JP2005246585A - 研磨装置、研磨方法、光学素子及び露光装置 - Google Patents

研磨装置、研磨方法、光学素子及び露光装置 Download PDF

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Abstract

【課題】 研磨対象物の表面に気体を噴射ノズルから噴射させて表面研磨を行う際に、研磨速度を一定に保ち研磨の安定性を保つことが可能な研磨装置、研磨方法、光学素子及び露光装置を提供する。
【解決手段】 研磨時間中の研磨液13の温度を一定に保つための温度調節手段として、研磨液槽11の周囲にヒーター17を設置して、ヒーター17の温度を制御することにより、研磨液13の温度を一定の温度に保つ。
【選択図】 図1

Description

本発明は、研磨液槽内の研磨液に研磨対象物を浸して、研磨対象物の表面に気体を噴射することによって研磨を実施する研磨装置、研磨方法、光学素子及び露光装置に関する。
従来、水等の液体と研磨材とを混合した研磨液を噴射ノズルから噴射させて研磨対象物の表面を研磨する、という方法が知られている。この場合には、研磨材が直接噴射ノズルの通路中を通過するので、噴射ノズルの先端に研磨材が付着して目詰まりを起こすという問題がある。また、研磨材が高速で噴射ノズルの細い通路を通過することになるので、通路内壁の摩耗の原因になり、通路内壁が摩耗すると、噴射ノズルの通路の径が変わることになり、このような状況で研磨を実施すると、研磨液の流量変化に伴う研磨速度の変化により、研磨対象物の表面にむらができる原因になる。
一方、被加工物のバリ取りを行う装置として特許文献1に記載の液中表面加工装置が公開されている。ここでは、この装置は、タンク内の研磨剤混入液中に被加工物が載置され、この被加工物の加工対象表面へ向けてノズル装置から加工流体が高圧噴射されるようになっており、この加工流体として各種液体及び気体が利用可能である旨記載されている。但し、この特許文献1では、加工流体として気体を用いた実施形態は記載されていないものである。
特開2002−113663公報
しかしながら、この特許文献1に記載のものは、バリ取りを行う装置であるため、高精度の表面研磨が要求される光学素子等の研磨に適用するのは難しいものである。
そこで、本発明者らは、研磨材と水などの液体からなる研磨液で満たした研磨液槽内に研磨対象物を浸して噴射ノズルから気体を噴射する研磨装置を特許出願している(但し、現時点では未公開)。この噴射ノズルから気体を噴射することにより、この気体に巻き込まれた研磨液によって研磨対象物の表面研磨を行うものである。
しかし、図6に示すように、気体14の噴射を用いて研磨対象物を研磨する際に、噴射ノズル15から噴射された気体14は、研磨液中で急激に膨張することにより温度低下する。従って、この気体噴射による研磨を実行し続けると研磨液の温度も低下することになり、単位時間当たりの研磨除去量が低下し、研磨対象物の研磨加工時間が長くなってしまい、研磨の安定性に欠ける、という現象を本発明者らは見出した(図7参照)。
そこで、本発明は、研磨速度を一定に保ち研磨の安定性を保つことが可能な研磨装置、研磨方法、光学素子及び露光装置を提供することを課題とする。
請求項1に記載の発明は、研磨液槽内の研磨液に研磨対象物を浸し、該研磨対象物の表面に気体を噴射することによって前記表面の研磨を行う研磨装置であって、研磨時間中の前記研磨液の温度を一定に保つための温度調節手段を備えることを特徴とする。
請求項2に記載の発明は、請求項1の構成に加えて、前記温度調節手段は、前記研磨液槽の周囲又は内部にヒーターを設置して該ヒーターの温度を制御することにより、前記研磨液の温度を一定に保つことを特徴とする。
請求項3に記載の発明は、請求項1の構成に加えて、前記温度調節手段は、前記研磨液槽の周囲に水槽を設置し、該水槽内の水の温度を制御することにより、前記研磨液の温度を一定に保つことを特徴とする。
請求項4に記載の発明は、請求項3の構成に加えて、前記温度調節手段は、前記水槽内に供給する所定の温度の水の流量を調整することにより、前記水槽内の水の温度を制御するようにしたことを特徴とする。
請求項5に記載の発明は、請求項3の構成に加えて、前記温度調節手段は、前記水槽内に供給する水の温度を制御することにより、前記水槽内の水の温度を制御するようにしたことを特徴とする。
請求項6に記載の発明は、請求項3の構成に加えて、前記温度調節手段は、前記水槽の周囲又は内部にヒーターを設置して該ヒーターの温度を制御することにより、
前記水槽内の水の温度を制御するようにしたことを特徴とする。
請求項7に記載の発明は、請求項3の構成に加えて、前記温度調節手段は、前記水槽に気体を吹き付ける気体吹付手段を設置し、該気体吹付手段により吹き付ける気体の温度を制御することにより、前記研磨液の温度を一定に保つことを特徴とする。
請求項8に記載の発明は、請求項3の構成に加えて、前記温度調節手段は、請求項3の構成に加えて、前記水槽に所定の温度の気体を吹き付ける気体吹付手段を設置し、該気体吹付手段により吹き付ける気体の送風量を制御することにより、前記研磨液の温度を一定に保つことを特徴とする。
請求項9に記載の発明は、請求項1の構成に加えて、前記温度調節手段は、前記研磨液槽の壁面に気体を吹き付ける気体吹付手段を設置し、該気体吹付手段により吹き付ける気体の温度を制御することにより、前記研磨液の温度を一定に保つことを特徴とする。
請求項10に記載の発明は、請求項1の構成に加えて、前記温度調節手段は、前記研磨液槽の壁面に所定の温度の気体を吹き付ける気体吹付手段を設置し、該気体吹付手段により吹き付ける気体の送風量を制御することにより、前記研磨液の温度を一定に保つことを特徴とする。
請求項11に記載の発明は、研磨液槽内の研磨液に研磨対象物を浸し、該研磨対象物の表面に気体を噴射することによって前記表面の研磨を行う研磨方法であって、研磨時間中の前記研磨液の温度を一定に保った状態で研磨することを特徴とする。
請求項12に記載の発明は、請求項11に記載の研磨方法により研磨された光学素子としたことを特徴とする。
請求項13に記載の発明は、請求項12に記載の光学素子を光学系に配置した露光装置としたことを特徴とする。
請求項1に記載の発明によれば、研磨液槽内の研磨液に研磨対象物を浸し、該研磨対象物の表面に気体を噴射することによって前記表面の研磨を行う研磨装置であって、研磨時間中の前記研磨液の温度を一定に保つための温度調節手段を備えるので、研磨速度が一定であり、安定した研磨が実施可能となる。
請求項2に記載の発明によれば、請求項1の効果に加えて、前記温度調節手段は、前記研磨液槽の周囲又は内部にヒーターを設置して該ヒーターの温度を制御することにより、前記研磨液の温度をより容易に一定に保つことができる。
請求項3乃至6に記載の発明によれば、請求項1の効果に加えて、前記温度調節手段は、前記研磨液槽の周囲に水槽を設置し、該水槽内の水の温度、供給する所定の温度の水の流量、水槽の周囲又は内部にヒーターを設置して該水槽内の水の温度を制御することにより、前記研磨液の温度を一定に保つので、水槽内の熱容量が大きい水を用いることで、研磨液の温度をより一定に保ち易い。
請求項7に記載の発明によれば、請求項3の効果に加えて、前記温度調節手段は、前記水槽に気体を吹き付ける気体吹付手段を設置し、該気体吹付手段により吹き付ける気体の温度を制御することにより、気体は温度を制御し易いことから、研磨液の温度を容易に一定に保つことができる。
請求項8に記載の発明によれば、請求項3の効果に加えて、前記温度調節手段は、前記水槽に所定の温度の気体を吹き付ける気体吹付手段を設置し、該気体吹付手段により吹き付ける気体の送風量を制御することにより、気体は送風量を制御し易いことから、研磨液の温度を容易に一定に保つことができる。
請求項9に記載の発明によれば、請求項1の効果に加えて、前記温度調節手段は、前記研磨液槽の壁面に気体を吹き付ける気体吹付手段を設置し、該気体吹付手段により吹き付ける気体の温度を制御することにより、前記研磨液の温度を一定の温度に保つので、より研磨速度が一定で、安定した研磨が実施可能となる。また、水槽を設置する場合に比べて、より簡易な装置で安定した研磨が実施可能となる。
請求項10に記載の発明によれば、請求項1の効果に加えて、前記温度調節手段は、前記研磨液槽の壁面に所定の温度の気体を吹き付ける気体吹付手段を設置し、該気体吹付手段により吹き付ける気体の送風量を制御することにより、前記研磨液の温度を一定に保つので、より研磨速度が一定で、安定した研磨が実施可能となる。また、水槽を設置する場合に比べて、より簡易な装置で安定した研磨が実施可能となる。
請求項11に記載の発明によれば、研磨液槽内の研磨液に研磨対象物を浸し、該研磨対象物の表面に気体を噴射することによって前記表面の研磨を行う研磨方法であって、研磨時間中の前記研磨液の温度を一定に保った状態で研磨するので、研磨速度が一定で、安定した研磨が実施できる。
請求項12に記載の発明によれば、請求項11に記載の研磨方法により研磨されたため、より高精度の研磨面を有する光学素子を得ることができる。
請求項13に記載の発明によれば、請求項12に記載の光学素子を光学系に配置した露光装置としたため、高精度に表面形状が研磨されて優れた光学特性を有する光学素子を用いているので、より高精度に露光することが可能である。
以下、本発明の実施の形態について説明する。
[発明の実施の形態1]
以下、本発明の実施の形態1について、図1を用いて説明する。
図1は、本発明の実施の形態1に係る研磨装置10の概念図である。
まず、構成を説明する。研磨装置10は、研磨液13に研磨対象物12を浸すための研磨液槽11と、研磨対象物12に気体14を噴射させるための噴射ノズル15と、研磨液槽11の周囲に設けられ、研磨時間中の研磨液13の温度を一定に保つための「温度調節手段」であるヒーター17及び温度コントローラー18とを備えている。
その研磨液槽11は、所定の容量の研磨液13が貯留可能な大きさの四角形の箱形状を呈し、内部の略中央部に研磨対象物12が配設できるように構成されている。
その研磨液13は、研磨材と水とを混合したもので、この研磨材としては、酸化物系(CeO、ZrO、Al)の研磨材、コロイダルシリカ等が用いられる。
また、研磨対象物12としては、蛍石、石英、紫外線用多成分ガラス、低熱膨張ガラス、シリコン、無電解ニッケル等が用いられる。
さらに、前記ヒーター17は、研磨液層11の周壁の外側(周囲)に設置され、温度コントローラー18からの指令により、温度が制御されるように構成されている。
さらにまた、温度コントローラー18は、研磨液13の温度を計測するための温度計16に接続され、研磨液13の温度が一定となるようにヒーター17を制御するように構成されている。
このようなものにあっては、噴射ノズル15から気体14が噴射され、その気体14に巻き込まれた研磨液13が、研磨対象物12の表面に衝突することにより、この研磨対象物12の表面が研磨される。噴射された気体14は、図4で示したように、急激に温度低下するが、温度計16で計測された温度を基に、所定の温度になるように温度コントローラー18が演算を行い、演算結果をヒーター17にフィードバックさせることにより、ヒーター17の設定温度を制御して、研磨液13の温度を一定に保つことができる。したがって、研磨速度を一定に保ち、安定した研磨が実施可能な研磨装置10を提供できる。
なお、図1においては、ヒーター17を研磨液槽11の周囲に設置した例を示したが、ヒーター17を研磨液槽11の内部に設けても良い。
[発明の実施の形態2]
以下、本発明の実施の形態2について、図2を用いて説明する。
本実施の形態2は、実施の形態1と比較すると、研磨液層11の周囲に水槽19が設けられている点で異なっている。この水槽19には、水20がポンプ21により供給されるようになっており、このポンプ21に温度コントローラー18が接続され、この温度コントローラー18に、研磨液13の温度を計測するための温度計16が接続されている。この水槽19及び温度コントローラー18等により、研磨中の研磨液13の温度を一定に保つための「温度調節手段」が構成されている。
このようなものにあっては、温度計16で計測された温度を基に、所定の温度になるように温度コントローラー18が演算を行い、演算結果をポンプ21にフィードバックさせることにより、水槽19内の水20の温度を制御する。すなわち、温度コントローラー18は、研磨液13の温度より高い所定の温度の水20の流量をポンプ21へ指示することにより、このポンプ21はこの指示された温度と流量の水20を水槽19内に供給することにより、研磨液13の温度を一定に保っている。この際には、水槽19内の水20は循環又は排水するようにする。
また、本発明の実施の形態2の温度調節手段の変形例として、ポンプ21にて、水槽19内に供給する水20の温度を制御することにより、研磨液13の温度を一定に保つこともできる。この際には、ポンプ21に温度を制御できる機能を持たせて、温度コントローラー18の指示により、このポンプ21から温度制御された水20を水槽19に供給する。
また、研磨材と混合させる液体として、水など沸点が比較的高く、化学反応性のない液体の場合は、本発明の実施の形態1の如く、ヒーター17を利用する構成が好適であるが、アルコール類やその他有機溶媒のように沸点が比較的低くて化学反応性が高く、場合によっては引火する液体を使用する場合には、ヒーター17を用いて研磨液13、若しくは研磨液槽11を加熱すると、熱が局所に集中して、局所的に沸点を超えてしまったり、又、液体の変性を引き起こす虞がある。
そこで、このような場合は、ヒーター17で研磨液13を加熱するかわりに、より穏やかな温度調節手段を用いることが望ましい。そこで本発明の実施の形態2では水槽19の水20の温度をポンプ21により制御することとしたのである。
さらに、本発明の実施の形態2の温度調節手段の他の変形例として、前述の構成に加え、ポンプ21の代わりに、水槽19の周囲に図2中二点鎖線で示すようにヒーター17を配設し、このヒーター17を温度コントローラー18に接続することもできる。
かかる構成によれば、温度計16で計測された温度を基に、所定の温度になるように温度コントローラー18が演算を行い、演算結果をヒーター17にフィードバックさせることにより、水20の温度が制御されるので、研磨液13の温度を一定に調節できる。勿論、このヒーター17の配設位置は、水槽19の内部等としても良い。
なお、この場合には、ヒーター17を用いているが、直接的には水槽19の温度を制御しているため、ヒーター17で研磨液13を直接加熱しているものではないことから、研磨液13の変性等を引き起こす虞はない。
このように、水20の温度を制御することにより、研磨液13の温度を一定に保つことが可能となる。従って、研磨速度を一定に保つことができ、安定した研磨が実施可能となる。また、水槽19を設けることにより、熱容量が大きい水を用いることで、研磨液13の温度をより一定に保ち易い。
他の構成及び作用は実施の形態1と同様であるので重複した説明を省略する。
[発明の実施の形態3]
以下、本発明の実施の形態3について、図3を用いて説明する。
本実施の形態3は、実施の形態2と比較すると、水槽19に気体(空気)24を吹き付けるための送風機22が設けられている点で異なっている。この送風機22は、所定の温度の気体(空気)24を温度安定用ノズル23を介して水槽19に吹き付けるように構成されていると共に、この送風機22は温度コントローラー18に接続され、この温度コントローラー18が研磨液13の温度を計測するための温度計16と接続されている。この水槽19、送風機22及び温度コントローラー18等により、「温度調節手段」が構成され、「気体吹付手段」としての送風機22が用いられている。
このようなものにあっては、温度計16で計測された温度を基に、所定の温度になるように温度コントローラー18が演算を行い、演算結果を送風機22にフィードバックさせることにより、送風機22から送風される気体24の温度を制御したり、或いは、所定の温度の気体24の送風量を制御することによって、水槽19内の水20の温度を調節して、間接的に研磨液13の温度を一定に調節するようにしている。
このように、水20の温度を制御することにより、研磨液13の温度を一定に保つことが可能となる。従って、研磨速度を一定に保つことができ、安定した研磨が実施可能となる。また、送風機22を設けることにより、気体24の送風量や温度を制御し易いことから、研磨液13の温度をより容易に一定に保つことができる。
他の構成及び作用は、本発明の実施の形態2と同様であるので、同一の構成には同一の符号を付して、その説明を省略する。
[発明の実施の形態4]
以下、本発明の実施の形態4について、図4を用いて説明する。
図4は、本発明の実施の形態4に係る研磨装置10の概念図である。
上記実施の形態3では、水槽19に気体24を吹き付けて温度制御するようにしているが、この実施の形態4では、研磨液層11に直接吹き付けることにより温度制御するようにしている。すなわち、この実施の形態4では、水槽19が設けられておらず、送風機22からの気体24を吹き付ける温度安定用ノズル23が直接、研磨液層11に対面している。そして、その送風機22が温度コントローラー18に接続され、この温度コントローラー18が温度計16に接続されている。この送風機22及び温度コントローラー18等により、「温度調節手段」が構成されている。
このようなものにあっては、温度計16で計測された温度を基に、所定の温度になるように温度コントローラー18が演算を行い、演算結果を送風機22にフィードバックさせることにより、送風機22から送出される気体24の温度を制御したり、所定の温度の気体24の送風量を制御することによって、研磨液13の温度を一定に調節するようにしている。これにより、研磨速度を一定に保つことができ、安定した研磨が実施可能となる。
本発明の実施の形態2に関連して述べたように、アルコール類や有機溶媒を使用する場合には、穏やかな温度調節手段を用いることが望ましい。そこで、本発明の実施の形態4のように、気体24を用いて研磨液槽11を加温することとすれば、研磨液槽11を穏やかに加温するということができる。
他の構成及び作用は、本発明の実施の形態2と同様であるので、同一の構成には同一の符号を付して、その説明を省略する。
なお、本発明の実施の形態4の変形例として、噴射ノズル15から噴射される気体14自体を所定の温度に暖めて、噴射ノズル15から噴出させても良い。また、噴射ノズル15自体を所定の温度に暖めることにより、研磨液13を暖めるためのヒーターとして用いても良い。これらの構成を用いることで、研磨液13の温度を一定に保つことが可能となる。したがって、研磨速度を一定に保つことができ、安定した研磨が実施可能となる。
[発明の実施の形態5]
以下、本発明の実施の形態5について図5を用いて説明する。
本発明の実施の形態5は、上述のような研磨装置10により研磨された光学素子を配置した露光装置である。
この露光装置30は、少なくとも、エキシマレーザ等を露光光として供給するための光源31、この露光光をマスクRに供給するための照明光学系32、マスクRのパターンのイメージを被露光基板W上に投影するための投影光学系33を含んでいる。
照明光学系32は、マスクRと被露光基板Wとの間の相対位置を調節するためのアライメント光学系34を含んでいる。マスクRは、マスク交換系35により位置が制御されるマスクステージ36に配置されている。被露光基板Wは、ステージ制御系37により位置が制御されるウェハーステージ38に配置されている。さらに、光源31、アライメント光学系34、マスク交換系35、ステージ制御系37は、主制御部39によって制御されている。
このような露光装置30では、詳細な図示は省略されているが、多数の光学素子が、照明光学系32及び/又は投影光学系33に配置されている。そして、これらの多数の光学素子のうちのより多くのものとして、前記のような研磨装置10を用いて研磨された光学素子が用いられている。
このような露光装置30によれば、照明光学系32及び/又は投影光学系33を構成する光学素子として、高精度に表面形状が研磨されて優れた光学特性を有する光学素子を用いているので、より高精度に露光することが可能である。
以下、本発明の実施の形態1を用いた実施例として研磨対象物12の研磨例を示す。
酸化セリウムの濃度が20%なる研磨液13に、研磨対象物12として、直径50mm、厚さ10mmの石英を浸す。研磨液槽11の周囲に設置したヒーター17で、研磨液13が25℃の一定値になるように制御しておく。次に噴射ノズル15から、研磨速度1μm/minになるような圧力で、気体14を噴射する。
本発明の実施の形態に係る研磨装置10を用いることにより、温度一定のままで研磨を行うことができ、研磨速度が一定で安定した研磨が実施される。
本発明の実施の形態1に係る研磨装置10の概念図である。 本発明の実施の形態2に係る研磨装置10の概念図である。 本発明の実施の形態3に係る研磨装置10の概念図である。 本発明の実施の形態4に係る研磨装置10の概念図である。 本発明の実施の形態5に係る研磨装置10により研磨された光学素子が搭載された露光装置を示す概略図である。 気体噴射による温度分布図である。 気体噴射による研磨加工量の温度依存性を示す図である。
符号の説明
10 研磨装置
11 研磨液槽
12 研磨対象物
13 研磨液
14 気体
15 噴射ノズル
16 温度計
17 ヒーター
18 温度コントローラー
19 水槽
20 水
21 ポンプ
22 送風機
23 温度安定用ノズル
24 気体

Claims (13)

  1. 研磨液槽内の研磨液に研磨対象物を浸し、該研磨対象物の表面に気体を噴射することによって前記表面の研磨を行う研磨装置であって、研磨時間中の前記研磨液の温度を一定に保つための温度調節手段を備えることを特徴とする研磨装置。
  2. 前記温度調節手段は、前記研磨液槽の周囲又は内部にヒーターを設置して該ヒーターの温度を制御することにより、
    前記研磨液の温度を一定に保つことを特徴とする請求項1に記載の研磨装置。
  3. 前記温度調節手段は、前記研磨液槽の周囲に水槽を設置し、該水槽内の水の温度を制御することにより、
    前記研磨液の温度を一定に保つことを特徴とする請求項1に記載の研磨装置。
  4. 前記温度調節手段は、前記水槽内に供給する所定の温度の水の流量を調整することにより、
    前記水槽内の水の温度を制御するようにしたことを特徴とする請求項3に記載の研磨装置。
  5. 前記温度調節手段は、前記水槽内に供給する水の温度を制御することにより、
    前記水槽内の水の温度を制御するようにしたことを特徴とする請求項3に記載の研磨装置。
  6. 前記温度調節手段は、前記水槽の周囲又は内部にヒーターを設置して該ヒーターの温度を制御することにより、
    前記水槽内の水の温度を制御するようにしたことを特徴とする請求項3に記載の研磨装置。
  7. 前記温度調節手段は、前記水槽に気体を吹き付ける気体吹付手段を設置し、該気体吹付手段により吹き付ける気体の温度を制御することにより、
    前記研磨液の温度を一定に保つことを特徴とする請求項3に記載の研磨装置。
  8. 前記温度調節手段は、前記水槽に所定の温度の気体を吹き付ける気体吹付手段を設置し、該気体吹付手段により吹き付ける気体の送風量を制御することにより、
    前記研磨液の温度を一定に保つことを特徴とする請求項3に記載の研磨装置。
  9. 前記温度調節手段は、前記研磨液槽の壁面に気体を吹き付ける気体吹付手段を設置し、該気体吹付手段により吹き付ける気体の温度を制御することにより、
    前記研磨液の温度を一定に保つことを特徴とする請求項1に記載の研磨装置。
  10. 前記温度調節手段は、前記研磨液槽の壁面に所定の温度の気体を吹き付ける気体吹付手段を設置し、該気体吹付手段により吹き付ける気体の送風量を制御することにより、
    前記研磨液の温度を一定に保つことを特徴とする請求項1に記載の研磨装置。
  11. 研磨液槽内の研磨液に研磨対象物を浸し、該研磨対象物の表面に気体を噴射することによって前記表面の研磨を行う研磨方法であって、研磨時間中の前記研磨液の温度を一定に保った状態で研磨することを特徴とする研磨方法。
  12. 請求項11に記載の研磨方法により研磨されたことを特徴とする光学素子。
  13. 請求項12に記載の光学素子を光学系に配置したことを特徴とする露光装置。
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