JP2005246585A - 研磨装置、研磨方法、光学素子及び露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 研磨時間中の研磨液13の温度を一定に保つための温度調節手段として、研磨液槽11の周囲にヒーター17を設置して、ヒーター17の温度を制御することにより、研磨液13の温度を一定の温度に保つ。
【選択図】 図1
Description
前記水槽内の水の温度を制御するようにしたことを特徴とする。
[発明の実施の形態1]
[発明の実施の形態2]
[発明の実施の形態3]
[発明の実施の形態4]
[発明の実施の形態5]
11 研磨液槽
12 研磨対象物
13 研磨液
14 気体
15 噴射ノズル
16 温度計
17 ヒーター
18 温度コントローラー
19 水槽
20 水
21 ポンプ
22 送風機
23 温度安定用ノズル
24 気体
Claims (13)
- 研磨液槽内の研磨液に研磨対象物を浸し、該研磨対象物の表面に気体を噴射することによって前記表面の研磨を行う研磨装置であって、研磨時間中の前記研磨液の温度を一定に保つための温度調節手段を備えることを特徴とする研磨装置。
- 前記温度調節手段は、前記研磨液槽の周囲又は内部にヒーターを設置して該ヒーターの温度を制御することにより、
前記研磨液の温度を一定に保つことを特徴とする請求項1に記載の研磨装置。 - 前記温度調節手段は、前記研磨液槽の周囲に水槽を設置し、該水槽内の水の温度を制御することにより、
前記研磨液の温度を一定に保つことを特徴とする請求項1に記載の研磨装置。 - 前記温度調節手段は、前記水槽内に供給する所定の温度の水の流量を調整することにより、
前記水槽内の水の温度を制御するようにしたことを特徴とする請求項3に記載の研磨装置。 - 前記温度調節手段は、前記水槽内に供給する水の温度を制御することにより、
前記水槽内の水の温度を制御するようにしたことを特徴とする請求項3に記載の研磨装置。 - 前記温度調節手段は、前記水槽の周囲又は内部にヒーターを設置して該ヒーターの温度を制御することにより、
前記水槽内の水の温度を制御するようにしたことを特徴とする請求項3に記載の研磨装置。 - 前記温度調節手段は、前記水槽に気体を吹き付ける気体吹付手段を設置し、該気体吹付手段により吹き付ける気体の温度を制御することにより、
前記研磨液の温度を一定に保つことを特徴とする請求項3に記載の研磨装置。 - 前記温度調節手段は、前記水槽に所定の温度の気体を吹き付ける気体吹付手段を設置し、該気体吹付手段により吹き付ける気体の送風量を制御することにより、
前記研磨液の温度を一定に保つことを特徴とする請求項3に記載の研磨装置。 - 前記温度調節手段は、前記研磨液槽の壁面に気体を吹き付ける気体吹付手段を設置し、該気体吹付手段により吹き付ける気体の温度を制御することにより、
前記研磨液の温度を一定に保つことを特徴とする請求項1に記載の研磨装置。 - 前記温度調節手段は、前記研磨液槽の壁面に所定の温度の気体を吹き付ける気体吹付手段を設置し、該気体吹付手段により吹き付ける気体の送風量を制御することにより、
前記研磨液の温度を一定に保つことを特徴とする請求項1に記載の研磨装置。 - 研磨液槽内の研磨液に研磨対象物を浸し、該研磨対象物の表面に気体を噴射することによって前記表面の研磨を行う研磨方法であって、研磨時間中の前記研磨液の温度を一定に保った状態で研磨することを特徴とする研磨方法。
- 請求項11に記載の研磨方法により研磨されたことを特徴とする光学素子。
- 請求項12に記載の光学素子を光学系に配置したことを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004064245A JP4228146B2 (ja) | 2004-03-08 | 2004-03-08 | 研磨装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004064245A JP4228146B2 (ja) | 2004-03-08 | 2004-03-08 | 研磨装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008263753A Division JP4710952B2 (ja) | 2008-10-10 | 2008-10-10 | 研磨装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005246585A true JP2005246585A (ja) | 2005-09-15 |
JP4228146B2 JP4228146B2 (ja) | 2009-02-25 |
Family
ID=35027555
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004064245A Expired - Fee Related JP4228146B2 (ja) | 2004-03-08 | 2004-03-08 | 研磨装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4228146B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012119354A1 (zh) * | 2011-03-10 | 2012-09-13 | 清华大学 | 抛光液物理参数测量装置、测量方法和化学机械抛光设备 |
CN107443176A (zh) * | 2017-08-04 | 2017-12-08 | 北京交通大学 | 一种基于磁流变泡沫的超光滑平面抛光方法 |
JP2018027593A (ja) * | 2016-08-18 | 2018-02-22 | 株式会社ディスコ | 研磨装置 |
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2004
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012119354A1 (zh) * | 2011-03-10 | 2012-09-13 | 清华大学 | 抛光液物理参数测量装置、测量方法和化学机械抛光设备 |
JP2018027593A (ja) * | 2016-08-18 | 2018-02-22 | 株式会社ディスコ | 研磨装置 |
CN107756238A (zh) * | 2016-08-18 | 2018-03-06 | 株式会社迪思科 | 研磨装置 |
CN107756238B (zh) * | 2016-08-18 | 2021-03-26 | 株式会社迪思科 | 研磨装置 |
CN107443176A (zh) * | 2017-08-04 | 2017-12-08 | 北京交通大学 | 一种基于磁流变泡沫的超光滑平面抛光方法 |
CN107443176B (zh) * | 2017-08-04 | 2020-01-10 | 北京交通大学 | 一种基于磁流变泡沫的超光滑平面抛光方法 |
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---|---|
JP4228146B2 (ja) | 2009-02-25 |
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