JP2005183757A - 半導体発光素子およびその製造方法 - Google Patents
半導体発光素子およびその製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】半導体発光素子1は、基板2にn型半導体層3が積層され、n型半導体層3にボンディング用のn側電極5と発光体層4とが積層され、発光体層4にp型半導体層6が積層され、p型半導体層6に光反射性を有するp側光反射電極7が積層され、p型半導体層6および発光体層4の周囲を覆うように光反射性を有する光反射層9が積層され、p側光反射電極7にボンディング用のp側電極10が積層されたことにより、発光体層4の側方から出射した光を光反射層9が反射して主光取り出し面から出射させることができるので、輝度の高い半導体発光素子とすることができる。
【選択図】図1
Description
本発明の実施の形態1に係る半導体発光素子について図1から図6に基づいて説明する。図1は本発明の実施の形態1に係る半導体発光素子の構成を説明する図である。図2から図6は、本発明の実施の形態1に係る半導体発光素子の製造方法を説明する図で、図2から図6において(a)は斜視図、(b)は垂直断面図、(c)は平面図である。
本発明の実施の形態2に係る半導体発光素子について図7および図8に基づいて説明する。図7は本発明の実施の形態2に係る半導体発光素子を説明する図である。図8は、本発明の他の実施の形態に係る半導体発光素子を説明する図である。
2 基板
3 n型半導体層
4 発光体層
5 n側電極
6 p型半導体層
7,16,17 p側光反射電極
8,15 保護層
9 光反射層
10 p側電極
11 絶縁層
Claims (6)
- 基板にn型半導体層が積層され、前記n型半導体層にボンディング用のn側電極と発光体層とが積層され、前記発光体層にp型半導体層が積層され、前記p型半導体層に光反射性を有するp側光反射電極が積層され、前記p側光反射電極にボンディング用のp側電極が積層された半導体発光素子において、
前記p型半導体層および発光体層の周囲を覆うように光反射性を有する光反射層が積層されたことを特徴とする半導体発光素子。 - 前記p側電極および前記n側電極の間と、前記光反射電極の前記発光体層側であって前記p型半導体層および前記発光体層を囲う周囲とに、絶縁性を有し光透過性を有する保護層が形成されたことを特徴とする請求項1記載の半導体発光素子。
- 前記光反射層は、前記p側光反射電極と略等しい材質で形成されたことを特徴とする請求項1または2に記載の半導体発光素子。
- 基板にn型半導体層が積層され、前記n型半導体層にボンディング用のn側電極と発光体層とが積層され、前記発光体層に前記p型半導体層が積層され、前記n側電極をボンディング可能に露出させ、かつ前記p型半導体層を導通可能に露出させるように、絶縁性を有し光透過性を有する保護層が積層され、前記p型半導体層に光反射性を有するp側光反射電極が積層され、前記p側光反射電極にボンディング用のp側電極が積層された半導体発光素子であって、
前記p側光反射電極は、前記発光体層より略等しいか、または広く形成されたことを特徴とする半導体発光素子。 - 基板にn型半導体層を積層し、
前記n型半導体層に発光体層を積層し、
前記発光体層にp型半導体層を積層し、
前記発光体層およびp型半導体層をエッチングによりn型半導体層を露出させ、
前記露出した前記n型半導体層にボンディング用のn側電極を積層し、
前記n側電極と前記p型半導体層とを覆うように絶縁性を有する保護層を積層し、
前記保護層をエッチングにより前記n側電極をボンディング可能に露出させ、かつ前記p型半導体層を接続可能に前記p型半導体層の周囲を残して露出させ、
前記保護層から露出した前記p型半導体層の領域に光反射性を有するp側光反射電極を積層し、
前記保護層に前記p型半導体層および前記発光体層の周囲を囲うように光反射性を有する光反射層を積層し、
前記p側光反射電極および前記光反射層上にボンディング用のp側電極を積層することを特徴とする半導体発光素子の製造方法。 - 基板にn型半導体層を積層し、
前記n型半導体層に発光体層を積層し、
前記発光体層にp型半導体層を積層し、
前記発光体層およびp型半導体層をエッチングによりn型半導体層を露出させ、
前記露出した前記n型半導体層にボンディング用のn側電極を積層し、
前記n側電極と前記p型半導体層とを覆うように絶縁性を有する保護層を積層し、
前記保護層をエッチングにより前記n側電極をボンディング可能に露出させ、かつ前記p型半導体層の全体が露出するように露出させ、
前記保護層から露出した前記p型半導体層に前記発光体層を囲うように光反射性を有するp側光反射電極を積層し、
前記p側光反射電極にボンディング用のp側電極を積層することを特徴とする半導体発光素子の製造方法。
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