JP2012011566A - ノズルプレートの製造方法、インクジェットヘッド及びインクジェット記録装置、ならびにノズル形成方法 - Google Patents

Abstract

【課題】親水性のノズル内面と撥水性の吐出面の境界を精度よく形成することで、吐出精度とメンテナンス性を向上させる。
【解決手段】基板の第１の面のノズルを形成すべき位置に非貫通状態の凹形状を形成する工程と、前記凹形状の表面にライナー膜を形成する工程と、前記第１の面の反対面である第２の面にエッチング処理を施し、前記ライナー膜を凸形状に露出させる工程と、前記第２の面に機能膜を形成する工程と、前記凸形状のライナー膜が露出するまで、前記機能膜にエッチング処理を施す工程と、前記第１の面の凹形状に流体を導入するとともに、前記第２の面を処理剤に浸漬して前記露出したライナー膜表面をエッチングしてノズルを形成するウエットエッチング工程とを備えたノズルプレートの製造方法によって上記課題を解決する。
【選択図】 図５

Description

本発明は、ノズルプレートの製造方法、インクジェットヘッド及びインクジェット記録装置、ならびにノズル形成方法に係り、特に親水性のノズル内面と撥水性の吐出面の境界を精度よく形成する技術に関する。

一般に、インクジェット記録装置の記録ヘッド（インクジェットヘッド）は、複数のノズル孔が形成されるノズル形成基板（ノズルプレート）を備え、例えば圧電素子や発熱素子などのエネルギー発生手段を利用して、圧力室内のインクを加圧することにより、圧力室に連通するノズルからインク滴をそれぞれ吐出して記録媒体上に記録を行う。

インクジェットヘッドにおいては、ノズル孔の形状や製造精度等がインク滴の吐出特性に影響を与えることが知られている。

特許文献１には、レーザ又はプラズマエッチングによる穴開け加工後にウエットエッチングを施してノズルを形成する技術が開示されている。この技術によれば、高精度のノズルを高スループットで形成でき、ノズルを高密度化した場合であっても適切なインク吐出性能を確保することができる。

特開平１１−９９９号公報

ノズル孔の形状や製造精度の他、ノズルプレートの表面特性がインク滴の吐出特性に影響を与えることが知られている。例えば、ノズルプレート表面のノズル周辺部にインクが付着すると、インク滴の吐出方向が曲げられたり、インク滴の大きさのバラツキが生じたり、インク滴の吐出速度が不安定になる等の弊害が生じる。これらの弊害を防止するため、一般的にノズルプレートの表面（インク吐出面）には撥液膜（撥液性被膜）が形成されており、インク滴の吐出特性の安定化が図られている。

これに対し、ノズル内部は、インクの充填性等のために親水性に形成されている。したがって、親水性のノズル内面と撥水性の吐出面の境界が存在することになる。この境界が不均一になると、吐出安定性が低下するという問題が発生する。

ここで、吐出面に撥液膜が形成されたノズルプレートにおける、従来のノズル孔の開口方法について、図８を用いて説明する。

まず、ノズルプレート１０に、図８（ａ）に示すような構造体を形成する。ノズルプレート１０の表面には酸化膜２２が形成されるとともに、凸部２０が形成されている。このノズルプレート１０の表面に、撥液膜２４を形成する（図８（ｂ））。

次に、ドライエッチングにより、撥液膜２４と凸部２０を構成する酸化膜２２のエッチングを行う。そして、凸部２０を開口してノズル孔となる開口部２６を形成する（図８（ｃ））。

以上のような工程により、親水性のノズル内面と撥水性の吐出面の境界精度の高いノズルプレートを製造することができる。

しかしながら、撥液膜２４が有機膜である場合等には、凸部を形成する酸化膜２２と撥液膜２４のエッチングレートが異なることから、図８（ｄ）のように凸部２０の部分に突出部２８が残ってしまうことがあった。このような突出部が存在すると、吐出精度に悪影響を及ぼすとともに、ノズルプレートのワイピングの際に効率的に拭き取ることができず、メンテナンス性が悪化する。また、ワイピングのブレードにダメージを与えるという問題点もある。

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、親水性のノズル内面と撥水性の吐出面の境界を精度よく形成することで、吐出精度とメンテナンス性を向上させるノズルプレートの製造方法、インクジェットヘッド及びインクジェット記録装置、ならびにノズル形成方法を提供することを目的とする。

前記目的を達成するために請求項１に記載のノズルプレートの製造方法は、基板の第１の面のノズルを形成すべき位置に非貫通状態の凹形状を形成する工程と、前記凹形状の表面にライナー膜を形成する工程と、前記第１の面の反対面である第２の面にエッチング処理を施し、前記ライナー膜を凸形状に露出させる工程と、前記第２の面に機能膜を形成する工程と、前記凸形状のライナー膜が露出するまで、前記機能膜にエッチング処理を施す工程と、前記第１の面の凹形状に流体を導入するとともに、前記第２の面を処理剤に浸漬して前記露出したライナー膜表面をエッチングしてノズルを形成するウエットエッチング工程とを備えたことを特徴とする。

請求項１に記載の発明によれば、凸形状のライナー膜を含む第２の面に機能膜を形成し、エッチングによりライナー膜上面を露出させた後、第１の面の凹形状から流体を導入するとともに、第２の面を処理剤に浸漬して露出したライナー膜表面をエッチングするようにしたので、機能膜とライナー膜のエッチングレートが異なる場合であっても、精度よくライナー膜をエッチングして吐出面の機能性を確保してノズル開口を形成することができるとともに、第１の面の凹形状から導入された流体により、開口内面に処理剤が入り込むのを防止して内面が侵食されることを回避することができる。

請求項２に示すように請求項１に記載のノズルプレートの製造方法において、前記基板の第１の面に前記凹形状に連通する流路を形成する工程と、複数の前記流路に連通する共通流路を形成する工程とを備え、前記ウエットエッチング工程は、前記共通流路から前記凹形状に流体を導入することを特徴とする。

各ノズル（凹形状）と連通する共通流路を予め形成し、共通流路から流体を導入することで、各凹形状に適切に流体を導入させることができる。

請求項３に示すように請求項１又は２に記載のノズルプレートの製造方法において、前記基板の第１の面に前記凹形状に連通する圧力室を形成する工程と、前記圧力室内に圧力を加える圧電素子を形成する工程とを備え、前記圧力室に導入された流体を前記圧電素子で加圧することにより前記凹形状に流体を導入することを特徴とする。

各ノズル（凹形状）と連通する圧力室と該圧力室に圧力を加える圧電素子とを予め形成し、圧電素子を駆動することで、各凹形状に適切に流体を導入させることができる。

請求項４に示すように請求項１から３のいずれかに記載のノズルプレートの製造方法において、前記機能膜は、撥水性の有機膜であることを特徴とする。

これにより、吐出面の撥水性を確保することができる。

請求項５に示すように請求項１から４のいずれかに記載のノズルプレートの製造方法において、前記機能膜は、フッ素を含むことを特徴とする。

これにより、適切に吐出面の撥水性を確保することができる。

請求項６に示すように請求項１から５のいずれかに記載のノズルプレートの製造方法において、前記ライナー膜は、親水性の膜であることを特徴とする。

これにより、内部を親水性にしてノズルを形成することができる。

請求項７に示すように請求項１から６のいずれかに記載のノズルプレートの製造方法において、前記流体は、空気、不活性ガス、オゾン又はその混合ガスのいずれかであることを特徴とする。

これにより、流体を凹形状に適切に導入させることができる。

請求項８に示すように請求項１から７のいずれかに記載のノズルプレートの製造方法において、前記流体は、前記処理剤と混合しない溶液であることを特徴とする。

これにより、ライナー膜がエッチングされて開口した後にも処理剤に悪影響を与えることがなくなる。

請求項９に示すように請求項１から８のいずれかに記載のノズルプレートの製造方法において、前記処理剤は、少なくともフッ酸を含むことを特徴とする。

これにより、適切にライナー膜をエッチングすることができ、精度よくノズルを形成することができる。

請求項１０に示すように請求項１から９のいずれかに記載のノズルプレートの製造方法において、前記ウエットエッチング工程は、前記処理剤の充填された容器の底と前記第２の面との距離を１ｃｍ以下として処理剤に浸漬することを特徴とする。

これにより、ムラなくライナー膜をエッチングすることができ、精度よくノズルを形成することができる。

請求項１１に示すように請求項１から１０のいずれかに記載のノズルプレートの製造方法において、前記ウエットエッチング工程は、前記処理剤の充填された容器の底と前記第２の面との距離を形成されるノズルの直径より大きくして処理剤に浸漬することを特徴とする。

これにより、適切にライナー膜をエッチングすることができ、精度よくノズルを形成することができる。

前記目的を達成するために請求項１２に記載のインクジェットヘッドは、請求項１から１１のいずれかに記載のノズルプレートの製造方法によって形成されたノズルプレートを備えたことを特徴とする。

前記目的を達成するために請求項１３に記載のインクジェット記録装置は、請求項１２に記載のインクジェットヘッドを備えたことを特徴とする。

前記目的を達成するために請求項１４に記載のノズル形成方法は、第１の面のノズルを形成すべき位置にライナー膜の形成された非貫通状態の凹部が形成され、かつ該凹部のライナー膜が前記第１の面の反対面である第２の面に凸部を形成している基板にノズルを形成するノズル形成方法において、前記第２の面に機能膜を形成する機能膜形成工程と、前記第１の面の凹部から流体を導入するとともに、前記第２の面を処理剤に浸漬するエッチング工程とを備えたことを特徴とする。

請求項１４に記載の発明によれば、ライナー膜の凸部を含む第２の面に機能膜を形成した後、第１の面の凹部から流体を導入するとともに、第２の面を処理剤に浸漬するようにしたので、機能膜とライナー膜のエッチングレートが異なる場合であっても、精度よくライナー膜をエッチングして吐出面の機能性を確保してノズル開口を形成することができるとともに、第１の面の凹形状から導入された流体により、開口内面に処理剤が入り込むのを防止して内面が侵食されることを回避することができる。

本発明によれば、親水性のノズル内面と撥水性の吐出面の境界を精度よく生成することができ、吐出精度とメンテナンス性を向上させることが可能となる。

本実施形態で製造されるインクジェットヘッドの断面図 インクジェットヘッドの製造方法を示した工程図 インクジェットヘッドの製造方法を示した工程図 インクジェットヘッドの製造方法を示した工程図 インクジェットヘッドの製造方法を示した工程図 ノズル開口時のエッチング方法を示した図 ノズル開口時のその他のエッチング方法を示した図 従来のノズル孔の開口方法を示した工程図

以下、添付図面に従って本発明の好ましい実施の形態について詳説する。

＜インクジェットヘッドの製造方法＞
図１は、インクジェットヘッド１００の立体構造の一例を示す断面図であり、記録素子単位となる１チャンネル分のインク噴射素子が図示されている。

同図に示すように、インクジェットヘッド１００は、ピエゾカバー１０、供給流路２０、基板３０、液室３２、圧力室３５、振動板４０、圧電素子５０、ノズルプレート５５、ノズル６０、及び撥液膜６５から構成されている。

圧力室３５の天面を構成している振動板４０の上には圧電素子５０が形成されている。この圧電素子５０に駆動電圧が印加されると、圧電素子５０が変形する。これにより、振動板４０が変形し、圧力室３５の容積が減少し、圧力室３５内のインクに圧力が加わり、インクがノズルプレート５５に形成されたノズル６０から吐出される。

ノズル６０からインクが吐出されると、供給流路２０と連通されるインクの供給源たるタンク（不図示）から液室３２を介して圧力室３５へインクが充填される。

なお、ノズル６０から吐出された分のインクを供給させるのではなく、供給流路２０から液室３２に供給されたインクを、図１において破線で示した循環流路２１を介して循環用のタンク（不図示）に循環させるように構成してもよい。

撥液膜６５は、ノズルプレート５５の露出面に形成され、ノズルプレート５５の吐出面を保護するとともに、吐出面に撥水性を持たせている。また、撥液膜６５は、その開口部がノズルプレート５５のノズル６０の位置と適合するように形成される。ここでは、ノズル６０の形状は直径が約２〜２０μｍの円形であるが、楕円形、正方形、あるいは長方形であってもよい。

撥液膜６５の形成には、様々な材料を用いることができ、一例としてフッ素重合体を用いてスピンコート法により形成する方法がある。

次に、図１に示したノズルプレート５５の製造方法について説明する。図２〜図５は、本実施の形態に係るノズルプレートの製造方法を示した工程図である。

本実施形態のノズルプレート５５は、ＳＯＩ（Silicon On Insulator）基板２００を用いて製造する。ＳＯＩ基板２００は、ハンドル層２１０、ハンドル層２１０の一面側に設けられたＢＯＸ（Buried Oxide）層（埋め込み酸化膜層）２１５、ＢＯＸ層２１５のハンドル層２１０の反対側に設けられたデバイス層２２０とから構成されている（図２（ａ））。

ここでは、ハンドル層２１０の厚さは約６００μｍ、デバイス層２２０の厚さは約３０μｍ、ＢＯＸ層２１５の厚さは約１μｍとなっている。

まず、マスクアライメント用のレチクルマーク２３０をデバイス層２２０にエッチングする。さらに、デバイス層２２０の表面に酸化膜２３５、及びハンドル層２１０の表面に酸化膜２４０を形成する（図２（ｂ））。これらの酸化膜は、例えば熱酸化法で形成することができ、厚さは少なくとも１μｍとする。

次に、酸化膜２３５をエッチングによりパターニングし、開口部２５０を形成する（図２（ｃ））。開口部２５０は、酸化膜２３５が完全に除去され、デバイス層２２０が露出された状態となっている。

エッチング方法としては、ＢＯＥ（Buffered Oxide Etch）等のウエットエッチングや、ドライエッチングを用いることができる。

続いて、酸化膜２３５の上に犠牲層２６０を形成する。次に、開口部２５０の位置に円形（又は楕円、長方形、正方形等）の開口部２６５を形成する（図２（ｄ））。ここで、開口部２５０の中心と開口部２６５の中心は一致しており、かつ開口部２６５の口径は開口部２５０の口径よりも小さくなっている。

また、開口部２６５は、デバイス層２２０及びＢＯＸ層２１５を貫通し、ハンドル層２１０の内部まで到達するように形成される。開口部２６５は、ハンドル層２１０の約１〜５μｍ（例えば２μｍ）だけ内部まで形成される。

この開口部２６５は、多数のエッチング工程によって形成することができる。また、開口部２６５のエッチング後、犠牲層２６０を除去する。

次に、開口部２６５を含む開口部２５０に、ライナー膜２７０を形成する（図３（ｅ））。このライナー膜２７０は、開口部２６５を含む開口部２５０の次工程のエッチングに対する保護膜として機能する。ライナー膜２７０としては、窒化物、二酸化ケイ素、あるいは金属を用いることができる。窒化物ライナーであれば、低圧化学蒸着法（ＬＰＣＶＤ）によって形成することができ、酸化物ライナーであれば、プラズマ（ＰＥＣＶＤ）や熱酸化処理により形成することができる。ライナー膜２７０の厚さは、最小で０．２μｍとする。

さらに、開口部２６５におけるライナー膜２７０の空洞部に、フォトレジスト２８０をパターニングする（図３（ｆ））。

次に、ライナー膜２７０をエッチングし、開口部２５０の位置のデバイス層２２０を露出させる（図３（ｇ））。このとき、酸化膜２３５もエッチングされ、その厚みが減少する。

開口部２５０の位置におけるデバイス層２２０の露出した部分をエッチングすることで、テーパー部２９０を形成する（図３（ｈ））。例えば、ＫＯＨ（水酸化カリウム）を用いた結晶異方性エッチングを行うことで、テーパー部２９０を四角錐状のテーパー形状に形成することができる。

次に、リン酸あるいはフッ化水素によりライナー膜２７０及びフォトレジスト２８０を除去し、酸化膜２３５、及び開口部２５０にライナー膜３００を形成する（図４（ｉ））。ライナー膜３００は、酸化物又は窒化物から形成され、その厚さは１μｍ未満である。

ＳＯＩ基板２００のライナー膜３００の形成された面が、基礎基板３１０と接合される（図４（ｊ））。基礎基板３１０は、図１に示す圧力室３５等が形成されているものである。これらの基板の接合には、接着剤や溶融接着を用いることができる。

次に、研磨やドライエッチング等により酸化膜２４０及びハンドル層２１０を除去する（図４（ｋ））。例えば、酸化膜２４０は、ドライエッチングにより除去することができる。ハンドル層２１０は、研磨によりおおまかに除去した後、残りの部分をライナー膜３００及びＢＯＸ層２１５と選択的にウエットエッチング又はドライエッチングをすることにより除去することができる。

ここで、開口部２６５はハンドル層２１０の約１〜５μｍだけ内部まで形成され、さらに開口部２６５にはライナー膜３００が形成されたため、ハンドル層２１０が除去されてＢＯＸ層が露出した面には、ライナー膜３００が突出した突出部３３５が存在している。

このＢＯＸ層が露出した面に、シリコンの付着を促進する付着促進層３３０を形成する（図４（ｌ））。付着促進層３３０は、タンタルやチタン等の金属、又はこれらの酸化物から構成されており、さらに非多孔性の構造を有していることが好ましい。

次に、付着促進層３３０の上に撥液膜３４０を形成する（図５（ｍ））。撥液膜３４０は、テフロン（登録商標）（ＰＴＦＥ）やフルオロカーボン系の材料が用いられ、スプレーコーティングや化学蒸着法（ＣＶＤ）によって平坦に形成される。

また、撥液膜３４０は、その厚さが０．５μｍ以上となるように形成される。後に行われるエッチングにおいて、撥液膜３４０のエッチング速度が付着促進層３３０や酸化膜の侵食より早い場合には、１μｍ以上に形成することが好ましい。

次に、ドライエッチングにより撥液膜３４０をエッチングする。このとき、突出部３３５の表面が露出するタイミングでドライエッチングを停止する（図５（ｎ））。

その後、基礎基板３１０の供給流路２０から流体を注入しながら、ＳＯＩ基板２００の撥液膜３４０側をエッチング溶液に浸漬させる。

例えば、図５（ｎ）の工程まで製造したインクジェットヘッド１０５に対し、図６に示すような治具４００を設置し、治具４００の開口部４０５から注入する流体４１０が漏れないように、治具４００とインクジェットヘッド１０５を接着する。

この状態で、エッチング溶液４２５を収容した容器４２０に、インクジェットヘッド１０５を浸漬させる。このとき、少なくとも撥液膜３４０がエッチング溶液４２５に浸るように浸漬させる。

流体４１０としては、気体であれば、空気の他、窒素、アルゴン等の不活性ガスや、流路内を親水化可能なオゾン等の酸化性ガス、その他の混合ガスを用いることができる。また、液体であれば、水溶液、非水溶液、又はエッチング溶液４２５と混合しない溶液等を用いることができる。流体の注入方法は、例えば特開平５−２５４１２８号公報に記載されている方法を用いることができる。

また、エッチング溶液４２５としては、フッ酸溶液、又はフッ酸を含む混合液が好ましい。界面活性剤等を含む混合液を用いることで、溶液の表面張力を変えることができる。また、エッチング速度によって、フッ酸の濃度を適宜調整してもよい。フッ酸は撥液膜３４０にはじかれる結果、酸化膜部分である突出部３３５のライナー膜３００のみをエッチングするので、選択性の高い加工が可能となる。

このように、突出部３３５のライナー膜３００のエッチングを行い、開口部３５０を形成する（図５（ｏ））。流体４１０を注入することで、開口部３５０が形成された際に、開口部３５０内部にエッチング溶液４２５が入ってくることを防止することができる。したがって、突出部３３５の内部の酸化膜は、エッチング溶液４２５によってエッチングされず、流体４１０によって保護される。

また、流体４１０がエッチング溶液４２５と混合しない溶液であれば、開口後に流体４１０がエッチング溶液４２５に流入しても、エッチング溶液４２５のエッチング性能を落とすことがない。

なお、流体４１０として気体を用いる場合、撥液膜３４０の形成面と容器４２０の底面との距離Ｄが大きいと、開口部３５０から排出された気泡が撥液膜３４０の形成面に付着したままの状態となる。その結果、まだ開口していない突出部３３５のライナー膜３００の除去においてムラが発生する可能性がある。

したがって、距離Ｄがある程度小さくなるように設置する必要がある。距離Ｄを狭めることで、開口部３５０から噴出した気泡が撥液膜３４０の形成面から移動しやすくなり、ムラなくライナー膜３００を除去することができる。距離Ｄとしては、１ｃｍ以下であることが好ましい。

なお、距離Ｄの最小長さは、開口部３５０の直径ｄとする。距離Ｄが小さすぎると、開口部３５０から気泡が出にくくなり好ましくない。また、流体４１０として液体を用いる場合には、距離Ｄを制御する必要はない。

さらに、エッチング溶液４２５を攪拌してもよい。攪拌を行うことで、短時間で処理できるようになり、効率がよくなる。攪拌は、スターラーや超音波等を用いて行えばよい。

図６の例では、図５（ｎ）の工程まで製造したインクジェットヘッド１０５においてノズル開口の加工を行ったが、図１に示す圧電素子５０、ピエゾカバー１０、供給流路２０等を備えた状態のインクジェットヘッド１００においてノズル開口の加工を行ってもよい。

この場合、図７（ａ）に示すように、各供給流路２０に分岐する前の共通供給路２０ａから流体４１０を注入することで、各インク噴射素子の突出部３３５に流体４１０を導入することができる。このとき、共通供給路２０ａからエッチング溶液４２５で混ざり合うことのない溶液を注入するのであれば、圧電素子５０を駆動することによって、注入された溶液を噴出させることも可能である。

また、循環流路２１を有している場合には、図７（ｂ）に示すように、共通供給路２０ａと、各循環流路２１の合流後の共通循環路２１ａの両方から流体４１０を注入するとよい。このように流体４１０を注入することで、各インク噴射素子に供給される流体４１０の差を低減し、均一に行き渡らせることができる。また、図７（ｃ）に示すように、共通供給路２０ａ、共通循環路２１ａの一方を封止し、他方から流体４１０を注入してもよい。

以上のように形成されたノズルは、親液性のノズル内面と撥液性の吐出面の境界を精度良く形成されている。したがって、本実施形態に係るノズルプレート、インクジェットヘッドは、吐出精度、メンテナンス性、及びインク充填製の優れたものとなる。

なお、本実施形態では、ノズル内面を親液性に形成し、吐出面を撥液性に形成したが、本発明はこれに限定されるものではない。

即ち、第１の面のノズルを形成すべき位置に第１の機能を有する第１の膜の形成された非貫通状態の凹部を形成し、かつ該凹部の第１の膜が前記第１の面の反対面である第２の面に凸部を形成している基板にノズルを形成する際に、第２の面に第２の機能を有する第２の膜を形成し、第１の面の凹部から流体を導入するとともに、第２の面を処理剤に浸漬することで、ノズル内面を第１の機能に形成し、吐出面を第２の機能に形成することができる。

このとき、ノズル内面の第１の膜と吐出面の第２の膜の境界を精度良く形成することができ、処理剤によってノズル内面を侵食させることがないので、ノズル内面の第１の機能を達成することができる。

このように製造されたノズルプレートやインクジェットヘッドは、公知の各種インクジェット記録装置に用いることができる。なお、ノズルの配置等は、適宜設計することができる。

１０…構造体、２０…供給流路、２０ａ…共通供給路、２１…循環流路、２１ａ…共通循環路、２００…ＳＯＩ基板、２１０…ハンドル層、２１５…ＢＯＸ層、２２０…デバイス層、２３０…レチクルマーク、２３５…酸化膜、２５０、２６５…開口部、２６０…犠牲層、２７０、３００…ライナー、２９０…テーパー部、３１０…基礎基板、４００…治具、４１０…流体、４２０…容器、４２５…エッチング溶液

Claims (14)

1. 基板の第１の面のノズルを形成すべき位置に非貫通状態の凹形状を形成する工程と、
   前記凹形状の表面にライナー膜を形成する工程と、
   前記第１の面の反対面である第２の面にエッチング処理を施し、前記ライナー膜を凸形状に露出させる工程と、
   前記第２の面に機能膜を形成する工程と、
   前記凸形状のライナー膜が露出するまで、前記機能膜にエッチング処理を施す工程と、
   前記第１の面の凹形状に流体を導入するとともに、前記第２の面を処理剤に浸漬して前記露出したライナー膜表面をエッチングしてノズルを形成するウエットエッチング工程と、
   を備えたことを特徴とするノズルプレートの製造方法。
2. 前記基板の第１の面に前記凹形状に連通する流路を形成する工程と、
   複数の前記流路に連通する共通流路を形成する工程と、
   を備え、
   前記ウエットエッチング工程は、前記共通流路から前記凹形状に流体を導入することを特徴とする請求項１に記載のノズルプレートの製造方法。
3. 前記基板の第１の面に前記凹形状に連通する圧力室を形成する工程と、
   前記圧力室内に圧力を加える圧電素子を形成する工程と、
   を備え、
   前記圧力室に導入された流体を前記圧電素子で加圧することにより前記凹形状に流体を導入することを特徴とする請求項１又は２に記載のノズルプレートの製造方法。
4. 前記機能膜は、撥水性の有機膜であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のノズルプレートの製造方法。
5. 前記機能膜は、フッ素を含むことを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のノズルプレートの製造方法。
6. 前記ライナー膜は、親水性の膜であることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載のノズルプレートの製造方法。
7. 前記流体は、空気、不活性ガス、オゾン又はその混合ガスのいずれかであることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載のノズルプレートの製造方法。
8. 前記流体は、前記処理剤と混合しない溶液であることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載のノズルプレートの製造方法。
9. 前記処理剤は、少なくともフッ酸を含むことを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載のノズルプレートの製造方法。
10. 前記ウエットエッチング工程は、前記処理剤の充填された容器の底と前記第２の面との距離を１ｃｍ以下として処理剤に浸漬することを特徴とする請求項１から９のいずれかに記載のノズルプレートの製造方法。
11. 前記ウエットエッチング工程は、前記処理剤の充填された容器の底と前記第２の面との距離を形成されるノズルの直径より大きくして処理剤に浸漬することを特徴とする請求項１から１０のいずれかに記載のノズルプレートの製造方法。
12. 請求項１から１１のいずれかに記載のノズルプレートの製造方法によって形成されたノズルプレートを備えたことを特徴とするインクジェットヘッド。
13. 請求項１２に記載のインクジェットヘッドを備えたことを特徴とするインクジェット記録装置。
14. 第１の面のノズルを形成すべき位置にライナー膜の形成された非貫通状態の凹部が形成され、かつ該凹部のライナー膜が前記第１の面の反対面である第２の面に凸部を形成している基板にノズルを形成するノズル形成方法において、
    前記第２の面に機能膜を形成する機能膜形成工程と、
    前記第１の面の凹部から流体を導入するとともに、前記第２の面を処理剤に浸漬するエッチング工程と、
    を備えたことを特徴とするノズル形成方法。

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