を円形状に形成することにより、助走ステージ３を回転させた際に、助走ステージ３の外周部付近において乱流が形成されることを防止している。この場合、助走ステージ３は、基板Ｇの表面と同一平面上、若しくは、僅かに低い位置例えば２００〜４００μｍ低い位置に固定されている。これにより、基板Ｇの表面から助走ステージ３の表面に渡る同一平面上に連続した液膜を形成することができる。助走ステージ３の開口部３ａは，基板Ｇよりも僅かに大きく形成されており、基板保持台４に保持された基板Ｇと助走ステージ３との間には、基板Ｇの受け渡しのための隙間９が形成されている。

また、上記基板保持台４は、図５及び図６に示すように、回転基台２の回転軸１０を回転可能に貫挿する貫通孔２１を有する有底円筒状の本体２０と、この本体２０の底部２２上に起立し、その頂面２３ａに基板Ｇを吸引する吸引口２３ｂを有する吸着保持部２３を具備してなり、本体２０の円筒状の側壁２４の頂面２４ａには、後述する第１の環状シール部材２５ａを嵌合する第１の周溝２４ｂが設けられ、本体２０の底部２２における貫通孔２１の縁部には、後述する第２の環状シール部材２５ｂを嵌合する第２の周溝２４ｃが設けられている。なお、基板保持台４は、例えばシリンダやモータ機構等の昇降駆動機構４Ａによって回転基台２に対して相対的に昇降移動可能に形成されている。昇降駆動機構４Ａは、制御手段であるコントローラ９０に電気的に接続されており、コントローラ９０からの信号に基づいて基板保持台４を回転基台２に対して相対的に昇降移動する。

上記基板保持台４の第１の周溝２４ｂ内に嵌合される第１の環状シール部材２５ａは、助走ステージ３の裏面の全周に渡って密着可能に形成され、第２の周溝２４ｃ内に嵌合される第２の環状シール部材２５ｂは、回転基台２の裏面の全周に渡って密着可能に形成されている。

この場合、上記第１の環状シール部材２５ａ及び第２の環状シール部材２５ｂは、例えば可撓性のあるＰＣＴＦＥ（ポリクロロトリフルオロエチレン），ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）等の樹脂，又は例えばシリコンを含有する耐薬性に優れたゴム材などが用いられており、それぞれ密接対象となる助走ステージ３の裏面側及び回転基台２の裏面側に向かって傾斜状に延在する可撓性を有するシール片（図示せず）を具備している。このように、第１及び第２の環状シール部材２５ａ，２５ｂに助走ステージ３の裏面側及び回転基台２の裏面側に向かって傾斜状に延在する可撓性を有するシール片を設けることによって、助走ステージ３の裏面及び回転基台２の裏面との接触面積を広くすることができると共に、調整を容易にすることができる。

また、上記吸着保持部２３は、図７に示すように、回転基台２の４本の水平支持片１２との干渉を回避すべく周方向に４分割に分けられて形成されており、各吸着保持部２３の頂面２３ａには、基板Ｇの角部に沿うスリット状の吸引孔２３ｂを有する２個の吸引口形成部２３ｃが直交状に設けられている。

また、基板保持台４の底部２２の１箇所には、排液口２６が設けられると共に、底部２２の底面２２ａが排液口２６側に向かって下り勾配状に形成されている。これにより、底部２２の底面２２ａに付着する液の液切りを良好にすることができる。

なお、基板保持台４の底部２２の適時位置には、第２の洗浄液供給ノズルであるバックリンスノズル７０から噴射されるリンス液例えば純水を流通する通路２２ｂが設けられている（図６及び図７参照）。

上記のように形成される基板保持台４によって基板Ｇを吸着保持すると共に、第１の環状シール部材２５ａを介して基板保持台４と助走ステージ３を密着し、かつ第２の環状シール部材２５ｂを介して基板保持台４と回転基台２を密着することで、液貯留空間７が形成される。また、基板保持台４による吸着保持の解除及び第１及び第２の環状シール部材２５ａ，２５ｂによる密着が解除された状態で、回転基台２及び助走ステージ３と共に基板Ｇが回転可能に形成される。したがって、基板保持台４を回転させずに回転基台２及び助走ステージ３を回転するので、回転駆動機構１７の動力を小さくすることができる。

なお、基板保持台４における回転基台２との干渉を回避する基板Ｇの外周部に対応する３箇所には、垂直方向に貫通する貫通孔２７が設けられている。各貫通孔２７内には、基板Ｇを支持して昇降させる支持ピン２８ａ，２８ｂ，２８ｃが昇降可能に貫挿されている。支持ピン２８ａ，２８ｂ，２８ｃは、例えばシリンダなどの昇降駆動機構２８Ａによって昇降自在であり、回転基台２上に突出して、基板搬送アーム８０との間で回転基台２に対する基板Ｇの受け渡しを行うことができる。

この場合、３個の支持ピン２８ａ，２８ｂ，２８ｃのうちの少なくとも一つ（図面では一つの場合を示す）の支持ピン２８ａは、図７（ｂ）に示すように、支持ピン２８ａの上端部に小径部２９ａを設け、この小径部２９ａの上端面が第１の支持面を形成し、小径部２９ａと大径部２９ｂとの段部２９ｃが第２の支持面を形成し、かつ第１の支持面及び第２の支持面を形成する支持ピン２８ａの上端部を合成樹脂製部材例えば導電性ＰＥＥＫ又は合成ゴム製部材例えばフッ素ゴムにて形成されている。

上記のように形成される支持ピン２８ａの小径部２９ａの上端面（第１の支持面）と他の支持ピン２８ｂ，２９ｃの上端面で基板Ｇの下面（裏面）を支持することで、基板Ｇは水平状態に支持される。また、支持ピン２８ａの小径部２９ａと大径部２９ｂとの段部２９ｃ（第２の支持面）で基板Ｇの端部を支持し、他の支持ピン２８ｂ，２９ｃの上端面で基板Ｇの下面（裏面）を支持することで、基板Ｇは傾斜状態に支持される。

なお、昇降駆動機構２８Ａは制御手段であるコントローラ９０に電気的に接続されており、コントローラ９０からの信号に基づいて昇降移動可能に形成されている。また、回転駆動機構１７も制御手段であるコントローラ９０に電気的に接続されており、コントローラ９０からの信号に基づいて所定の回転数で駆動可能に形成されると共に、所定角度回転して回転基台２に保持された基板Ｇの水平面上の角度が調整可能に形成されている。基板Ｇの角度調整を行うタイミングは、後述するように、基板搬送アーム８０によって基板Ｇが回転基台２の上方に搬入され、支持ピン２８ａ，２８ｂ，２８ｃが上昇して、支持ピン２８ａの小径部２９ａの上端面（第１の支持面）と他の支持ピン２８ｂ，２９ｃの上端面で基板Ｇの下面（裏面）を支持して基板を受け取った後、支持ピン２８ａ，２８ｂ，２８ｃが下降して基板Ｇを回転基台２が保持した状態で、回転駆動機構１７及び回転基台２を所定の角度に回転する。この角度調整によって基板Ｇの一端部（角部の一辺）が支持ピン２８ａの小径部２９ａと大径部２９ｂとの段部２９ｃ（第２の支持面）で支持可能な位置に移動し、その後の支持ピン２８ａ，２８ｂ，２８ｃの上昇によって支持ピン２８ａの小径部２９ａと大径部２９ｂとの段部２９ｃ（第２の支持面）で基板Ｇの端部（角部の一辺）を支持し、他の支持ピン２８ｂ，２９ｃの上端面で基板Ｇの下面（裏面）を支持することで、基板Ｇは傾斜状態に支持される。

また、回転基台２と基板保持台４は、基板Ｇから飛散又は落下する液体を受け止め、回収するためのカップ６内に収容されている。カップ６は、回転基台２及び基板保持台４の側方と下方を覆うように、例えば下面が閉鎖され上面が開口した四角形の略筒状に形成されている。カップ６の下面には、例えば工場の排液部に連通した排出管６ａが接続されており、カップ６において回収した液体を現像処理装置の外部に排出できる。

また、図２に示すようにカップ６のＹ方向負方向（図２の左方向）側には、第１の待機部６１が設けられている。第１の待機部６１には、現像液及び洗浄液（リンス液）の供給と吸引を行うノズルヘッド５が待機可能になっている。ノズルヘッド５は、例えば少なくとも基板Ｇの辺の寸法と同じかそれよりも長い、Ｘ方向に沿った略直方体形状を有している。ノズルヘッド５は、門型のヘッドアーム５ｂに支持されており、ヘッドアーム５ｂが取り付けられた例えばボールねじとその回転モータ等からなる水平移動機構５ｃによって、第１の待機部６１から少なくともカップ６のＹ方向正方向（図２の右方向）側の端部付近まで水平移動（スキャン）可能に形成されている。また、ノズルヘッド５は、例えばヘッドアーム５ｂに取り付けられたボールねじとその回転モータ等からなる昇降駆動機構（図示せず）によって上下方向にも移動可能に形成されている。

図３に示すように、ノズルヘッド５の下面５ａは、基板Ｇの表面と平行になるように水平に形成されている。ノズルヘッド５の下面５ａにおけるノズルヘッド５の進行方向であるＹ方向の中央部には、現像液吐出口３０が形成されている。現像液吐出口３０は、例えばノズルヘッド５の長手方向（Ｘ方向）に沿って例えば基板Ｇの辺より長いスリット状に形成されており、現像液を帯状に吐出できる。現像液吐出口３０は、ノズルヘッド５の内部に形成された第１の貯留部３１に連通しており、第１の貯留部３１は、現像液供給管３３を介して現像処理装置の外部に設置された現像液供給源３２に接続されている。現像液供給源３２は、現像液供給管３３を通じて所定の流量の現像液をノズルヘッド５に供給できる。ノズルヘッド５は、供給された現像液を第１の貯留部３１に一旦貯留して圧力調整し、その後現像液吐出口３０から均一に吐出できるようになっている。

ノズルヘッド５の下面５ａの現像液吐出口３０を挟んだ両側には、基板Ｇ上の現像液を吸引する現像液吸引口４０が開設されている。現像液吸引口４０は、例えば現像液吐出口３０と平行なスリット状に形成されている。現像液吸引口４０は、例えばノズルヘッド５の内部に形成された第２の貯留部４１に連通しており、第２の貯留部４１は、吸引管４３を介して現像処理装置１の外部に設置された吸引装置４２に接続されている。吸引装置４２は、吸引管４３を通じて所定の圧力で吸引できる。したがって、現像液吐出口３０から基板Ｇ上に供給された現像液を現像液吐出口３０の両側の現像液吸引口４０から所定の圧力で吸引できる。この結果、基板Ｇの表面上には、現像液吐出口３０から現像液吸引口４０に向かう現像液の流れを形成できる。

ノズルヘッド５の下面５ａの各現像液吸引口４０の更に外側には、それぞれ純水等のリンス液を吐出するリンス液吐出口５０が形成されている。リンス液吐出口５０は、例えば前記現像液吐出口３０に平行なスリット状に形成されており、リンス液をＸ方向に沿った帯状に吐出できる。リンス液吐出口５０は、ノズルヘッド５の内部に形成された第３の貯留部５１に連通しており、リンス液供給管５３を介して現像処理装置１の外部に設置されたリンス液供給源５２に接続されている。リンス液供給源５２は、リンス液供給管５３を通じて所定の流量のリンス液をノズルヘッド５に供給できる。ノズルヘッド５は、供給されたリンス液を第３の貯留部５１に一旦貯留して圧力調整し、その後リンス液吐出口５０から一様に吐出できる。

また、図２に示すように、カップ６のＹ方向正方向側には、第２の待機部６２が設けられている。第２の待機部６２には、洗浄液供給ノズルであるリンスノズル８が待機可能になっている。リンスノズル８は、例えば回転駆動軸８ａに取り付けられたノズルアーム８ｂの先端部に支持されており、回転駆動軸８ａの回転によって第２の待機部６２からカップ６内の基板Ｇの中心部上方まで移動できる。リンスノズル８は、リンス液供給管６４によって、例えば現像処理装置１の外部に設置されたリンス液供給源６３に接続されており、リンス液供給源６３から供給されたリンス液（純水）を下方に向けて吐出できる。

なお、コントローラ９０は、上記回転駆動機構１７，昇降駆動機構４Ａ，２８Ａの他に、ノズルヘッド５の駆動部，リンスノズル８の駆動部等に電気的に接続されており、予め記憶されたプログラムに基づいて回転駆動機構１７，昇降駆動機構４Ａ，２８Ａ，ノズルヘッド５の駆動部，リンスノズル８の駆動部等が制御されるように形成されている。

次に、上記のように構成される現像処理装置の現像処理について、図８ないし図２０に示す説明図及び図２１に示すフローチャートを参照して説明する。

まず、現像処理装置の外部の基板搬送アーム８０によって搬送された基板Ｇが現像処理装置に搬入されると、基板Ｇは、予め上昇していた支持ピン２８ａ，２８ｂ，２８ｃに受け渡され（Ｓ−１；図８（ａ），（ｂ）参照）、支持ピン２８ａ，２８ｂ，２８ｃの下降によって回転基台２上に載置されると共に、位置決めピン１５によって位置決めされる（Ｓ−２；図９（ａ），（ｂ）参照）。

次に、回転駆動機構１７が駆動して基板Ｇを保持した回転基台２が所定角度回転して、基板Ｇの水平面上の角度が調整される（Ｓ−３；図１０（ａ），（ｂ）参照）。この角度調整によって基板Ｇの一端部（角部の一辺）が支持ピン２８ａの小径部２９ａと大径部２９ｂとの段部２９ｃ（第２の支持面）で支持可能な位置に移動する。

次に、昇降駆動機構４Ａが駆動して基板保持台４が上昇して、吸着保持部２３が基板Ｇの裏面に当接した状態で、吸着保持部２３の吸引によって基板Ｇを吸着保持すると共に、第１の環状シール部材２５ａを介して基板保持台４と助走ステージ３が密着し、かつ第２の環状シール部材２５ｂを介して基板保持台４と回転基台２が密着して液貯留空間７を形成する（Ｓ−４；図１１（ａ），（ｂ）参照）。この状態で、リンスノズル８が基板Ｇの中心部上方まで移動して、純水を下方に向けて吐出して、液貯留空間７内にリンス液（純水）を貯留すると共に、基板Ｇ表面と助走ステージ３表面に液膜Ｌを形成して液張りする（Ｓ−５；図１２（ａ），（ｂ）、図１３（ａ），（ｂ）参照）。このようにして、基板Ｇの表面の濡れ性を向上するプリウェット処理が行われる。液張り終了後、リンスノズル８は第２の待機部６２に戻る。

次に、昇降駆動機構２８Ａが駆動して支持ピン２８ａ，２８ｂ，２８ｃが上昇し、支持ピン２８ａの小径部２９ａと大径部２９ｂとの段部２９ｃ（第２の支持面）で基板Ｇの端部（角部の一辺）を支持し、他の支持ピン２８ｂ，２９ｃの上端面で基板Ｇの下面（裏面）を支持することで、基板Ｇは傾斜状態に支持される（Ｓ−６；図１４（ａ），（ｂ），（ｃ）参照）。この状態で、昇降駆動機構２８Ａが駆動して支持ピン２８ａ，２８ｂ，２８ｃを上昇して基板Ｇを上方へ移動した後、支持ピン２８ａ，２８ｂ，２８ｃが下降して、基板Ｇの下面（裏面）側に存在する気泡を基板Ｇの下面（裏面）から外部に排出（除去）する（Ｓ−７；図１５（ａ），（ｂ）参照）。このようにして、下面（裏面）に付着する気泡が除去された後、基板Ｇは基板保持台４の吸着保持部２３に吸着保持される。

次に、第１の待機部６１に待機していたノズルヘッド５が基板ＧよりＹ方向負方向側の助走ステージ３上まで移動して、ノズルヘッド５のリンス液吐出口５０，現像液吐出口３０及び現像液吸引口４０のある下面５ａが助走ステージ３上に配置される。そして、ノズルヘッド５が下降し、スタート位置である助走ステージ３の表面に近接される。次に、リンス液吐出口５０からリンス液，現像吐出口３０から現像液を吐出し、現像液吸引口４０からそのリンス液と現像液を吸引しながらＹ方向正方向側に移動する（Ｓ−８；図１６参照）。このとき、ノズルヘッド５の下面５ａと助走ステージ３の表面との間が常にリンス液と現像液で満たされており、ノズルヘッド５の下面５ａへの泡噛み現象が防止されている。ノズルヘッド５がＹ方向正方向側に進んで、基板Ｇの表面上を移動している時には，現像液吐出口３０から基板Ｇ上に吐出された現像液は、ノズルヘッド５の進行方向の前方側と後方側にある現像液吸引口４０から吸引され、基板Ｇの表面の一部の領域に帯状の現像液の流れが形成される。この現像液の流れによって基板Ｇの表面が現像される。現像によって生じた溶解生成物は直ちに現像液吸引口４０から排出される。

ノズルヘッド５は、例えば現像液の供給と吸引を連続的に行いながら、助走ステージ３のＹ方向正方向側の端部付近まで移動（スキャン）する。こうすることによって、現像液の流れが生じる領域が次第に移動し、基板Ｇの表面全体が現像される。ノズルヘッド５が助走ステージ３のＹ方向正方向側の端部付近まで移動すると、現像液及びリンス液の供給とその吸引が停止され、ノズルヘッド５は、第１の待機部６１に戻される。

上記のようにして現像処理が終了した後、液貯留空間７内に貯留された液（現像液とリンス液の混合液）は排液口２６から外部に排出される（Ｓ−９；図１７参照）。続いて、基板保持台４による吸着保持が解除されて、基板保持台４が下降して、基板保持台４と助走ステージ３及び回転基台２との密着が解除される（Ｓ−１０；図１８参照）。

続いて、第２の待機部６２で待機していたリンスノズル８が基板Ｇの中心部上方まで移動し、回転基台２によって助走ステージ３と共に基板Ｇが回転される。リンスノズル８から回転された基板Ｇ上にリンス液が吐出されて基板Ｇが洗浄される（Ｓ−１１；図１９参照）。このとき、例えばバックリンスノズル７０からも洗浄液を吐出し、基板Ｇの裏面に洗浄液を供給してもよい。この洗浄処理時には、回転基台２及び助走ステージ３と基板保持台４とが非接触になっているので、基板Ｇ裏面における吸着保持部２３によって吸着されていた部分の洗浄を行うことができる。

上記のようにして、基板Ｇが所定時間洗浄された後，基板Ｇが高速回転され，基板Ｇが乾燥される（Ｓ−１２；図２０参照）。

基板Ｇの乾燥処理が終了した後、回転駆動機構１７が駆動して回転基台２及び基板Ｇを角度調整時の回転と反対方向に所定角度回転して基板Ｇを搬出可能な状態にする（Ｓ−１３）。続いて、昇降駆動機構２８Ａが駆動して、再び支持ピン２８ａ，２８ｂ，２８ｃが上昇して基板Ｇを持ち上げ、現像処理装置の外部の基板搬送アーム８０によって基板処理装置の外部に搬出される（Ｓ−１４）。

以上の実施形態によれば、現像処理前に、液貯留空間７内に液を貯留すると共に、基板Ｇ表面及び助走ステージ３の表面に連続して液膜を形成するので、ノズルヘッド５による現像液の供給と吸引時に現像液内への泡噛みを防止できる。また、現像処理前に、基板Ｇを傾斜状態にして基板Ｇの下面（裏面）を液貯留空間７内に貯留されたリンス液（純水）に接触させることにより、基板Ｇの下面（裏面）に付着する気泡を除去することができる。

また、液貯留空間７内に液が貯留（充満）された状態で、現像処理を行うので、基板Ｇ上の液体が基板Ｇの裏面側に回り込むことを防止できる。

しかも、洗浄処理時には、基板保持台４を基板Ｇ及び助走ステージ３から離した状態にするので、基板Ｇ裏面における吸着保持部２３によって吸着されていた部分の洗浄を行うことができる。その結果、基板Ｇ裏面の洗い残しや基板汚染を無くすことができる。また、吸引ラインやシール部の構造を簡単にし、かつ駆動動力の低減を図ることができる。

なお、上記実施形態では、洗浄液の液張り後に基板Ｇを傾斜させて基板Ｇの下面（裏面）に付着する気泡を除去する場合について説明したが、図２２（ａ），（ｂ）に示すように、支持ピン２８ａの小径部２９ａと大径部２９ｂとの段部２９ｃ（第２の支持面）で基板Ｇの端部（角部の一辺）を支持し、他の支持ピン２８ｂ，２９ｃの上端面で基板Ｇの下面（裏面）を支持した基板Ｇの傾斜状態で洗浄液の液張りを行うと同時に、基板Ｇを下降させて基板Ｇの下面（裏面）に付着する気泡を除去するようにしてもよい。

また、図２３に示すように、支持ピン２８ａの小径部２９ａと大径部２９ｂとの段部２９ｃ（第２の支持面）で基板Ｇの端部（角部の一辺）を支持し、他の支持ピン２８ｂ，２９ｃの上端面で基板Ｇの下面（裏面）を支持して基板Ｇを傾斜させた状態で、回転基台２の底部に配設された第２の洗浄液供給ノズルであるバックリンスノズル７０から傾斜状の基板の下面に向かって吐出（供給）し、液貯留空間７内の洗浄液に流動を与えることで、基板Ｇの下面（裏面）に付着する気泡を除去するようにしてもよい。

また、図２４に示すように、基板保持台４における液貯留空間７を形成する底部２２に振動子１０１を配設すると共に、この振動子１０１に超音波発振器１００を接続した構造としてもよい。このように構成することにより、泡抜き時すなわち基板Ｇを傾斜状態にして基板Ｇの下面（裏面）を液貯留空間７内に貯留された洗浄液に接触させた状態で、超音波駆動電源１０２を駆動して振動子１０１に超音波発振器１００からの適当な周波数の高周波電圧を印加して励振することにより、超音波振動が発生し、その超音波振動が液貯留空間７内に貯留された液体を伝播して基板Ｇ裏面に付着した気泡を除去することができる（図２５参照）。

なお、上記実施形態では、一つの支持ピン２８ａに小径部２９ａ，大径部２９ｂ及び段部２９ｃを設けて、第１の支持面と第２の支持面を形成する場合について説明したが、例えば二つの支持ピン２８ａ，２８ｂに同様に小径部２９ａ，大径部２９ｂ及び段部２９ｃを設けて、第１の支持面と第２の支持面を形成してもよい。この場合は、残りの１本の支持ピン２８ｃの上端面で基板Ｇの下面（裏面）を支持し、２本の段付きの支持ピン２８ａ，２８ｂの第２の支持面（段部２９ｃ）で基板Ｇの端部を支持することで、基板Ｇを傾斜状態に支持することができる。

なお、上記実施形態は、この発明の一例を示すものであり、この発明はこの例に限らず種々の態様を採りうるものである。例えば、この発明は、レチクル，ＬＣＤ，ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）等の方形の基板に限られず、ウエハ等の円形の基板など他の基板にも適用できる。

Ｇ ガラス基板（基板）
２ 回転基台
３ 助走ステージ（外周板）
４ 基板保持台
５ ノズルヘッド
７ 液貯留空間
１７ 回転駆動機構
２８ａ，２８ｂ，２８ｃ 支持ピン
２８Ａ 昇降駆動機構
２９ａ 小径部
２９ｂ 大径部
２９ｃ 段部
７０ バックリンスノズル（第２の洗浄液供給ノズル）
８０ 基板搬送アーム
９０ コントローラ（制御手段）
１００ 超音波発振器
１０１ 振動子
１０２ 超音波駆動電源

Claims (4)

1. 基板を水平状態に保持する回転可能な回転基台と、
   上記回転基台を回転駆動する回転駆動機構と、
   上記回転基台と共に回転可能で、かつ回転基台に保持された基板の外周部を囲み、基板表面の同一平面上に基板の表面上から連続する液膜を形成するための外周板と、
   上記回転基台に対して相対的に昇降移動可能で、かつ、基板を吸着保持すると共に、上記回転基台と外周板に密着して液貯留空間を形成する基板保持台と、
   上記回転基台及び基板保持台に保持された基板と液貯留空間に向かって洗浄液を供給して液張りを行う洗浄液供給ノズルと、
   上記基板保持台に保持された基板に対する現像液の供給と吸引を同時に行うノズルヘッドと、
   上記回転基台の上方に移動可能な基板搬送アームとの間で基板の受け渡しを行う昇降可能な複数の支持ピンと、
   上記複数の支持ピンを昇降移動する昇降駆動機構と、
   上記回転駆動機構と昇降駆動機構を制御する制御手段と、を具備し、
   上記複数の支持ピンのうちの少なくとも一つの支持ピンの上端部に、水平状態の基板の下面を支持する第１の支持面と、傾斜状態の基板の下端部を支持する第２の支持面を形成し、
   上記回転駆動機構により上記回転基台に保持された基板の水平面上の角度を調整可能に形成し、
   上記制御手段からの制御信号に基づいて、上記基板搬送アームとの間で基板を受け渡しする際は、基板の角度を上記支持ピンの第１の支持面で基板を水平状態に支持可能な位置にし、上記基板及び液貯留空間内に洗浄液を供給又は供給後は、上記第２の支持面で傾斜状態の基板の下端部を支持可能な位置にし、かつ、上記第２の支持面で基板の下端部を支持した傾斜状態で基板を下降して、基板下面に付着する気泡を除去する、
   ことを特徴とする現像処理装置。
2. 請求項１記載の現像処理装置において、
   上記支持ピンの上端部に小径部を設け、この小径部の上端面が第１の支持面を形成し、小径部と大径部との段部が第２の支持面を形成し、かつ上記第１の支持面及び第２の支持面を形成する支持ピンの上端部を合成樹脂製部材又は合成ゴム製部材にて形成してなる、ことを特徴とする現像処理装置。
3. 請求項１又は２記載の現像処理装置において、
   上記複数の支持ピンによって傾斜状に支持された基板の下面に向かって洗浄液を供給し、液貯留空間内の洗浄液に流動を与える第２の洗浄液供給ノズルを更に具備してなる、ことを特徴とする現像処理装置。
4. 請求項１又は２記載の現像処理装置において、
   上記基板保持台における液貯留空間を形成する底部に振動子を配設すると共に、この振動子に超音波発振器を接続してなる、ことを特徴とする現像処理装置。

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