KR20070094477A - 플라즈마 처리 장치 및 그것에 이용되는 전극 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (20)
- 처리실내에 제1 전극과 제2 전극을 대향해서 배치하고, 상기 제2 전극에 지지된 피처리 기판상에 처리 가스를 도입하면서 상기 전극의 한쪽 또는 양쪽에 고주파 전력을 공급하여 플라즈마를 생성하는 것에 의해, 상기 피처리 기판에 소정의 플라즈마 처리를 실시하는 플라즈마 처리 장치의 상기 제1 전극으로서 이용되는 전극으로서,상기 제2 전극에 대향하는 전극판과,상기 전극판의 상기 제2 전극측과는 반대측의 면에 접합하여 상기 전극판을 지지하는 지지체와,상기 지지체에 있어서의 상기 전극판과의 접합면에 마련되고, 중심부와 주연부에서 높이가 다른 형상의 유전체부를 구비하는 것을 특징으로 하는 전극.
- 제 1 항에 있어서,상기 유전체부는 중심부의 높이가 주연부의 높이보다 높은 형상인 것을 특징으로 하는 전극.
- 제 1 항에 있어서,상기 유전체부는 직경이 다른 원판형상 유전체부를 복수단 적층한 형상이며, 상기 원판형상 유전체부의 직경은 상기 전극판 측에서 먼 단의 직경일수록 작은 것을 특징으로 하는 전극.
- 처리실내에 제1 전극과 제2 전극을 대향해서 배치하고, 상기 제2 전극에 지지된 피처리 기판상에 처리 가스를 도입하면서 상기 전극의 한쪽 또는 양쪽에 고주파 전력을 공급하여 플라즈마를 생성하는 것에 의해, 상기 피처리 기판에 소정의 플라즈마 처리를 실시하는 플라즈마 처리 장치의 상기 제1 전극으로서 이용되는 전극으로서,상기 제2 전극에 대향하는 전극판과, 상기 전극판의 상기 제2 전극측과는 반대측의 면에 접합하여 상기 전극판을 지지하는 지지체와, 상기 지지체에 있어서의 상기 전극판과의 접합면에 마련되는 유전체부를 갖고,상기 유전체부는 상기 유전체부의 중심부의 높이가 주연부의 높이보다 높아지도록, 직경이 다른 제1, 제2, 제3 원판형상 유전체부를 상기 지지체의 상기 전극판측에서 그 반대측을 향해서 적층한 형상인 것을 특징으로 하는 전극.
- 제 4 항에 있어서,상기 제1 원판형상 유전체부의 직경은 상기 피처리 기판의 직경의 80%∼120% 이고, 상기 제2 원판형상 유전체부의 직경은 상기 피처리 기판의 직경의 60%∼80%이며, 상기 제3 원판형상 유전체부의 직경은 상기 피처리 기판의 직경의 40%∼60%인 것을 특징으로 하는 전극.
- 제 3 항에 있어서,상기 피처리 기판을 향해서 가스를 공급하는 복수의 가스분출 구멍이 상기 전극판에 마련되고,상기 원판형상 유전체부 중 가장 큰 직경은 적어도 상기 가스분출 구멍이 형성되는 범위보다 큰 것을 특징으로 하는 전극.
- 제 4 항에 있어서,상기 피처리 기판을 향해서 가스를 공급하는 복수의 가스분출 구멍이 상기 전극판에 마련되고,상기 원판형상 유전체부 중 가장 큰 직경은 적어도 상기 가스분출 구멍이 형성되는 범위보다 큰 것을 특징으로 하는 전극.
- 제 5 항에 있어서,상기 피처리 기판을 향해서 가스를 공급하는 복수의 가스분출 구멍이 상기 전극판에 마련되고,상기 원판형상 유전체부 중 가장 큰 직경은 적어도 상기 가스분출 구멍이 형성되는 범위보다 큰 것을 특징으로 하는 전극.
- 제 1 항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 있어서,상기 유전체부는 상기 지지체에 있어서의 상기 전극판과의 접합면에 마련된 공동부(空洞部)에 의해 구성한 것을 특징으로 하는 전극.
- 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 유전체부는 상기 지지체에 있어서의 상기 전극판과의 접합면에 마련되는 공동부에 유전체부재를 매립하여 구성한 것을 특징으로 하는 전극.
- 처리실내에 제1 전극과 제2 전극을 대향해서 배치하고, 상기 제1 전극을 복수의 가스도입부로 나누고 각 가스도입부에 복수의 가스분출 구멍을 형성하고, 상기 제2 전극에 지지된 피처리 기판상을 향해서 상기 각 가스도입부에서 각각 처리 가스를 도입하면서 상기 전극의 한쪽 또는 양쪽에 고주파 전력을 공급하여 플라즈 마를 생성하는 것에 의해, 상기 피처리 기판에 소정의 플라즈마 처리를 실시하는 플라즈마 처리 장치의 상기 제1 전극으로서 이용되는 전극으로서,상기 제2 전극에 대향하는 전극판과,상기 전극판의 상기 제2 전극측과는 반대측의 면에 접합해서 상기 전극판을 지지하는 지지체와,상기 지지체에 있어서의 상기 전극판과의 접합면에 마련되고, 중심부와 주연부에서 높이가 다른 형상의 공동부와,상기 가스도입부마다 상기 공동부를 구획하는 격벽부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 전극.
- 제 11 항에 있어서,상기 격벽부재는 절연체로 구성되는 것을 특징으로 하는 전극.
- 제 11 항에 있어서,상기 격벽부재는 단면이 대략 V자형상인 테이퍼면을 측면으로 하는 수지링으로 구성되는 것을 특징으로 하는 전극.
- 제 11 항에 있어서,상기 격벽부재는 세라믹스계 재료를 용사(溶射)해서 형성한 것을 특징으로 하는 전극.
- 처리실내에 제1 전극과 제2 전극을 대향해서 배치하고, 상기 제2 전극에 지지된 피처리 기판상에 처리 가스를 도입하면서 상기 전극의 한쪽 또는 양쪽에 고주파 전력을 공급하여 플라즈마를 생성하는 것에 의해, 상기 피처리 기판에 소정의 플라즈마 처리를 실시하는 플라즈마 처리 장치로서,상기 제1 전극은 상기 제2 전극에 대향하는 전극판과, 상기 전극판의 상기 제2 전극측과는 반대측의 면에 접합해서 상기 전극판을 지지하는 지지체와, 상기 지지체에 있어서의 상기 전극판과의 접합면에 마련되고, 중심부와 주연부에서 높이가 다른 형상의 유전체부를 구비하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
- 처리실내에 제1 전극과 제2 전극을 대향해서 배치하고, 상기 제2 전극에 지지된 피처리 기판상에 처리 가스를 도입하면서 상기 전극의 한쪽 또는 양쪽에 고주파 전력을 공급해서 플라즈마를 생성하는 것에 의해, 상기 피처리 기판에 소정의 플라즈마 처리를 실시하는 플라즈마 처리 장치로서,상기 제1 전극은 상기 제2 전극에 대향하는 전극판과, 상기 전극판의 상기 제2 전극측과는 반대측의 면에 접합해서 상기 전극판을 지지하는 지지체와, 상기 지지체에 있어서의 상기 전극판과의 접합면에 마련되는 유전체부를 갖고,상기 유전체부는 상기 유전체부의 중심부의 높이가 주연부의 높이보다 높아지도록, 직경의 다른 제1, 제2, 제3 원판형상 유전체부를 상기 지지체의 상기 전극판측에서 그 반대측을 향해 적층된 형상인 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
- 처리실내에 제1 전극과 제2 전극을 대향해서 배치하고, 상기 제1 전극을 복수의 가스도입부로 나누고 각 가스도입부에 복수의 가스분출 구멍을 형성하고, 상기 제2 전극에 지지된 피처리 기판상을 향해서 상기 각 가스도입부로부터 각각 처리 가스를 도입하면서 상기 전극의 한쪽 또는 양쪽에 고주파 전력을 공급해서 플라즈마를 생성하는 것에 의해, 상기 피처리 기판에 소정의 플라즈마 처리를 실시하는 플라즈마 처리 장치로서,상기 제1 전극은 상기 제2 전극에 대향하는 전극판과, 상기 전극판의 상기 제2 전극측과는 반대측의 면에 접합해서 상기 전극판을 지지하는 지지체와, 상기 지지체에 있어서의 상기 전극판과의 접합면에 마련되고, 중심부와 주연부에서 높이가 다른 형상의 공동부와, 상기 가스도입부마다 상기 공동부를 구획하는 격벽부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
- 처리실내에 제1 전극과 제2 전극을 대향해서 배치하고, 상기 제1 전극을 제1, 제2 가스도입부로 나누고 각 가스도입부에 복수의 가스분출 구멍을 형성하고, 상기 제2 전극에 지지된 피처리 기판상을 향해서 상기 각 가스도입부로부터 각각 처리 가스를 도입하면서 상기 전극의 한쪽 또는 양쪽에 고주파 전력을 공급해서 플라즈마를 생성하는 것에 의해, 상기 피처리 기판에 소정의 플라즈마 처리를 실시하는 플라즈마 처리 장치로서,상기 피처리 기판을 처리하는 처리 가스를 공급하는 처리 가스 공급 수단과,상기 처리 가스 공급 수단으로부터의 처리 가스를 흘리는 처리 가스 공급유로와,상기 처리 가스 공급유로로부터 분기하여 상기 제1, 제2 가스도입부에 각각 접속하는 제1, 제2 분기유로와,상기 처리 가스 공급유로로부터 상기 제1, 제2 분기유로로 분류되는 처리 가스의 분류량을 상기 제1, 제2 분기유로내의 압력에 의거해서 조정하는 분류량 조정 수단과,소정의 부가 가스를 공급하는 부가 가스 공급 수단과,상기 부가 가스 공급 수단으로부터의 부가 가스를 상기 분류량 조정 수단으로부터 하류측에서 상기 제1 분기유로 또는 상기 제2 분기유로에 합류시키는 부가가스 공급유로를 구비하고,상기 제1 전극은 상기 제2 전극에 대향하는 전극판과, 상기 전극판의 상기 제2 전극측과는 반대측의 면에 접합해서 상기 전극판을 지지하는 지지체와, 상기 지지체에 있어서의 상기 전극판과의 접합면에 마련되고, 중심부와 주연부에서 높이가 다른 형상의 공동부와, 상기 가스도입부마다 상기 공동부를 구획하는 격벽부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
- 처리실내에 제1 전극과 제2 전극을 대향해서 배치하고, 상기 제1 전극을 제 1 및 제 가스도입부로 나누고 각 가스도입부에 복수의 가스분출 구멍을 형성하고, 상기 제2 전극에 지지된 피처리 기판상을 향해서 상기 각 가스도입부로부터 각각 처리 가스를 도입하면서 상기 전극의 한쪽 또는 양쪽에 고주파 전력을 공급해서 플라즈마를 생성하는 것에 의해, 상기 피처리 기판에 소정의 플라즈마 처리를 실시하는 플라즈마 처리 장치로서,상기 피처리 기판을 처리하는 처리 가스를 공급하는 처리 가스 공급 수단과,상기 처리 가스 공급 수단으로부터의 처리 가스를 흘리는 처리 가스 공급로와,상기 처리 가스 공급유로로부터 분기해서 상기 제1, 제2 가스도입부에 각각 접속하는 처리 가스용 제1, 제2 분기유로와,상기 처리 가스 공급로부터 상기 각 처리 가스용 제1, 제2 분기유로로 분류되는 처리 가스의 분류량을 상기 각 처리 가스용 제1, 제2 분기유로내의 압력에 의거해서 조정하는 분류량 조정 수단과,소정의 부가 가스를 공급하는 부가 가스 공급 수단과,상기 부가 가스 공급 수단으로부터의 부가 가스를 흘리는 부가 가스 공급로와,상기 부가 가스 공급로로부터 분기해서 상기 분류량 조정 수단보다 하류측에서 상기 처리 가스용 제1 분기유로에 접속되는 부가 가스용 제1 분기유로와,상기 부가 가스 공급로로부터 분기해서 상기 분류량 조정 수단보다 하류측에서 상기 처리 가스용 제2 분기유로에 접속되는 부가 가스용 제2 분기유로와,상기 부가 가스용 제1 분기유로와 상기 부가 가스용 제2 분기유로 중, 상기 부가 가스 공급로로부터의 부가가스를 흘리는 유로를 전환하기 위한 유로전환수단을 구비하고,상기 제1 전극은 상기 제2 전극에 대향하는 전극판과, 상기 전극판의 상기 제2 전극측과는 반대측의 면에 접합해서 상기 전극판을 지지하는 지지체와, 상기 지지체에 있어서의 상기 전극판과의 접합면에 마련되고, 중심부와 주연부에서 높이가 다른 형상의 공동부와, 상기 가스도입부마다 상기 공동부를 구획하는 격벽부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
- 처리실내에 제1 전극과 제2 전극을 대향해서 배치하고, 상기 제1 전극을 복수의 가스도입부로 나누고 각 가스도입부에 복수의 가스분출 구멍을 형성하고, 상기 제2 전극에 지지된 피처리 기판상을 향해서 상기 각 가스도입부에서 각각 처리 가스를 도입하면서 상기 전극의 한쪽 또는 양쪽에 고주파 전력을 공급해서 플라즈마를 생성하는 것에 의해, 상기 피처리 기판에 소정의 플라즈마 처리를 실시하는 플라즈마 처리 장치로서,상기 피처리 기판을 처리하는 처리 가스를 공급하는 처리 가스 공급 수단과,상기 처리 가스 공급 수단으로부터의 처리 가스를 흘리는 처리 가스 공급유로와,상기 처리 가스 공급유로로부터 분기하여 상기 복수의 가스도입부에 각각 접속하는 복수의 분기유로와,상기 처리 가스 공급유로로부터 상기 각 분기유로로 분류되는 처리 가스의 분류량을 상기 각 분기유로내의 압력에 의거해서 조정하는 분류량 조정 수단과,소정의 부가 가스를 공급하는 복수의 부가 가스 공급 수단과,상기 각 부가 가스 공급 수단으로부터의 부가 가스를 상기 분류량 조정 수단보다 하류측에서 상기 각 분기유로에 합류시키는 부가 가스 공급유로를 구비하고,상기 제1 전극은 상기 제2 전극에 대향하는 전극판과, 상기 전극판의 상기 제2 전극측과는 반대측의 면에 접합해서 상기 전극판을 지지하는 지지체와, 상기 지지체에 있어서의 상기 전극판과의 접합면에 마련되고, 중심부와 주연부에서 높이가 다른 형상의 공동부와, 상기 가스도입부마다 상기 공동부를 구획하는 격벽부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
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