JP2005175460A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 プラズマ処理装置において、誘電体窓の外部若しくは内部に形成され、かつプラズマ励起用コイル又は電極がその内部に配置されるとともに、当該内部に電気絶縁性液体が収容される液室と、上記液体の冷却手段及び加熱手段を有し、上記液室に収容された上記液体の温度を調整し、当該液体を介して上記プラズマ励起用コイル又は上記電極及び上記誘電体窓の温度を制御する。
【選択図】 図1
Description
その内部において上記基板が保持され、当該基板に対する処理が行われる上記処理室を形成する真空容器と、
上記処理室を密閉するように当該真空容器の一部をなす誘電体窓と、
上記誘電体窓を介して上記処理室と対向して配置され、高周波電力が印加されることで、当該誘電体窓を介して上記処理室内部に電磁界を付与するプラズマ励起用コイル又は電極と、
上記処理室内に上記反応ガスを供給するガス供給部と、
上記処理室内を排気して上記処理室内の圧力を略一定に保つ真空排気装置と、
上記プラズマ励起用コイル又は上記電極に上記高周波電力を印加する高周波電源と、
上記誘電体窓をその一部となして、当該誘電体窓における上記処理室側の表面とは反対側の表面を電気絶縁性液体中に浸積させるように当該液体を収容する液室をその内部に形成し、かつ、当該液室内に上記プラズマ励起用コイル又は上記電極を配置する液体収容容器とを備えるプラズマ処理装置を提供する。
当該一体化された誘電体窓の内部に上記電気絶縁性液体の液流路が上記液室として形成され、当該液室中に上記プラズマ励起用コイルが配置される第2態様に記載のプラズマ処理装置を提供する。
上記電気絶縁性液体を循環可能に上記液室と連通された液流路と、
上記液流路を通して上記電気絶縁性液体を循環させる液体循環装置とを備える第2態様から第4態様のいずれか1つに記載のプラズマ処理装置を提供する。
上記電気絶縁性液体と区分可能に上記熱交換器部に収容された流体が、上記冷却装置又は上記加熱装置により温度調整されることで、上記液体収容容器内の上記電気絶縁性液体の温度調整を行なう第2態様から第4態様のいずれか1つに記載のプラズマ処理装置を提供する。
上記加熱装置は、上記液体収容容器の内部又は外部に配置された加熱ヒータである第2態様から第4態様のいずれか1つに記載のプラズマ処理装置を提供する。
上記液室への上記電気絶縁性液体の供給部と、
上記電気絶縁性液体の気化により生成される液体蒸気の上記液室よりの排出部とを備え、
上記電気絶縁性液体は、上記誘電体窓と上記プラズマ励起用コイル又は上記電極の調整温度若しくはその近傍の温度を沸点とする液体である第2態様から第4態様のいずれか1つに記載のプラズマ処理装置を提供する。
当該液室において、上記第1室と上記第2室との区分位置を可変可能な方向に案内しながら上記液室区分部材の支持を行う支持案内部材とをさらに備え、
上記第1室に収容された上記液体と上記第2室に収容された上記液体との圧力差により、上記プラズマ励起用コイルを上記誘電体窓の上記表面に押圧させて密着させる第10態様に記載のプラズマ処理装置を提供する。
本発明の第1の実施形態にかかるプラズマ処理装置の一例であるプラズマ処理装置800の模式断面図を図1に示す。
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その他種々の態様で実施できる。例えば、本発明の第2の実施形態にかかるプラズマ処理装置の一例であるプラズマ処理装置100の模式断面図を図2に示す。図2に示すように、プラズマ処理装置100は、円盤状の誘電体窓802ではなく、略半球殻形状の誘電体窓2を有している点において、上記第1実施形態のプラズマ処理装置800と異なる構成を有しているが、この誘電体窓2の形態に関係しないその他の構成については、プラズマ処理装置800と略同様な構成となっている。以下、この異なる構成を中心に説明する。なお、その説明の理解を容易なものとするため、プラズマ処理装置100において、上記第1実施形態のプラズマ処理装置800と同様な構成の部分には、同じ参照番号を付し、その説明を省略するものとする。
次に、本発明の第3の実施形態にかかるプラズマ処理装置200の模式断面図を図5に示す。図5に示すように、プラズマ処理装置200は、略半球殻形状の誘電体窓2ではなく、略平板状の誘電体窓202を有している点において、上記第2実施形態のプラズマ処理装置100と異なる構成を有しているが、この誘電体窓202の形態に関係しないその他の構成については、プラズマ処理装置100と同様な構成となっている。また、図5のプラズマ処理装置200は、略平板状の誘電体窓202を有している点において、図1の第1実施形態のプラズマ処理装置800に似た構成を有していると言えるが、液流路220(液体収容容器)とプラズマ励起用コイル205を誘電体窓202の内部に有している点において、異なった構成を有している。以下、この異なる構成を中心に説明する。なお、その説明の理解を容易なものとするため、プラズマ処理装置200において、上記第2実施形態のプラズマ処理装置100と同様な構成の部分には、同じ参照番号を付し、その説明を省略するものとする。また、プラズマ処理装置200においては、上記第2実施形態のプラズマ処理装置100と同様に、統括的な制御を行なう制御装置(制御装置90に相当)が備えられているが、同様な構成であるため、図5においてはその表示を省略している。
次に、本発明の第4の実施形態にかかるプラズマ処理装置300の模式断面図を図6に示す。なお、以下の説明においては、上記第2実施形態のプラズマ処理装置100と同じ構成部分には同じ参照番号を付して、その説明を省略するものとする。
次に、本発明の第5の実施形態にかかるプラズマ処理装置400の模式断面図を図7に示す。図7に示すように、プラズマ処理装置400は、ベルジャー2及びアースシールド容器410にて囲まれて形成された液室420内に収容されている上記冷温媒液に対する加熱又は冷却を行なう構成が異なる点を除いては、上記第4実施形態のプラズマ処理装置300と同様な構成となっている。以下、この異なる構成についてのみ説明を行なう。
次に、本発明の第6の実施形態にかかるプラズマ処理装置700の模式的な構成を示す模式断面図を図8に示す。図8に示すように、プラズマ処理装置700は、ベルジャー2及びアースシールド容器710にて囲まれて形成された液室720内に収容されている上記冷温媒液に対する外部からの冷却機構が無いという点と、液の供給・排出口の構成が異なる点を除いては、上記第5実施形態のプラズマ処理装置400と似た構成となっている。以下、この異なる構成についてのみ説明を行なう。
2 ベルジャー
3、803 処理室
4 反応ガス供給孔
5、805 コイル
6、806 コイル用高周波電源
7 下部電極
8 下部電極用高周波電源
9 基板
10、810 アースシールド容器
10a、810a 排出孔
10b、810b 供給孔
13 真空ポンプ
13a 排気口
14、814 中心電極
15、815 絶縁ブッシュ
16、816 印加端子
17、817 アース端子
18、818 整合器
19 整合器
20、820 液室
21、821 上部側チラーユニット
21a、821a 温度制御装置
21b、821b 温度センサ
22、822 通路
23、823 液流路
24 通路
25 下部側チラーユニット
26、27、826、827 Oリング
90 制御装置
100、800 プラズマ処理装置
R1 プラズマ発生領域
Claims (15)
- 真空化された処理室内に導入された反応ガスに電磁界を付与してプラズマを励起させ、上記処理室内の基板に対しプラズマ処理を行なうプラズマ処理装置において、
その内部において上記基板が保持され、当該基板に対する処理が行われる上記処理室を形成する真空容器と、
上記処理室を密閉するように当該真空容器の一部をなす誘電体窓と、
上記誘電体窓を介して上記処理室と対向して配置され、高周波電力が印加されることで、当該誘電体窓を介して上記処理室内部に電磁界を付与するプラズマ励起用コイル又は電極と、
上記処理室内に上記反応ガスを供給するガス供給部と、
上記処理室内を排気して上記処理室内の圧力を略一定に保つ真空排気装置と、
上記プラズマ励起用コイル又は上記電極に上記高周波電力を印加する高周波電源と、
上記誘電体窓をその一部となして、当該誘電体窓における上記処理室側の表面とは反対側の表面を電気絶縁性液体中に浸積させるように当該液体を収容する液室をその内部に形成し、かつ、当該液室内に上記プラズマ励起用コイル又は上記電極を配置する液体収容容器とを備えるプラズマ処理装置。 - 上記電気絶縁性液体の冷却装置又は加熱装置、又はその両装置を有し、上記液体収容容器に収容された上記液体の温度を調整し、当該液体を介して上記プラズマ励起用コイル又は上記電極及び上記誘電体窓の温度を制御する液体温度調整装置を備える請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 上記誘電体窓を除く上記液体収容容器が、導電体で形成される請求項2に記載のプラズマ処理装置。
- 上記液体収容容器が上記誘電体窓と一体化された1つの誘電体窓として形成され、
当該一体化された誘電体窓の内部に上記電気絶縁性液体の液流路が上記液室として形成され、当該液室中に上記プラズマ励起用コイルが配置される請求項2に記載のプラズマ処理装置。 - 上記液体温度調整装置は、上記液体収容容器外に配置され、
上記電気絶縁性液体を循環可能に上記液室と連通された液流路と、
上記液流路を通して上記電気絶縁性液体を循環させる液体循環装置とを備える請求項2から4のいずれか1つに記載のプラズマ処理装置。 - 上記液体温度調整装置は、上記液体収容容器内に収容された上記電気絶縁性液体との間で熱交換を行なう熱交換器部を当該液体収容容器の壁部に備え、
上記電気絶縁性液体と区分可能に上記熱交換器部に収容された流体が、上記冷却装置又は上記加熱装置により温度調整されることで、上記液体収容容器内の上記電気絶縁性液体の温度調整を行なう請求項2から4のいずれか1つに記載のプラズマ処理装置。 - 上記冷却装置は、上記液体収容容器の外壁面を空気冷却する空気冷却装置であり、
上記加熱装置は、上記液体収容容器の内部又は外部に配置された加熱ヒータである請求項2から4のいずれか1つに記載のプラズマ処理装置。 - 上記液体温度調整装置は、
上記液室への上記電気絶縁性液体の供給部と、
上記電気絶縁性液体の気化により生成される液体蒸気の上記液室よりの排出部とを備え、
上記電気絶縁性液体は、上記誘電体窓と上記プラズマ励起用コイル又は上記電極の調整温度若しくはその近傍の温度を沸点とする液体である請求項2から4のいずれか1つに記載のプラズマ処理装置。 - 上記液体収容容器内において、上記電気絶縁性液体に上記プラズマ励起用コイルがさらに浸積されるように、当該電気絶縁性液体が収容される請求項1から8のいずれか1つに記載のプラズマ処理装置。
- 上記液体収容容器内に供給される上記電気絶縁性液体の圧力でもって、上記プラズマ励起用コイルを上記誘電体窓の上記液室側の表面に密着させる請求項1から5のいずれか1つに記載のプラズマ処理装置。
- 上記液体収容容器内において上記液室を、上記電気絶縁性液体が供給される第1室と、上記第1室に供給された上記液体をその内部に供給可能に当該第1室と連通され、上記誘電体窓の上記液室側表面及び上記プラズマ励起用コイルが当該内部に配置される第2室とに区分する液室区分部材と、
当該液室において、上記第1室と上記第2室との区分位置を可変可能な方向に案内しながら上記液室区分部材の支持を行う支持案内部材とをさらに備え、
上記第1室に収容された上記液体と上記第2室に収容された上記液体との圧力差により、上記プラズマ励起用コイルを上記誘電体窓の上記表面に押圧させて密着させる請求項10に記載のプラズマ処理装置。 - 上記液室収容容器内の上記第2室において、略螺旋状に巻き回される上記プラズマ励起用コイルの間隙が上記液室区分部材と上記誘電体窓とで囲まれた略螺旋状の液流路が形成される請求項11に記載のプラズマ処理装置。
- 上記液室収容容器内の上記第2室において、上記略螺旋状の液流路の中心側から外周側に向けて上記電気絶縁性液体が流通可能に、上記第1室から上記第2室への上記液体の供給位置が、当該液流路の中心側に配置されている請求項12に記載のプラズマ処理装置。
- 上記電気絶縁性液体が、比抵抗1×105Ω・cm以上の純水である請求項2から13のいずれか1つに記載のプラズマ処理装置。
- 上記電気絶縁性液体が、フッ素系不活性オイル、シリコン系オイル、又は有機油脂類である請求項2から13のいずれか1つに記載のプラズマ処理装置。
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