JP2005191493A - スリットコート式塗布方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 製造工程を簡略化すると共に、製造コストを低減することができるスリットコート式塗布方法を提供する。
【解決手段】 液体3が塗布される塗布面1aに開口する開口形成部2aを有する基板1の前記塗布面1aとは反対側の保持面1bを保持する保持テーブル20と、前記塗布面1aに相対向して前記液体3が流出されるスリット状のノズル開口41が設けられた塗布ヘッド40とを具備するスリットコート式塗布方法であって、前記開口形成部2aの内面に撥水液4を塗布した状態で、前記基板1と前記塗布ヘッド40とを前記塗布面1aの面方向に相対的に移動させて前記塗布面1aに前記液体3を塗布する。
【選択図】 図4
【解決手段】 液体3が塗布される塗布面1aに開口する開口形成部2aを有する基板1の前記塗布面1aとは反対側の保持面1bを保持する保持テーブル20と、前記塗布面1aに相対向して前記液体3が流出されるスリット状のノズル開口41が設けられた塗布ヘッド40とを具備するスリットコート式塗布方法であって、前記開口形成部2aの内面に撥水液4を塗布した状態で、前記基板1と前記塗布ヘッド40とを前記塗布面1aの面方向に相対的に移動させて前記塗布面1aに前記液体3を塗布する。
【選択図】 図4
Description
本発明は、ノズルの先端から液体を供給し、基板の表面に液体を均一に塗布するスリットコート式塗布方法に関する。
半導体ウェハやガラス基板等の基板にレジスト材料や絶縁材料などの液体を塗布する塗布装置として、ノズルの先端から毛細管現象により液体を流出させて、基板の表面に液体を塗布するスリットコート式塗布装置が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、厚さ方向に貫通する貫通孔や、貫通しない凹部が設けられた基板にスリットコート式塗布装置を用いて液体を塗布すると、塗布した液体が貫通孔内や凹部内に入り込んでしまうと共に、貫通孔を介して基板の塗布面とは反対側の面などの余分な領域に液体が周り込んでしまい液体を所望の領域に選択的に塗布することができないという問題がある。また、このように基板の余分な領域に塗布された液体は、容易に除去することができず、塗布された余分な液体を除去するには作業工程が増えてしまい高コストになってしまうという問題がある。さらに、貫通孔を介して基板の塗布面とは反対側の面に液体が周り込むと、液体が基板を保持する保持テーブルにも付着してしまい、保持テーブルに新しい基板を保持させた際に、新しい基板の塗布面とは反対側の面にも液体が付着してしまうという問題がある。このため、基板を交換する度に保持テーブルを洗浄するといった作業も必要となるという問題がある。
本発明はこのような事情に鑑み、製造工程を簡略化すると共に、製造コストを低減することができるスリットコート式塗布方法を提供することを課題とする。
上記課題を解決する本発明の第1の態様は、液体が塗布される塗布面に開口する開口形成部を有する基板の前記塗布面とは反対側の保持面を保持する保持テーブルと、前記塗布面に相対向して前記液体が流出されるスリット状のノズル開口が設けられた塗布ヘッドとを具備するスリットコート式塗布方法であって、前記開口形成部の内面に撥水液を塗布した状態で、前記基板と前記塗布ヘッドとを前記塗布面の面方向に相対的に移動させて前記塗布面に前記液体を塗布することを特徴とするスリットコート式塗布方法にある。
かかる第1の態様では、基板の塗布面に液体を塗布した際に、液体が開口形成部内に進入するのを防止して、塗布面に液体を均一な厚さで塗布することができる。これにより開口形成部内などの余分な領域に塗布された液体を除去する工程が不要となり、製造工程を簡略化することができると共に製造コストを低減することができる。
かかる第1の態様では、基板の塗布面に液体を塗布した際に、液体が開口形成部内に進入するのを防止して、塗布面に液体を均一な厚さで塗布することができる。これにより開口形成部内などの余分な領域に塗布された液体を除去する工程が不要となり、製造工程を簡略化することができると共に製造コストを低減することができる。
本発明の第2の態様は、第1の態様において、前記開口形成部が前記基板を厚さ方向に貫通して設けられた貫通孔であると共に、前記撥水液を前記保持面側から霧状に噴射することにより前記貫通孔の内面に前記撥水液を塗布した状態とすることを特徴とするスリットコート式塗布方法にある。
かかる第2の態様では、液体を保持面側から噴射するだけで、貫通孔内に撥水液を選択的に塗布することができ、撥水液のパターニング等の工程が不要となり、製造工程を簡略化することができる。
かかる第2の態様では、液体を保持面側から噴射するだけで、貫通孔内に撥水液を選択的に塗布することができ、撥水液のパターニング等の工程が不要となり、製造工程を簡略化することができる。
以下に本発明を実施形態に基づいて詳細に説明する。
(実施形態1)
図1は、本発明の実施形態1に係るスリットコート式塗布装置を示す断面図である。図1に示すように、シリコンウェハ、半導体基板等の基板1には、液体3が塗布される塗布面1aに開口する開口形成部として、基板1の厚さ方向に貫通する貫通孔2aが形成されている。このような基板1の貫通孔2a内に撥水液を塗布した状態で、スリットコート式塗布装置によって基板1の塗布面1aに液体3を塗布する。ここで、スリットコート式塗布装置の一例について説明する。スリットコート式塗布装置10は、基板1の保持面1b側を保持する保持テーブル20と、保持テーブル20の基板1側に設けられた塗布ヘッド40と、塗布ヘッド40に液体3を供給する貯留手段50とを具備する。
(実施形態1)
図1は、本発明の実施形態1に係るスリットコート式塗布装置を示す断面図である。図1に示すように、シリコンウェハ、半導体基板等の基板1には、液体3が塗布される塗布面1aに開口する開口形成部として、基板1の厚さ方向に貫通する貫通孔2aが形成されている。このような基板1の貫通孔2a内に撥水液を塗布した状態で、スリットコート式塗布装置によって基板1の塗布面1aに液体3を塗布する。ここで、スリットコート式塗布装置の一例について説明する。スリットコート式塗布装置10は、基板1の保持面1b側を保持する保持テーブル20と、保持テーブル20の基板1側に設けられた塗布ヘッド40と、塗布ヘッド40に液体3を供給する貯留手段50とを具備する。
保持テーブル20は、鉛直方向下側の面に、基板1を塗布面1aが鉛直方向下向きとなるように保持する。この保持テーブル20による基板1の保持方法は、特に限定されないが、例えば、本実施形態では、真空ポンプ等の吸引ポンプ71と、一端が吸引ポンプ71に接続されて他端が保持テーブル20を厚さ方向に貫通した吸引孔21に連通するように接続された吸引パイプ72とからなる吸引手段70を設け、吸引手段70によって基板1の塗布面1aとは反対側の保持面1bを真空吸引することにより保持するようにした。このように吸引手段70の吸引により基板1を保持テーブル20が保持することで、保持テーブル20に基板1を容易に保持させることができると共に、基板1の塗布面1a側に基板1を保持するための部材等が突出することがなく、基板1への液体3の塗布を容易に行うことができる。なお、保持テーブル20は、吸引孔21が貫通孔2aに連通しないように基板1の保持面1b側を保持している。
一方、保持テーブル20が保持した基板1の塗布面1a側には、塗布面1aに液体3を塗布する塗布ヘッド40と、塗布ヘッド40に供給する液体3を保持する貯留手段50とが設けられている。塗布ヘッド40には、基板1の塗布面1aに相対向する位置に貯留手段50から供給された液体3が流出されるスリット状のノズル開口41が鉛直方向上向きとなるように設けられている。また、塗布ヘッド40内には、液体溜まり部42が設けられており、この液体溜まり部42によって液体3をノズル開口41に亘って均一に充填させている。このような塗布ヘッド40では、液体溜まり部42内に液体3が充填されると、液体溜まり部42内に充填された液体3が毛細管現象によってノズル開口41の先端まで上昇するようになっている。また、ノズル開口41の先端まで上昇した液体3は、その表面張力によってノズル開口41の先端から突出した状態で保持される。なお、塗布ヘッド40は、図示しない装置本体に鉛直方向に移動自在に保持されており、塗布ヘッド40の先端と基板1の塗布面1aとの間隔は、装置本体によって液体3の動粘度や基板1への濡れ性などによって適宜調整されるようになっている。
貯留手段50は、液体3を保持する貯留タンク51と、一端が塗布ヘッド40に接続され、他端が貯留タンク51に接続された供給管52とで構成されており、貯留タンク51の内部に貯留した液体3を供給管52を介して塗布ヘッド40に供給している。このような貯留手段50から供給された液体3は、上述のように塗布ヘッド40のノズル開口41の先端まで毛細管現象によって上昇し、ノズル開口41の先端でその表面張力によって突出した状態で保持される。そして、この突出した液体3を基板1の塗布面1aに接触させて、保持テーブル20を基板1の塗布面1aの面方向に移動することで、ノズル開口41からは液体3が徐々に流出され、液体3を基板1の塗布面1aに均一な厚さで塗布することができる。
ここで、本実施形態のスリットコート式塗布方法について詳細に説明する。図2〜図4は、スリットコート式塗布方法を示す断面図である。まず、基板1の貫通孔2aの内面に撥水液4を塗布する。本実施形態では、図2に示すように、ステージ80上に基板1の塗布面1aとは反対側の保持面1b側が鉛直方向上向きとなるように載置し、撥水液4を霧状に噴射する噴射ヘッド81によって、基板1の保持面1b側から撥水液4を保持面1bの貫通孔2aが開口する領域のみに選択的に噴射することで、貫通孔2aの内面に撥水液4を塗布した。このように、噴射ヘッド81によって保持面側から撥水液4を霧状に噴射させることで撥水液4を貫通孔2a内に塗布することができるため、例えば、撥水膜をパターニングする工程などが不要となり、製造工程を簡略化することができる。なお、噴射ヘッド81は、基板1の保持面1bの全面に亘って撥水液4を噴射して貫通孔2aの内面に撥水液4を塗布するようにしてもよい。また、貫通孔2a内に塗布される撥水液4としては、例えば、本実施形態では、オプツールDSX(製品名;ダイキン工業株式会社製)を用いた。
次に、上述したスリットコート式塗布装置10を用いて、基板1の塗布面1a側に液体3を塗布する。詳しくは、図3(a)に示すように、保持テーブル20に基板1の保持面1b側を保持させて、基板1の塗布面1aが鉛直方向下側となるようにする。そして、塗布ヘッド40のノズル開口41の先端から液体3を突出させた状態で、塗布ヘッド40と基板1との間隔を所定の間隔まで接近させる。本実施形態では、塗布ヘッド40を保持テーブル20側に移動することで、塗布ヘッド40と基板1との間隔を調整するようにした。なお、塗布ヘッド40を固定し、保持テーブル20を塗布ヘッド40側に移動することで、塗布ヘッド40と基板1との間隔を調整するようにしてもよい。勿論、塗布ヘッド40のノズル開口41の向きを鉛直方向と交差する方向としてもよい。
また、塗布を行う前の待機状態では、ノズル開口41の先端から液体3を完全には突出させないようにして、液体3の乾燥や異物の混入を防止するようにしてもよい。このようにノズル開口41の先端から液体3を突出させないようにするには、液体溜まり部42に液体3が充填されないようにすればよい。また、例えば、供給管52に液体3の流量を調整する給水ポンプ等の流量調整手段を設け、この流量調整手段によって液体3を液体溜まり部42に充填する、しないによってノズル開口41の先端から液体3を完全には吐出させない程度突出させる、突出させないの微振動調整ができるようにしてもよい。また、貯留手段50の保持した液体3の液面をノズル開口41の先端に対して鉛直方向に移動させることで、液面が微振動することになり、ノズル開口41の周縁等に乾燥や異物が混入することで発生する液体3の増粘化を防止することができるので、所望の液量の液体3をノズル開口41から吐出することができる。よって、増粘化した液体3がノズル開口41の周縁に付着することがない。特に、待機状態が長い場合に上記液体3の増粘防止のための対策を取ることが好ましい。
次に、図3(b)に示すように、図示しないテーブル駆動手段によって保持テーブル20を基板1の塗布面1aの面方向に移動することで、塗布面1aへの液体3の塗布を開始する。そして、図4に示すように、保持テーブル20の移動を続けてノズル開口41が基板1の貫通孔2aを通過しても、貫通孔2aの内面には撥水液4が塗布されているため、貫通孔2a内に液体3が進入するのを防止することができる。
その後は、保持テーブル20を移動して基板1の塗布面1aの全てに液体3を塗布したら、塗布ヘッド40を基板1から離すことで基板1の塗布面1aへの液体3の塗布が終了する。また、上述のように塗布が終了した待機状態では、液体3がノズル開口41近傍の液体3の液面を微振動させることで、液体3の乾燥や異物の混入による液体3の増粘化を防止することができる。なお、待機状態では、ノズル開口41をキャップ部材等で塞ぐようにしてもよい。キャップ部材によってノズル開口41を塞ぐことで、ノズル開口41からの液体3の乾燥及び異物の混入を確実に防止することができる。また、塗布が終了した際には、ノズル開口41の先端近傍を例えば、紫外線やプラズマ等の照射により洗浄し、液体3のノズル開口41への濡れ性が劣化するのを防止するようにしてもよい。
このように、貫通孔2aを有する基板1であっても、貫通孔2aの内面に撥水液4を塗布した状態でスリットコート式塗布装置10によって基板1の塗布面1aに液体3を塗布することにより、貫通孔2a内に液体3が進入するのを防止して塗布面1aのみに液体3を均一な厚さで塗布することができる。また、貫通孔2aを介して基板1の保持面1b側に液体3が周り込むのも防止することができるため、貫通孔2a内や保持面1bなどの余分な領域の液体3を除去する工程が不要となり、製造工程を簡略化することができると共に製造コストを低減することができる。また、基板1の保持面1bに液体3が周り込むのを防止することができるため、保持テーブル20にも液体3が付着することがなく、保持テーブル20を洗浄する工程が不要となり、製造工程を簡略化することができると共に製造コストを低減することができる。
(実施形態2)
図5は、本発明の実施形態2に係るスリットコート式塗布方法を示す断面図である。なお、上述した実施形態1と同様の部材には同一の符号を付して重複する説明は省略する。図5(a)に示すように、本実施形態では、基板1の塗布面1a側に開口する開口形成部として、塗布面1aに厚さ方向に貫通しない複数の凹部2bが設けられている。まず、凹部2bの内面に撥水液4を塗布する。本実施形態では、図5(a)に示すように、保持テーブル20に基板1の保持面1b側を保持させた状態で、凹部2bの内面及び塗布面1aの凹部2bが開口する周囲に撥水液4を塗布する。撥水液4の塗布方法は、特に限定されず、例えば、スポイトや刷毛などで撥水液4を塗布するようにしてもよく、また、上述したスリットコート式塗布装置10によって撥水液4を塗布するようにしてもよい。そして、図5(b)に示すように、基板1の塗布面1a側を板状の電熱ヒータ(ホットプレート)からなる加熱手段90によって加熱することで、塗布面1aの凹部2b以外の領域の撥水液4を凹部2b内に引き込ませる。ここで、撥水液4は、加熱されると塗布面積が収縮するように、基板1の厚さ方向で凹んだ領域に引けるという特性を有する。このため、加熱手段90によって、基板1を塗布面1a側から加熱することで、塗布面1a上の凹部2b以外の領域の撥水液4を凹部2b内に引き込ませて、凹部2bの内面のみに撥水液4を塗布することができる。
図5は、本発明の実施形態2に係るスリットコート式塗布方法を示す断面図である。なお、上述した実施形態1と同様の部材には同一の符号を付して重複する説明は省略する。図5(a)に示すように、本実施形態では、基板1の塗布面1a側に開口する開口形成部として、塗布面1aに厚さ方向に貫通しない複数の凹部2bが設けられている。まず、凹部2bの内面に撥水液4を塗布する。本実施形態では、図5(a)に示すように、保持テーブル20に基板1の保持面1b側を保持させた状態で、凹部2bの内面及び塗布面1aの凹部2bが開口する周囲に撥水液4を塗布する。撥水液4の塗布方法は、特に限定されず、例えば、スポイトや刷毛などで撥水液4を塗布するようにしてもよく、また、上述したスリットコート式塗布装置10によって撥水液4を塗布するようにしてもよい。そして、図5(b)に示すように、基板1の塗布面1a側を板状の電熱ヒータ(ホットプレート)からなる加熱手段90によって加熱することで、塗布面1aの凹部2b以外の領域の撥水液4を凹部2b内に引き込ませる。ここで、撥水液4は、加熱されると塗布面積が収縮するように、基板1の厚さ方向で凹んだ領域に引けるという特性を有する。このため、加熱手段90によって、基板1を塗布面1a側から加熱することで、塗布面1a上の凹部2b以外の領域の撥水液4を凹部2b内に引き込ませて、凹部2bの内面のみに撥水液4を塗布することができる。
その後は、上述した実施形態1と同様に、スリットコート式塗布装置10を用いて、基板1の塗布面1aに液体3を塗布する。このとき、ノズル開口41が基板1の凹部2bを通過しても、凹部2bの内面には撥水液4が塗布されているため、凹部2b内に液体3が進入するのを防止することができる。このように、凹部2bを有する基板1であっても、凹部2bの内面に撥水液4を塗布した状態でスリットコート式塗布装置10によって基板1の塗布面1aに液体3を塗布することにより、凹部2b内に液体3が進入するのを防止して塗布面1aの凹部2b以外の領域に液体3を均一な厚さで塗布することができる。また、容易に凹部2bの内面のみに撥水液4を塗布することができるため、例えば、基板1の塗布面1a上に撥水膜をパターニングにより形成する工程を無くすことができ、製造工程を簡略化することができると共に製造コストを低減することができる。
なお、本実施形態では、噴射ヘッド81によって凹部2bの内面及び塗布面1aの凹部2bが開口する周囲に撥水液4を塗布した後、加熱手段90によって加熱することで、凹部2b以外の領域の撥水液4を凹部2b内に引き込ませるようにしたが、特にこれに限定されず、例えば、紫外線を照射する紫外線照射ランプなどで撥水液4に紫外線を照射することによって、凹部2b以外の領域の撥水液4を凹部2b内に引き込ませるようにしてもよい。また、本実施形態では、基板1の凹部2bの内面及び塗布面1aの凹部2bが開口する周囲に撥水液4を塗布するようにしたが、基板1の凹部2bの内面のみに撥水液4を選択的に塗布するようにしてもよい。例えば、凹部の内径が塗布面1aに向かって漸大するように、凹部の側面が傾斜して設けられていれば、圧電素子や発熱素子等の液体吐出手段により液滴吐出のための圧力を圧力発生室等の液室に発生させて、液室に連通するノズル開口から液滴を吐出させる液体噴射ヘッドを用いて、凹部の内面のみに撥水液4を選択的に塗布すればよい。また、本実施形態では、開口部形成部として、凹部2bが設けられた基板1を例示したが、上述した実施形態1と同様に、貫通孔2aが設けられた基板1であってもよく、勿論、基板1に貫通孔2aと凹部2bの両者が設けられていてもよい。
(他の実施形態)
以上、本発明の各実施形態を説明したが、本発明は上述したものに限定されるものではない。例えば、上述した実施形態1及び2では、保持テーブル20が基板1の塗布面1aを鉛直方向下向きとして保持し、塗布ヘッド40をノズル開口41が鉛直方向上向きとなるように配置したが、特にこれに限定されず、例えば、保持テーブルが基板1の塗布面1aを鉛直方向上向きとなるように保持して、塗布ヘッド40をノズル開口41が鉛直方向下向きとなるように配置するようにしてもよい。また、上述した実施形態1及び2では、保持テーブル20を面方向に移動させることで、塗布ヘッド40と保持テーブル20とを塗布面1aの面方向に相対的に移動させるようにしたが、特にこれに限定されず、例えば、保持テーブル20を固定して、塗布ヘッド40を基板1の塗布面1aの面方向に移動させるようにしてもよい。
以上、本発明の各実施形態を説明したが、本発明は上述したものに限定されるものではない。例えば、上述した実施形態1及び2では、保持テーブル20が基板1の塗布面1aを鉛直方向下向きとして保持し、塗布ヘッド40をノズル開口41が鉛直方向上向きとなるように配置したが、特にこれに限定されず、例えば、保持テーブルが基板1の塗布面1aを鉛直方向上向きとなるように保持して、塗布ヘッド40をノズル開口41が鉛直方向下向きとなるように配置するようにしてもよい。また、上述した実施形態1及び2では、保持テーブル20を面方向に移動させることで、塗布ヘッド40と保持テーブル20とを塗布面1aの面方向に相対的に移動させるようにしたが、特にこれに限定されず、例えば、保持テーブル20を固定して、塗布ヘッド40を基板1の塗布面1aの面方向に移動させるようにしてもよい。
さらに、上述した実施形態2では、加熱手段90によって、塗布面1aの凹部2b以外の領域の撥水液4を凹部2b内に引き込ませるようにしたが、上述した実施形態1で貫通孔2aの内面に塗布した撥水液4が貫通孔2aを介して塗布面1a側に周り込んだ場合には、塗布面1a側を加熱することで、塗布面1a上の撥水液4を貫通孔2a内に引き込ませるようにしてもよい。
また、上述した実施形態1及び2では、基板1に設けられた貫通孔2a及び凹部2bが厚さ方向に同一内径で形成されているが、特にこれに限定されず、例えば、貫通孔及び凹部が塗布面側に向かって内径が漸小又は漸大するように形成されていても、上述したスリットコート式塗布方法を用いることで、貫通孔2aの内面及び凹部2bの内面に撥水液4を塗布することができ、塗布面1aの貫通孔2a及び凹部2b以外の領域に液体3を均一な膜厚で塗布することができる。また、基板1は、平面の塗布面1aを有するものに限定されず、例えば、レンズ等の曲面状の塗布面を有する非平面基板に対しても本発明を実施できることは言うまでもない。
1 基板、1a 塗布面、2a 貫通孔、2b 凹部、3 液体、4 撥水液、10 スリットコート式塗布装置、20 保持テーブル、21 吸引孔、40 塗布ヘッド、41 ノズル開口、50 貯留手段、70 吸引手段、80 ステージ、81 噴射ヘッド、90 加熱手段
Claims (2)
- 液体が塗布される塗布面に開口する開口形成部を有する基板の前記塗布面とは反対側の保持面を保持する保持テーブルと、前記塗布面に相対向して前記液体が流出されるスリット状のノズル開口が設けられた塗布ヘッドとを具備するスリットコート式塗布方法であって、
前記開口形成部の内面に撥水液を塗布した状態で、前記基板と前記塗布ヘッドとを前記塗布面の面方向に相対的に移動させて前記塗布面に前記液体を塗布することを特徴とするスリットコート式塗布方法。 - 請求項1において、前記開口形成部が前記基板を厚さ方向に貫通して設けられた貫通孔であると共に、前記撥水液を前記保持面側から霧状に噴射することにより前記貫通孔の内面に前記撥水液を塗布した状態とすることを特徴とするスリットコート式塗布方法。
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JP2014035948A (ja) * | 2012-08-09 | 2014-02-24 | Gigaphoton Inc | ターゲット供給装置の制御方法、および、ターゲット供給装置 |
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- 2003-12-26 JP JP2003434507A patent/JP2005191493A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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