JP2003212610A - ガラスパネルのゲッター加熱方法とその加熱装置 - Google Patents
ガラスパネルのゲッター加熱方法とその加熱装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】複層ガラスのゲッターを局部的に加熱して活性
化するに際し、局部加熱に起因する温度差の発生を抑え
て、複層ガラスにおける熱応力の発生を極力抑制するこ
とのできるゲッター加熱方法とゲッター加熱装置。 【解決手段】複層ガラスＰのゲッターＧを加熱手段１０
により局部的に加熱して活性化するゲッター加熱方法
で、ゲッターＧの加熱に伴って昇温する複層ガラスＰの
昇温部分をその外表面側から積極的に冷却しながら、加
熱手段１０によりゲッターＧを加熱する方法と、複層ガ
ラスＰのゲッターＧを局部的に加熱して活性化する加熱
手段１０を備えたゲッター加熱装置で、ゲッター加熱装
置８が、加熱手段１０によるゲッターＧの加熱に伴って
昇温する複層ガラスＰの昇温部分をその外表面側から積
極的に冷却する冷却手段１４を備えている装置。
化するに際し、局部加熱に起因する温度差の発生を抑え
て、複層ガラスにおける熱応力の発生を極力抑制するこ
とのできるゲッター加熱方法とゲッター加熱装置。 【解決手段】複層ガラスＰのゲッターＧを加熱手段１０
により局部的に加熱して活性化するゲッター加熱方法
で、ゲッターＧの加熱に伴って昇温する複層ガラスＰの
昇温部分をその外表面側から積極的に冷却しながら、加
熱手段１０によりゲッターＧを加熱する方法と、複層ガ
ラスＰのゲッターＧを局部的に加熱して活性化する加熱
手段１０を備えたゲッター加熱装置で、ゲッター加熱装
置８が、加熱手段１０によるゲッターＧの加熱に伴って
昇温する複層ガラスＰの昇温部分をその外表面側から積
極的に冷却する冷却手段１４を備えている装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、複層ガラスにおけ
る間隙部内の気体を吸着するために、前記複層ガラスに
配設されたゲッターを加熱手段により局部的に加熱して
活性化する複層ガラスのゲッター加熱方法とその加熱装
置に関する。
る間隙部内の気体を吸着するために、前記複層ガラスに
配設されたゲッターを加熱手段により局部的に加熱して
活性化する複層ガラスのゲッター加熱方法とその加熱装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】複層ガラスのゲッターを加熱して活性化
する方法としては、従来から複層ガラス全体を加熱する
方法が知られているが、ゲッター以外の不必要な部分も
一緒に加熱することになるため、加熱効率がきわめて悪
いという欠点がある。そこで、近年では、例えば、ヒー
タやランプなどの加熱手段を備えたゲッター加熱装置を
使用して、複層ガラスの外側からゲッターを局部的に加
熱する方法などが実施されている。
する方法としては、従来から複層ガラス全体を加熱する
方法が知られているが、ゲッター以外の不必要な部分も
一緒に加熱することになるため、加熱効率がきわめて悪
いという欠点がある。そこで、近年では、例えば、ヒー
タやランプなどの加熱手段を備えたゲッター加熱装置を
使用して、複層ガラスの外側からゲッターを局部的に加
熱する方法などが実施されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、複層ガラスの
ゲッターは、複層ガラスの間隙部に接触するように収納
されているので、複層ガラスの外側から加熱手段により
ゲッターを局部的に加熱する方法では、ゲッターを覆っ
ている複層ガラスの一部をも加熱せざるを得ず、いずれ
にせよ、ゲッターを局部的に加熱する従来の方法では、
複層ガラスの一部が局部的に昇温することになる。
ゲッターは、複層ガラスの間隙部に接触するように収納
されているので、複層ガラスの外側から加熱手段により
ゲッターを局部的に加熱する方法では、ゲッターを覆っ
ている複層ガラスの一部をも加熱せざるを得ず、いずれ
にせよ、ゲッターを局部的に加熱する従来の方法では、
複層ガラスの一部が局部的に昇温することになる。
【０００４】ところが、ガラスは比較的熱伝導性が悪い
ため、複層ガラスの一部が局部的に昇温すると、その昇
温部分と周辺部との間の温度差が大きくなって、複層ガ
ラスにおける昇温部分の近傍内部に熱応力が発生し、昇
温部分の周辺部には、その熱応力に起因して引張り応力
が発生する。ガラスは圧縮応力に対して比較的強いが、
引張り応力に対して比較的弱いため、例えば、その昇温
部分が複層ガラスを構成する板ガラスであると、昇温部
分の周辺部に発生した引張り応力によって、板ガラスの
縁部が損傷したり、板ガラスの縁部からクラックが発生
するなどのおそれがある。
ため、複層ガラスの一部が局部的に昇温すると、その昇
温部分と周辺部との間の温度差が大きくなって、複層ガ
ラスにおける昇温部分の近傍内部に熱応力が発生し、昇
温部分の周辺部には、その熱応力に起因して引張り応力
が発生する。ガラスは圧縮応力に対して比較的強いが、
引張り応力に対して比較的弱いため、例えば、その昇温
部分が複層ガラスを構成する板ガラスであると、昇温部
分の周辺部に発生した引張り応力によって、板ガラスの
縁部が損傷したり、板ガラスの縁部からクラックが発生
するなどのおそれがある。
【０００５】本発明は、このような問題点に着目したも
ので、その目的は、複層ガラスのゲッターを局部的に加
熱して活性化するに際し、局部加熱に起因する温度差の
発生を抑えて、複層ガラスにおける熱応力の発生を極力
抑制することのできるゲッター加熱方法とゲッター加熱
装置を提供することである。
ので、その目的は、複層ガラスのゲッターを局部的に加
熱して活性化するに際し、局部加熱に起因する温度差の
発生を抑えて、複層ガラスにおける熱応力の発生を極力
抑制することのできるゲッター加熱方法とゲッター加熱
装置を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明の特徴構
成は、図２〜図６に例示するごとく、複層ガラスＰにお
ける間隙部Ｖ内の気体を吸着するために、前記複層ガラ
スＰに配設されたゲッターＧを加熱手段１０により局部
的に加熱して活性化する複層ガラスのゲッター加熱方法
であって、前記ゲッターＧの加熱に伴って昇温する複層
ガラスＰの昇温部分を、その複層ガラスＰの外表面側か
ら積極的に冷却しながら、前記加熱手段１０により前記
ゲッターＧを加熱するところにある。
成は、図２〜図６に例示するごとく、複層ガラスＰにお
ける間隙部Ｖ内の気体を吸着するために、前記複層ガラ
スＰに配設されたゲッターＧを加熱手段１０により局部
的に加熱して活性化する複層ガラスのゲッター加熱方法
であって、前記ゲッターＧの加熱に伴って昇温する複層
ガラスＰの昇温部分を、その複層ガラスＰの外表面側か
ら積極的に冷却しながら、前記加熱手段１０により前記
ゲッターＧを加熱するところにある。
【０００７】請求項１の発明の特徴構成によれば、複層
ガラスに配設されたゲッターを加熱手段により局部的に
加熱して活性化する複層ガラスのゲッター加熱方法であ
って、ゲッターの加熱に伴って昇温する複層ガラスの昇
温部分を、その複層ガラスの外表面側から積極的に冷却
しながら、加熱手段によりゲッターを加熱するので、ゲ
ッターの局部加熱によって加熱効率の向上を図ることが
でき、しかも、その局部加熱により昇温する複層ガラス
の昇温部分を外表面側から積極的に冷却しながら局部加
熱を実行することで、ゲッターの局部加熱に伴う温度差
の発生を抑制することができる。したがって、その温度
差に起因する熱応力の発生、さらには、熱応力に起因す
る引張り応力の発生を抑制することができ、複層ガラス
においてゲッターを局部的に加熱して活性化するにもか
かわらず、複層ガラスにおける損傷やクラックの発生を
抑制することができる。
ガラスに配設されたゲッターを加熱手段により局部的に
加熱して活性化する複層ガラスのゲッター加熱方法であ
って、ゲッターの加熱に伴って昇温する複層ガラスの昇
温部分を、その複層ガラスの外表面側から積極的に冷却
しながら、加熱手段によりゲッターを加熱するので、ゲ
ッターの局部加熱によって加熱効率の向上を図ることが
でき、しかも、その局部加熱により昇温する複層ガラス
の昇温部分を外表面側から積極的に冷却しながら局部加
熱を実行することで、ゲッターの局部加熱に伴う温度差
の発生を抑制することができる。したがって、その温度
差に起因する熱応力の発生、さらには、熱応力に起因す
る引張り応力の発生を抑制することができ、複層ガラス
においてゲッターを局部的に加熱して活性化するにもか
かわらず、複層ガラスにおける損傷やクラックの発生を
抑制することができる。
【０００８】請求項２の発明の特徴構成は、図２〜図６
に例示するごとく、ゲッター加熱方法であって、前記複
層ガラスＰの昇温部分の外表面に冷却用流体Ａを吹き付
けて冷却するところにある。
に例示するごとく、ゲッター加熱方法であって、前記複
層ガラスＰの昇温部分の外表面に冷却用流体Ａを吹き付
けて冷却するところにある。
【０００９】請求項２の発明の特徴構成によれば、上述
したゲッター加熱方法であって、複層ガラスの昇温部分
の外表面に冷却用流体を吹き付けて冷却するので、大掛
かりな冷却装置などを必要とせずに比較的簡単な装置で
実施することができ、しかも、冷却用流体は、複層ガラ
スの外表面に沿って流れるため、昇温部分を含む外表面
を効率良く冷却することができる。
したゲッター加熱方法であって、複層ガラスの昇温部分
の外表面に冷却用流体を吹き付けて冷却するので、大掛
かりな冷却装置などを必要とせずに比較的簡単な装置で
実施することができ、しかも、冷却用流体は、複層ガラ
スの外表面に沿って流れるため、昇温部分を含む外表面
を効率良く冷却することができる。
【００１０】請求項３の発明の特徴構成は、図２〜図６
に例示するごとく、ゲッター加熱方法であって、前記冷
却用流体Ａが気体であるところにある。
に例示するごとく、ゲッター加熱方法であって、前記冷
却用流体Ａが気体であるところにある。
【００１１】請求項３の発明の特徴構成によれば、上述
したゲッター加熱方法であって、冷却用流体が気体であ
るから、例えば、冷却用流体として水などの液体を使用
する場合と比較して、その後の冷却用流体の処理がきわ
めて容易で、特に冷却用流体として空気を使用する場合
には、そのまま大気中へ放出することもできて後処理が
不要となる。
したゲッター加熱方法であって、冷却用流体が気体であ
るから、例えば、冷却用流体として水などの液体を使用
する場合と比較して、その後の冷却用流体の処理がきわ
めて容易で、特に冷却用流体として空気を使用する場合
には、そのまま大気中へ放出することもできて後処理が
不要となる。
【００１２】請求項４の発明の特徴構成は、図２〜図６
に例示するごとく、複層ガラスＰにおける間隙部Ｖ内の
気体を吸着するために、前記複層ガラスＰに配設された
ゲッターＧを局部的に加熱して活性化する加熱手段１０
を備えた複層ガラスのゲッター加熱装置であって、その
ゲッター加熱装置８が、前記加熱手段１０によるゲッタ
ーＧの加熱に伴って昇温する複層ガラスＰの昇温部分
を、その複層ガラスＰの外表面側から積極的に冷却する
冷却手段１４を備えているところにある。
に例示するごとく、複層ガラスＰにおける間隙部Ｖ内の
気体を吸着するために、前記複層ガラスＰに配設された
ゲッターＧを局部的に加熱して活性化する加熱手段１０
を備えた複層ガラスのゲッター加熱装置であって、その
ゲッター加熱装置８が、前記加熱手段１０によるゲッタ
ーＧの加熱に伴って昇温する複層ガラスＰの昇温部分
を、その複層ガラスＰの外表面側から積極的に冷却する
冷却手段１４を備えているところにある。
【００１３】請求項４の発明の特徴構成によれば、複層
ガラスに配設されたゲッターを局部的に加熱して活性化
する加熱手段を備えた複層ガラスのゲッター加熱装置で
あって、そのゲッター加熱装置が、加熱手段によるゲッ
ターの加熱に伴って昇温する複層ガラスの昇温部分を、
その複層ガラスの外表面側から積極的に冷却する冷却手
段を備えているので、加熱手段によりゲッターを局部加
熱することによって加熱効率の向上を図ることができる
とともに、局部加熱により昇温する複層ガラスの昇温部
分を外表面側から冷却手段により積極的に冷却しなが
ら、加熱手段により局部加熱を実行することになり、ゲ
ッターの局部加熱に伴う温度差の発生を抑制することが
できる。したがって、その温度差に起因する熱応力の発
生、さらには、熱応力に起因する引張り応力の発生を抑
制することができ、複層ガラスにおいてゲッターを局部
的に加熱して活性化するにもかかわらず、複層ガラスに
おける損傷やクラックの発生を抑制することができる。
ガラスに配設されたゲッターを局部的に加熱して活性化
する加熱手段を備えた複層ガラスのゲッター加熱装置で
あって、そのゲッター加熱装置が、加熱手段によるゲッ
ターの加熱に伴って昇温する複層ガラスの昇温部分を、
その複層ガラスの外表面側から積極的に冷却する冷却手
段を備えているので、加熱手段によりゲッターを局部加
熱することによって加熱効率の向上を図ることができる
とともに、局部加熱により昇温する複層ガラスの昇温部
分を外表面側から冷却手段により積極的に冷却しなが
ら、加熱手段により局部加熱を実行することになり、ゲ
ッターの局部加熱に伴う温度差の発生を抑制することが
できる。したがって、その温度差に起因する熱応力の発
生、さらには、熱応力に起因する引張り応力の発生を抑
制することができ、複層ガラスにおいてゲッターを局部
的に加熱して活性化するにもかかわらず、複層ガラスに
おける損傷やクラックの発生を抑制することができる。
【００１４】請求項５の発明の特徴構成は、図２〜図６
に例示するごとく、ゲッター加熱装置であって、前記冷
却手段１４が、前記複層ガラスＰの昇温部分の外表面に
冷却用流体Ａを吹き付けるノズル１１と、そのノズル１
１に冷却用流体Ａを供給する流体供給手段１２により構
成されているところにある。
に例示するごとく、ゲッター加熱装置であって、前記冷
却手段１４が、前記複層ガラスＰの昇温部分の外表面に
冷却用流体Ａを吹き付けるノズル１１と、そのノズル１
１に冷却用流体Ａを供給する流体供給手段１２により構
成されているところにある。
【００１５】請求項５の発明の特徴構成によれば、上述
したゲッター加熱装置であって、冷却手段が、複層ガラ
スの昇温部分の外表面に冷却用流体を吹き付けるノズル
と、そのノズルに冷却用流体を供給する流体供給手段に
より構成されているので、ノズルと流体供給手段などか
らなる比較的簡単な装置で必要な冷却作用を期待するこ
とができ、装置の簡略化と低廉化を図ることができ、し
かも、冷却用流体は、複層ガラスの外表面に沿って流れ
るため、昇温部分を含む外表面を効率良く冷却すること
ができる。
したゲッター加熱装置であって、冷却手段が、複層ガラ
スの昇温部分の外表面に冷却用流体を吹き付けるノズル
と、そのノズルに冷却用流体を供給する流体供給手段に
より構成されているので、ノズルと流体供給手段などか
らなる比較的簡単な装置で必要な冷却作用を期待するこ
とができ、装置の簡略化と低廉化を図ることができ、し
かも、冷却用流体は、複層ガラスの外表面に沿って流れ
るため、昇温部分を含む外表面を効率良く冷却すること
ができる。
【００１６】請求項６の発明の特徴構成は、図２〜図６
に例示するごとく、ゲッター加熱装置であって、前記冷
却用流体Ａが気体であるところにある。
に例示するごとく、ゲッター加熱装置であって、前記冷
却用流体Ａが気体であるところにある。
【００１７】請求項６の発明の特徴構成によれば、上述
したゲッター加熱装置であって、冷却用流体が気体であ
るから、例えば、冷却用流体として水などの液体を使用
する場合と比較して、流体供給手段などの装置類が簡略
となり、かつ、その後の冷却用流体の処理も容易で、特
に冷却用流体として空気を使用する場合には、そのまま
大気中へ放出することもできて後処理が不要となり、さ
らに装置類の簡略化を図ることができる。
したゲッター加熱装置であって、冷却用流体が気体であ
るから、例えば、冷却用流体として水などの液体を使用
する場合と比較して、流体供給手段などの装置類が簡略
となり、かつ、その後の冷却用流体の処理も容易で、特
に冷却用流体として空気を使用する場合には、そのまま
大気中へ放出することもできて後処理が不要となり、さ
らに装置類の簡略化を図ることができる。
【００１８】請求項７の発明の特徴構成は、図２〜図６
に例示するごとく、ゲッター加熱装置であって、前記加
熱手段１０が、前記複層ガラスＰの外側から加熱用の光
束Ｌを照射して加熱する照射式加熱手段であるところに
ある。
に例示するごとく、ゲッター加熱装置であって、前記加
熱手段１０が、前記複層ガラスＰの外側から加熱用の光
束Ｌを照射して加熱する照射式加熱手段であるところに
ある。
【００１９】請求項７の発明の特徴構成によれば、上述
したゲッター加熱装置であって、加熱手段が、複層ガラ
スの外側から加熱用の光束を照射して加熱する照射式加
熱手段であるから、他の加熱手段と比較して優れた効果
が期待できる。例えば、ヒータ付きのゲッターを使用し
たり、ゲッターに直接電流を流して加熱する場合には、
加熱用給電線の取り扱いが煩雑となり、かつ、その加熱
用給電線を複層ガラスの外側にまで延出させて配線する
必要があるため、配線による気密不良が発生しやすい欠
点があり、また、高周波誘導コイルを使用してゲッター
内部に誘導電流を発生させて加熱する場合には、金属製
の網入り板ガラスにより複層ガラスを構成すると、金属
製の網も同時に加熱されて板ガラスにクラックが入るお
それがあるため、網入り板ガラスを使用できないという
制約を受ける。それに対し、照射式加熱手段であれば、
複層ガラスに対して給電線などを配線する必要がなく取
り扱いも容易で、使用する板ガラスに関しても、照射側
の板ガラスさえ透明な板ガラスであれば、他方の板ガラ
スについては網入り板ガラスやスリガラスを使用するこ
とも可能となり、しかも、照射式加熱手段からの加熱用
の光束によってゲッターを効率良く局部加熱することが
できる。
したゲッター加熱装置であって、加熱手段が、複層ガラ
スの外側から加熱用の光束を照射して加熱する照射式加
熱手段であるから、他の加熱手段と比較して優れた効果
が期待できる。例えば、ヒータ付きのゲッターを使用し
たり、ゲッターに直接電流を流して加熱する場合には、
加熱用給電線の取り扱いが煩雑となり、かつ、その加熱
用給電線を複層ガラスの外側にまで延出させて配線する
必要があるため、配線による気密不良が発生しやすい欠
点があり、また、高周波誘導コイルを使用してゲッター
内部に誘導電流を発生させて加熱する場合には、金属製
の網入り板ガラスにより複層ガラスを構成すると、金属
製の網も同時に加熱されて板ガラスにクラックが入るお
それがあるため、網入り板ガラスを使用できないという
制約を受ける。それに対し、照射式加熱手段であれば、
複層ガラスに対して給電線などを配線する必要がなく取
り扱いも容易で、使用する板ガラスに関しても、照射側
の板ガラスさえ透明な板ガラスであれば、他方の板ガラ
スについては網入り板ガラスやスリガラスを使用するこ
とも可能となり、しかも、照射式加熱手段からの加熱用
の光束によってゲッターを効率良く局部加熱することが
できる。
【００２０】なお、上述のように、図面との対照を便利
にするために符号を記したが、該記入により本発明は添
付図面の構成に限定されるものではない。
にするために符号を記したが、該記入により本発明は添
付図面の構成に限定されるものではない。
【００２１】
【発明の実施の形態】本発明による複層ガラスのゲッタ
ー加熱方法とその加熱装置につき、その実施の形態を図
面に基づいて説明する。ゲッター加熱装置の使用対象と
なる複層ガラスとしては、例えば、真空複層ガラスがあ
り、真空複層ガラスＰは、図１に示すように、一対の透
明な板ガラス１，２において、両板ガラス１，２の面
が、その間にステンレス鋼（ＳＵＳ３０４）やインコネ
ル７１８などからなる多数のスペーサ３を介在させ、そ
れによって、両板ガラス１，２の間に間隙部Ｖを有する
状態で互いに対向するように配置され、両板ガラス１，
２の周縁部が、両板ガラス１，２よりも溶融温度が低
く、かつ、気体透過度の低い低融点ガラス４で接合さ
れ、両板ガラス１，２の間隙部Ｖが、減圧状態で密閉さ
れて構成されている。
ー加熱方法とその加熱装置につき、その実施の形態を図
面に基づいて説明する。ゲッター加熱装置の使用対象と
なる複層ガラスとしては、例えば、真空複層ガラスがあ
り、真空複層ガラスＰは、図１に示すように、一対の透
明な板ガラス１，２において、両板ガラス１，２の面
が、その間にステンレス鋼（ＳＵＳ３０４）やインコネ
ル７１８などからなる多数のスペーサ３を介在させ、そ
れによって、両板ガラス１，２の間に間隙部Ｖを有する
状態で互いに対向するように配置され、両板ガラス１，
２の周縁部が、両板ガラス１，２よりも溶融温度が低
く、かつ、気体透過度の低い低融点ガラス４で接合さ
れ、両板ガラス１，２の間隙部Ｖが、減圧状態で密閉さ
れて構成されている。
【００２２】両板ガラス１，２の間隙部Ｖは、１．３３
Ｐａ（１．０×１０-2Ｔｏｒｒ）以下に減圧され、一方
の板ガラス１には、間隙部Ｖ内の気体を排気して減圧す
るため、図２に示すように、断面が円形の減圧用の吸引
孔５が穿設されている。この吸引孔５は、円柱形状のゲ
ッターＧを収納するためのゲッター収納空間を兼用する
もので、吸引孔５内にゲッターＧが収納されて配設さ
れ、吸引孔５の開口に透明な板ガラスからなる蓋体６が
位置されて、その蓋体６が、上述の低融点ガラス４より
も融点が高くて、蓋体６や板ガラス１よりも融点の低い
低融点ガラス７によって板ガラス１に接着固定されて、
吸引孔５の開口が密閉状態で封止されている。
Ｐａ（１．０×１０-2Ｔｏｒｒ）以下に減圧され、一方
の板ガラス１には、間隙部Ｖ内の気体を排気して減圧す
るため、図２に示すように、断面が円形の減圧用の吸引
孔５が穿設されている。この吸引孔５は、円柱形状のゲ
ッターＧを収納するためのゲッター収納空間を兼用する
もので、吸引孔５内にゲッターＧが収納されて配設さ
れ、吸引孔５の開口に透明な板ガラスからなる蓋体６が
位置されて、その蓋体６が、上述の低融点ガラス４より
も融点が高くて、蓋体６や板ガラス１よりも融点の低い
低融点ガラス７によって板ガラス１に接着固定されて、
吸引孔５の開口が密閉状態で封止されている。
【００２３】このような真空複層ガラスＰにおいて、ゲ
ッターＧを加熱するのに使用されるゲッター加熱装置８
は、図２に示すように、板ガラス１の上面に載置可能な
装置本体９を備え、その装置本体９には、ゲッターＧを
局部的に加熱して活性化するための照射式加熱手段１０
が設けられている。この実施形態において、照射式加熱
手段１０は、レーザ発生装置あるいは各種のランプなど
であり、ゲッター加熱用の光束Ｌを照射して真空複層ガ
ラスＰに配設されたゲッターＧを局部的に加熱するよう
に構成されている。さらに、ゲッター加熱装置８の装置
本体９には、真空複層ガラスＰを構成する板ガラス１や
蓋体６の外表面に対して、その外表面側から冷却用流体
の一例である空気Ａを吹き付けて冷却するためのノズル
１１が設けられ、そのノズル１１には、冷却用の空気Ａ
を供給するための流体供給手段の一例であるファン１２
がフレキシブルパイプ１３を介して接続されて、これら
ノズル１１やファン１２などにより、真空複層ガラスＰ
の昇温部分を局部的に冷却する冷却手段１４が構成され
ている。
ッターＧを加熱するのに使用されるゲッター加熱装置８
は、図２に示すように、板ガラス１の上面に載置可能な
装置本体９を備え、その装置本体９には、ゲッターＧを
局部的に加熱して活性化するための照射式加熱手段１０
が設けられている。この実施形態において、照射式加熱
手段１０は、レーザ発生装置あるいは各種のランプなど
であり、ゲッター加熱用の光束Ｌを照射して真空複層ガ
ラスＰに配設されたゲッターＧを局部的に加熱するよう
に構成されている。さらに、ゲッター加熱装置８の装置
本体９には、真空複層ガラスＰを構成する板ガラス１や
蓋体６の外表面に対して、その外表面側から冷却用流体
の一例である空気Ａを吹き付けて冷却するためのノズル
１１が設けられ、そのノズル１１には、冷却用の空気Ａ
を供給するための流体供給手段の一例であるファン１２
がフレキシブルパイプ１３を介して接続されて、これら
ノズル１１やファン１２などにより、真空複層ガラスＰ
の昇温部分を局部的に冷却する冷却手段１４が構成され
ている。
【００２４】真空複層ガラスＰは、両板ガラス１，２の
間に所定の間隔で多数のスペーサ３を介在させ、かつ、
両板ガラス１，２の周縁部にペースト状の低融点ガラス
４を介在させた状態で、加熱炉内において焼成すること
により、溶融した低融点ガラス４によって両板ガラス
１，２の周縁部が接合される。その後、板ガラス１の吸
引孔５内にゲッターＧを収納した状態で、減圧加熱装置
を使用して間隙部Ｖを加熱しながら吸引孔５から間隙部
Ｖ内の気体を吸引排気するベーキング処理を実行し、さ
らに、間隙部Ｖ内を１．３３Ｐａ以下にまで減圧すると
ともに、低融点ガラス７を加熱して溶融させ、蓋体６を
板ガラス１に接着して真空複層ガラスＰを製造する。
間に所定の間隔で多数のスペーサ３を介在させ、かつ、
両板ガラス１，２の周縁部にペースト状の低融点ガラス
４を介在させた状態で、加熱炉内において焼成すること
により、溶融した低融点ガラス４によって両板ガラス
１，２の周縁部が接合される。その後、板ガラス１の吸
引孔５内にゲッターＧを収納した状態で、減圧加熱装置
を使用して間隙部Ｖを加熱しながら吸引孔５から間隙部
Ｖ内の気体を吸引排気するベーキング処理を実行し、さ
らに、間隙部Ｖ内を１．３３Ｐａ以下にまで減圧すると
ともに、低融点ガラス７を加熱して溶融させ、蓋体６を
板ガラス１に接着して真空複層ガラスＰを製造する。
【００２５】そのようにして製造された真空複層ガラス
Ｐにおいて、吸引孔５内のゲッターＧを加熱して活性化
するには、図２に示すように、蓋体６側を上にして板ガ
ラス１上にゲッター加熱装置８を載置する。その際、照
射式加熱手段１０が、ゲッターＧの真上に位置するよう
に載置し、その照射式加熱手段１０から光束Ｌを照射し
て、ゲッターＧを局部的に加熱する。例えば、板ガラス
１，２が３ｍｍ、吸引孔５の直径が１２ｍｍの場合であ
れば、直径が１０ｍｍで高さが２ｍｍの円柱状のゲッタ
ーＧを挿入し、直径が２０ｍｍで厚さが１ｍｍの蓋体６
により閉鎖し、直径８ｍｍ程度の光束Ｌを照射すること
になり、蓋体６とゲッターＧとは、その中央部が８ｍｍ
の直径の範囲内において局部的に加熱される。
Ｐにおいて、吸引孔５内のゲッターＧを加熱して活性化
するには、図２に示すように、蓋体６側を上にして板ガ
ラス１上にゲッター加熱装置８を載置する。その際、照
射式加熱手段１０が、ゲッターＧの真上に位置するよう
に載置し、その照射式加熱手段１０から光束Ｌを照射し
て、ゲッターＧを局部的に加熱する。例えば、板ガラス
１，２が３ｍｍ、吸引孔５の直径が１２ｍｍの場合であ
れば、直径が１０ｍｍで高さが２ｍｍの円柱状のゲッタ
ーＧを挿入し、直径が２０ｍｍで厚さが１ｍｍの蓋体６
により閉鎖し、直径８ｍｍ程度の光束Ｌを照射すること
になり、蓋体６とゲッターＧとは、その中央部が８ｍｍ
の直径の範囲内において局部的に加熱される。
【００２６】ゲッターＧは熱伝導性が良いため、短時間
のうちに全体が加熱されて活性化され、間隙部Ｖ内の気
体と接触して、その気体に含まれる水分、ＣＯ、Ｃ
Ｏ2 、Ｎ 2 、Ｈ2 、Ｏ2 などのガス、つまり、酸化ガ
ス、硫化ガス、炭化ガス、有機ガスなどの各種のガスを
吸着して除去する。それに対し、蓋体６はガラス製で熱
伝導性が悪いため、その中央部のみが局部的に加熱され
るだけで、周縁部は短時間のうちに加熱されず、したが
って、蓋体６を接着している低融点ガラス７が再溶融さ
れることはない。その反面、蓋体６の局部加熱により、
蓋体６に熱応力が発生するおそれがあるが、照射式加熱
手段１０からの光束Ｌの照射と相前後して、冷却手段１
４のノズル１１から蓋体６に向けて冷却用空気Ａが吹き
付けられて、蓋体６を含む昇温部分が冷却されるので、
蓋体６内における熱応力の発生が抑制される。
のうちに全体が加熱されて活性化され、間隙部Ｖ内の気
体と接触して、その気体に含まれる水分、ＣＯ、Ｃ
Ｏ2 、Ｎ 2 、Ｈ2 、Ｏ2 などのガス、つまり、酸化ガ
ス、硫化ガス、炭化ガス、有機ガスなどの各種のガスを
吸着して除去する。それに対し、蓋体６はガラス製で熱
伝導性が悪いため、その中央部のみが局部的に加熱され
るだけで、周縁部は短時間のうちに加熱されず、したが
って、蓋体６を接着している低融点ガラス７が再溶融さ
れることはない。その反面、蓋体６の局部加熱により、
蓋体６に熱応力が発生するおそれがあるが、照射式加熱
手段１０からの光束Ｌの照射と相前後して、冷却手段１
４のノズル１１から蓋体６に向けて冷却用空気Ａが吹き
付けられて、蓋体６を含む昇温部分が冷却されるので、
蓋体６内における熱応力の発生が抑制される。
【００２７】また、同じゲッター加熱装置８を用いて、
図３に示すように、真空複層ガラスＰの裏側からゲッタ
ーＧを加熱することもできる。その場合には、ゲッター
Ｇの加熱と同時に、上方に位置する板ガラス２も局部的
に加熱されるが、ノズル１１から吹き付けられる冷却用
空気Ａにより板ガラス２の昇温部分が冷却されて、板ガ
ラス２内における熱応力の発生が抑制される。さらに、
必要な場合には、図３において仮想線で示すように、真
空複層ガラスＰの下方にも別のノズル１１を配置して、
冷却用空気Ａにより下方に位置する蓋体６も同時に冷却
するように構成することができる。
図３に示すように、真空複層ガラスＰの裏側からゲッタ
ーＧを加熱することもできる。その場合には、ゲッター
Ｇの加熱と同時に、上方に位置する板ガラス２も局部的
に加熱されるが、ノズル１１から吹き付けられる冷却用
空気Ａにより板ガラス２の昇温部分が冷却されて、板ガ
ラス２内における熱応力の発生が抑制される。さらに、
必要な場合には、図３において仮想線で示すように、真
空複層ガラスＰの下方にも別のノズル１１を配置して、
冷却用空気Ａにより下方に位置する蓋体６も同時に冷却
するように構成することができる。
【００２８】以上、減圧用の吸引孔５内に収納したゲッ
ターＧを加熱する場合について説明したが、ゲッターＧ
の収納に関しては種々の構成があり、いかなる構成であ
っても適用可能である。例えば、図４に示すように、両
板ガラス１，２のうち、一方の板ガラス１にのみ専用の
ゲッター収納空間１５が設けられている場合、あるい
は、図５に示すように、両板ガラス１，２にわたって専
用のゲッター収納空間１６が設けられている場合には、
いずれか一方の板ガラス１，２の上面にゲッター加熱装
置８を載置し、ノズル１１からの冷却用空気Ａで板ガラ
ス１，２の外表面を冷却しながら、ゲッターＧを加熱に
より活性化して間隙部Ｖ内の各種ガスを吸着して除去す
る。
ターＧを加熱する場合について説明したが、ゲッターＧ
の収納に関しては種々の構成があり、いかなる構成であ
っても適用可能である。例えば、図４に示すように、両
板ガラス１，２のうち、一方の板ガラス１にのみ専用の
ゲッター収納空間１５が設けられている場合、あるい
は、図５に示すように、両板ガラス１，２にわたって専
用のゲッター収納空間１６が設けられている場合には、
いずれか一方の板ガラス１，２の上面にゲッター加熱装
置８を載置し、ノズル１１からの冷却用空気Ａで板ガラ
ス１，２の外表面を冷却しながら、ゲッターＧを加熱に
より活性化して間隙部Ｖ内の各種ガスを吸着して除去す
る。
【００２９】さらに、多量のゲッターＧを必要とする場
合には、図６に示すように、板ガラス１と蓋体６との間
に円環状のガラス製スペーサ１７を介在させて低融点ガ
ラス７により接着し、板ガラス１とガラス製スペーサ１
７とにわたって設けられたゲッター収納空間１８にゲッ
ターＧを収納し、ノズル１１からの冷却用空気Ａで蓋体
６などを冷却しながらゲッターＧを加熱することにな
る。なお、図４〜図６に示した実施形態、さらには、図
２に示した実施形態においても、図３に示したように、
真空複層ガラスＰの下方にも別のノズル１１を配置し
て、真空複層ガラスＰの下方も同時に冷却するように構
成することができる。その他、図示はしないが、板ガラ
ス１に穿設した減圧用の吸引孔にガラス管を連通接続
し、そのガラス管内にゲッターＧを収納した構成の真空
複層ガラスＰにおいても適用可能である。
合には、図６に示すように、板ガラス１と蓋体６との間
に円環状のガラス製スペーサ１７を介在させて低融点ガ
ラス７により接着し、板ガラス１とガラス製スペーサ１
７とにわたって設けられたゲッター収納空間１８にゲッ
ターＧを収納し、ノズル１１からの冷却用空気Ａで蓋体
６などを冷却しながらゲッターＧを加熱することにな
る。なお、図４〜図６に示した実施形態、さらには、図
２に示した実施形態においても、図３に示したように、
真空複層ガラスＰの下方にも別のノズル１１を配置し
て、真空複層ガラスＰの下方も同時に冷却するように構
成することができる。その他、図示はしないが、板ガラ
ス１に穿設した減圧用の吸引孔にガラス管を連通接続
し、そのガラス管内にゲッターＧを収納した構成の真空
複層ガラスＰにおいても適用可能である。
【００３０】〔別実施形態〕
（１）先の実施形態では、ゲッターＧを加熱する加熱手
段１０の一例として照射式加熱手段を示したが、照射式
加熱手段に代えて、各種の加熱手段を使用することがで
きる。例えば、高周波誘導コイルにより磁界を発生さ
せ、ゲッターＧの内部に誘導電流を発生させて加熱した
り、ヒータ付きのゲッターＧを使用してそのヒータによ
り加熱することもでき、また、ゲッターＧに直接電流を
流して加熱することもできる。
段１０の一例として照射式加熱手段を示したが、照射式
加熱手段に代えて、各種の加熱手段を使用することがで
きる。例えば、高周波誘導コイルにより磁界を発生さ
せ、ゲッターＧの内部に誘導電流を発生させて加熱した
り、ヒータ付きのゲッターＧを使用してそのヒータによ
り加熱することもでき、また、ゲッターＧに直接電流を
流して加熱することもできる。
【００３１】（２）先の実施形態では、真空複層ガラス
Ｐの昇温部分を冷却する冷却用流体Ａの一例として空気
を示したが、空気以外の各種の気体は勿論のこと、水な
どのような液体を使用して真空複層ガラスＰの昇温部分
を冷却するように構成することもできる。また、流体供
給手段１２の一例としてファンを示したが、コンプレッ
サやポンプをはじめとして、例えば、冷却用の流体を収
納するボンベを使用し、そのボンベから冷却用の流体を
供給するように構成することもできる。
Ｐの昇温部分を冷却する冷却用流体Ａの一例として空気
を示したが、空気以外の各種の気体は勿論のこと、水な
どのような液体を使用して真空複層ガラスＰの昇温部分
を冷却するように構成することもできる。また、流体供
給手段１２の一例としてファンを示したが、コンプレッ
サやポンプをはじめとして、例えば、冷却用の流体を収
納するボンベを使用し、そのボンベから冷却用の流体を
供給するように構成することもできる。
【００３２】（３）先の実施形態では、複層ガラスＰの
一例として真空複層ガラスを示したが、両板ガラス１，
２の間隙部Ｖに放電ガスを封入したプラズマディスプレ
イパネルなどにおいて、その間隙部Ｖから不必要なガス
を吸着して除去する場合にも適用することができる。
一例として真空複層ガラスを示したが、両板ガラス１，
２の間隙部Ｖに放電ガスを封入したプラズマディスプレ
イパネルなどにおいて、その間隙部Ｖから不必要なガス
を吸着して除去する場合にも適用することができる。
【図１】真空複層ガラスの一部切欠き斜視図
【図２】ゲッター加熱装置によるゲッター加熱状態を示
す断面図
す断面図
【図３】別の実施形態におけるゲッター加熱状態を示す
断面図
断面図
【図４】別の実施形態におけるゲッター加熱状態を示す
断面図
断面図
【図５】別の実施形態におけるゲッター加熱状態を示す
断面図
断面図
【図６】別の実施形態におけるゲッター加熱状態を示す
断面図
断面図
８ ゲッター加熱装置
１０ 加熱手段の一例である照射式加熱手段
１１ ノズル
１２ 流体供給手段
１４ 冷却手段
Ａ 冷却用流体
Ｇ ゲッター
Ｌ 加熱用の光束
Ｐ 複層ガラス
Ｖ 間隙部
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１５年３月１１日（２００３．３．１
１）
１）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 ガラスパネルのゲッター加熱方法と
その加熱装置
その加熱装置
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラスパネルにお
ける間隙部内の気体を吸着するために、前記ガラスパネ
ルに配設されたゲッターを加熱手段により局部的に加熱
して活性化するガラスパネルのゲッター加熱方法とその
加熱装置に関する。
ける間隙部内の気体を吸着するために、前記ガラスパネ
ルに配設されたゲッターを加熱手段により局部的に加熱
して活性化するガラスパネルのゲッター加熱方法とその
加熱装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ガラスパネルのゲッターを加熱して活性
化する方法としては、従来からガラスパネル全体を加熱
する方法が知られているが、ゲッター以外の不必要な部
分も一緒に加熱することになるため、加熱効率がきわめ
て悪いという欠点がある。そこで、近年では、例えば、
ヒータやランプなどの加熱手段を備えたゲッター加熱装
置を使用して、ガラスパネルの外側からゲッターを局部
的に加熱する方法などが実施されている。
化する方法としては、従来からガラスパネル全体を加熱
する方法が知られているが、ゲッター以外の不必要な部
分も一緒に加熱することになるため、加熱効率がきわめ
て悪いという欠点がある。そこで、近年では、例えば、
ヒータやランプなどの加熱手段を備えたゲッター加熱装
置を使用して、ガラスパネルの外側からゲッターを局部
的に加熱する方法などが実施されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ガラスパネル
のゲッターは、ガラスパネルの間隙部に接触するように
収納されているので、ガラスパネルの外側から加熱手段
によりゲッターを局部的に加熱する方法では、ゲッター
を覆っているガラスパネルの一部をも加熱せざるを得
ず、いずれにせよ、ゲッターを局部的に加熱する従来の
方法では、ガラスパネルの一部が局部的に昇温すること
になる。
のゲッターは、ガラスパネルの間隙部に接触するように
収納されているので、ガラスパネルの外側から加熱手段
によりゲッターを局部的に加熱する方法では、ゲッター
を覆っているガラスパネルの一部をも加熱せざるを得
ず、いずれにせよ、ゲッターを局部的に加熱する従来の
方法では、ガラスパネルの一部が局部的に昇温すること
になる。
【０００４】ところが、ガラスは比較的熱伝導性が悪い
ため、ガラスパネルの一部が局部的に昇温すると、その
昇温部分と周辺部との間の温度差が大きくなって、ガラ
スパネルにおける昇温部分の近傍内部に熱応力が発生
し、昇温部分の周辺部には、その熱応力に起因して引張
り応力が発生する。ガラスは圧縮応力に対して比較的強
いが、引張り応力に対して比較的弱いため、例えば、そ
の昇温部分がガラスパネルを構成する板ガラスである
と、昇温部分の周辺部に発生した引張り応力によって、
板ガラスの縁部が損傷したり、板ガラスの縁部からクラ
ックが発生するなどのおそれがある。
ため、ガラスパネルの一部が局部的に昇温すると、その
昇温部分と周辺部との間の温度差が大きくなって、ガラ
スパネルにおける昇温部分の近傍内部に熱応力が発生
し、昇温部分の周辺部には、その熱応力に起因して引張
り応力が発生する。ガラスは圧縮応力に対して比較的強
いが、引張り応力に対して比較的弱いため、例えば、そ
の昇温部分がガラスパネルを構成する板ガラスである
と、昇温部分の周辺部に発生した引張り応力によって、
板ガラスの縁部が損傷したり、板ガラスの縁部からクラ
ックが発生するなどのおそれがある。
【０００５】本発明は、このような問題点に着目したも
ので、その目的は、ガラスパネルのゲッターを局部的に
加熱して活性化するに際し、局部加熱に起因する温度差
の発生を抑えて、ガラスパネルにおける熱応力の発生を
極力抑制することのできるゲッター加熱方法とゲッター
加熱装置を提供することである。
ので、その目的は、ガラスパネルのゲッターを局部的に
加熱して活性化するに際し、局部加熱に起因する温度差
の発生を抑えて、ガラスパネルにおける熱応力の発生を
極力抑制することのできるゲッター加熱方法とゲッター
加熱装置を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明の特徴構
成は、図２〜図６に例示するごとく、ガラスパネルＰに
おける間隙部Ｖ内の気体を吸着するために、前記ガラス
パネルＰに配設されたゲッターＧを加熱手段１０により
局部的に加熱して活性化するガラスパネルのゲッター加
熱方法であって、前記ゲッターＧの加熱に伴って昇温す
るガラスパネルＰの昇温部分を、そのガラスパネルＰの
外表面側から積極的に冷却しながら、前記加熱手段１０
により前記ゲッターＧを加熱するところにある。
成は、図２〜図６に例示するごとく、ガラスパネルＰに
おける間隙部Ｖ内の気体を吸着するために、前記ガラス
パネルＰに配設されたゲッターＧを加熱手段１０により
局部的に加熱して活性化するガラスパネルのゲッター加
熱方法であって、前記ゲッターＧの加熱に伴って昇温す
るガラスパネルＰの昇温部分を、そのガラスパネルＰの
外表面側から積極的に冷却しながら、前記加熱手段１０
により前記ゲッターＧを加熱するところにある。
【０００７】請求項１の発明の特徴構成によれば、ガラ
スパネルに配設されたゲッターを加熱手段により局部的
に加熱して活性化するガラスパネルのゲッター加熱方法
であって、ゲッターの加熱に伴って昇温するガラスパネ
ルの昇温部分を、そのガラスパネルの外表面側から積極
的に冷却しながら、加熱手段によりゲッターを加熱する
ので、ゲッターの局部加熱によって加熱効率の向上を図
ることができ、しかも、その局部加熱により昇温するガ
ラスパネルの昇温部分を外表面側から積極的に冷却しな
がら局部加熱を実行することで、ゲッターの局部加熱に
伴う温度差の発生を抑制することができる。したがっ
て、その温度差に起因する熱応力の発生、さらには、熱
応力に起因する引張り応力の発生を抑制することがで
き、ガラスパネルにおいてゲッターを局部的に加熱して
活性化するにもかかわらず、ガラスパネルにおける損傷
やクラックの発生を抑制することができる。
スパネルに配設されたゲッターを加熱手段により局部的
に加熱して活性化するガラスパネルのゲッター加熱方法
であって、ゲッターの加熱に伴って昇温するガラスパネ
ルの昇温部分を、そのガラスパネルの外表面側から積極
的に冷却しながら、加熱手段によりゲッターを加熱する
ので、ゲッターの局部加熱によって加熱効率の向上を図
ることができ、しかも、その局部加熱により昇温するガ
ラスパネルの昇温部分を外表面側から積極的に冷却しな
がら局部加熱を実行することで、ゲッターの局部加熱に
伴う温度差の発生を抑制することができる。したがっ
て、その温度差に起因する熱応力の発生、さらには、熱
応力に起因する引張り応力の発生を抑制することがで
き、ガラスパネルにおいてゲッターを局部的に加熱して
活性化するにもかかわらず、ガラスパネルにおける損傷
やクラックの発生を抑制することができる。
【０００８】請求項２の発明の特徴構成は、図２〜図６
に例示するごとく、ゲッター加熱方法であって、前記ガ
ラスパネルＰの昇温部分の外表面に冷却用流体Ａを吹き
付けて冷却するところにある。
に例示するごとく、ゲッター加熱方法であって、前記ガ
ラスパネルＰの昇温部分の外表面に冷却用流体Ａを吹き
付けて冷却するところにある。
【０００９】請求項２の発明の特徴構成によれば、上述
したゲッター加熱方法であって、ガラスパネルの昇温部
分の外表面に冷却用流体を吹き付けて冷却するので、大
掛かりな冷却装置などを必要とせずに比較的簡単な装置
で実施することができ、しかも、冷却用流体は、ガラス
パネルの外表面に沿って流れるため、昇温部分を含む外
表面を効率良く冷却することができる。
したゲッター加熱方法であって、ガラスパネルの昇温部
分の外表面に冷却用流体を吹き付けて冷却するので、大
掛かりな冷却装置などを必要とせずに比較的簡単な装置
で実施することができ、しかも、冷却用流体は、ガラス
パネルの外表面に沿って流れるため、昇温部分を含む外
表面を効率良く冷却することができる。
【００１０】請求項３の発明の特徴構成は、図２〜図６
に例示するごとく、ゲッター加熱方法であって、前記冷
却用流体Ａが気体であるところにある。
に例示するごとく、ゲッター加熱方法であって、前記冷
却用流体Ａが気体であるところにある。
【００１１】請求項３の発明の特徴構成によれば、上述
したゲッター加熱方法であって、冷却用流体が気体であ
るから、例えば、冷却用流体として水などの液体を使用
する場合と比較して、その後の冷却用流体の処理がきわ
めて容易で、特に冷却用流体として空気を使用する場合
には、そのまま大気中へ放出することもできて後処理が
不要となる。
したゲッター加熱方法であって、冷却用流体が気体であ
るから、例えば、冷却用流体として水などの液体を使用
する場合と比較して、その後の冷却用流体の処理がきわ
めて容易で、特に冷却用流体として空気を使用する場合
には、そのまま大気中へ放出することもできて後処理が
不要となる。
【００１２】請求項４の発明の特徴構成は、図２〜図６
に例示するごとく、ガラスパネルＰにおける間隙部Ｖ内
の気体を吸着するために、前記ガラスパネルＰに配設さ
れたゲッターＧを局部的に加熱して活性化する加熱手段
１０を備えたガラスパネルのゲッター加熱装置であっ
て、そのゲッター加熱装置８が、前記加熱手段１０によ
るゲッターＧの加熱に伴って昇温するガラスパネルＰの
昇温部分を、そのガラスパネルＰの外表面側から積極的
に冷却する冷却手段１４を備えているところにある。
に例示するごとく、ガラスパネルＰにおける間隙部Ｖ内
の気体を吸着するために、前記ガラスパネルＰに配設さ
れたゲッターＧを局部的に加熱して活性化する加熱手段
１０を備えたガラスパネルのゲッター加熱装置であっ
て、そのゲッター加熱装置８が、前記加熱手段１０によ
るゲッターＧの加熱に伴って昇温するガラスパネルＰの
昇温部分を、そのガラスパネルＰの外表面側から積極的
に冷却する冷却手段１４を備えているところにある。
【００１３】請求項４の発明の特徴構成によれば、ガラ
スパネルに配設されたゲッターを局部的に加熱して活性
化する加熱手段を備えたガラスパネルのゲッター加熱装
置であって、そのゲッター加熱装置が、加熱手段による
ゲッターの加熱に伴って昇温するガラスパネルの昇温部
分を、そのガラスパネルの外表面側から積極的に冷却す
る冷却手段を備えているので、加熱手段によりゲッター
を局部加熱することによって加熱効率の向上を図ること
ができるとともに、局部加熱により昇温するガラスパネ
ルの昇温部分を外表面側から冷却手段により積極的に冷
却しながら、加熱手段により局部加熱を実行することに
なり、ゲッターの局部加熱に伴う温度差の発生を抑制す
ることができる。したがって、その温度差に起因する熱
応力の発生、さらには、熱応力に起因する引張り応力の
発生を抑制することができ、ガラスパネルにおいてゲッ
ターを局部的に加熱して活性化するにもかかわらず、ガ
ラスパネルにおける損傷やクラックの発生を抑制するこ
とができる。
スパネルに配設されたゲッターを局部的に加熱して活性
化する加熱手段を備えたガラスパネルのゲッター加熱装
置であって、そのゲッター加熱装置が、加熱手段による
ゲッターの加熱に伴って昇温するガラスパネルの昇温部
分を、そのガラスパネルの外表面側から積極的に冷却す
る冷却手段を備えているので、加熱手段によりゲッター
を局部加熱することによって加熱効率の向上を図ること
ができるとともに、局部加熱により昇温するガラスパネ
ルの昇温部分を外表面側から冷却手段により積極的に冷
却しながら、加熱手段により局部加熱を実行することに
なり、ゲッターの局部加熱に伴う温度差の発生を抑制す
ることができる。したがって、その温度差に起因する熱
応力の発生、さらには、熱応力に起因する引張り応力の
発生を抑制することができ、ガラスパネルにおいてゲッ
ターを局部的に加熱して活性化するにもかかわらず、ガ
ラスパネルにおける損傷やクラックの発生を抑制するこ
とができる。
【００１４】請求項５の発明の特徴構成は、図２〜図６
に例示するごとく、ゲッター加熱装置であって、前記冷
却手段１４が、前記ガラスパネルＰの昇温部分の外表面
に冷却用流体Ａを吹き付けるノズル１１と、そのノズル
１１に冷却用流体Ａを供給する流体供給手段１２により
構成されているところにある。
に例示するごとく、ゲッター加熱装置であって、前記冷
却手段１４が、前記ガラスパネルＰの昇温部分の外表面
に冷却用流体Ａを吹き付けるノズル１１と、そのノズル
１１に冷却用流体Ａを供給する流体供給手段１２により
構成されているところにある。
【００１５】請求項５の発明の特徴構成によれば、上述
したゲッター加熱装置であって、冷却手段が、ガラスパ
ネルの昇温部分の外表面に冷却用流体を吹き付けるノズ
ルと、そのノズルに冷却用流体を供給する流体供給手段
により構成されているので、ノズルと流体供給手段など
からなる比較的簡単な装置で必要な冷却作用を期待する
ことができ、装置の簡略化と低廉化を図ることができ、
しかも、冷却用流体は、ガラスパネルの外表面に沿って
流れるため、昇温部分を含む外表面を効率良く冷却する
ことができる。
したゲッター加熱装置であって、冷却手段が、ガラスパ
ネルの昇温部分の外表面に冷却用流体を吹き付けるノズ
ルと、そのノズルに冷却用流体を供給する流体供給手段
により構成されているので、ノズルと流体供給手段など
からなる比較的簡単な装置で必要な冷却作用を期待する
ことができ、装置の簡略化と低廉化を図ることができ、
しかも、冷却用流体は、ガラスパネルの外表面に沿って
流れるため、昇温部分を含む外表面を効率良く冷却する
ことができる。
【００１６】請求項６の発明の特徴構成は、図２〜図６
に例示するごとく、ゲッター加熱装置であって、前記冷
却用流体Ａが気体であるところにある。
に例示するごとく、ゲッター加熱装置であって、前記冷
却用流体Ａが気体であるところにある。
【００１７】請求項６の発明の特徴構成によれば、上述
したゲッター加熱装置であって、冷却用流体が気体であ
るから、例えば、冷却用流体として水などの液体を使用
する場合と比較して、流体供給手段などの装置類が簡略
となり、かつ、その後の冷却用流体の処理も容易で、特
に冷却用流体として空気を使用する場合には、そのまま
大気中へ放出することもできて後処理が不要となり、さ
らに装置類の簡略化を図ることができる。
したゲッター加熱装置であって、冷却用流体が気体であ
るから、例えば、冷却用流体として水などの液体を使用
する場合と比較して、流体供給手段などの装置類が簡略
となり、かつ、その後の冷却用流体の処理も容易で、特
に冷却用流体として空気を使用する場合には、そのまま
大気中へ放出することもできて後処理が不要となり、さ
らに装置類の簡略化を図ることができる。
【００１８】請求項７の発明の特徴構成は、図２〜図６
に例示するごとく、ゲッター加熱装置であって、前記加
熱手段１０が、前記ガラスパネルＰの外側から加熱用の
光束Ｌを照射して加熱する照射式加熱手段であるところ
にある。
に例示するごとく、ゲッター加熱装置であって、前記加
熱手段１０が、前記ガラスパネルＰの外側から加熱用の
光束Ｌを照射して加熱する照射式加熱手段であるところ
にある。
【００１９】請求項７の発明の特徴構成によれば、上述
したゲッター加熱装置であって、加熱手段が、ガラスパ
ネルの外側から加熱用の光束を照射して加熱する照射式
加熱手段であるから、他の加熱手段と比較して優れた効
果が期待できる。例えば、ヒータ付きのゲッターを使用
したり、ゲッターに直接電流を流して加熱する場合に
は、加熱用給電線の取り扱いが煩雑となり、かつ、その
加熱用給電線をガラスパネルの外側にまで延出させて配
線する必要があるため、配線による気密不良が発生しや
すい欠点があり、また、高周波誘導コイルを使用してゲ
ッター内部に誘導電流を発生させて加熱する場合には、
金属製の網入り板ガラスによりガラスパネルを構成する
と、金属製の網も同時に加熱されて板ガラスにクラック
が入るおそれがあるため、網入り板ガラスを使用できな
いという制約を受ける。それに対し、照射式加熱手段で
あれば、ガラスパネルに対して給電線などを配線する必
要がなく取り扱いも容易で、使用する板ガラスに関して
も、照射側の板ガラスさえ透明な板ガラスであれば、他
方の板ガラスについては網入り板ガラスやスリガラスを
使用することも可能となり、しかも、照射式加熱手段か
らの加熱用の光束によってゲッターを効率良く局部加熱
することができる。
したゲッター加熱装置であって、加熱手段が、ガラスパ
ネルの外側から加熱用の光束を照射して加熱する照射式
加熱手段であるから、他の加熱手段と比較して優れた効
果が期待できる。例えば、ヒータ付きのゲッターを使用
したり、ゲッターに直接電流を流して加熱する場合に
は、加熱用給電線の取り扱いが煩雑となり、かつ、その
加熱用給電線をガラスパネルの外側にまで延出させて配
線する必要があるため、配線による気密不良が発生しや
すい欠点があり、また、高周波誘導コイルを使用してゲ
ッター内部に誘導電流を発生させて加熱する場合には、
金属製の網入り板ガラスによりガラスパネルを構成する
と、金属製の網も同時に加熱されて板ガラスにクラック
が入るおそれがあるため、網入り板ガラスを使用できな
いという制約を受ける。それに対し、照射式加熱手段で
あれば、ガラスパネルに対して給電線などを配線する必
要がなく取り扱いも容易で、使用する板ガラスに関して
も、照射側の板ガラスさえ透明な板ガラスであれば、他
方の板ガラスについては網入り板ガラスやスリガラスを
使用することも可能となり、しかも、照射式加熱手段か
らの加熱用の光束によってゲッターを効率良く局部加熱
することができる。
【００２０】なお、上述のように、図面との対照を便利
にするために符号を記したが、該記入により本発明は添
付図面の構成に限定されるものではない。
にするために符号を記したが、該記入により本発明は添
付図面の構成に限定されるものではない。
【００２１】
【発明の実施の形態】本発明によるガラスパネルのゲッ
ター加熱方法とその加熱装置につき、その実施の形態を
図面に基づいて説明する。ゲッター加熱装置の使用対象
となるガラスパネルとしては、例えば、真空複層ガラス
があり、真空複層ガラスＰは、図１に示すように、一対
の透明な板ガラス１，２において、両板ガラス１，２の
面が、その間にステンレス鋼（ＳＵＳ３０４）やインコ
ネル７１８などからなる多数のスペーサ３を介在させ、
それによって、両板ガラス１，２の間に間隙部Ｖを有す
る状態で互いに対向するように配置され、両板ガラス
１，２の周縁部が、両板ガラス１，２よりも溶融温度が
低く、かつ、気体透過度の低い低融点ガラス４で接合さ
れ、両板ガラス１，２の間隙部Ｖが、減圧状態で密閉さ
れて構成されている。
ター加熱方法とその加熱装置につき、その実施の形態を
図面に基づいて説明する。ゲッター加熱装置の使用対象
となるガラスパネルとしては、例えば、真空複層ガラス
があり、真空複層ガラスＰは、図１に示すように、一対
の透明な板ガラス１，２において、両板ガラス１，２の
面が、その間にステンレス鋼（ＳＵＳ３０４）やインコ
ネル７１８などからなる多数のスペーサ３を介在させ、
それによって、両板ガラス１，２の間に間隙部Ｖを有す
る状態で互いに対向するように配置され、両板ガラス
１，２の周縁部が、両板ガラス１，２よりも溶融温度が
低く、かつ、気体透過度の低い低融点ガラス４で接合さ
れ、両板ガラス１，２の間隙部Ｖが、減圧状態で密閉さ
れて構成されている。
【００２２】両板ガラス１，２の間隙部Ｖは、１．３３
Ｐａ（１．０×１０-2Ｔｏｒｒ）以下に減圧され、一方
の板ガラス１には、間隙部Ｖ内の気体を排気して減圧す
るため、図２に示すように、断面が円形の減圧用の吸引
孔５が穿設されている。この吸引孔５は、円柱形状のゲ
ッターＧを収納するためのゲッター収納空間を兼用する
もので、吸引孔５内にゲッターＧが収納されて配設さ
れ、吸引孔５の開口に透明な板ガラスからなる蓋体６が
位置されて、その蓋体６が、上述の低融点ガラス４より
も融点が高くて、蓋体６や板ガラス１よりも融点の低い
低融点ガラス７によって板ガラス１に接着固定されて、
吸引孔５の開口が密閉状態で封止されている。
Ｐａ（１．０×１０-2Ｔｏｒｒ）以下に減圧され、一方
の板ガラス１には、間隙部Ｖ内の気体を排気して減圧す
るため、図２に示すように、断面が円形の減圧用の吸引
孔５が穿設されている。この吸引孔５は、円柱形状のゲ
ッターＧを収納するためのゲッター収納空間を兼用する
もので、吸引孔５内にゲッターＧが収納されて配設さ
れ、吸引孔５の開口に透明な板ガラスからなる蓋体６が
位置されて、その蓋体６が、上述の低融点ガラス４より
も融点が高くて、蓋体６や板ガラス１よりも融点の低い
低融点ガラス７によって板ガラス１に接着固定されて、
吸引孔５の開口が密閉状態で封止されている。
【００２３】このような真空複層ガラスＰにおいて、ゲ
ッターＧを加熱するのに使用されるゲッター加熱装置８
は、図２に示すように、板ガラス１の上面に載置可能な
装置本体９を備え、その装置本体９には、ゲッターＧを
局部的に加熱して活性化するための照射式加熱手段１０
が設けられている。この実施形態において、照射式加熱
手段１０は、レーザ発生装置あるいは各種のランプなど
であり、ゲッター加熱用の光束Ｌを照射して真空複層ガ
ラスＰに配設されたゲッターＧを局部的に加熱するよう
に構成されている。さらに、ゲッター加熱装置８の装置
本体９には、真空複層ガラスＰを構成する板ガラス１や
蓋体６の外表面に対して、その外表面側から冷却用流体
の一例である空気Ａを吹き付けて冷却するためのノズル
１１が設けられ、そのノズル１１には、冷却用の空気Ａ
を供給するための流体供給手段の一例であるファン１２
がフレキシブルパイプ１３を介して接続されて、これら
ノズル１１やファン１２などにより、真空複層ガラスＰ
の昇温部分を局部的に冷却する冷却手段１４が構成され
ている。
ッターＧを加熱するのに使用されるゲッター加熱装置８
は、図２に示すように、板ガラス１の上面に載置可能な
装置本体９を備え、その装置本体９には、ゲッターＧを
局部的に加熱して活性化するための照射式加熱手段１０
が設けられている。この実施形態において、照射式加熱
手段１０は、レーザ発生装置あるいは各種のランプなど
であり、ゲッター加熱用の光束Ｌを照射して真空複層ガ
ラスＰに配設されたゲッターＧを局部的に加熱するよう
に構成されている。さらに、ゲッター加熱装置８の装置
本体９には、真空複層ガラスＰを構成する板ガラス１や
蓋体６の外表面に対して、その外表面側から冷却用流体
の一例である空気Ａを吹き付けて冷却するためのノズル
１１が設けられ、そのノズル１１には、冷却用の空気Ａ
を供給するための流体供給手段の一例であるファン１２
がフレキシブルパイプ１３を介して接続されて、これら
ノズル１１やファン１２などにより、真空複層ガラスＰ
の昇温部分を局部的に冷却する冷却手段１４が構成され
ている。
【００２４】真空複層ガラスＰは、両板ガラス１，２の
間に所定の間隔で多数のスペーサ３を介在させ、かつ、
両板ガラス１，２の周縁部にペースト状の低融点ガラス
４を介在させた状態で、加熱炉内において焼成すること
により、溶融した低融点ガラス４によって両板ガラス
１，２の周縁部が接合される。その後、板ガラス１の吸
引孔５内にゲッターＧを収納した状態で、減圧加熱装置
を使用して間隙部Ｖを加熱しながら吸引孔５から間隙部
Ｖ内の気体を吸引排気するベーキング処理を実行し、さ
らに、間隙部Ｖ内を１．３３Ｐａ以下にまで減圧すると
ともに、低融点ガラス７を加熱して溶融させ、蓋体６を
板ガラス１に接着して真空複層ガラスＰを製造する。
間に所定の間隔で多数のスペーサ３を介在させ、かつ、
両板ガラス１，２の周縁部にペースト状の低融点ガラス
４を介在させた状態で、加熱炉内において焼成すること
により、溶融した低融点ガラス４によって両板ガラス
１，２の周縁部が接合される。その後、板ガラス１の吸
引孔５内にゲッターＧを収納した状態で、減圧加熱装置
を使用して間隙部Ｖを加熱しながら吸引孔５から間隙部
Ｖ内の気体を吸引排気するベーキング処理を実行し、さ
らに、間隙部Ｖ内を１．３３Ｐａ以下にまで減圧すると
ともに、低融点ガラス７を加熱して溶融させ、蓋体６を
板ガラス１に接着して真空複層ガラスＰを製造する。
【００２５】そのようにして製造された真空複層ガラス
Ｐにおいて、吸引孔５内のゲッターＧを加熱して活性化
するには、図２に示すように、蓋体６側を上にして板ガ
ラス１上にゲッター加熱装置８を載置する。その際、照
射式加熱手段１０が、ゲッターＧの真上に位置するよう
に載置し、その照射式加熱手段１０から光束Ｌを照射し
て、ゲッターＧを局部的に加熱する。例えば、板ガラス
１，２が３ｍｍ、吸引孔５の直径が１２ｍｍの場合であ
れば、直径が１０ｍｍで高さが２ｍｍの円柱状のゲッタ
ーＧを挿入し、直径が２０ｍｍで厚さが１ｍｍの蓋体６
により閉鎖し、直径８ｍｍ程度の光束Ｌを照射すること
になり、蓋体６とゲッターＧとは、その中央部が８ｍｍ
の直径の範囲内において局部的に加熱される。
Ｐにおいて、吸引孔５内のゲッターＧを加熱して活性化
するには、図２に示すように、蓋体６側を上にして板ガ
ラス１上にゲッター加熱装置８を載置する。その際、照
射式加熱手段１０が、ゲッターＧの真上に位置するよう
に載置し、その照射式加熱手段１０から光束Ｌを照射し
て、ゲッターＧを局部的に加熱する。例えば、板ガラス
１，２が３ｍｍ、吸引孔５の直径が１２ｍｍの場合であ
れば、直径が１０ｍｍで高さが２ｍｍの円柱状のゲッタ
ーＧを挿入し、直径が２０ｍｍで厚さが１ｍｍの蓋体６
により閉鎖し、直径８ｍｍ程度の光束Ｌを照射すること
になり、蓋体６とゲッターＧとは、その中央部が８ｍｍ
の直径の範囲内において局部的に加熱される。
【００２６】ゲッターＧは熱伝導性が良いため、短時間
のうちに全体が加熱されて活性化され、間隙部Ｖ内の気
体と接触して、その気体に含まれる水分、ＣＯ、Ｃ
Ｏ2、Ｎ2、Ｈ2、Ｏ2などのガス、つまり、酸化ガス、硫
化ガス、炭化ガス、有機ガスなどの各種のガスを吸着し
て除去する。それに対し、蓋体６はガラス製で熱伝導性
が悪いため、その中央部のみが局部的に加熱されるだけ
で、周縁部は短時間のうちに加熱されず、したがって、
蓋体６を接着している低融点ガラス７が再溶融されるこ
とはない。その反面、蓋体６の局部加熱により、蓋体６
に熱応力が発生するおそれがあるが、照射式加熱手段１
０からの光束Ｌの照射と相前後して、冷却手段１４のノ
ズル１１から蓋体６に向けて冷却用空気Ａが吹き付けら
れて、蓋体６を含む昇温部分が冷却されるので、蓋体６
内における熱応力の発生が抑制される。
のうちに全体が加熱されて活性化され、間隙部Ｖ内の気
体と接触して、その気体に含まれる水分、ＣＯ、Ｃ
Ｏ2、Ｎ2、Ｈ2、Ｏ2などのガス、つまり、酸化ガス、硫
化ガス、炭化ガス、有機ガスなどの各種のガスを吸着し
て除去する。それに対し、蓋体６はガラス製で熱伝導性
が悪いため、その中央部のみが局部的に加熱されるだけ
で、周縁部は短時間のうちに加熱されず、したがって、
蓋体６を接着している低融点ガラス７が再溶融されるこ
とはない。その反面、蓋体６の局部加熱により、蓋体６
に熱応力が発生するおそれがあるが、照射式加熱手段１
０からの光束Ｌの照射と相前後して、冷却手段１４のノ
ズル１１から蓋体６に向けて冷却用空気Ａが吹き付けら
れて、蓋体６を含む昇温部分が冷却されるので、蓋体６
内における熱応力の発生が抑制される。
【００２７】また、同じゲッター加熱装置８を用いて、
図３に示すように、真空複層ガラスＰの裏側からゲッタ
ーＧを加熱することもできる。その場合には、ゲッター
Ｇの加熱と同時に、上方に位置する板ガラス２も局部的
に加熱されるが、ノズル１１から吹き付けられる冷却用
空気Ａにより板ガラス２の昇温部分が冷却されて、板ガ
ラス２内における熱応力の発生が抑制される。さらに、
必要な場合には、図３において仮想線で示すように、真
空複層ガラスＰの下方にも別のノズル１１を配置して、
冷却用空気Ａにより下方に位置する蓋体６も同時に冷却
するように構成することができる。
図３に示すように、真空複層ガラスＰの裏側からゲッタ
ーＧを加熱することもできる。その場合には、ゲッター
Ｇの加熱と同時に、上方に位置する板ガラス２も局部的
に加熱されるが、ノズル１１から吹き付けられる冷却用
空気Ａにより板ガラス２の昇温部分が冷却されて、板ガ
ラス２内における熱応力の発生が抑制される。さらに、
必要な場合には、図３において仮想線で示すように、真
空複層ガラスＰの下方にも別のノズル１１を配置して、
冷却用空気Ａにより下方に位置する蓋体６も同時に冷却
するように構成することができる。
【００２８】以上、減圧用の吸引孔５内に収納したゲッ
ターＧを加熱する場合について説明したが、ゲッターＧ
の収納に関しては種々の構成があり、いかなる構成であ
っても適用可能である。例えば、図４に示すように、両
板ガラス１，２のうち、一方の板ガラス１にのみ専用の
ゲッター収納空間１５が設けられている場合、あるい
は、図５に示すように、両板ガラス１，２にわたって専
用のゲッター収納空間１６が設けられている場合には、
いずれか一方の板ガラス１，２の上面にゲッター加熱装
置８を載置し、ノズル１１からの冷却用空気Ａで板ガラ
ス１，２の外表面を冷却しながら、ゲッターＧを加熱に
より活性化して間隙部Ｖ内の各種ガスを吸着して除去す
る。
ターＧを加熱する場合について説明したが、ゲッターＧ
の収納に関しては種々の構成があり、いかなる構成であ
っても適用可能である。例えば、図４に示すように、両
板ガラス１，２のうち、一方の板ガラス１にのみ専用の
ゲッター収納空間１５が設けられている場合、あるい
は、図５に示すように、両板ガラス１，２にわたって専
用のゲッター収納空間１６が設けられている場合には、
いずれか一方の板ガラス１，２の上面にゲッター加熱装
置８を載置し、ノズル１１からの冷却用空気Ａで板ガラ
ス１，２の外表面を冷却しながら、ゲッターＧを加熱に
より活性化して間隙部Ｖ内の各種ガスを吸着して除去す
る。
【００２９】さらに、多量のゲッターＧを必要とする場
合には、図６に示すように、板ガラス１と蓋体６との間
に円環状のガラス製スペーサ１７を介在させて低融点ガ
ラス７により接着し、板ガラス１とガラス製スペーサ１
７とにわたって設けられたゲッター収納空間１８にゲッ
ターＧを収納し、ノズル１１からの冷却用空気Ａで蓋体
６などを冷却しながらゲッターＧを加熱することにな
る。なお、図４〜図６に示した実施形態、さらには、図
２に示した実施形態においても、図３に示したように、
真空複層ガラスＰの下方にも別のノズル１１を配置し
て、真空複層ガラスＰの下方も同時に冷却するように構
成することができる。その他、図示はしないが、板ガラ
ス１に穿設した減圧用の吸引孔にガラス管を連通接続
し、そのガラス管内にゲッターＧを収納した構成の真空
複層ガラスＰにおいても適用可能である。
合には、図６に示すように、板ガラス１と蓋体６との間
に円環状のガラス製スペーサ１７を介在させて低融点ガ
ラス７により接着し、板ガラス１とガラス製スペーサ１
７とにわたって設けられたゲッター収納空間１８にゲッ
ターＧを収納し、ノズル１１からの冷却用空気Ａで蓋体
６などを冷却しながらゲッターＧを加熱することにな
る。なお、図４〜図６に示した実施形態、さらには、図
２に示した実施形態においても、図３に示したように、
真空複層ガラスＰの下方にも別のノズル１１を配置し
て、真空複層ガラスＰの下方も同時に冷却するように構
成することができる。その他、図示はしないが、板ガラ
ス１に穿設した減圧用の吸引孔にガラス管を連通接続
し、そのガラス管内にゲッターＧを収納した構成の真空
複層ガラスＰにおいても適用可能である。
【００３０】〔別実施形態〕
（１）先の実施形態では、ゲッターＧを加熱する加熱手
段１０の一例として照射式加熱手段を示したが、照射式
加熱手段に代えて、各種の加熱手段を使用することがで
きる。例えば、高周波誘導コイルにより磁界を発生さ
せ、ゲッターＧの内部に誘導電流を発生させて加熱した
り、ヒータ付きのゲッターＧを使用してそのヒータによ
り加熱することもでき、また、ゲッターＧに直接電流を
流して加熱することもできる。
段１０の一例として照射式加熱手段を示したが、照射式
加熱手段に代えて、各種の加熱手段を使用することがで
きる。例えば、高周波誘導コイルにより磁界を発生さ
せ、ゲッターＧの内部に誘導電流を発生させて加熱した
り、ヒータ付きのゲッターＧを使用してそのヒータによ
り加熱することもでき、また、ゲッターＧに直接電流を
流して加熱することもできる。
【００３１】（２）先の実施形態では、真空複層ガラス
Ｐの昇温部分を冷却する冷却用流体Ａの一例として空気
を示したが、空気以外の各種の気体は勿論のこと、水な
どのような液体を使用して真空複層ガラスＰの昇温部分
を冷却するように構成することもできる。また、流体供
給手段１２の一例としてファンを示したが、コンプレッ
サやポンプをはじめとして、例えば、冷却用の流体を収
納するボンベを使用し、そのボンベから冷却用の流体を
供給するように構成することもできる。
Ｐの昇温部分を冷却する冷却用流体Ａの一例として空気
を示したが、空気以外の各種の気体は勿論のこと、水な
どのような液体を使用して真空複層ガラスＰの昇温部分
を冷却するように構成することもできる。また、流体供
給手段１２の一例としてファンを示したが、コンプレッ
サやポンプをはじめとして、例えば、冷却用の流体を収
納するボンベを使用し、そのボンベから冷却用の流体を
供給するように構成することもできる。
【００３２】（３）先の実施形態では、ガラスパネルＰ
の一例として真空複層ガラスを示したが、両板ガラス
１，２の間隙部Ｖに放電ガスを封入したプラズマディス
プレイパネルなどにおいて、その間隙部Ｖから不必要な
ガスを吸着して除去する場合にも適用することができ
る。
の一例として真空複層ガラスを示したが、両板ガラス
１，２の間隙部Ｖに放電ガスを封入したプラズマディス
プレイパネルなどにおいて、その間隙部Ｖから不必要な
ガスを吸着して除去する場合にも適用することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】真空複層ガラスの一部切欠き斜視図
【図２】ゲッター加熱装置によるゲッター加熱状態を示
す断面図
す断面図
【図３】別の実施形態におけるゲッター加熱状態を示す
断面図
断面図
【図４】別の実施形態におけるゲッター加熱状態を示す
断面図
断面図
【図５】別の実施形態におけるゲッター加熱状態を示す
断面図
断面図
【図６】別の実施形態におけるゲッター加熱状態を示す
断面図
断面図
【符号の説明】
８ ゲッター加熱装置
１０ 加熱手段の一例である照射式加熱手段
１１ ノズル
１２ 流体供給手段
１４ 冷却手段
Ａ 冷却用流体
Ｇ ゲッター
Ｌ 加熱用の光束
Ｐ ガラスパネル
Ｖ 間隙部
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 4G061 AA11 AA23 BA01 CA02 CB02
CB06 CD02 CD23 CD25 DA26
DA43 DA51 DA61 DA67
Claims (7)
- 【請求項１】 複層ガラスにおける間隙部内の気体を吸
着するために、前記複層ガラスに配設されたゲッターを
加熱手段により局部的に加熱して活性化する複層ガラス
のゲッター加熱方法であって、 前記ゲッターの加熱に伴って昇温する複層ガラスの昇温
部分を、その複層ガラスの外表面側から積極的に冷却し
ながら、前記加熱手段により前記ゲッターを加熱する複
層ガラスのゲッター加熱方法。 - 【請求項２】 前記複層ガラスの昇温部分の外表面に冷
却用流体を吹き付けて冷却する請求項１に記載の複層ガ
ラスのゲッター加熱方法。 - 【請求項３】 前記冷却用流体が気体である請求項２に
記載の複層ガラスのゲッター加熱方法。 - 【請求項４】 複層ガラスにおける間隙部内の気体を吸
着するために、前記複層ガラスに配設されたゲッターを
局部的に加熱して活性化する加熱手段を備えた複層ガラ
スのゲッター加熱装置であって、 そのゲッター加熱装置が、前記加熱手段によるゲッター
の加熱に伴って昇温する複層ガラスの昇温部分を、その
複層ガラスの外表面側から積極的に冷却する冷却手段を
備えている複層ガラスのゲッター加熱装置。 - 【請求項５】 前記冷却手段が、前記複層ガラスの昇温
部分の外表面に冷却用流体を吹き付けるノズルと、その
ノズルに冷却用流体を供給する流体供給手段により構成
されている請求項４に記載の複層ガラスのゲッター加熱
装置。 - 【請求項６】 前記冷却用流体が気体である請求項５に
記載の複層ガラスのゲッター加熱装置。 - 【請求項７】 前記加熱手段が、前記複層ガラスの外側
から加熱用の光束を照射して加熱する照射式加熱手段で
ある請求項４〜６のいずれか１項に記載の複層ガラスの
ゲッター加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002016402A JP2003212610A (ja) | 2002-01-25 | 2002-01-25 | ガラスパネルのゲッター加熱方法とその加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002016402A JP2003212610A (ja) | 2002-01-25 | 2002-01-25 | ガラスパネルのゲッター加熱方法とその加熱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003212610A true JP2003212610A (ja) | 2003-07-30 |
Family
ID=27652478
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002016402A Pending JP2003212610A (ja) | 2002-01-25 | 2002-01-25 | ガラスパネルのゲッター加熱方法とその加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003212610A (ja) |
Cited By (9)
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|---|---|---|---|---|
| KR101364457B1 (ko) * | 2006-03-03 | 2014-02-19 | 사에스 게터스 에스.페.아. | 유리 부분상에 게터 물질 층을 형성시키는 방법 |
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| KR20150039778A (ko) * | 2012-07-31 | 2015-04-13 | 가디언 인더스트리즈 코퍼레이션. | 활성 게터를 포함한 진공 단열 유리(vig) 윈도우 유닛의 제조방법 |
| KR20150052267A (ko) * | 2012-09-07 | 2015-05-13 | 가디언 인더스트리즈 코퍼레이션. | 두꺼운 단열 유리 윈도우 유닛을 수용하도록 설계된 윈도우 프레임 내에 진공 단열 유리 윈도우 유닛을 설치하기 위한 스페이서 시스템 |
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| WO2019208003A1 (ja) | 2018-04-26 | 2019-10-31 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | ガラスパネルユニット、及びガラスパネルユニットの製造方法 |
| WO2020026624A1 (ja) | 2018-07-31 | 2020-02-06 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | ガラスパネルユニットの製造方法 |
-
2002
- 2002-01-25 JP JP2002016402A patent/JP2003212610A/ja active Pending
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| KR20150038069A (ko) * | 2012-07-31 | 2015-04-08 | 가디언 인더스트리즈 코퍼레이션. | 게터 구조체를 포함한 진공 단열 유리(vig) 윈도우 유닛 및 그 제조방법 |
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| KR102110920B1 (ko) * | 2012-07-31 | 2020-05-14 | 가디언 인더스트리즈, 엘엘씨 | 활성 게터를 포함한 진공 단열 유리(vig) 윈도우 유닛의 제조방법 |
| KR102120087B1 (ko) * | 2012-09-07 | 2020-06-08 | 가디언 인더스트리즈, 엘엘씨 | 두꺼운 단열 유리 윈도우 유닛을 수용하도록 설계된 윈도우 프레임 내에 진공 단열 유리 윈도우 유닛을 설치하기 위한 스페이서 시스템 |
| KR20150052267A (ko) * | 2012-09-07 | 2015-05-13 | 가디언 인더스트리즈 코퍼레이션. | 두꺼운 단열 유리 윈도우 유닛을 수용하도록 설계된 윈도우 프레임 내에 진공 단열 유리 윈도우 유닛을 설치하기 위한 스페이서 시스템 |
| JPWO2016017709A1 (ja) * | 2014-07-30 | 2017-06-01 | 旭硝子株式会社 | 真空複層ガラスの製造方法、および真空複層ガラス |
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