KR20110096493A - 현상 처리 장치 및 현상 처리 방법 - Google Patents

Abstract

기판의 이면에 부착된 먼지에 기인하는 노광 시의 미스얼라이먼트를 방지하고, 기판 처리면에서 발생한 용해 생성물 등이나 오물이 기판의 이면을 오염하는 것을 방지한다.
기판(G)을 회전 가능하게 유지하는 회전 베이스(2)와, 회전 베이스와 함께 회전 가능하고, 회전 베이스에 유지된 기판의 외측 둘레부를 둘러싸며, 기판의 표면상으로부터 연속되는 액막을 형성하기 위한 둘레 조주(助走) 스테이지(3)와, 기판과 일정한 간극을 두고 대향하는 평면을 갖는 평면부(4)와, 기판의 표면을 따라서 이동하여, 기판에 대한 현상액의 공급과 흡인을 동시에 행하는 노즐 헤드(5)를 설치한다. 평면부는, 기판 이면과 일정한 간극을 두고 유지되고, 간극에 액체를 공급하는 복수의 액체 공급 구멍(40)과, 복수의 액체 공급 구멍의 사이에 끼워지도록 형성되고, 액체를 흡인 배출하기 위한 흡인 배출 구멍(41)을 포함한다. 액체 공급 구멍 및 흡인 배출 구멍에 접속되는 관로(42a, 42b)에 설치되는 유로 개폐 밸브(V1, V2)를 제어부(65)에 의해 개폐 제어한다.

Description

현상 처리 장치 및 현상 처리 방법{DEVELOPING APPARATUS AND DEVELOPING METHOD}

본 발명은, 예를 들어 레티클 등의 포토마스크용 글라스 기판에 현상액을 공급하여 처리하는 현상 처리 장치 및 현상 처리 방법에 관한 것이다.

일반적으로, 반도체 디바이스의 제조 공정에서는, 반도체 웨이퍼나 LCD용 글라스 기판 등(이하, 웨이퍼 등이라고 함)의 표면에 예를 들어 레지스트액을 도포하고, 스테퍼(stepper) 등의 노광 장치를 이용하여 회로 패턴을 축소하여 레지스트막을 노광하고, 노광 후의 웨이퍼의 표면에 현상액을 도포하여 현상 처리를 하는 포토리소그래피 기술이 이용되고 있다.

상기 노광 처리 공정에서는, 예를 들어 스테퍼(축소 투영 노광 장치) 등의 노광 장치가 이용되고 있고, 레티클 등의 포토마스크에 광을 조사하고, 포토마스크에 그려져 있는 회로 패턴의 원그림을 축소하여 웨이퍼 상에 전사하고 있다.

그런데, 이 포토마스크의 제조 공정에서도, 상기 웨이퍼 등과 마찬가지로 포토리소그래피 기술이 이용되고 있고, 레지스트 도포 공정, 노광 처리 공정, 현상 처리 공정과 같은 일련의 프로세스 공정을 거치고 있지만, 포토마스크는 웨이퍼 등에 회로 패턴을 투영하기 위한 원그림이므로, 선폭 등의 패턴 치수는 더욱 높은 정밀도가 요구된다.

종래의 포토마스크의 현상 방법으로는, 포토마스크용 글라스 기판을 스핀척 상에 흡착 유지하여 저속으로 회전시키고, 스프레이 노즐을 이용하여 현상액을 글라스 기판 상에 분무형으로 토출하면서 현상 처리하는 스프레이식 현상 방법이나, 글라스 기판과 스캔 노즐을 상대 이동시키면서, 스캔 노즐을 통해 공급되는 현상액을 글라스 기판 상에 유지하고, 정지 상태에서 현상 처리를 하는 패들식 현상 방법 등이 알려져 있다.

그러나, 스프레이식 현상 방법에서는, 현상액과 반응하여 생성된 용해 생성물이, 회전에 의한 원심력에 의해 글라스 기판의 주변부나 모서리부로 흐르기 때문에, 이 부분에서 현상액과의 반응이 억제되어, 선폭 등의 패턴 치수가 불균일해진다는 문제가 있었다. 또, 패들식 현상 방법에서는, 용해 생성물이 특정 장소로는 흐르지 않아, 스프레이식 현상에서와 같은 문제는 생기지 않지만, 패턴의 기하학적 구조나 패턴 밀도의 차이에 의해, 용해 생성물의 생성량이나 현상액의 농도가 국소적으로 상이하여, 에칭 속도 등이 변화하는 로딩 효과(loading effect)라고 불리는 현상이 생겨, 회로 패턴이 불균일해진다는 문제가 있었다.

따라서, 스프레이식이나 패들식에 비해 현상액의 소비량을 억제할 수 있고, 처리의 균일성의 향상을 도모할 수 있는 현상 방법으로서, 글라스 기판과 스캔 노즐을 상대 이동시키면서, 스캔 노즐을 통해 글라스 기판 표면에 공급되는 현상액을 처리액 흡인 수단에 의해 흡인하는 공급ㆍ흡인식 방법이 채택되고 있다.

이러한 공급ㆍ흡인식 방법에서는, 처리중에 처리액 흡인 수단에 의한 흡인에 의해 피처리 기판이 부상할 우려가 있고, 이 피처리 기판의 부상에 의해 처리액의 흐름이 불안정해져, 처리의 균일성이 손상된다는 문제가 있었다. 이 때문에, 종래에는, 부상을 방지하여 피처리 기판에 대한 균일한 액처리가 가능한 액처리 장치가 채택되고 있다(예를 들어, 특허문헌 1 참조).

: 일본 특허 공개 평 2006-222460호 공보

그러나, 일본 특허 공개 평 2006-222460호 공보에 기재된 액처리 장치에서는, 노광시에 노광기 내에서, 기판의 이면의 먼지 등에 의해 미스얼라이먼트가 발생할 우려가 있다. 또, 이면에 부착된 먼지를 떨어내는 것이 어려워, 기판 처리면에서 발생한 용해 생성물 등이나 오물이 이면에 들어가, 기판의 이면을 오염시킬 우려가 있다.

본 발명은, 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 기판 유지부에 먼지가 부착되어, 노광시에 노광기 내에서 미스얼라이먼트가 발생하는 것을 방지하고, 기판 이면의 세정 잔여물의 제거나 기판 오염을 없애는 것을 가능하게 한 현상 처리 장치 및 현상 처리 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.

상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 현상 처리 장치는, 판형의 피처리 기판을 회전 가능하게 유지하는 회전 베이스와, 상기 회전 베이스와 함께 회전 가능하고, 회전 베이스에 유지된 피처리 기판의 외측 둘레부를 둘러싸며, 피처리 기판의 표면상으로부터 연속되는 액막을 형성하기 위한 외측 둘레판과, 상기 회전 베이스에 유지된 피처리 기판의 표면을 따라서 이동 가능하고, 상기 피처리 기판에 대한 현상액의 공급과 흡인을 동시에 행하는 노즐 헤드와, 상기 회전 베이스에 유지된 상기 피처리 기판과 일정한 간극을 두고 대향하는 평면을 갖는 평면부와, 상기 평면부를 상기 회전 베이스에 대하여 상대적으로 상하 이동시키는 이동 기구와, 상기 평면부에 있어서 피처리 기판의 대향측에 형성되고 상기 간극에 액체를 공급하기 위해 배치된 복수의 액체 공급 구멍과, 상기 복수의 액체 공급 구멍이 배치되는 위치들 사이에 위치하도록 상기 액체 공급 구멍과 정해진 간격을 두고 형성되며 상기 액체를 흡인 배출하기 위한 흡인 배출 구멍과, 상기 액체 공급 구멍을 통한 액체의 공급과 상기 흡인 배출 구멍에 의한 흡인 배출을 제어하기 위한 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다.

이와 같이 구성함으로써, 평면부는, 기판의 이면과 일정한 간극을 유지하고, 기판의 이면에 액체, 예를 들어 순수를 공급하면서 흡인을 행함으로써, 기판 이면과 평면부의 간극에 부압 영역을 만들 수 있기 때문에, 기판의 부상을 방지할 수 있다. 또한, 액체 공급 구멍 및 흡인 배출 구멍이 기판의 이면에 접촉하지 않기 때문에, 기판 이면에 부착되는 먼지를 저감할 수 있으므로, 기판 흡착시의 미스얼라이먼트를 방지할 수 있다. 또한, 기판의 이면에 순수를 공급하기 때문에, 기판의 이면도 세정할 수 있고, 또한, 복수의 액체 공급 구멍이 배치되는 위치들 사이에 흡인 배출 구멍이 위치하도록 액체 흡인 구멍을 배치하기 때문에, 기판 이면의 현상액 등이나 용해 생성물이 기판의 이면에 부착되지 않도록 할 수 있다.

본 발명에서, 상기 액체 공급 구멍의 개구부는, 상기 흡인 배출 구멍의 바깥쪽을 포위하는 연통 홈에 의해 연통되어 있는 것이 바람직하다.

이와 같이 구성함으로써, 평면부의 외측의 액체가 흡인 배출 구멍에 들어가는 것을 방지할 수 있다.

또, 상기 흡인 배출 구멍은, 직선형의 개구 베이스부와, 이 개구 베이스부의 단부로부터 상기 피처리 기판의 외측 둘레 대향측을 향하여 굴곡된 개구 보조부를 포함하는 형상인 것이 바람직하다.

이와 같이 구성함으로써, 피처리 기판의 외측 둘레부의 흡인력을 높일 수 있고, 액체 공급 구멍을 통한 액체의 공급 및 흡인 배출 구멍을 통한 액체의 흡인을 효율적으로 행할 수 있다.

또, 상기 평면부에서의 상기 흡인 배출 구멍의 개구면부가, 상기 액체 공급 구멍의 개구면부보다 높게 형성되어 있는 것이 바람직하다.

이와 같이 구성함으로써, 흡인 면적을 증가시켜 흡인력을 증대시킬 수 있고, 피처리 기판의 외측 둘레측의 흡인력을 높여 효율적인 흡인을 행할 수 있다.

또, 상기 평면부는, 상기 평면부와의 사이에 간극을 두고 상기 피처리 기판의 이면과 접촉하여 피처리 기판을 유지하는 간극 유지 핀과, 상기 간극 유지 핀보다 낮은 높이의 보조 유지 핀을 포함하는 것이 바람직하다.

이와 같이 구성함으로써, 피처리 기판이 휘어졌을 때 보조 유지 핀에 의해 피처리 기판을 유지할 수 있어, 피처리 기판과 평면부의 접촉을 방지할 수 있다. 또, 보조 유지 핀에 의해 피처리 기판을 유지함으로써, 피처리 기판과 평면부의 간격을 협소하게 할 수 있기 때문에, 강한 흡인력을 얻을 수 있고, 액체 공급량의 삭감을 도모할 수 있다.

또, 상기 평면부는, 피처리 기판의 이면에 대향하여 복수 형성되어 있는 것이 바람직하다.

이와 같이 구성함으로써, 복수의 평면부가 피처리 기판의 이면을 유지하기 때문에, 기판을 안정적으로 하여 일정한 간극을 유지할 수 있다.

또, 상기 평면부는 바닥이 있는 용기의 내측에 형성되고, 상기 바닥이 있는 용기의 개구 둘레 가장자리에는, 상기 회전 베이스를 이동시켰을 때, 상기 외측 둘레판의 이면의 전체 둘레에 걸쳐 밀착될 수 있는 제1 환상 밀봉 부재가 구비되며, 상기 바닥이 있는 용기의 바닥부에는 관통 구멍이 형성되고 있으며, 상기 관통 구멍 내에 상기 회전 베이스의 회전축을 회전 및 상하 이동 가능하게 삽입하고, 관통 구멍과 회전축의 간극을 제2 환상 밀봉 부재에 의해 막아, 상기 액체를 저장하는 액저장 공간을 공기와 물이 새지 않는 구조로 형성하는 것이 바람직하다.

이와 같이 구성함으로써, 제1 환상 밀봉 부재에 의해 외측 둘레판의 이면의 전체 둘레에 걸쳐 밀착되고, 제2 환상 밀봉 부재에 의해 바닥이 있는 용기의 바닥부에 형성된 관통 구멍과 회전 베이스의 회전축의 간극을 막아, 공기와 물이 새지 않는 액저장 공간을 형성할 수 있다.

또, 상기 바닥이 있는 용기는, 바닥부에 형성된 배액구를 포함하는 것이 바람직하다.

이와 같이 구성함으로써, 액저장 공간에 저장된 액을, 바닥이 있는 용기의 바닥부에 형성된 배액구를 통해 배출할 수 있다.

또, 상기 액저장 공간에 저장되는 액체는, 상기 액체 공급 구멍 외에, 상기 회전 베이스에 유지된 기판에 세정액을 공급하기 위한 제1 세정액 공급 노즐 및 상기 바닥이 있는 용기의 바닥부에 배치된 제2 세정액 공급 노즐 중 하나 이상에 의해 공급되는 어느 하나의 액체인 것이 바람직하다.

이와 같이 구성함으로써, 액저장 공간에 액체를 효율적으로 공급할 수 있다.

또, 상기 액체 공급 구멍 및 상기 흡인 배출 구멍은 직선형으로 형성되고, 상기 흡인 배출 구멍은, 상기 복수의 액체 공급 구멍의 사이에 위치하는 위치에서 상기 액체 공급 구멍과 나란히 복수 배치되고, 상기 제어부는 상기 피처리 기판과 상기 평면부 사이에 공급된 액체의 흡인을 교대로 전환하는 것이 바람직하다. 이 경우에, 상기 흡인 배출 구멍의 관로에 접속되어, 상기 피처리 기판과 평면부 사이에 공급된 액체의 흡인을 교대로 전환하기 위한 전환 밸브를 설치하는 것이 바람직하다.

이와 같이 구성함으로써, 흡인 배출 구멍을 통한 액체의 흡인을 정기적으로 전환하여, 평면부와 기판의 이면 사이에 발생하는 기포의 발생을 방지하여, 기판의 오염을 더욱 저감할 수 있다.

또, 상기 흡인 배출 구멍에 접속된 관로에, 상기 복수의 흡인 배출 구멍에 의한 액체의 흡인을 교대로 전환하기 위한 내부 회전체를 포함하는 것이 바람직하다. 이 경우, 상기 내부 회전체는, 복수의 상기 흡인 배출 구멍에 접속되고 상기 액체 공급 구멍에 접속되는 관로 합류부 내에 회전 가능하게 설치되고, 상기 액체 공급 구멍의 하류에 접속된 액체 공급원으로부터 공급되는 액체에 의해 회전하여, 상기 복수의 흡인 배출 구멍을 통한 액체의 흡인을 어느 하나로 전환하기 위한 홈을 형성하는 것이 바람직하다.

이와 같이 구성함으로써, 제어 장치를 이용하지 않고, 복수의 흡인 배출 구멍을 통한 액체의 흡인을 전환할 수 있기 때문에, 비용을 억제할 수 있다.

또, 본 발명의 현상 처리 방법은, 판형의 피처리 기판을 회전 가능하게 유지하는 회전 베이스에 유지하는 공정과, 평면을 갖는 평면부를 상기 회전 베이스에 대하여 상대적으로 상하 이동시키는 이동 기구에 의해 이동시킨 위치에서 상기 평면부와 상기 피처리 기판을 일정한 간극을 두고 대향시키는 공정과, 이어서, 상기 평면부의 피처리 기판의 대향측에 형성되고 상기 간극에 액체를 공급하기 위해 배치된 복수의 액체 공급 구멍과, 상기 복수의 액체 공급 구멍이 배치되는 위치들 사이에 위치하도록 상기 공급 구멍과 정해진 간격을 두고 형성되며 상기 액체를 흡인 배출하기 위한 흡인 배출 구멍을 통해 각각 액체를 공급하고 흡인 배출하는 공정과, 상기 회전 베이스에 유지된 피처리 기판의 표면을 따라서, 상기 피처리 기판에 대한 현상액의 공급과 흡인을 동시에 행하면서 노즐을 이동시키는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.

이와 같이 구성함으로써, 기판의 이면과 일정한 간극을 유지하면서 현상이 행해지기 때문에, 평면부로부터의 온도의 영향이 기판에 잘 전달되지 않게 되어, 기판 상의 현상액의 온도 변화가 기판의 면내에서 거의 일정하여, 현상액의 온도차를 원인으로 하는 처리 불균일의 발생이 억제되어, 현상 처리의 균일성을 높일 수 있다.

본 발명에 의하면, 이상과 같이 구성되어 있기 때문에, 이하와 같은 우수한 효과를 갖는다.

평면부는, 기판의 이면과 일정한 간극을 두고 기판을 유지하고, 이 간극에 액체를 공급하면서 흡인을 행함으로써 부압 영역을 만들 수 있기 때문에, 기판의 부상(浮上)을 방지할 수 있다. 또, 액체 공급 구멍 및 흡인 배출 구멍이 기판의 이면에 접촉하지 않기 때문에, 기판 이면에 부착되는 먼지를 저감할 수 있어, 기판 흡착시의 미스얼라이먼트를 방지할 수 있다. 또, 기판의 이면에 액체, 예를 들어 순수를 공급함으로써, 기판의 이면도 세정할 수 있고, 또한, 복수의 액체 공급 구멍이 배치되는 위치들 사이에 흡인 배출 구멍을 위치시키도록 액체 흡인 구멍을 배치하기 때문에, 기판 이면의 현상액 등이나 용해 생성물이 기판 이면에 부착되지 않도록 할 수 있다.

도 1은 본 발명에 따른 현상 처리 장치의 제1 실시형태를 나타내는 개략 단면도이다.
도 2는 상기 현상 처리 장치의 개략 평면도이다.
도 3은 본 발명에서의 노즐 헤드를 나타내는 단면도이다.
도 4의 (a)는 본 발명에서의 회전 베이스의 평면도이고, (b)는 (a)의 I부를 나타내는 확대 사시도이다.
도 5는 본 발명에서의 평면부를 갖는 바닥이 있는 용기를 나타내는 사시도이다.
도 5a는 상기 평면부 및 바닥이 있는 용기을 나타내는 개략 평면도이다.
도 6의 (a)는 도 5의 II-II선을 따르는 바닥이 있는 용기의 단면도이고, (b)는 바닥이 있는 용기의 다른 부분의 단면도이다.
도 6a의 (a)는 본 발명에서의 평면부의 액체 공급 구멍과 흡인 배출 구멍의 압력 분포를 나타내는 그래프이고, (b)는 액체 공급 구멍과 흡인 배출 구멍의 개략 단면도이다.
도 6b는 본 발명에서의 간극 유지 핀과 보조 유지 핀에 의한 피처리 기판의 유지 상태를 나타내는 개략 단면도이다.
도 7의 (a)는 본 발명에서의 평면부를 나타내는 평면도이고, (b)는 평면부의 부압 영역의 확대 단면도이다.
도 8은 본 발명에서의 제1 환상 밀봉 부재를 나타내는 단면도이다.
도 9a의 (a)는 본 발명에 따른 현상 처리 장치에서의 기판의 반입 상태를 나타내는 개략 평면도이고, (b)는 개략 단면도이다.
도 9b의 (a)는 본 발명에 따른 현상 처리 장치에서의 기판의 수취 상태를 나타내는 개략 평면도이고, (b)는 개략 단면도이다.
도 9c의 (a)는 본 발명에 따른 현상 처리 장치에서의 기판 수취후의 상태를 나타내는 개략 평면도이고, (b)는 개략 단면도이다.
도 9d의 (a)는 본 발명에 따른 현상 처리 장치에서의 기판의 각도 조정 상태를 나타내는 개략 평면도이고, (b)는 개략 단면도이다.
도 9e의 (a)는 본 발명에 따른 현상 처리 장치에서의 액도포 상태를 나타내는 개략 평면도이고, (b)는 개략 단면도이다.
도 9f의 (a)는 본 발명에 따른 현상 처리 장치에서의 액막 형성 상태를 나타내는 개략 평면도이고, (b)는 개략 단면도이다.
도 9g의 (a)는 본 발명에 따른 현상 처리 장치에서의 현상 처리 상태를 나타내는 개략 평면도이고, (b)는 개략 단면도이다.
도 9h의 (a)는 본 발명에 따른 현상 처리 장치에서의 액제거 상태를 나타내는 개략 평면도이고, (b)는 개략 단면도이다.
도 10은 본 발명에 따른 현상 처리 장치의 처리 공정을 나타내는 플로우차트이다.
도 11의 (a)는 본 발명에 따른 현상 처리 장치의 제2 실시형태에서의 평면부의 평면도이고, (b)는 (a)의 단면도이며, (c)는 평면부의 부압 영역의 개략 단면도이다.
도 12의 (a)는 본 발명에 따른 현상 처리 장치의 제3 실시형태를 나타내는 개략 단면도이고, (b)는 본 발명에서의 로터의 사시도이다.
도 13은 본 발명에 따른 현상 처리 장치의 제4 실시형태의 주요부를 나타내는 개략 단면도이다.

이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태에 관해, 첨부 도면에 기초하여 상세하게 설명한다. 본 실시형태에서는, 본 발명에 따른 현상 처리 장치를, 포토마스크용 피처리 기판, 예를 들어 레티클용 글라스 기판에 현상 처리를 실시하는 현상 처리 장치에 적용한 경우에 관해 설명한다.

본 발명에 따른 현상 처리 장치는, 도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이, 케이싱(1)을 가지며, 이 케이싱(1) 내에, 글라스 기판(G)[이하에 기판(G)이라고 함]을 회전 가능하게 유지하는 회전 베이스(2)와, 이 회전 베이스(2)와 함께 회전 가능하고 회전 베이스(2)에 유지된 기판(G)의 외측 둘레부를 둘러싸며, 기판(G)의 표면의 동일 평면 상에 기판(G)의 표면상으로부터 연속되는 액막을 형성하기 위한 외측 둘레판(3)[이하, 조주(助走) 스테이지(3)라고 함]과, 기판(G)과 일정한 간극을 두고 대향하는 평면을 갖는 평면부(4)와, 기판(G)의 표면을 따라서 이동 가능하고, 기판(G)에 대한 현상액의 공급과 흡인을 동시에 행하는 노즐 헤드(5)를 포함한다.

또한, 상기 회전 베이스(2), 조주 스테이지(3) 및 평면부(4)는, 컵(6) 내에 수용 가능하게 형성되어 있고, 컵(6)의 바깥쪽에는, 회전 베이스(2) 및 평면부(4)에 유지된 기판(G)과 후술하는 액저장 공간(7)을 향하여 세정액(린스액), 예를 들어 순수(DIW)를 공급하는 제1 세정액 공급 노즐인 린스 노즐(8)이 설치되어 있다.

이 경우, 상기 회전 베이스(2)는, 도 4에 나타낸 바와 같이, 회전축(10)에 연결되는 원반형 베이스부(11)의 외측 둘레 4곳에 수평 지지편(12)을 연장시키고, 수평 지지편(12)의 선단에 환상 수평편(13)을 연결하고, 환상 수평편(13)의 4곳에 설치되는 각 제1 지지 기둥편(14)의 꼭대기부에, 각각 기판(G)의 모서리부를 유지하는 한 쌍의 위치 결정 핀(15)을 설치함으로써 이루어진다. 또, 환상 수평편(13)에 있어서의 제1 지지 기둥편(14)과 약 45도 오프셋된 4곳에는 제2 지지 기둥편(16)이 설치되고, 각 제2 지지 기둥편(16)에 의해 조주 스테이지(3)가 수평 상태로 지지되어 있다. 이 회전 베이스(2)는 회전축(10)을 통하여 모터 등의 회전 구동 기구(17)에 연결되고, 회전축(10)을 중심축으로 하여 정해진 회전 속도로 회전할 수 있다. 회전 베이스(2)는, 회전 구동 기구(17)에 의해 상하 이동(승강) 가능하게 형성될 수도 있다.

또한, 상기 조주 스테이지(3)는, 도 2에 나타낸 바와 같이, 평면에서 보았을 때 원형의 얇은 판형을 가지며, 중앙부에 기판(G)을 수용하는 사각의 개구부(3a)가 형성되어 있다. 이와 같이 조주 스테이지(3)의 외형을 원형으로 형성함으로써, 조주 스테이지(3)를 회전시켰을 때, 조주 스테이지(3)의 외측 둘레부 부근에서 난류가 형성되는 것을 방지하고 있다. 이 경우, 조주 스테이지(3)는, 기판(G)의 표면과 동일 평면상, 또는 약간 높은 위치, 예를 들어 200∼400 ㎛ 높은 위치에 고정되어 있다. 이에 따라, 기판(G)의 표면으로부터 조주 스테이지(3)의 표면에 걸친 동일 평면상에 연속된 액막을 형성할 수 있다. 조주 스테이지(3)의 개구부(3a)는, 기판(G)보다 약간 크게 형성되어 있고, 기판(G)과 조주 스테이지(3) 사이에는, 기판(G)을 교환하기 위한 간극(9)이 형성되어 있다.

또한, 평면부(4)는, 도 5, 도 5a 및 도 6, 도 6a, 도 6b에 나타낸 바와 같이, 바닥이 있는 원통형의 용기(20)의 내측에, 기판(G)과 일정한 간극(s)을 두고 대향하는 평면을 갖는다. 그리고, 평면부는, 회전 베이스(2)의 4개의 수평 지지편(12)과의 간섭을 회피하기 위해, 기판(G)의 이면의 둘레 가장자리 영역을 따르도록, 원주상에 4분할로 배치되어 있다. 평면부(4)를 4분할로 함으로써, 4분할된 평면부(4)가 기판(G)의 이면을 유지하기 때문에, 기판(G)을 안정적으로 하여 일정한 간격을 유지할 수 있다.

또, 평면부(4)의 상면측에는, 도 5, 도 5a, 도 6 및 도 7에 나타낸 바와 같이, 기판(G)과 평면부(4) 사이의 간극에 액체, 예를 들어 순수를 공급하기 위한 액체 공급 구멍(40)을 2곳에 배치하고, 액체 공급 구멍(40)이 형성된 위치들 사이의 위치에는, 액체를 흡인 배출하는 흡인 배출 구멍(41)을 1곳에 배치하도록 구성한다. 이 경우, 흡인 배출 구멍(41)의 개구(41a)를 갖는 개구면부(4A)는, 기판(G)의 1변과 평행한 직선형부(4a)와 이 직선형부(4a)의 일단부로부터 약 90도 굴곡된 직교부(4b)로 이루어진 대략 L자형으로 형성되어 있고, 흡인 배출 구멍(41)은, 직선형부(4a)의 중앙에 형성되는 직선형의 개구 베이스부(41b)와, 개구 베이스부(41b)의 단부로부터 직교부(4b)의 중앙측으로 약 90도 굴곡되어 연장된 개구 보조부(41c)로 이루어진 대략 L자형으로 형성되어 있다. 이와 같이 형성되는 대략 L자형의 흡인 배출 구멍(41)은, 기판(G)의 1변에 평행한 개구 베이스부(41b)와 기판(G)의 1변과 인접하는 다른 1변과 평행한 개구 보조부(41c)로 이루어지기 때문에, 기판(G)의 외측 둘레부의 흡인력을 높일 수 있고, 액체 공급 구멍(40)을 통한 액체의 공급 및 흡인 배출 구멍(41)을 통한 액체의 흡인을 효율적으로 행할 수 있다.

또, 평면부(4)에서의 흡인 배출 구멍(41)의 개구면부(4A)는, 액체 공급 구멍(40)의 개구부(40a)를 갖는 개구면부(4B)보다 예를 들어 약 0.5 mm 높게 형성되어 있다. 또, 액체 공급 구멍(40)은, 흡인 배출 구멍(41)의 개구면부(4A)와 액체 공급 구멍(40)의 개구면부(4B)의 경계 근방에 형성되고 있고, 양 액체 공급 구멍(40)의 개구부는, 흡인 배출 구멍(41)의 바깥쪽을 포위하는 연통 홈(40b)에 의해 연통되어 있다. 연통 홈(40b)은, 액체 공급 구멍(40)과 마찬가지로 흡인 배출 구멍(41)의 개구면부(4A)의 경계를 따라서 형성되어 있다.

상기와 같이 액체 공급 구멍(40)의 개구부를, 흡인 배출 구멍(41)의 바깥쪽을 포위하는 연통 홈(40b)에 의해 연통시킴으로써, 평면부(4)의 바깥쪽의 액체, 즉 후술하는 바닥이 있는 용기(20) 내에 저장된 세정에 사용된 순수가 흡인 배출 구멍(41)에 들어가는 것을 방지할 수 있다.

또한, 흡인 배출 구멍(41)의 개구면부(4A)를 액체 공급 구멍(40)의 개구면부(4B)보다 높게 형성함으로써, 흡인 면적을 증가시켜 흡인력을 증대시킬 수 있고, 기판(G)의 외측 둘레측의 흡인력을 높여 효율적인 흡인을 행할 수 있디(도 6a 참조).

아울러, 평면부(4)에는, 기판(G)의 이면에 한정적으로 접촉하고 평면부와의 사이에 간극을 두고 기판(G)을 유지하는 간극 유지 핀(45)과, 간극 유지 핀(45)보다 낮은 높이의 보조 유지 핀(46)이 설치되어 있다[도 5a, 도 6b 및 도 7의 (a) 참조].

이와 같이 기판(G)의 이면에 한정적으로 접촉하고 평면부와의 사이에 간극을 두고 기판(G)을 유지하는 간극 유지 핀(45)과, 간극 유지 핀(45)보다 낮은 높이의 보조 유지 핀(46)을 설치함으로써, 흡인 배출 구멍(41)의 흡인 작용에 의해 기판(G)이 휘어졌을 때 보조 유지 핀(46)에 의해 기판(G)을 유지할 수 있으므로, 기판(G)과 평면부(4)의 접촉을 방지할 수 있다. 또, 보조 유지 핀(46)에 의해 기판(G)을 유지함으로써, 기판(G)과 평면부(4) 사이의 간격을 협소하게 할 수 있기 때문에, 강한 흡인력을 얻을 수 있고, 액체 공급량의 삭감을 도모할 수 있다.

이 경우, 액체 공급 구멍(40) 및 흡인 배출 구멍(41)에 각각 접속되는 관로(42a, 42b)에, 전환 밸브인 유로 개폐 밸브(V1, V2)를 개재하여 액체 공급원(43), 흡인 배출 장치(44)가 접속되어 있다. 또, 유로 개폐 밸브(V1, V2)에 제어부(65)가 전기적으로 접속되어 있어, 제어부(65)로부터의 제어 신호에 기초하여 유로의 개폐를 제어함으로써, 액체의 공급과 액체의 흡인 배출의 타이밍을 별개로 설정할 수 있도록 구성되어 있다.

또, 바닥이 있는 용기(20)의 원통형 측벽(24)의 꼭대기면(24a)에는, 후술하는 제1 환상 밀봉 부재(25a)를 끼워 맞추는 제1 둘레 홈(24b)이 형성되어 있다.

바닥이 있는 용기(20)의 제1 둘레 홈(24b) 내에 끼워 맞춰지는 제1 환상 밀봉 부재(25a)는, 조주 스테이지(3)의 이면의 전체 둘레에 걸쳐 밀착 가능하게 형성되어 있다. 이 경우, 상기 제1 환상 밀봉 부재(25a)는, 예를 들어 가요성이 있는 PCTFE(폴리클로로트리플루오로에틸렌), PTFE(폴리테트라플루오로에틸렌) 등의 수지, 또는 예를 들어 실리콘을 함유하는 내약성이 우수한 고무재 등이 이용되고, 각각 밀접(密接) 대상이 되는 조주 스테이지(3)의 이면측을 향하여 경사지게 연장되는 가요성을 갖는 밀봉편(25c)을 포함하고 있다. 이와 같이, 제1 환상 밀봉 부재(25a)에 조주 스테이지(3)의 이면측을 향하여 경사형으로 연장되는 가요성을 갖는 밀봉편(25c)을 형성함으로써, 조주 스테이지(3)의 이면과의 접촉 면적을 넓게 할 수 있고, 조정을 용이하게 할 수 있다.

또, 바닥이 있는 용기(20)의 바닥부(22)의 1곳에는, 배액구(26)가 형성되고, 바닥부(22)의 바닥면(22a)은 배액구(26)측을 향하여 하강 경사지게 형성되어 있다. 이에 따라, 바닥부(22)의 바닥면(22a)에 부착되는 액을 양호하게 제거할 수 있다.

또한, 바닥이 있는 용기(20)의 바닥부(22)의 중심부에는 관통 구멍(21)이 형성되고, 이 관통 구멍(21) 내에 회전축(10)이 회전 및 상하 이동(승강) 가능하게 삽입되며, 관통 구멍(21)과 회전축(10)의 간극이 제2 환상 밀봉 부재(25b)에 의해 막혀 공기와 물이 새지 않는 구조로 형성되어 있다(도 1 참조).

또, 평면부(4)의 바닥부(22)의 적시 위치에는, 제2 세정액 공급 노즐인 백린스 노즐(70)을 통해 분사되는 린스액이 유통하는 통로(22b)가 형성되어 있다(도 6의 (b) 참조).

상기와 같이 형성되는 평면부(4)에 의해 기판(G)을 일정 간극(s)을 두고 유지하고, 제1 환상 밀봉 부재(25a)를 통하여 바닥이 있는 용기(20)와 조주 스테이지(3)가 밀착함으로써, 공기와 물이 새지 않는 액저장 공간(7)이 형성된다. 또, 평면부(4)에 의한 흡인의 해제 및 제1 환상 밀봉 부재(25a)에 의한 밀착이 해제된 상태로, 회전 베이스(2) 및 조주 스테이지(3)와 함께 기판(G)이 회전 가능하게 형성된다. 따라서, 평면부(4)를 회전시키지 않고 회전 베이스(2) 및 조주 스테이지(3)를 회전시키기 때문에, 회전 구동 기구(17)의 동력을 작게 할 수 있다.

평면부(4)에는, 기판(G)의 외측 둘레부에 대응하여, 수직 방향으로 관통하는 관통 구멍(27)이 3개 형성되어 있다. 각 관통 구멍(27) 내에는, 기판(G)을 지지하여 승강시키는 지지 핀(28)이 승강 가능하게 관통 삽입되어 있다. 지지 핀(28)은, 예를 들어 실린더 등의 승강 구동부(29)에 의해 승강 가능하고, 회전 베이스(2) 상에 돌출되어 회전 베이스(2)에 대하여 기판(G)을 교환할 수 있다.

또, 회전 베이스(2)와 평면부(4)는, 기판(G)으로부터 비산 또는 낙하하는 액체를 받아 회수하기 위한 컵(6) 내에 수용되어 있다. 컵(6)은, 회전 베이스(2) 및 평면부(4)의 옆쪽과 아래쪽을 덮도록, 예를 들어 하면이 폐쇄되고 상면이 개구된 사각형의 대략 통형상으로 형성되어 있다. 컵(6)의 하면에는, 예를 들어 공장의 배액부에 연통하는 배출관(6a)이 접속되어 있어, 컵(6)에서 회수한 액체를 현상 처리 장치의 외부로 배출할 수 있다.

또한, 도 2에 나타낸 바와 같이 컵(6)의 마이너스 Y 방향(도 2의 좌측 방향)측에는, 제1 대기부(61)가 설치되어 있다. 제1 대기부(61)에는, 현상액 및 세정액(린스액)의 공급과 흡인을 행하는 노즐 헤드(5)가 대기 가능하게 되어 있다. 노즐 헤드(5)는, 예를 들어 적어도 기판(G)의 변의 치수와 동일하거나 그보다 길고, X방향을 따르는 대략 직방체형을 갖는다. 노즐 헤드(5)는, 문형(門型)의 헤드 아암(5b)에 지지되어 있고, 헤드 아암(5b)이 부착된, 예를 들어 볼나사와 그 회전 모터 등으로 이루어진 수평 이동 기구(5c)에 의해, 제1 대기부(61)로부터 적어도 컵(6)의 플러스 Y방향(도 2의 우측 방향)측의 단부 부근까지 수평 이동(스캔) 가능하게 형성되어 있다. 또, 노즐 헤드(5)는, 예를 들어 헤드 아암(5b)에 부착된 볼나사와 그 회전 모터 등으로 이루어진 승강 구동 기구(도시하지 않음)에 의해 상하 방향으로도 이동 가능하게 형성되어 있다.

도 3에 나타낸 바와 같이, 노즐 헤드(5)의 하면(5a)은, 기판(G)의 표면과 평행하도록 수평으로 형성되어 있다. 노즐 헤드(5)의 하면(5a)에 있어서 노즐 헤드(5)의 진행 방향인 Y방향의 중앙부에는, 현상액 토출구(30)가 형성되어 있다. 현상액 토출구(30)는, 예를 들어 노즐 헤드(5)의 길이 방향(X방향)을 따라서, 예를 들어 기판(G)의 변보다 긴 슬릿형으로 형성되어, 현상액을 띠모양으로 토출할 수 있다. 현상액 토출구(30)는, 노즐 헤드(5)의 내부에 형성된 제1 저장부(31)에 연통하고 있고, 제1 저장부(31)는, 현상액 공급관(33)을 통해 현상 처리 장치의 외부에 설치된 현상액 공급원(32)에 접속되어 있다. 현상액 공급원(32)은, 현상액 공급관(33)을 통하여 정해진 유량의 현상액을 노즐 헤드(5)에 공급할 수 있다. 노즐 헤드(5)는, 공급된 현상액을 제1 저장부(31)에 일단 저장하여 압력 조정하고, 그 후 현상액 토출구(30)를 통해 균일하게 토출할 수 있도록 되어 있다.

노즐 헤드(5)의 하면(5a)의 현상액 토출구(30)를 사이에 둔 양측에는, 기판(G) 상의 현상액을 흡인하는 현상액 흡인구(34)가 형성되어 있다. 현상액 흡인구(34)는, 예를 들어 현상액 토출구(30)와 평행한 슬릿형으로 형성되어 있다. 현상액 흡인구(34)는, 예를 들어 노즐 헤드(5)의 내부에 형성된 제2 저장부(35)에 연통하고 있고, 제2 저장부(35)는, 흡인관(37)을 통해 케이싱(1)의 외부에 설치된 흡인 장치(36)에 접속되어 있다. 흡인 장치(36)는, 흡인관(37)을 통하여 정해진 압력으로 흡인할 수 있다. 따라서, 현상액 토출구(30)를 통해 기판(G) 상에 공급된 현상액을 현상액 토출구(30)의 양측의 현상액 흡인구(34)를 통해 정해진 압력으로 흡인할 수 있다. 그 결과, 기판(G)의 표면상에는, 현상액 토출구(30)를 통하여 현상액 흡인구(34)를 향하는 현상액의 흐름을 형성할 수 있다.

노즐 헤드(5)의 하면(5a)의 각 현상액 흡인구(34)의 더 바깥쪽에는, 각각 순수 등의 린스액을 토출하는 린스액 토출구(50)가 형성되어 있다. 린스액 토출구(50)는, 예를 들어 현상액 토출구(30)에 평행한 슬릿형으로 형성되어, 린스액을 X방향을 따른 띠모양으로 토출할 수 있다. 린스액 토출구(50)는, 노즐 헤드(5)의 내부에 형성된 제3 저장부(51)에 연통하고, 린스액 공급관(53)을 통해 케이싱(1)의 외부에 설치된 린스액 공급원(52)에 접속되어 있다. 린스액 공급원(52)은, 린스액 공급관(53)을 통하여 정해진 유량의 린스액을 노즐 헤드(5)에 공급할 수 있다. 노즐 헤드(5)는, 공급된 린스액을 제3 저장부(51)에 일단 저장하여 압력 조정하고, 그 후 린스액 토출구(50)를 통해 동일하게 토출할 수 있다.

또한, 도 2에 나타낸 바와 같이, 컵(6)의 플러스 Y 방향측에는, 제2 대기부(62)가 설치되어 있다. 제2 대기부(62)에는, 세정액 공급 노즐인 린스 노즐(8)이 대기 가능하게 되어 있다. 린스 노즐(8)은, 예를 들어 회전 구동축(8a)에 부착된 노즐 아암(8b)의 선단부에 지지되어 있고, 회전 구동축(8a)의 회전에 의해 제2 대기부(62)로부터 컵(6) 내의 기판(G)의 중심부 위쪽까지 이동할 수 있다. 린스 노즐(8)은, 린스액 공급관(64)에 의해, 예를 들어 케이싱(1)의 외부에 설치된 린스액 공급원(63)에 접속되어 있고, 린스액 공급원(63)으로부터 공급된 린스액(순수)을 아래쪽을 향해 토출할 수 있다.

컨트롤러(100)는, 상기 회전 구동 기구(17), 승강 구동부(29) 외에, 노즐 헤드(5)의 수평 이동 기구(5c)나 승강 구동 기구(도시하지 않음) 등의 구동부, 린스 노즐(8)의 구동부 등에 전기적으로 접속되어 있고, 미리 기억된 프로그램에 기초하여 회전 구동 기구(17), 승강 구동부(29), 노즐 헤드(5)의 구동부, 린스 노즐(8)의 구동부 등을 제어하도록 형성되어 있다.

다음으로, 상기와 같이 구성되는 현상 처리 장치의 현상 처리에 관해, 도 9a 내지 도 9h에 나타내는 설명도 및 도 10에 나타내는 플로우차트를 참조하여 설명한다.

우선, 현상 처리 장치의 외부의 반송 아암(80)에 의해 반송된 기판(G)이 현상 처리 장치에 반입되면, 기판(G)은, 미리 상승한 지지 핀(28)에 전달되고, 지지 핀(28)의 하강에 의해 회전 베이스(2) 상에 배치되며, 위치 결정 핀(15)에 의해 위치 결정된다(S-1; 도 9a, 도 9b, 도 9c 참조).

다음으로, 회전 구동 기구(17)가 구동되어 기판(G)을 유지한 회전 베이스(2)가 정해진 각도로 회전되어, 기판(G)의 수평면상의 각도가 조정되며, 평면부(4)가 회전 베이스(2)에 대하여 상대적으로 상승하여, 평면부(4)에 기판이 배치된다(S-2, S-3; 도 9d 참조). 그리고, 평면부(4)가 기판(G)과 일정한 간극(s)을 갖는 상태로, 제1 환상 밀봉 부재(25a)를 통하여 바닥이 있는 용기(20)와 조주 스테이지(3)가 밀착하여, 액저장 공간을 형성한다. 그리고, 액체 공급 구멍(40) 또는 백린스 노즐(70)을 통해 린스액을 토출하여, 액저장 공간(7) 내에 린스액(순수)을 저장한다(S-4; 도 9e 참조). 그리고, 린스 노즐(8)이 기판(G)의 중심부 위쪽까지 이동하여, 순수를 아래쪽을 향해 토출하여 기판(G)의 표면과 조주 스테이지(3)의 표면에 액막(L)을 형성하여 액을 도포한다(S-4; 도 9f 참조). 이와 같이 하여, 기판(G)의 표면의 습윤성을 향상시키는 프리웨트 처리가 행해진다. 액도포 종료후, 린스 노즐(8)은 제2 대기부(62)로 되돌아간다.

액저장 공간(7) 내에 공급되는 린스액(순수)은, 린스 노즐(8)에 의해 더 첨가될 수도 있다. 이 경우에, 액체 공급 구멍(40) 또는 백린스 노즐(70)의 토출과 동시에, 기판(G)의 중심부 위쪽까지 이동한 린스 노즐(8)을 통해 린스액을 토출한다.

액저장 공간(7) 내에 공급되는 린스액(순수)을 린스 노즐(8)에 의해서만 공급하도록 해도 좋다. 즉, 액저장 공간(7) 내로의 린스액의 공급을 액체 공급 구멍(40), 백린스 노즐(70) 및 린스 노즐(8)의 하나 이상에 의해 행하도록 해도 좋다. 이와 같이 함으로써, 액저장 공간(7) 내에 린스액(순수)을 효율적으로 공급할 수 있다.

다음으로, 제1 대기부(61)에 대기했던 노즐 헤드(5)가 기판(G)보다 마이너스 Y 방향측의 조주 스테이지(3) 상까지 이동하여, 노즐 헤드(5)의 린스액 토출구(50), 현상액 토출구(30) 및 현상액 흡인구(34)가 있는 하면(5a)이 조주 스테이지(3) 상에 배치된다. 그리고, 노즐 헤드(5)가 하강하여, 스타트 위치인 조주 스테이지(3)의 표면에 근접하게 된다. 다음으로, 린스액 토출구(50)를 통해 린스액을 토축하고, 현상액 토출구(30)를 통해 현상액을 토출하고, 현상액 흡인구(34)를 통해 상기 린스액과 현상액을 흡인하면서 플러스 Y방향측으로 이동한다(S-5; 도 9g 참조). 이때, 노즐 헤드(5)의 하면(5a)과 조주 스테이지(3)의 표면 사이는 항상 린스액과 현상액으로 채워져 있어, 노즐 헤드(5)의 하면(5a)에 거품이 생기는 현상이 방지된다. 노즐 헤드(5)가 플러스 Y 방향측으로 진행하여, 기판(G)의 표면상을 이동하고 있을 때에는, 현상액 토출구(30)를 통해 기판(G) 상에 토출된 현상액은, 노즐 헤드(5)의 진행 방향의 전방측과 후방측에 있는 현상액 흡인구(34)를 통해 흡인되어, 기판(G)의 표면의 일부 영역에 띠모양의 현상액의 흐름이 형성된다. 이러한 현상액의 흐름에 의해 기판(G)의 표면이 현상된다. 현상에 의해 생긴 용해 생성물은 즉시 현상액 흡인구(34)를 통해 배출된다.

노즐 헤드(5)는, 예를 들어 현상액의 공급과 흡인을 연속적으로 행하면서, 조주 스테이지(3)의 플러스 Y 방향측의 단부 부근까지 이동(스캔)한다. 이렇게 함으로써, 현상액의 흐름이 생기는 영역이 점차 이동하여, 기판(G)의 표면 전체가 현상된다. 노즐 헤드(5)가 조주 스테이지(3)의 플러스 Y 방향측의 단부 부근까지 이동하면, 현상액 및 린스액의 공급과 그 흡인이 정지되고, 노즐 헤드(5)는 제1 대기부(61)로 되돌아간다.

상기와 같이 하여 현상 처리가 종료한 후, 액저장 공간(7) 내에 저장된 액(현상액과 린스액의 혼합액)은 배액구(26)를 통해 외부로 배출된다(S-6; 도 9h 참조). 이어서, 액체 공급 구멍(40)을 통한 린스액의 토출과 흡인 배출 구멍(41)의 린스액의 흡인이 해제되어, 평면부(4)가 회전 베이스(2)에 대하여 상대적으로 하강하여, 기판(G)이 배치된다(S-7). 이 때, 컵(6)이 상승한다.

이어서, 제2 대기부(62)에서 대기하던 린스 노즐(8)이 기판(G)의 중심부 위쪽까지 이동하고, 회전 베이스(2)에 의해 조주 스테이지(3)와 함께 기판(G)이 회전된다. 린스 노즐(8)을 통해 회전된 기판(G) 상에 린스액이 토출되어 기판(G)이 세정된다(S-8). 이 때, 액체 공급 구멍(40) 또는 백린스 노즐(70)을 통해서도 세정액을 토출하여, 기판(G)의 이면에 세정액을 공급해도 좋다.

상기와 같이 하여, 기판(G)이 정해진 시간동안 세정된 후, 기판(G)이 고속 회전되어, 기판(G)이 건조된다(S-9). 기판(G)이 건조되면, 다시 지지 핀(28)이 상승하여 기판(G)을 들어올리고, 현상 처리 장치의 외부의 반송 아암(80)에 의해 기판 처리 장치의 외부로 반출한다.

이상의 실시형태에 의하면, 현상 처리 전에, 액저장 공간(7) 내에 액을 저장하고 기판(G)의 표면 및 조주 스테이지(3)의 표면에 연속하여 액막을 형성하기 때문에, 노즐 헤드(5)에 의한 현상액의 공급과 흡인시에 현상액 내에 거품이 생기는 것을 방지할 수 있다.

또한, 현상 처리 및 세정 처리시에, 평면부(4)는, 기판(G)을 비접촉으로 유지하거나 간극 유지 핀(45)에 의해 한정적으로 접촉시켜 유지하기 때문에, 기판의 이면 및 평면부(4)를 세정할 수 있다. 그 결과, 기판(G)의 이면에 부착되는 먼지를 저감할 수 있다.

상기 실시형태에서는, 평면부(4)에 형성된 액체 공급 구멍(40) 사이의 위치에, 흡인 배출 구멍(41)을 1곳 배치하는 경우에 관해 설명했지만, 도 11에 나타낸 바와 같이, 액체 공급 구멍(40) 사이의 위치에, 제1 흡인 배출 구멍(41A) 및 제2 흡인 배출 구멍(41B)을 나란히 배치해도 좋다. 이 경우, 각각의 개구(41a)는 대략 L자형으로 형성된다. 도 11에 나타내는 실시형태에서, 그 밖의 부분은 상기 실시형태와 동일하기 때문에, 동일한 부분에는 동일한 부호를 붙이고 설명은 생략한다. 그리고, 개구(41a)에 접속되는 관로(42b)에는, 유로 개폐 밸브(V3, V4)를 설치하고, 이들 복수의 유로 개폐 밸브(V3, V4)에 접속된 제어부(65)에 의해, 유로 개폐 밸브(V3, V4)의 개폐를 제어하도록 구성되어 있다.

구체적으로는, 우선, 제어부(65)로부터의 제어 신호에 기초하여, 유로 개폐 밸브(V3)만 개방하여, 제1 흡인 배출 구멍(41A)을 통해 기판(G)의 이면과 평면부(4) 사이의 간극에 있는 액체를 흡인 배출한다. 이어서, 일정 시간 경과후, 유로 개폐 밸브(V3)를 폐쇄하는 동시에 유로 개폐 밸브(V4)를 개방하여, 제2 흡인 배출 구멍(41B)을 통해 상기 액체를 흡인 배출한다. 또한 일정 시간 경과후, 유로 개폐 밸브(V3)를 개방하는 동시에 유로 개폐 밸브(V4)를 폐쇄하여, 제1 흡인 배출 구멍(41A)을 통해 액체를 흡인 배출한다. 이 동작을 반복하여 행함으로써, 복수의 흡인 배출 구멍(41A, 41B)을 통한 액체의 흡인을 어느 하나에 의해 행하도록 구성한다.

이와 같이 구성함으로써, 도 11의 (c)에 나타낸 바와 같이, 기판(G)의 이면과 평면부(4)의 사이에 기포(B)가 발생하는 것을 방지하여, 평면부(4) 및 기판(G)의 이면의 오염을 더욱 저감할 수 있다.

다음으로, 제3 실시형태를 이하에 설명한다. 도 12에 나타낸 바와 같이, 액체 공급 구멍(40)이 형성된 위치의 사이에, 흡인 배출 구멍(41A, 41B)을 복수 배치하고, 흡인 배출 구멍(41A, 41B)에 공통으로 접속된 관로 합류부(90) 내에 로터(91)를 회전 가능하게 설치한다. 로터(91)는, 원통형의 표면에 홈(92)을 복수 형성하고(도 12의 (b) 참조), 또한 액체 공급원인 순수 공급 탱크(도시하지 않음)로부터의 순수 공급 관로의 도중에 배치함으로써, 순수(DIW)의 흐름에 의해 로터(91)가 회전하는 구조로 되어 있다. 이 경우, 홈(92)은, 복수의 흡인 배출 관로 중 어느 한쪽만 액체의 흐름을 통과하도록 형성되어 있기 때문에, 제1 흡인 배출 구멍(41A)과 제2 흡인 배출 구멍(41B)을 통한 액체의 흡인을 교대로 전환할 수 있는 구성으로 되어 있다.

이와 같이 구성함으로써, 흡인 배출 구멍(41A, 41B)에 의한 액체의 흡인을 정기적으로 전환할 수 있기 때문에, 액저장 공간(7)에서의 기포의 발생을 방지하여, 평면부(4) 및 기판(G)의 이면의 오염을 저감할 수 있다. 또, 흡인 배출 구멍(41A, 41B)을 통한 액체 흡인을, 제어 장치를 이용하지 않고 전환할 수 있기 때문에, 비용을 억제할 수 있다.

상기 제2 실시형태 및 제3 실시형태에서는, 액체 공급 구멍(40) 사이의 위치에, 제1 흡인 배출 구멍(41A) 및 제2 흡인 배출 구멍(41B)을 나란히 배치한 경우에 관해 설명했지만, 도 13에 나타낸 바와 같이, 제1 흡인 배출 구멍(41A)과 제2 흡인 배출 구멍(41B) 사이에 액체 공급 구멍(40)을 배치하고, 액체 공급 구멍(40) 사이의 위치에 각각 제1 흡인 배출 구멍(41A)과 제2 흡인 배출 구멍(41B)을 배치해도 좋다. 이 경우, 제1 흡인 배출 구멍(41A)과 제2 흡인 배출 구멍(41B)은, 액체 공급 구멍(40)에 연통하는 연통 홈(40b)에 의해 포위되어 있다.

이와 같이 구성함으로써, 기판(G)의 외측 둘레부의 흡인력을 높일 수 있고, 기판 이면 전체의 흡인력을 높일 수 있다.

상기 실시형태는, 본 발명의 일례를 나타내는 것이며, 본 발명은 이 예에 한정되지 않고 다양한 양태를 채택할 수 있다. 예를 들어, 본 발명은, 레티클, LCD, FPD(플랫 패널 디스플레이) 등의 사각형 기판에 한정되지 않고, 웨이퍼 등의 원형 기판 등 다른 기판에도 적용할 수 있다.

G : 글라스 기판(기판)
2 : 회전 베이스
3 : 조주 스테이지(외측 둘레판)
4 : 평면부
4A : 흡인 배출 구멍을 갖는 개구면부
4b : 액체 공급 구멍을 갖는 개구면부
5 : 노즐 헤드
7 : 액저장 공간
8 : 린스 노즐(제1 세정액 공급 노즐)
17 : 회전 구동 기구
20 : 바닥이 있는 용기
22 : 바닥부
24 : 측벽
25a : 환상 밀봉 부재
26 : 배액구
40 : 액체 공급 구멍
40a : 개구
40b : 연통 홈
41, 41A, 41B : 흡인 배출 구멍
41a : 개구
41b : 개구 베이스부
41c : 개구 보조부
45 : 간극 유지 핀
46 : 보조 유지 핀
V1, V2, V3, V4 : 유로 개폐 밸브(전환 밸브)
65 : 제어부
70 : 백린스 노즐(제2 세정액 공급 노즐)
90 : 관로 합류부
91 : 로터(내부 회전체)
92 : 홈

Claims (14)

1. 판형의 피처리 기판을 회전 가능하게 유지하는 회전 베이스와,
   상기 회전 베이스와 함께 회전 가능하고, 회전 베이스에 유지된 피처리 기판의 외측 둘레부를 둘러싸며, 피처리 기판의 표면상으로부터 연속되는 액막을 형성하기 위한 외측 둘레판과,
   상기 회전 베이스에 유지된 피처리 기판의 표면을 따라서 이동 가능하고, 상기 피처리 기판에 대한 현상액의 공급과 흡인을 동시에 행하는 노즐 헤드와,
   상기 회전 베이스에 유지된 상기 피처리 기판과 일정한 간극을 두고 대향하는 평면을 갖는 평면부와,
   상기 평면부를 상기 회전 베이스에 대하여 상대적으로 상하 이동시키는 이동 기구와,
   상기 평면부에 있어서 피처리 기판의 대향측에 형성되고 상기 간극에 액체를 공급하기 위해 배치된 복수의 액체 공급 구멍과,
   상기 복수의 액체 공급 구멍이 배치되는 위치들 사이에 위치하도록 상기 액체 공급 구멍과 정해진 간격을 두고 형성되며 상기 액체를 흡인 배출하기 위한 흡인 배출 구멍과,
   상기 액체 공급 구멍을 통한 액체의 공급과 상기 흡인 배출 구멍에 의한 흡인 배출을 제어하기 위한 제어부
   를 포함하는 것을 특징으로 하는 현상 처리 장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 액체 공급 구멍의 개구부는, 상기 흡인 배출 구멍의 바깥쪽을 포위하는 연통 홈에 의해 연통되어 있는 것을 특징으로 하는 현상 처리 장치.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 흡인 배출 구멍은, 직선형의 개구 베이스부와, 이 개구 베이스부의 단부로부터 상기 피처리 기판의 외측 둘레 대향측을 향하여 굴곡된 개구 보조부를 갖는 것을 특징으로 하는 현상 처리 장치.
4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 평면부에서의 상기 흡인 배출 구멍의 개구면부가, 상기 액체 공급 구멍의 개구면부보다 높게 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 현상 처리 장치.
5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 평면부는, 이 평면부와의 사이에 간극을 두고 상기 피처리 기판을 유지하는 간극 유지 핀과, 상기 간극 유지 핀보다 낮은 높이의 보조 유지 핀을 포함하는 것을 특징으로 하는 현상 처리 장치.
6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 평면부는, 피처리 기판의 이면에 대향하여 복수 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 현상 처리 장치.
7. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 평면부는 바닥이 있는 용기의 내측에 형성되어 있고, 상기 바닥이 있는 용기의 개구 둘레 가장자리에는, 상기 회전 베이스를 이동시켰을 때, 상기 외측 둘레판의 이면의 전체 둘레에 걸쳐 밀착될 수 있는 제1 환상 밀봉 부재가 구비되고, 상기 바닥이 있는 용기의 바닥부에는 관통 구멍이 형성되어 있으며, 상기 관통 구멍 내에 상기 회전 베이스의 회전축을 회전 및 상하 이동 가능하게 삽입하고, 관통 구멍과 회전축의 간극을 제2 환상 밀봉 부재에 의해 막아, 상기 액체를 저장하는 액저장 공간을 공기와 물이 새지 않는 구조로 형성하는 것을 특징으로 하는 현상 처리 장치.
8. 제7항에 있어서, 상기 바닥이 있는 용기는, 바닥부에 형성된 배액구를 구비하는 것을 특징으로 하는 현상 처리 장치.
9. 제7항에 있어서, 상기 액저장 공간에 저장되는 액체는, 상기 액체 공급 구멍 외에, 상기 회전 베이스에 유지된 기판에 세정액을 공급하기 위한 제1 세정액 공급 노즐 및 상기 바닥이 있는 용기의 바닥부에 배치된 제2 세정액 공급 노즐 중 하나 이상에 의해 공급되는 어느 하나의 액체인 것을 특징으로 하는 현상 처리 장치.
10. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 액체 공급 구멍 및 상기 흡인 배출 구멍은 직선형으로 형성되고, 상기 흡인 배출 구멍은, 상기 복수의 액체 공급 구멍의 사이에 위치된 위치에서 상기 액체 공급 구멍과 나란히 복수 배치되고, 상기 제어부는 상기 피처리 기판과 상기 평면부 사이에 공급된 액체의 흡인을 교대로 전환하는 것을 특징으로 하는 현상 처리 장치.
11. 제9항에 있어서, 상기 흡인 배출 구멍에 접속된 관로에 설치되어, 상기 피처리 기판과 평면부 사이에 공급된 액체의 흡인을 교대로 전환하기 위한 전환 밸브를 설치한 것을 특징으로 하는 현상 처리 장치.
12. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 흡인 배출 구멍에 접속된 관로에, 상기 복수의 흡인 배출 구멍에 의한 액체의 흡인을 교대로 전환하기 위한 내부 회전체를 포함하는 것을 특징으로 하는 현상 처리 장치.
13. 제12항에 있어서, 상기 내부 회전체는, 복수의 상기 흡인 배출 구멍에 접속되고 상기 액체 공급 구멍에 접속되는 관로 합류부 내에 회전 가능하게 설치되고, 상기 액체 공급 구멍에 접속된 액체 공급원으로부터 공급되는 액체에 의해 회전하여, 상기 복수의 흡인 배출 구멍을 통한 액체의 흡인을 어느 하나로 전환하기 위한 홈을 형성한 것을 특징으로 하는 현상 처리 장치.
14. 판형의 피처리 기판을 회전 가능한 회전 베이스에 유지하는 공정과,
    평면을 갖는 평면부를 상기 회전 베이스에 대하여 상대적으로 상하 이동시키는 이동 기구에 의해 이동시킨 위치에서 상기 평면부와 상기 피처리 기판을 일정한 간극을 두고 대향시키는 공정과,
    이어서, 상기 평면부의 피처리 기판의 대향측에 형성되고 상기 간극에 액체를 공급하기 위해 배치된 복수의 액체 공급 구멍과, 이들 복수의 액체 공급 구멍이 배치되는 위치들 사이에 위치하도록 상기 액체 공급 구멍과 정해진 간격을 두고 형성되며 상기 액체를 흡인 배출하기 위한 흡인 배출 구멍을 통해 각각 액체를 공급하고 흡인 배출하는 공정과,
    상기 회전 베이스에 유지된 피처리 기판의 표면을 따라서, 상기 피처리 기판에 대한 현상액의 공급과 흡인을 동시에 행하면서 노즐을 이동시키는 공정
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 현상 처리 방법.

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