JP2005139055A - ガラスパネルの製造方法及びその製造方法により製造されたガラスパネル - Google Patents

ガラスパネルの製造方法及びその製造方法により製造されたガラスパネル Download PDF

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Abstract

【課題】 ガラスパネルにおける中空層の減圧状態を長期間にわたって維持することができるガラスパネルの製造方法及びその製造方法により製造されたガラスパネルを提供する。
【解決手段】 真空複層ガラス100は、間に中空層10を形成すべくスペーサ3を介して対向配置された一対の板ガラス1,2と、一対の板ガラス1,2の周縁部を接合する低融点ガラス4と、中空層10内の気体を排気するための排気孔5とを備える。この真空複層ガラス100は、中空層10内の気体を排気孔5を介して真空排気しながら(真空排気ステップS304)、真空複層ガラス100の各部材を約200℃に加熱すると同時にYAGレーザ発振器16により10Hzで発振した波長355nmの紫外線を強度5200W/m、φ7mmで真空複層ガラス100の各部材に照射する(加熱・紫外線照射ステップS305)ことによって製造される。
【選択図】 図3

Description

本発明は、ガラスパネルの製造方法及びその製造方法により製造されたガラスパネル、特に、紫外線照射を利用したガラスパネルの製造方法及びその製造方法により製造されたガラスパネルに関する。
従来、ガラスパネルの製造に際しては、一対の板ガラスの周縁部にペースト状の低融点ガラスを塗布して低融点ガラスの融点以上に加熱し、低融点ガラスを溶融状態にした後、常温にまで冷却して固化させ、それによって、一対の板ガラスの周縁部を封止して接合する接合処理を実行していた。
そして、いったん常温にまで冷却した後、一対の板ガラスの中空層や低融点ガラスなどを再び所定温度に加熱する加熱処理を実行して、中空層の気体を真空排気する真空排気処理を実行していた(例えば、特許文献1)。
このようなガラスパネルを長期間にわたって使用していると、ガラスパネルを構成する板ガラス等の構成部材に吸着していた気体分子種(以下「ガス」という)が、外部エネルギにより励起されて脱離することになる。
このガスの脱離によってガラスパネルの中空層の減圧維持が阻害されるのを防止するためには、ガラスパネルの製造時においてできる限りガラスパネルを構成する構成部材に吸着しているガスを脱離させた状態で真空排気処理を実行することが好ましい。ここで、ガス脱離を誘起させるためには、加熱処理温度を高くしたり、加熱処理時間を長くすることが考えられる。
国際公開第03/000613号パンフレット
しかしながら、加熱処理温度を高くすると、ガラスパネルの製造に大きなエネルギを要するばかりか、わずかな温度差による温度不均一によっても、板ガラスに歪みが生じたり割れを誘起する可能性があり、それに加えて、板ガラス周縁部を接合密閉している低融点ガラスの融点以上に高くすることができないという問題があった。
また、加熱処理時間を長くすると、ガラスパネルの製造効率が低下してコストアップを招くという問題があった。
さらに、上述したように、従来の加熱処理はいったん常温にまで冷却した後に加熱するので、特に加熱処理初期時(後述する図5におけるA)においては、ガラスパネル全体に熱が伝わらないためガスの脱離を効率的に誘起することができないという問題があった。
本発明の目的は、ガラスパネルにおける中空層の減圧状態を長期間にわたって維持することができるガラスパネルの製造方法及びその製造方法により製造されたガラスパネルを提供することにある。
上記目的を達成するために、請求項1記載のガラスパネルの製造方法は、間に中空層を形成すべくスペーサを介して対向配置する一対の板ガラスと、前記一対の板ガラスを接合するシール材と、前記中空層を排気すべく設けられた排気孔と、前記中空層を密閉すべく前記排気孔を封止する封止部とを備えるガラスパネルの製造方法において、前記ガラスパネルに紫外線を照射する紫外線照射ステップと、前記排気孔から前記中空層の気体を真空排気する真空排気ステップとを備えることを特徴とする。
請求項2記載のガラスパネルの製造方法は、請求項1記載のガラスパネルの製造方法において、前記紫外線照射ステップは、真空排気ステップと同時に行われることを特徴とする。
請求項3記載のガラスパネルの製造方法は、請求項1又は2記載のガラスパネルの製造方法において、前記紫外線照射ステップと同時に前記ガラスパネルを加熱する加熱ステップをさらに備えることを特徴とする。
請求項4記載のガラスパネルの製造方法は、請求項1乃至3のいずれか1項に記載のガラスパネルの製造方法において、前記紫外線は強度が30〜35000W/mであることを特徴とする。
請求項5記載のガラスパネルの製造方法は、請求項3又は4記載のガラスパネルの製造方法において、前記加熱ステップは目標温度を100℃〜500℃として加熱することを特徴とする。
請求項6記載のガラスパネルの製造方法は、請求項1乃至5のいずれか1項に記載のガラスパネルの製造方法において、前記紫外線照射ステップは前記板ガラスに紫外線を照射することを特徴とする。
請求項7記載のガラスパネルの製造方法は、請求項1乃至6のいずれか1項に記載のガラスパネルの製造方法において、前記紫外線照射ステップは前記スペーサに紫外線を照射することを特徴とする。
請求項8記載のガラスパネルの製造方法は、請求項1乃至7のいずれか1項に記載のガラスパネルの製造方法において、前記紫外線照射ステップは前記シール材に紫外線を照射することを特徴とする。
請求項9記載のガラスパネルの製造方法は、請求項1乃至8のいずれか1項に記載のガラスパネルの製造方法において、前記紫外線照射ステップは前記封止部に紫外線を照射することを特徴とする。
請求項10記載のガラスパネルの製造方法は、請求項1乃至9のいずれか1項に記載のガラスパネルの製造方法において、前記中空層におけるガスを吸着するゲッタを収納するゲッタ収納ステップをさらに備え、前記紫外線照射ステップは前記ゲッタに紫外線を照射することを特徴とする。
請求項11記載のガラスパネルは、請求項1乃至10のいずれか1項に記載のガラスパネルの製造方法により製造されたことを特徴とする。
請求項1記載のガラスパネルの製造方法によれば、ガラスパネルに紫外線を照射して中空層の気体を真空排気するので、紫外線照射直後からガス脱離を誘起して真空排気することができ、もって真空排気後のガス脱離を抑制することができ、ひいてはガラスパネルにおける中空層の減圧状態を長期間にわたって維持することができる。
請求項2記載のガラスパネルの製造方法によれば、ガラスパネルに紫外線を照射すると同時に中空層の気体を真空排気するので、脱離したガスを効率的に真空排気することができる。
請求項3記載のガラスパネルの製造方法によれば、紫外線照射と同時にガラスパネルを加熱するので、ガス脱離を効率的に誘起することができる。
請求項4記載のガラスパネルの製造方法によれば、紫外線は強度が30〜35000W/mであるので、紫外線照射直後からガス脱離を確実に誘起することができる。
請求項5記載のガラスパネルの製造方法によれば、目標温度を100℃〜500℃として加熱するので、ガス脱離をより効率的に誘起することができる。
請求項6記載のガラスパネルの製造方法によれば、板ガラスに紫外線を照射するので、板ガラスに吸着していたガスの脱離を確実に誘起することができる。
請求項7記載のガラスパネルの製造方法によれば、スペーサに紫外線を照射するので、スペーサに吸着していたガスの脱離を確実に誘起することができる。
請求項8記載のガラスパネルの製造方法によれば、シール材に紫外線を照射するので、シール材に吸着していたガスの脱離を確実に誘起することができる。
請求項9記載のガラスパネルの製造方法によれば、封止部に紫外線を照射するので、封止部に吸着していたガスの脱離を確実に誘起することができる。
請求項10記載のガラスパネルの製造方法によれば、ゲッタに紫外線を照射するので、紫外線照射直後からゲッタに吸着していたガスの脱離を誘起することができ、もってゲッタを効率的に活性化することができる。
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究を行った結果、間に中空層を形成すべくスペーサを介して対向配置する一対の板ガラスと、一対の板ガラスを接合するシール材と、中空層を排気すべく設けられた排気孔と、中空層を密閉すべく排気孔を封止する封止部とを備えるガラスパネルの製造方法において、ガラスパネルに紫外線を照射する紫外線照射ステップと、排気孔から中空層の気体を真空排気する真空排気ステップとを備えると、紫外線照射直後からガス脱離を誘起して真空排気することができ、もって真空排気後のガス脱離を抑制することができ、ひいてはガラスパネルにおける中空層の減圧状態を長期間にわたって維持することができることを見出した。
本発明は、上記研究の結果に基づいてなされたものである。
以下、本発明の実施の形態に係るガラスパネルの製造方法とその製造方法により製造されたガラスパネルを図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明の実施の形態に係るガラスパネルとしての真空複層ガラス100の一部切欠き斜視図である。
図1において、本発明の実施の形態に係るガラスパネルとしての真空複層ガラス100は、間に中空層10を形成すべくスペーサ3を介して対向配置された一対の板ガラス1,2と、一対の板ガラス1,2の周縁部を接合する接合用シール材としての一対の板ガラス1,2よりも融点が低く、かつ、気体透過度の低い低融点ガラス4と、中空層10内の気体を排気するための排気孔5と、中空層10内の気体に接触するように設置されたゲッタ7と、中空層10を画成する面1a,2aのうちの面1aに被覆された低放射率膜(Low−E膜)17とを備える。
一対の板ガラス1,2には、その厚みが2〜10mm程度の透明なフロートガラスが使用され、一対の板ガラス1,2間の中空層10が1.33Pa以下に減圧されている。
また、スペーサ3は、形状として円柱状が好ましく、一対の板ガラス1,2に作用する大気圧に耐え得るように、圧縮強度が4.9×10Pa(5×10kgf/cm)以上の材料、例えば、ステンレス鋼(SUS304)やインコンネル718などにより形成されている。
そして、スペーサ3の形状が円柱状の場合であれば、直径が0.3〜1.0mm程度、高さが0.15〜1.0mm程度であり、各スペーサ3の間の間隔は、20mm程度に設定されている。
図2は、図1における排気孔5の周辺断面図である。
図2において、一方の板ガラス1には、断面が円形の排気孔5が穿設されている。この排気孔5は、円柱形状のゲッタ7を収納するためのゲッタ収納空間6を兼用するように構成され、そのゲッタ収納空間6にゲッタ7が収納され、排気孔5の開口に透明な板ガラスからなる蓋体(封止部)8が位置され、その蓋体8が、封止用シール材、具体的には、接合シール材を構成する低融点ガラス4よりも融点が高くて、蓋体8や板ガラス1よりも融点の低い結晶性の低融点ガラス(封止部)9によって板ガラス1に接着固定されて、排気孔5の開口が密閉状態で封止されている。
次に、この真空複層ガラス100を製造方法の工程について説明する。
一対の板ガラス1,2のうち、排気孔5の穿設されていない方の板ガラス2をほぼ水平に支持して、その周縁部の上面にペースト状の低融点ガラス4を塗布し、かつ、多数のスペーサ3を所定の間隔で配設して、その上方から他方の板ガラス1を低放射率膜17が被覆された面1aが下面となるように載置する(図3における配置ステップS301)。
そして、一対の板ガラス1,2をほぼ水平にして図外の加熱炉内に収納し、焼成により低融点ガラス4を溶融させ、その溶融状態にある低融点ガラス4によって一対の板ガラス1,2の周縁部を接合して中空層10を密閉する接合処理を実行する(図3における接合ステップS302)。
その後、図2に示すように、ゲッタ収納空間6を兼用する板ガラス1の排気孔5にゲッタ7を挿入して収納するのであり(図3におけるゲッタ収納ステップS303)、ゲッタ収納空間6の内径が、ゲッタ7の外径よりも若干大きいので、ゲッタ収納空間6とゲッタ7との間に隙間ができ、その隙間を介して、ゲッタ7が中空層10内の気体と接触することになる。
ゲッタ7は、ゲッタ収納空間6に収納した後、ドーナツ状の結晶性低融点ガラス9を配置し、その上に透明な板ガラスからなる蓋体8を載置して、さらに、図4に示すように、その上方から吸引封止装置20を被せる。
吸引封止装置20は、上面が透明な石英ガラス11で閉鎖された円筒状の吸引カップ12を備え、その吸引カップ12には、吸引カップ12の内部空間に連通するフレキシブルパイプ13と、板ガラス1上面との間を密閉するOリング14が設けられ、吸引カップ12の外側上面には、ランプなどからなる加熱源15及び真空複層ガラス100の全面に亘って紫外線照射することができるYAGレーザ発振器16が配設されている。
フレキシブルパイプ13に接続したロータリーポンプやターボ分子による吸引で吸引カップ12内を減圧し、中空層10内の気体を排気孔5を介して中空層10内が1.33Pa以下となるように真空排気ながら(図3における真空排気ステップS304)、吸引封止装置20を板ガラス1に被せた状態で、真空複層ガラス100の各部材(板ガラス1,2、スペーサ3、低融点ガラス4、ゲッタ7、蓋体8、低融点ガラス9等)が約200℃となるように、炉等の加熱装置(不図示)や加熱源15等により加熱すると同時にYAGレーザ発振器16により10Hzで発振した波長355nmの紫外線を強度5200W/m、φ7mmで真空複層ガラス100の各部材に照射する(図3における加熱・紫外線照射ステップS305)。さらに、加熱源15により低融点ガラス9を局部的に加熱して溶融させて、その後冷却することにより、蓋体8を板ガラス1に接着して密封する(図3における密封ステップS306)。
加熱・紫外線照射ステップS305において、真空複層ガラス100に紫外線を照射すると同時に真空複層ガラス100を加熱するのは、後述する図5の結果に基づくものである。
図5は、紫外線照射及び加熱の処理時間とガス脱離量挙動との関係を示すグラフである。
図5における紫外線照射処理サンプルの結果は、SnO膜付ソーダライムガラスで密閉容器を作製し、内部圧力を1×10−1Pa以下で真空排気しながら200℃又は400℃で加熱した測定用元試料から20mm×40mmに単板ガラスを切出し、速やかに超高真空排気装置内に設置した後、超高真空排気装置内圧力が4×10−7Pa程度の圧力下でYAGレーザにより10Hzで発振した波長355nmの紫外線を強度5200W/m、φ7mmでガラスの非膜面より試料に照射し、SnO膜面側で四重極質量分析計を用い脱離するガスの質量数を測定することにより得られた。
また、図5における加熱処理サンプルの結果は、上述した測定用元試料から20mm×40mmに単板ガラスを切出し、速やかに超高真空排気装置内に設置した後、超高真空排気装置内圧力が4×10−7Pa程度の圧力下で試料を約200℃に加熱し、SnO膜面側で四重極質量分析計を用い脱離するガスの質量数を測定することにより得られた。
図5において、加熱処理サンプルについては、炭素系ガス(例えば、一酸化炭素や二酸化炭素)、水系ガス共に処理時間の経過に従い脱離量が増加して一定となるという挙動を示すのに対して、紫外線照射処理サンプルについては、炭素系ガス、水系ガス共に紫外線照射開始時から高い脱離量を示し、紫外線照射開始後、炭素系ガスは脱離量が減少し、水系ガスは脱離量が微増して微減するという挙動を示す。
上述したガス脱離量挙動から、加熱処理を施すと同時に紫外線照射処理を施すと、加熱処理初期時Aでは炭素系ガス及び水系ガス共に紫外線照射処理により脱離量を高く維持することができ、加熱処理初期時Aが経過した後は、炭素系ガスについては加熱処理により脱離量を高く維持することができ、水系ガスについては加熱処理及び紫外線照射処理の両方により脱離量を高く維持することができると考えられる。
そこで、本発明者は、測定用元試料から20mm×40mmに単板ガラスを切出し、速やかに超高真空排気装置内に設置した後、装置内圧力が4×10−7Pa程度の圧力下で、目標温度を100〜600℃として加熱する(加熱しない場合も含む)と同時に、YAGレーザにより10Hzで発振した波長355nmの紫外線を強度30〜40000W/mで照射する(照射しない場合も含む)加熱・紫外線照射処理を30分間施したサンプルについて、ガス脱離の有無、ガラス劣化の有無を観察した結果を表1に示す。
さらに、本発明者は、上記単板ガラスに代えてゲッタに上記と同様の処理を施した場合について、ガス脱離の有無を観察した結果を表2に示す。
ここで、ガス脱離観察における◎は処理時間全体に亘ってガス脱離を十分に観察することができることを、○は処理時間全体に亘ってガス脱離を僅かに観察することができることを、△は処理初期時にガス脱離を観察することができないことを、×は処理時間全体に亘ってガス脱離を観察することができないことを示す。また、ガラス劣化観察における◎はガラス劣化が全く見られないことを、○はガラス劣化がほとんど見られないことを、×はガラス劣化が見られることを示す。さらに、総合評価における◎、○、△、及び×は、ガラスサンプルの品質(表1)及びゲッタの活性化(表2)の程度を示している。
Figure 2005139055
Figure 2005139055
表1に示す結果より、単板ガラスに紫外線照射処理を施すと、単板ガラスに吸着したガスの脱離を誘起することができることが分かった。
加えて、単板ガラスに紫外線照射処理と同時に加熱処理を施すと、単板ガラスに吸着したガスの脱離を処理時間全体に亘って誘起することができることが分かった。
さらに、単板ガラスを目標温度を500℃として加熱すると、歪みや割れ等のガラス劣化が発生する場合があり、600℃として加熱すると、歪みや割れ等のガラス劣化が確実に発生することが分かった。さらには、紫外線の強度が30W/mより小さいと、ガス脱離をほとんど誘起することができず、紫外線の強度が35000W/mより大きい、例えば、40000W/mであると、ガス脱離を十分に誘起することができるものの、失透等のガラス劣化が発生してしまうことが分かった。
また、紫外線の強度が13000W/m以下であると、SnO膜の劣化は見られなかった。
また、表2に示す結果より、ゲッタに紫外線照射処理を施すと、ゲッタに吸着したガスの脱離を誘起することができ、もってゲッタを活性化することができることが分かった。
加えて、ゲッタに紫外線照射処理と同時に加熱処理を施すと、ゲッタに吸着したガスの脱離を処理時間全体に亘って誘起することができ、もってゲッタを効率的に活性化することができることが分かった。
以上より、強度が30W/m以上の紫外線を照射する紫外線照射処理を施すと、ガス脱離を誘起することができることが分かった。さらに、強度が30〜35000W/mの紫外線を照射する紫外線照射処理を施すと同時に、目標温度を100℃〜500℃、好ましくは100〜400℃として加熱する加熱処理を施すと、板ガラス1,2等が劣化するのを防止することができると共に、ガス脱離を効率的に誘起することができる、即ち、ガス脱離のための処理時間を短縮できることが分かった。
本実施の形態によれば、中空層10を真空排気しながら真空複層ガラス100の各部材を加熱すると同時に紫外線を真空複層ガラス100の各部材に照射するので、紫外線照射直後からガス脱離を効率的に誘起して中空層10を真空排気することができ、もって真空排気後のガス脱離を抑制することができ、ひいては真空複層ガラス100における中空層10の減圧状態を長期間にわたって維持することができる。
本実施の形態によれば、ゲッタ7に紫外線を照射するので、紫外線照射直後からゲッタ7に吸着していたガスの脱離を誘起することができ、もってゲッタ7を効率的に活性化することができる。
本実施の形態では、中空層10内を真空排気しながら(真空排気ステップS304)、真空複層ガラス100の各部材を加熱すると同時に紫外線を真空複層ガラス100の各部材に照射している(加熱・紫外線照射ステップS305)が、加熱・紫外線照射処理(加熱・紫外線照射ステップS305)を真空排気処理(真空排気ステップS304)と同時行うことに限定されるものではなく、例えば、板ガラス1,2をスペーサ3を介して対向配置する(配置ステップS301)前に、加熱・紫外線照射処理(加熱・紫外線照射ステップS305)を行ってもよい。
本実施の形態では、真空複層ガラス100の各部材を加熱すると同時に紫外線を真空複層ガラス100の各部材に照射しているが、これに限定されるものではなく、真空複層ガラス100の各部材を加熱しないで紫外線を真空複層ガラス100の各部材に照射するだけであってもよい。
本実施の形態では、接合用シール材としての低融点ガラス4を溶融して冷却した(接合ステップS302)後に、真空排気処理(真空排気ステップS304)を行っているが、これに限定されるものではなく、例えば、低融点ガラス4の溶融時に真空排気処理を行ってもよい。
本実施の形態では、YAGレーザ発振器16を用いて紫外線を照射しているが、これに限定されるものではなく、例えば、COレーザ発振器を用いて紫外線を照射してもよい。
本実施の形態では、真空複層ガラス100の各部材(板ガラス1,2、スペーサ3、低融点ガラス4、ゲッタ7、蓋体8、低融点ガラス9)に照射しているが、これに限定されるものではなく、真空複層ガラス100の各部材のいずれかに照射すればよい。
本実施の形態では、一方の板ガラス1の穿設の排気孔5が、ゲッタ7を収納するゲッタ収納空間6を完全に兼用する構成を示したが、排気孔5に対向する他方の板ガラス2に凹入部を設け、その凹入部が、ゲッタ収納空間6の一部を構成するようにして実施することもでき、また、ゲッタ7は、蒸発型、非蒸発型のいずれであってもよく、さらには、ゲッタ7を設けなくてもよい。
本実施の形態では、封止部として蓋体8が用いられているが、これに限定されるものではなく、図6に示すようなガラス管60であってもよい。
本実施の形態では、接合用シール材として低融点ガラス4を使用しているが、これに限定されるものではなく、例えば、接合用シール材としてインジウム、鉛、錫または亜鉛等を主成分とする金属はんだ等を使用してもよい。
本実施の形態では、板ガラス1,2としてフロートガラスを用いているが、これに限定されるものではなく、ガラスパネルの用途や目的に応じて、例えば、型板ガラス、表面処理により光拡散機能を備えたすりガラス、網入りガラス、線入板ガラス、強化ガラス、倍強化ガラス、低反射ガラス、高透過板ガラス、セラミック印刷ガラス、熱線や紫外線吸収機能を備えた特殊ガラス、又は、それらの組み合わせなど、種々のガラスを適宜選択して実施することができる。また、ガラスの組成についても、ソーダ珪酸ガラス、ソーダ石灰ガラス、ホウ珪酸ガラス、アルミノ珪酸ガラス、各種結晶化ガラスなどを使用することができ、その板ガラス1,2の厚みについても、適宜選択自由である。
本実施の形態では、スペーサ3としてステンレス鋼やインコンネルを用いているが、これに限定されるものではなく、例えば、鉄、銅、アルミニウム、タングステン、ニッケル、クロム、チタンなどの金属の他、炭素鋼、クロム鋼、ニッケル鋼、ニッケルクロム鋼、マンガン鋼、クロムマンガン鋼、クロムモリブデン鋼、珪素鋼、真鍮、ハンダ、ジュラルミンなどの合金、又は、セラミックスやガラスなど、要するに、外力により変形し難いものであれば、使用可能であり、その形状も、円柱状に限らず、角柱状や球状などの各種形状に構成することができる。
本実施の形態では、面1aのみに低放射率膜17が被覆されているが、これに限定されるものではなく、面2aのみに被覆されてもよく、また、面1a,2a共に被覆されてもよく、さらには低放射率膜17が面1a,2aのいずれにも被覆されていなくてもよい。
本実施の形態では、ガラスパネルの一例として真空複層ガラス100を示したが、一対の板ガラス1,2の中空層10に気体を封入したプラズマディスプレイパネルなどの製造にも適用することができ、その場合には、真空排気処理を実行した後、中空層10に所定の気体を封入することとなる。
また、ガラスパネルの用途についても、建築物や乗り物(自動車、鉄道車両、船舶)用の窓ガラス、あるいは、プラズマディスプレイなどの機器要素をはじめとして、冷蔵庫や保温装置などのような各種装置の扉や壁部など、種々の用途に使用することができる。
本発明の実施の形態に係るガラスパネルとしての真空複層ガラス100の一部切欠き斜視図である。 図1における排気孔5の周辺断面図である。 図1の真空複層ガラス100の製造方法を示すフローチャートである。 図1の真空複層ガラス100の真空排気時における周辺断面図である。 紫外線照射及び加熱の処理時間とガス脱離量挙動との関係を示すグラフである。 図1の真空複層ガラス100の変形例の一部切欠き斜視図である。
符号の説明
1 板ガラス
2 板ガラス
3 スペーサ
4 低融点ガラス
5 排気孔
6 ゲッタ収納空間
7 ゲッタ
8 蓋体
9 低融点ガラス
10 中空層
15 加熱源
16 YAGレーザ発振器
100 真空複層ガラス

Claims (11)

  1. 間に中空層を形成すべくスペーサを介して対向配置する一対の板ガラスと、前記一対の板ガラスを接合するシール材と、前記中空層を排気すべく設けられた排気孔と、前記中空層を密閉すべく前記排気孔を封止する封止部とを備えるガラスパネルの製造方法において、前記ガラスパネルに紫外線を照射する紫外線照射ステップと、前記排気孔から前記中空層の気体を真空排気する真空排気ステップとを備えることを特徴とするガラスパネルの製造方法。
  2. 前記紫外線照射ステップは、真空排気ステップと同時に行われることを特徴とする請求項1記載のガラスパネルの製造方法。
  3. 前記紫外線照射ステップと同時に前記ガラスパネルを加熱する加熱ステップをさらに備えることを特徴とする請求項1又は2記載のガラスパネルの製造方法。
  4. 前記紫外線は強度が30〜35000W/mであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のガラスパネルの製造方法。
  5. 前記加熱ステップは目標温度を100℃〜500℃として加熱することを特徴とする請求項3又は4記載のガラスパネルの製造方法。
  6. 前記紫外線照射ステップは前記板ガラスに紫外線を照射することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のガラスパネルの製造方法。
  7. 前記紫外線照射ステップは前記スペーサに紫外線を照射することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のガラスパネルの製造方法。
  8. 前記紫外線照射ステップは前記シール材に紫外線を照射することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載のガラスパネルの製造方法。
  9. 前記紫外線照射ステップは前記封止部に紫外線を照射することを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載のガラスパネルの製造方法。
  10. 前記中空層におけるガスを吸着するゲッタを収納するゲッタ収納ステップをさらに備え、前記紫外線照射ステップは前記ゲッタに紫外線を照射することを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載のガラスパネルの製造方法。
  11. 請求項1乃至10のいずれか1項に記載のガラスパネルの製造方法により製造されたことを特徴とするガラスパネル。
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