JP2005239537A - 光学素子の製造法 - Google Patents
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Abstract
UV放射での照射中密度と屈折率とに殆ど変化がなく、かくしてUV放射によるダメージをなくし、そして他方では残存応力複屈折について最適化された円筒状光学素子を製造。
【解決手段】
250nmもしくはそれよりも短い波長の紫外線を伝達する光学素子の製造法である。当該光学素子は平均OH含有分が50重量ppmより多く、応力複屈折を除去するための第1のアニールを受けている円筒状石英ガラス素材からつくられている。本発明に従って当該石英ガラス素材に第2のアニール処理をし、この第2のアニール処理では、350℃から800℃の範囲の低いアニール温度で、1時間以上加熱する。但し、使用する石英ガラス素材では円筒縦軸に垂直な方向で前記の平均OH含有分からの偏差が20重量ppmよりも多くないことを条件としている。
【選択図】図2
Description
*一方で、円筒状素材の冷却後、多分それの円筒状対称のためであろうが、主に接線の性質である複屈折の速い軸のプロフィルが形成されていることが判明した。このことは、素材の円筒縦軸に垂直な方向に延びる測定面内の測定点において、本質的に応力複屈折プロフィルが決められ、その円筒縦軸の周りで複屈折の速い軸は接線方向に延びていることを意味している。応力複屈折の速い軸の分布は図1に略図として示す。
*他方で、1000℃と1500℃との間の温度範囲から急速に冷却された石英ガラスの特定体積はゆっくりと冷却した石英ガラスよりも小さくなっていて、それだけ密度は高くなっている。「アール、ブルックナー、二酸化ケイ素;エンサイクロペディア・オヴ・アプライドフイジックス、18巻(1997)、101頁ないし131頁」によれば、この作用は合成石英ガラスの特異性に原因するのであって、その場合1000℃と1500℃の間の範囲で特定体積の漸増は負の温度係数を持つ、すなわち、石英ガラスの特定体積はこの温度範囲では温度の低下につれて増大するのである。低温度で石英ガラスをアニールしている間これはそのアニール持続時間につれての特定(モル当たりの)体積の増大を伴うことは明らかであり、その体積増加はアニール温度が高いほど、いっそうそれだけハッキリしてくる。
*第2のアニール処理によって複屈折の速い軸の空間分布は円筒縦軸に対する接線配向から半径配向に変わる。図2に示す複屈折の速い軸のそのような分布は以下の説明では「半径対称性の応力複屈折」と称し、そして角度再配向プロセスを「角度分布の変化」と称する。
既知のOVD(外方蒸着)法(スート法:soot method)と、SiO2粒子を直接ガラス化するVAD(蒸気相軸沈着)法とに基づいてSiCl4の火炎加水分解により合成石英ガラスのディスク状インゴットをつくった。スート法により得られる石英ガラスは約300重量ppm以下の平均OH含有分により特徴づけられており、そして直接ガラス化によりつくられた石英ガラスのOH含有分は400重量ppm以上であって比較的高い。
*平均水素含有分
*平均OH含有分と円筒縦軸に垂直な方向における平均OH含有分からの最大偏差
*インゴットにわたって均一に分布した幾つかの測定点における応力複屈折の振幅と、応力複屈折の速い軸のそれぞれの配向
*US放射での照射時の詰まった状態と疎の状態
インゴットにおける水素含有分とそれの分布とはラーマン測定法により決定された。使用された測定法は、ホチムチェンコ等の「ラマン・スキャッタリングとマス・スペクトロメトリの方法を使って石英ガラスに溶解した水素含有分の測定」、ザーナル プリクラドノイ スペクトロスコピル、46巻、第6(1987年6月)、987頁ないし991頁に記載されている。
第2のアニールプロセス前にインゴットの平均OH含有分とその平均OH含有分からの最大偏差とを決める。一連の測定を基礎にしてOH含有分をインゴット毎にスペクトル分析によって決定する。図1で点5と5aとで示す(インゴットの円筒縦軸に垂直な)半径方向横断面に分布している11の各測定点で測定した。この一連の測定に基づいて各インゴットの平均含有分とそれからの偏差とを個々の測定点で決定した。OHの決定における測定スポットの直径は約5mmである。
インゴットの円筒縦軸に垂直な面内での応力複屈折の決定は直径190mmの円形測定部分をベースにして毎回行われ、それはつくろうとする光学素子の外側直径にほぼ一致しており、そして破線の円周線7により図1と図2に示されている。この円形測定部分内で応力複屈折の振幅と応力複屈折の速い軸の配向とは10mm×10mmの均一格子の中で毎回測定された。
図1と図2の点6aと6bとは10mm×10mmの均一格子の個々の測定点を(測定点の正確な位置を示すことなく)表している。
N 10mm×10mm格子に従ってのデータ点の総数
SDB i番目のデータ点における応力複屈折の振幅(大きさ)
r1 円筒縦軸からのi番目のデータ点の距離(半径)
ψi i番目のデータ点の極角度
δi =1 もしi番目のデータ点における速い軸の角度が円筒縦軸に対して主として接線方向であれば1に等しい。
=‐1 もしi番目のデータ点における速い軸の角度が円筒縦軸に対して主として半径方向であれば‐1に等しい。
詰まった状態と疎の状態の決定ため25mm×25mm×100mmの大きさの特別のサンプルをそれぞれのインゴット材料からつくる。これらのサンプルの2つの対向面25mm×25mmを研磨した。第2のアニール処理の前と後でサンプルの中心近くの領域をパルスUV放射に曝した。パルス放射の波長は193nm、パルスの長さは20ns、そしてエネルギー密度は35μJ/cm2であった。これらの放射試験でのパルス数は毎回25億(2.5×1010パルス)であった。この放射の効果は、波長633nmの商用干渉計(ジゴGP1−XP)を使って非照射区域との比較で照射区域の屈折率の相対的増減として測定された。
表1の第3欄に示す温度の窒素‐水素雰囲気内に、第4欄の時間インゴットを置いた。水素の部分圧は、水素の枯渇がないように、インゴット内での富裕がないように、毎回設定した。アニール雰囲気の絶対圧は毎回105パスカルであった。
*製造法の欄のスートは「スート法」によりSiCl4とOVDの火炎加水分解によって得られた試験インゴットを示す。“DQ”は基板上でSiO2粒子を直接ガラス化し、SiCl4とVADの火炎加水分解により得られた試験インゴットを示す。
*欄Δ-OHは第2のアニール処理前で周辺部分を取り除いた後測定された平均値(第5欄)からのOH含有分の最大偏差を示す。
*欄H2含有分は第2のアニール処理前の平均水素濃度を示す。
図1ないし図5を参照して、以下に結果を詳述する。
2 円筒縦軸
4 余分域
5 測定点
5a 周辺の測定点
6 (配向を示す)シンボル、又はデータ点
6b (配向を示す)シンボル、又はデータ点
7 つくろうとする石英ガラス素子の外輪郭
Claims (10)
- 250nmもしくはそれよりも短い波長の紫外線を伝達する光学素子の製造法であって、当該光学素子は平均OH含有分が50重量ppmより多く、応力複屈折を除去するための第1のアニールを受けている円筒状石英ガラス素材からつくられた光学素子の製造法において、前記石英ガラス素材に第2のアニール処理をし、この第2のアニール処理では、前記石英ガラス素材を加熱し、350℃から800℃の範囲の低いアニール温度で、1時間以上のアニール期間で保持するが、使用する石英ガラス素材では円筒縦軸に垂直な方向で前記の平均OH含有分からの偏差が20重量ppmよりも多くないことを条件としたことを特徴とする光学素子の製造法。
- 前記アニール期間は少なくとも50時間である請求項1に記載の光学素子の製造法。
- 前記アニール期間は720時間より多くない請求項1もしくは2に記載の光学素子の製造法。
- 前記石英ガラス素材を水素含有雰囲気内でアニールする請求項1ないし3のいずれかに記載の光学素子の製造法。
- 石英ガラス素材を105と106パスカルの間の圧力でアニールする請求項1ないし4のいずれかに記載の光学素子の製造法。
- 前記アニール処理は少なくとも500℃の温度で行うが、石英ガラス素材の平均水素含有分は当該処理により(初期水素含有分に基づいて)±20%以上変化しないものとする請求項1ないし5のいずれかに記載の光学素子の製造法。
- 前記石英ガラス素材は製造しようとする光学素子の外側輪郭を越えた輪郭を有しており、少なくともその越えた輪郭部分は第1と第2の温度処理の間に取り除くようにした請求項1ないし6のいずれかに記載の光学素子の製造法。
- 第2のアニール処理の前に石英ガラス素材は製造しようとする光学素子の外側輪郭を越えた輪郭を有しており、そしてその越えた輪郭部分は円筒面間で1ないし5mmである請求項1ないし7のいずれかに記載の光学素子の製造法。
- 温度処理前の石英ガラス素材の平均OH含有分は少なくとも450重量ppmである請求項1ないし8のいずれかに記載の光学素子の製造法。
- 温度処理後の石英ガラス素材の平均水素濃度は少なくとも3×1016分子/cm3である請求項1ないし9のいずれかに記載の光学素子の製造法。
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Cited By (3)
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2703367A1 (en) | 2012-08-27 | 2014-03-05 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Heat Treatment method for synthetic quartz glass |
US9409812B2 (en) | 2012-08-27 | 2016-08-09 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Heat treatment method for synthetic quartz glass |
JP2015178422A (ja) * | 2014-03-18 | 2015-10-08 | 信越石英株式会社 | 合成石英ガラスの熱処理方法 |
JP2019511985A (ja) * | 2016-02-12 | 2019-05-09 | ヘレウス・クアルツグラース・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンディット・ゲゼルシャフトHeraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | 合成により製造された石英ガラスのディフューザー材料及びその全体又は一部を構成する成形体の製造方法 |
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