WO2020026624A1 - ガラスパネルユニットの製造方法 - Google Patents

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WO2020026624A1
WO2020026624A1 PCT/JP2019/024182 JP2019024182W WO2020026624A1 WO 2020026624 A1 WO2020026624 A1 WO 2020026624A1 JP 2019024182 W JP2019024182 W JP 2019024182W WO 2020026624 A1 WO2020026624 A1 WO 2020026624A1
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WO
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glass plate
glass
panel unit
exhaust port
glass panel
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PCT/JP2019/024182
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阿部　裕之
瓜生　英一
長谷川　和也
将 石橋
野中　正貴
清水　丈司
治彦 石川
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パナソニックＩｐマネジメント株式会社
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    • Y02B80/22—Glazing, e.g. vaccum glazing

Definitions

  • the present disclosure relates to a method for manufacturing a glass panel unit. More specifically, the present disclosure relates to a method for manufacturing a glass panel unit suitable for a window or the like.
  • Patent Document 1 discloses a method for producing a vacuum double glazing.
  • a paste-like low-melting glass first low-melting glass
  • first and second glass sheets are interposed between the peripheral edges of two glass sheets (first and second glass sheets).
  • first and second glass sheets are joined by melting the first low-melting glass in a firing furnace.
  • the internal space is evacuated from the suction hole while heating the gap (internal space) between the first and second glass sheets with a reduced pressure heating device. I have.
  • the low-melting glass (second low-melting glass) interposed between the lid and the first glass sheet is melted, and the lid is adhered to the first glass sheet, whereby suction is performed.
  • the hole is closed. After closing the suction holes, the getter is locally heated and activated to obtain a vacuum insulated glass.
  • Patent Document 1 since the suction hole is closed while heating the internal space, at least gas derived from components in the first low-melting glass is easily released into the internal space during heating. That is, even immediately after the suction hole is closed, gas is easily released from at least the first low melting point glass into the depressurized internal space (vacuum space). For this reason, even if the getter is activated, gas is likely to remain in the vacuum space.
  • An object of the present disclosure is to provide a method of manufacturing a glass panel unit that makes it difficult for gas to remain in a vacuum space.
  • a method of manufacturing a glass panel unit includes an assembling step, a joining step, an exhausting step, a sealing step, and an activating step.
  • the assembling step is a step of preparing an assembled product.
  • the assembly includes a first glass plate, a second glass plate, a peripheral wall, an internal space, a gas adsorber, and an exhaust port.
  • the second glass plate faces the first glass plate.
  • the peripheral wall is between the first glass plate and the second glass plate.
  • the peripheral wall has a frame shape.
  • the internal space is surrounded by the first glass plate, the second glass plate, and the peripheral wall.
  • the gas adsorber is disposed in the internal space.
  • the exhaust port connects the internal space and the external space.
  • the joining step is a step in which the peripheral wall is melted in a firing furnace at a first predetermined temperature, and the first glass sheet and the second glass sheet are hermetically joined with the peripheral wall after the melting.
  • the evacuation step is a step of evacuation of the internal space through the evacuation port in the firing furnace to form a vacuum space.
  • the inside of the firing furnace is maintained at a second predetermined temperature equal to or lower than the first predetermined temperature.
  • the sealing step includes melting the hole sealing material inserted into the exhaust port or the exhaust pipe connected to the exhaust port by locally heating the exhaust pipe at a temperature higher than the second predetermined temperature. This is a step of sealing. In the sealing step, a work-in-progress is obtained.
  • the activation step is a step of activating the gas adsorbent after the sealing step. In the activation step, a glass panel unit is obtained.
  • FIG. 1 is a perspective view of a glass panel unit according to one embodiment.
  • FIG. 2 is a front view of the glass panel unit.
  • FIG. 3 is a sectional view taken along line AA in FIG.
  • FIG. 4 is a perspective view of a work in progress of the glass panel unit according to the embodiment.
  • FIG. 5 is a front view of an assembly of the glass panel unit according to the embodiment.
  • FIG. 6 is a schematic sectional view taken along the line BB of FIG.
  • FIG. 7 is an explanatory diagram of the method for manufacturing the glass panel unit according to the embodiment.
  • FIG. 8 is an explanatory diagram of the manufacturing method.
  • FIG. 9 is an explanatory diagram of the manufacturing method.
  • FIG. 10 is an explanatory diagram of the manufacturing method.
  • FIG. 1 is a perspective view of a glass panel unit according to one embodiment.
  • FIG. 2 is a front view of the glass panel unit.
  • FIG. 3 is a sectional view taken along line AA in FIG.
  • FIG. 11 is an explanatory diagram of the manufacturing method.
  • FIG. 12 is an explanatory diagram of the manufacturing method.
  • FIG. 13 is an explanatory diagram of the above manufacturing method.
  • FIG. 14 is an explanatory diagram of the manufacturing method.
  • FIG. 15 is an explanatory diagram of the manufacturing method.
  • FIG. 16 is an explanatory diagram of the above manufacturing method.
  • FIG. 17 is an explanatory diagram of the above manufacturing method.
  • FIG. 18 is a conceptual diagram illustrating a method for measuring thermal conductance according to the embodiment.
  • FIG. 19 is an explanatory diagram of a modified example of the above manufacturing method.
  • FIG. 20 is an explanatory diagram of a modification of the above manufacturing method.
  • FIGS. 1 to 3 show a glass panel unit (completed product of a glass panel unit) 100 according to an embodiment.
  • the glass panel unit 100 includes a first glass plate 1, a second glass plate 2, a frame 41, a vacuum space 52, a hole sealing material 42, an exhaust port 50, a weir member 47, and a plurality of spacers.
  • a (pillar) 43 and a gas adsorbent 44 are provided.
  • the second glass plate 2 faces the first glass plate 1.
  • the frame 41 is between the first glass plate 1 and the second glass plate 2.
  • the frame body 41 hermetically joins the first and second glass plates 1 and 2.
  • the vacuum space 52 is surrounded by the first glass plate 1, the second glass plate 2, and the frame 41.
  • the gas adsorbent 44 and the weir member 47 are inside the vacuum space 52.
  • the hole sealing material 42 is fixed by the dam member 47 and seals the exhaust port 50.
  • the glass panel unit 100 of the present embodiment is a so-called vacuum heat insulating glass unit.
  • the vacuum insulated glass unit is a type of a multi-layer glass panel including at least a pair of glass panels, and has a vacuum space between the pair of glass panels.
  • the glass panel unit 100 includes a pair of glass plates (first and second glass plates) 1 and 2, a frame 41, a hole sealing material 42, and a gas adsorbent 44. And. Further, the glass panel unit 100 has a space (vacuum space) 52 surrounded by the first and second glass plates 1 and 2 and the frame 41. Further, the glass panel unit 100 includes a plurality of pillars (spacers) 43 and a weir member 47 in the vacuum space 52.
  • the first and second glass plates 1 and 2 are both rectangular flat plates.
  • the first and second glass plates 1 and 2 have the same planar shape.
  • the first glass plate 1 includes the main body 15, the infrared reflection film 45, and the exhaust port 50.
  • the infrared reflection film 45 is in the vacuum space 52 and covers the main body 15.
  • the exhaust port 50 is sealed by the hole sealing material 42.
  • the infrared reflection film 45 is in contact with the main body 15.
  • the infrared reflecting film 45 has a light transmitting property, it is difficult to transmit infrared light. For this reason, the infrared reflective film 45 can improve the heat insulation of the glass panel unit 100.
  • the infrared reflection film 45 is, for example, a metal thin film.
  • the infrared reflection film 45 contains, for example, silver.
  • One example of the infrared reflection film 45 is a Low-E film.
  • the main body 15 has a rectangular flat shape so as to form the main shape of the first glass plate 1.
  • Examples of the material of the main body 15 include soda lime glass, high strain point glass, chemically strengthened glass, alkali-free glass, quartz glass, neoceram, and physically strengthened glass.
  • the main body 15 has the same shape as the second glass plate 2.
  • the second glass plate 2 has a concave portion 2a with a bottom.
  • the concave portion 2a is formed so as to be disposed in the vacuum space 52.
  • the recess 2 a is formed so as to be recessed toward the opposite side of the vacuum space 52 from the first glass plate 1.
  • Examples of the material of the second glass plate 2 include soda lime glass, high strain point glass, chemically strengthened glass, non-alkali glass, quartz glass, neoceram, and physically strengthened glass.
  • the frame body 41 is between the first glass plate 1 and the second glass plate 2, and hermetically joins the first glass plate 1 and the second glass plate 2.
  • a space surrounded by the first glass plate 1, the second glass plate 2, and the frame 41 is formed.
  • the space surrounded by the first glass plate 1, the second glass plate 2, and the frame 41 is a vacuum space 52.
  • the frame 41 is formed of a thermal adhesive (sealing material).
  • the frame 41 is a cured thermal adhesive.
  • the thermal adhesive contains a glass frit and a binder component.
  • the binder component may be a resin. In this case, the applicability of the sealing material can be improved in the sealing material disposing step described later.
  • the binder component is preferably a low-molecular-weight resin and a component that is easily decomposed by heating.
  • the binder component is not particularly limited.
  • the binder component include ethyl cellulose, an acrylic resin, and a butyral resin.
  • the glass frit include a low melting point glass frit.
  • One example of the low melting point glass frit is a V-Te-Ag glass frit.
  • the frame body 41 has a polygonal (square in this embodiment) frame shape similar to the first and second glass plates 1 and 2.
  • the frame 41 is formed along the outer periphery of the first and second glass plates 1 and 2.
  • the components in the thermal adhesive are not limited to the glass frit and the binder component, and may be, for example, a low-melting metal or a hot-melt adhesive.
  • the weir member 47 has an annular (for example, C-shaped) shape in which a part is cut away.
  • the weir member 47 is arranged along the periphery of the exhaust port 50 in a plan view. Thereby, the dam member 47 can fix the hole sealing material 42 in the space on the inner peripheral side. Therefore, the hole sealing material 42 can seal the exhaust port 50.
  • the dam member 47 is formed of the same material as the frame 41.
  • the gas adsorbent 44 is disposed in the recess 2a as shown in FIG.
  • the gas adsorber 44 is in contact with the bottom surface of the recess 2a.
  • the gas adsorber 44 is used to adsorb unnecessary gas (such as residual gas) in the vacuum space 52.
  • the unnecessary gas is, for example, a gas released from the thermal adhesive when the thermal adhesive forming the frame 41 is heated.
  • an unwanted gas is a hydrocarbon.
  • the gas adsorber 44 contains a metal getter material. Thereby, the gas adsorbent 44 can adsorb the gas in the vacuum space 52 by activating the gas adsorbent 44, so that the quality of the vacuum space 52 can be hardly reduced. For this reason, the heat insulation of the glass panel unit 100 can be hardly reduced.
  • the metal getter material is a non-evaporable getter material.
  • the metal getter material is a metal getter material having a metal surface capable of chemically adsorbing gas molecules.
  • the composition of the metal getter material even if the metal getter material is activated in the vacuum space, it is difficult for the residual gas in the vacuum space to be adsorbed by the metal getter material, and it is difficult to reduce the degree of vacuum in the vacuum space to a predetermined value or less. Tend. This is due to the fact that when heated in the atmosphere, the metal getter material adsorbs too much gas in the atmosphere and is deactivated.
  • the composition of the metal getter material examples include Zr 60% -V-Fe-Mn-Re and Zr 70% -V 24.6% -Fe 5.4%.
  • the metal getter material is activated at a temperature higher than the softening point of the glass plate (for example, 730 ° C.) when activated in a vacuum space, or longer at a temperature lower than the softening point of the glass plate. It is required to activate the metal getter material by heating for a time.
  • a desirable metal getter material in the present embodiment contains titanium, vanadium, and iron.
  • Such a metal getter material has a property of hardly being deactivated even when heated in the air. Specifically, even if the metal getter material has gas molecules adsorbed on the metal surface of the metal getter material, the gas molecules can be diffused into the metal getter material during activation.
  • the metal getter material may have gas molecules adsorbed (chemisorbed) on the metal surface before its activation.
  • the gas adsorber 44 contains a metal getter material
  • the metal getter material can adsorb gas existing in the vacuum space 52.
  • the gas in the vacuum space 52 include water vapor; nitrogen; oxygen; hydrogen; carbon oxides such as carbon dioxide and carbon monoxide; and hydrocarbons.
  • hydrocarbons are hardly adsorbed even by a metal getter material containing titanium, vanadium, and iron. For this reason, in the present embodiment, a gas such as a hydrocarbon is hardly left in the vacuum space 52 by a manufacturing method described later.
  • the metal getter material comprises 80-90 atm% titanium, 0-5 atm% aluminum, 0-10 atm% silicon, 10-15 atm% vanadium, and 5-15 atm% iron. contains.
  • the metal getter material comprises at least one non-evaporable getter alloy powder having a high adsorption to gases, in particular hydrogen, carbon oxides and nitrogen.
  • the alloy powder comprises titanium and silicon as constituent elements and at least one additional metal element selected from vanadium, iron and aluminum.
  • the range of each metal element is a. Titanium: 60-85 atomic percent b. Silicon: 1 to 20 atomic percent c. Vanadium, iron, and aluminum: can vary from 10 to 30 atomic percent in total.
  • the plurality of pillars 43 are arranged in the vacuum space 52.
  • the plurality of pillars 43 are used to maintain the interval between the first and second glass plates 1 and 2 at a predetermined interval. That is, the plurality of pillars 43 are used to maintain the distance between the first and second glass plates 1 and 2 at a desired value.
  • the size of the pillars 43, the number of the pillars 43, the interval between the pillars 43, and the arrangement pattern of the pillars 43 can be appropriately selected.
  • Each pillar 43 has a columnar shape having a height substantially equal to the distance between the first and second glass plates 1 and 2.
  • the pillar 43 has a diameter of 1 mm and a height of 100 ⁇ m.
  • Each pillar 43 may have a desired shape such as a prismatic shape or a spherical shape.
  • the vacuum space 52 is a space where the degree of vacuum is equal to or less than a predetermined value.
  • the predetermined value is, for example, 0.1 Pa.
  • the vacuum space 52 is completely sealed by the first glass plate 1, the second glass plate 2, and the frame 41.
  • the method for manufacturing the glass panel unit 100 includes a preparation step.
  • the preparation step is a step of preparing the in-process product 10 of the glass panel unit shown in FIG.
  • the work-in-progress 10 has the same structure as the glass panel unit 100 except that the gas adsorbent 44 is not activated.
  • the in-process product 10 is formed from an assembly 11 of the glass panel unit shown in FIGS.
  • the preparation process includes an assembling process (see FIGS. 7 to 11), a melting process (see FIG. 12), an evacuation process (see FIGS. 12 to 13), and a sealing process (see FIGS. 12, 14, and 15). And an activation step (see FIGS. 16 and 17).
  • the assembling step is a step of preparing the assembly 11.
  • Assembled product 11 includes first and second glass plates 1 and 2 and peripheral wall 410 as shown in FIGS. 5 and 6.
  • the assembly 11 has an internal space 510 surrounded by the first and second glass plates 1 and 2 and the peripheral wall 410.
  • the assembled product 11 includes a gas adsorbent 44, a plurality of pillars (spacers) 43, and a weir member 49 in the internal space 510.
  • the assembly 11 includes an exhaust port 50. In the assembled product 11, the internal space 510 is not exhausted, the peripheral wall 410 and the dam member 49 are not melt-hardened, and the exhaust port 50 is not sealed.
  • the peripheral wall 410 is formed from a sealing material (thermal adhesive).
  • the peripheral wall 410 is arranged between the first glass plate 1 and the second glass plate 2.
  • the peripheral wall 410 has a frame shape as shown in FIG. In particular, the peripheral wall 410 has a rectangular frame shape.
  • the peripheral wall 410 is formed along the outer periphery of the first and second glass plates 1 and 2. Thereby, in the assembly 11, an internal space 510 surrounded by the peripheral wall 410, the first glass plate 1, and the second glass plate 2 is formed.
  • Weir member 49 includes a sealing material (thermal adhesive).
  • the weir member 49 is formed on the second glass plate 2 and inside the internal space 510.
  • the weir member 49 has an annular (for example, C-shaped) shape with a part cut away along the outer periphery of the exhaust port 50. Although the weir member 49 is separated from the peripheral wall 410, it is formed close to the peripheral wall 410. That is, the weir member 49 is formed at the end of the internal space 510.
  • the weir member 49 includes the same sealing material as the peripheral wall 410.
  • the first glass plate 1 includes a main body 15, an infrared reflection film 45, and an exhaust port 50, as shown in FIG.
  • the exhaust port 50 penetrates through the main body 15 and connects the internal space 510 and the external space.
  • the infrared reflection film 45 is in the internal space 510 and covers the main body 15.
  • the infrared reflection film 45 is in contact with the main body 15.
  • the main body 15 has a plate shape similar to the second glass plate 2.
  • the second glass plate 2 has a bottomed concave portion 2a as shown in FIG.
  • the concave portion 2a is formed so as to be disposed in the internal space 510.
  • the recess 2 a is formed so as to be recessed toward the opposite side of the first glass plate 1 with respect to the internal space 510.
  • the first glass plate 1, the second glass plate 2, the gas adsorbent 44, the peripheral wall 410, the weir member 49, the internal space 510, the exhaust port 50, the concave portion 2a, and the plurality of This is a step of forming the pillar 43.
  • the assembling step includes first to seventh steps. The order of the fourth to sixth steps may be changed as appropriate.
  • the first step is a step of forming the first glass plate 1 and the second glass plate 2 (glass plate forming step).
  • the first glass plate 1 and the second glass plate 2 are manufactured in a plate shape.
  • the first glass plate 1 and the second glass plate 2 are cleaned as necessary.
  • the second step is a step of forming the exhaust port 50.
  • an exhaust port 50 is formed in the first glass plate 1 as shown in FIG.
  • the first glass plate 1 is cleaned as necessary.
  • the third step is a step of forming the recess 2a.
  • a concave portion 2 a is formed in the second glass plate 2.
  • the second glass plate 2 is cleaned as necessary.
  • the fourth step is a step of forming the pillar 43 (pillar forming step).
  • a plurality of pillars 43 are formed in advance, and the plurality of pillars 43 are arranged at predetermined positions of the second glass plate 2 using a chip mounter or the like.
  • the plurality of pillars 43 may be formed using a photolithography technique and an etching technique.
  • the plurality of pillars 43 are formed using a photocurable material or the like.
  • the plurality of pillars 43 may be formed using a known thin film forming technique.
  • the fifth step is a step of disposing the peripheral wall 410 and the dam member 49 (sealing material disposing step).
  • a sealing material is applied on the second glass plate 2 along the outer periphery of the second glass plate 2 using a dispenser or the like to form a frame-shaped sealing material, and then the frame-shaped sealing material is formed.
  • the sealing material is dried to form the peripheral wall 410 (see FIG. 9).
  • a sealing material is applied on the second glass plate 2 while being separated from the peripheral wall 410 at a position close to the peripheral wall 410 to form a partially cut-out annular sealing material. Thereafter, the annular sealing material is dried to form the dam member 49 (see FIG. 9).
  • the frame-shaped sealing material and the ring-shaped sealing material may be dried and temporarily fired.
  • the second glass plate 2 on which the frame-shaped sealing material and the annular sealing material are formed is heated at 480 ° C. for 20 minutes.
  • the first glass plate 1 may be heated together with the second glass plate 2. That is, the first glass plate 1 may be heated under the same conditions as the second glass plate 2 (480 ° C. for 20 minutes). Thereby, the difference in warpage between the first glass plate 1 and the second glass plate 2 can be reduced.
  • the sixth step is a step of arranging the gas adsorbent 44 (gas adsorption arranging step).
  • the gas adsorbent 44 is arranged in the recess 2a using a chip mounter or the like.
  • the second glass plate 2 as shown in FIG. 9 is obtained.
  • the second glass plate 2 has a peripheral wall 410, a dam member 49, a concave portion 2a, a gas adsorbent 44, and a plurality of pillars 43 formed thereon.
  • the seventh step is performed after the first to sixth steps are completed.
  • the seventh step is a step of arranging the first glass plate 1 and the second glass plate 2 (arrangement step).
  • the first glass plate 1 and the second glass plate 2 are arranged so as to be parallel to each other and to face each other.
  • the assembled product 11 shown in FIG. 11 is obtained.
  • a melting step (joining step), an exhausting step, a sealing step, and an activating step are performed as shown in FIG.
  • the melting step is performed in a firing furnace.
  • the melting step is a step in which the peripheral wall 410 is melted at a first predetermined temperature (melting temperature) Tm, and the first glass sheet 1 and the second glass sheet 2 are hermetically joined on the peripheral wall 410 after the melting.
  • the assembly 11 is placed in a firing furnace. Thereafter, the assembly 11 is heated at the melting temperature Tm for a first predetermined time (melting time) tm (see FIG. 12).
  • the dam member 49 is also melted, and the melted dam member 49 hermetically joins the first glass sheet 1 and the second glass sheet 2.
  • the melting temperature Tm is selected to be equal to or higher than the softening point of the sealing material.
  • the melting temperature Tm is preferably 500 ° C. or lower, more preferably 350 ° C. or lower, and even more preferably 300 ° C. or lower. Further, in the example of the present embodiment, when the gas adsorbent 44 is heated in the air, the metal getter material in the gas adsorbent 44 is easily deactivated at 350 ° C. For this reason, the melting temperature Tm is preferably selected to be less than 350 ° C. When at least one of the first glass plate 1 and the second glass plate 2 contains tempered glass, the melting temperature Tm is preferably selected to be 300 ° C. or lower. The softening point of the sealing material is, for example, 265 ° C.
  • the melting time tm is arbitrarily selected according to, for example, the sizes of the first and second glass plates 1 and 2 and the size of the peripheral wall 410.
  • the temperature in the firing furnace is reduced to execute the sealing step.
  • the peripheral wall 410 is hardened to form the frame 41, and the weir member 49 is hardened to become the weir member 47.
  • the evacuation step is a step in which the internal space 510 is evacuated through the exhaust port 50 into the vacuum space 52 in the firing furnace.
  • the evacuation is performed using, for example, a vacuum pump.
  • the vacuum pump is connected to the assembly 11 by the pressure reducing mechanism 71 as shown in FIG.
  • the pressure reducing mechanism 71 includes an exhaust head 75, a connection part 753, and a pressing mechanism 73.
  • the connection part 753 connects the exhaust head 75 and a vacuum pump.
  • the exhaust head 75 is pressed against the assembly 11 so as to connect the inside thereof and the internal space 510 via the exhaust port 50. Specifically, the exhaust head 75 is pressed airtightly to a portion of the first glass plate 1 surrounding the opening of the exhaust port 50.
  • the pressing mechanism 73 is provided inside the exhaust head 75.
  • the pressing mechanism 73 is configured to press the hole sealing material 42 inserted into the exhaust port 50 toward the second glass plate 2 with the vacuum space 52 maintained by the pressure reducing mechanism 71.
  • the hole sealing material 42 and the plate 46 having a diameter smaller than the inner diameter of the evacuation port 50 are inserted into the evacuation port 50 (see FIG. 13).
  • the plate 46 is interposed between the hole sealing member 42 and the pressing mechanism 73.
  • the hole sealing material 42 and the plate 46 are elastically pushed toward the second glass plate 2 by the pressing mechanism 73.
  • the hole sealing material 42 is a solid sealing material formed using, for example, a glass frit.
  • the hole sealing material 42 has a block shape, but preferably also has a tubular shape penetrating vertically.
  • the evacuation process is started in the middle of the melting process, as shown in FIG. Therefore, also in the melting step, the internal space 510 is exhausted through the exhaust port 50. Therefore, a pressure difference between the inside and the outside of the assembly 11 is generated, and the first and second glass plates 1 and 2 are moved so as to approach each other due to the pressure difference. Accordingly, even when the first and second glass plates 1 and 2 are warped, the first glass plate 1 and the second glass plate 2 are easily air-tightly joined by the peripheral wall 410.
  • the exhausting process is started in the middle of the melting process, unnecessary gas and the like released from the peripheral wall 410 and the dam member 49 during the melting process are exhausted. For this reason, it is possible to make it difficult for unnecessary gas to remain in the vacuum space 52 of the work-in-progress 10 as shown in FIG.
  • the sealing step is a step of locally heating and melting the hole sealing material 42 inserted into the exhaust port 50 and sealing the exhaust port 50 with the fused hole sealing material 42.
  • the sealing step is performed in a firing furnace.
  • the exhaust step is continuously performed.
  • the temperature in the firing furnace in the sealing step is maintained at a second predetermined temperature (sealing temperature) Ts equal to or lower than the melting temperature Tm.
  • the temperature in the firing furnace is maintained at a sealing temperature Ts lower than the melting temperature Tm.
  • the sealing temperature Ts is, for example, 250 ° C.
  • the sealing step is performed using the heating mechanism 72 as shown in FIG.
  • the heating mechanism 72 is arranged on the side opposite to the exhaust head 75 with respect to the assembly 11.
  • the heating mechanism 72 is configured to heat the hole sealing material 42 inserted into the exhaust port 50 in a non-contact manner. In this case, since the hole sealing material 42 is locally heated by the heating mechanism 72, the temperature of the assembly 11 is maintained at the sealing temperature Ts.
  • the heating mechanism 72 includes the irradiator 720.
  • the irradiator 720 is configured to irradiate the hole sealing material 42 with infrared rays (near infrared rays) via the second glass plate 2 to heat the hole sealing material 42.
  • the exhaust port 50 is sealed by the hole sealing material 42 while the vacuum space 52 is maintained. In this case, the hole sealing material 42 is melted, and the melted hole sealing material 42 is retained in the space on the inner peripheral side of the dam member 47. Then, the exhaust port 50 is sealed by hardening the melted hole sealing material 42.
  • the hole sealing material 42 is heated and melted by the heating mechanism 72, and the hole sealing material 42 is directed toward the second glass plate 2 by the urging force exerted by the pressing mechanism 73 via the plate 46. Pressed.
  • the hole sealing material 42 is deformed in the vacuum space 52 until it hits the inner peripheral surface of the dam member 47.
  • the notch provided in the dam member 47 is sealed by the deformed hole sealing material 42.
  • the vacuum space 52 can be maintained even when the exhaust head 75 is removed.
  • the molten hole sealing material 42 is cured by heat removal.
  • the exhaust process is stopped. Thereby, the in-process product 10 as shown in FIGS. 4 and 15 is obtained.
  • the work-in-progress 10 is taken out of the firing furnace.
  • the activation step is performed after the evacuation step and the sealing step.
  • the activation step is performed outside the firing furnace.
  • the activation step is a step of activating the gas adsorbent 44 by locally heating the gas adsorbent 44, as shown in FIG.
  • the entire temperature of the work-in-progress 10 except for the vicinity of the gas adsorbent 44 may be about room temperature.
  • the gas adsorbent 44 is locally heated by the local heating mechanism 6 shown in FIG. 16 until a predetermined activation temperature is reached.
  • the local heating mechanism 6 is arranged outside the second glass plate and faces the second glass plate 2.
  • the activation temperature of the gas adsorber 44 is arbitrarily selected according to the metal getter material and the material of the second glass plate 2.
  • the activation temperature is, for example, lower than the softening point of the second glass plate 2. In this case, the second glass plate 2 can be hardly damaged in the activation step.
  • the gas adsorbent 44 is locally heated, so that the frame 41 and the weir member 47 do not melt again.
  • the activation temperature is selected, for example, in the range of 400 to 600 ° C.
  • the local heating mechanism 6 includes an irradiator 61 configured to emit a laser (see FIG. 16). Thereby, the laser from the irradiator 61 can be applied to the gas adsorbent 44 via the second glass plate 2. For this reason, the gas adsorbent 44 is locally heated without contact. By locally heating the gas adsorbent 44, the operation efficiency of the activation step can be improved.
  • the glass panel unit 100 as shown in FIGS. 1 and 17 is obtained by activating the gas adsorbent 44 in the activation step.
  • the difference in thermal conductance between the work-in-progress product 10 and the glass panel unit 100 is preferably 12 W / m 2 K or less.
  • the thermal conductance of the glass panel unit 100 can be set to 0.05 W / m 2 K or less.
  • the difference in thermal conductance is 10 W / m 2 K or less.
  • the thermal conductance of the glass panel unit 100 can be set to 0.025 W / m 2 K or less.
  • the thermal conductance difference is 8 W / m 2 K or less.
  • the thermal conductance of the glass panel unit 100 can be set to approximately 0 W / m 2 .
  • the thermal conductance of the glass panel unit 100 is measured using a first thermometer Th1, a second thermometer Th2, a heating unit 81, a cooling unit 82, and a heat flow meter 9. Is done.
  • the heat flow meter 9 includes a heat flow meter main body 91 and a sensor 92.
  • the sensor 92 is connected to the heat flow meter main body 91.
  • the heat flow meter main body 91 is configured to display the heat flux per unit area detected by the sensor 92.
  • the glass panel unit 100 is arranged so as to partition the heating unit 81 and the cooling unit 82.
  • the first thermometer Th1 is disposed on the outer surface of the first glass plate
  • the second thermometer Th2 and the sensor 92 are disposed on the outer surface of the second glass plate.
  • the sensor 92 detects a heat flux transmitted from the heating unit 81 to the cooling unit 82 via the glass panel unit 100.
  • the surface temperature of the first glass sheet 1 is measured by the first thermometer Th1
  • the surface temperature of the second glass sheet 2 is measured by the second thermometer Th2.
  • Q C (T1-T2) (1)
  • Q indicates a heat flux (W / m 2 )
  • T1 indicates a surface temperature (K) of the first glass sheet 1
  • T2 indicates a surface temperature (K) of the second glass sheet 2.
  • C indicate the thermal conductance (W / m 2 K).
  • the thermal conductance of the work-in-progress 10 is calculated in the same manner as the thermal conductance of the glass panel unit 100.
  • Embodiments of the present disclosure are not limited to the above embodiments.
  • the above embodiment can be variously modified according to the design and the like, if the object of the present disclosure can be achieved.
  • modified examples of the above embodiment will be listed.
  • the glass panel unit 100 has a rectangular shape, but the glass panel unit 100 may have a desired shape such as a circular shape or a polygonal shape. That is, the first glass plate 1, the second glass plate 2, and the frame 41 may have a desired shape such as a circular shape or a polygonal shape instead of the rectangular shape.
  • the shape of the weir member 47 is not limited to the C-shape, but may be a polygonal ring with a part cut out.
  • the shapes of the peripheral wall 410 and the dam member 49 are not limited to the shapes of the above-described embodiment, and may be any shapes as long as the glass panel unit 100 having a desired shape can be obtained.
  • the shape and size of the glass panel unit 100 are determined according to the use of the glass panel unit 100.
  • the height of the weir member 49 is lower than the peripheral wall 410 and higher than the pillar 43.
  • the height of the weir member 49 may be the same as that of the peripheral wall 410.
  • first and second glass plates 1 and 2 do not have to have the same plane size or the same thickness. Further, the first and second glass plates 1 and 2 may not be formed of the same material.
  • the first glass plate 1 includes the infrared reflection film 45, but may include a film having desired physical characteristics instead of the infrared reflection film 45. Further, the first glass plate 1 may be composed of only the main body 15. That is, the first glass plate 1 does not need to include the infrared reflection film 45.
  • the peripheral wall 410 may include other elements such as a core material in addition to the sealing material.
  • the weir member 49 may include other elements such as a core material in addition to the sealing material.
  • the peripheral wall 410 is only between the first and second glass plates 1 and 2, and is not joined thereto.
  • the peripheral wall 410 may join the first and second glass plates 1 and 2 at the stage of the assembly 11.
  • the peripheral wall 410 may be located between the first and second glass plates 1 and 2, and it is not essential that these are joined.
  • the exhaust port 50 is formed in the first glass plate 1.
  • the exhaust port 50 may be formed in the second glass plate 2.
  • the gas adsorbent 44 is formed on the first glass plate 1.
  • the hole sealing material 42 is locally heated via the first glass plate 1.
  • the exhaust port 50 is formed on one of the first glass plate 1 and the second glass plate 2.
  • the exhaust port 50 is sealed by melting the hole sealing material 42.
  • the exhaust port 50 may be sealed by a sealing portion (cap) 42a.
  • the sealing portion 42a is formed by locally heating and melting and cutting the vicinity of the exhaust port 50 in the exhaust pipe 51 as shown in FIG.
  • the exhaust pipe 51 is connected to the exhaust port 50 in the second step.
  • the inner surface of the exhaust pipe 51 is connected to the exhaust port 50.
  • the exhaust pipe 51 is connected to the internal space 510 via the exhaust port 50.
  • the exhaust pipe 51 is connected to a vacuum pump in an exhaust step.
  • the internal space 510 is exhausted through the exhaust pipe 51 and the exhaust port 50.
  • the exhaust pipe 51 is formed on the first glass plate 1.
  • the exhaust pipe 51 may be formed on the second glass plate 2 or the peripheral wall 410. That is, the exhaust pipe 51 is preferably formed on one of the first glass plate 1, the second glass plate 2, and the peripheral wall 410. In this case, the exhaust port 50 is between the exhaust pipe 51 and the internal space 510. Further, it is preferable that the sealing portion 42 a is formed on one of the first glass plate 1, the second glass plate 2, and the frame 41. In this case, the exhaust port 50 is between the vacuum space 52 and the sealing portion 42a.
  • the exhaust pipe 51 is formed in a cylindrical shape using, for example, the same glass frit as the hole sealing material 42. In this case, the exhaust pipe 51 is locally heated by the heating mechanism 72 at the same temperature as in the above embodiment in the sealing step.
  • the gas adsorbent 44 is locally heated via the second glass plate 2.
  • the gas adsorbent 44 may be locally heated via the first glass plate 1.
  • the gas adsorbent 44 is disposed in the recess 2a.
  • the gas adsorbent 44 may be arranged on the same plane as the pillar 43. That is, the second glass plate 2 does not need to include the concave portion 2a.
  • the gas adsorbent 44 has a tablet shape, but may have another shape. Further, the gas adsorbent 44 does not necessarily need to be at the end of the vacuum space 52.
  • the glass panel unit 100 includes the vacuum space 52, but may include a reduced pressure space instead of the vacuum space 52.
  • the depressurized space is the internal space 510 in a depressurized state.
  • the reduced pressure state may be any state as long as the pressure is lower than the atmospheric pressure.
  • a first aspect is a method for manufacturing a glass panel unit, which includes an assembling step, a joining step, an exhausting step, a sealing step, and an activating step.
  • the assembling step is a step of preparing an assembly (11).
  • the assembled product (11) includes a first glass plate (1), a second glass plate (2), a peripheral wall (410), an internal space (510), a gas adsorber (44), and an exhaust port (50). ).
  • the second glass plate (2) faces the first glass plate (1).
  • the peripheral wall (410) is between the first glass plate (1) and the second glass plate (2).
  • the peripheral wall (410) is frame-shaped.
  • the internal space (510) is surrounded by a first glass plate (1), a second glass plate (2), and a peripheral wall (410).
  • the gas adsorber (44) is arranged in the internal space (510).
  • the exhaust port (50) connects the internal space (510) and the external space.
  • the peripheral wall (410) is melted in a firing furnace at a first predetermined temperature (Tm), and the first glass plate (1) and the second glass plate (2) are melted by the molten peripheral wall (410).
  • Tm first predetermined temperature
  • the evacuation step is a step of evacuating the internal space (510) through the exhaust port (50) in the baking furnace to form a vacuum space (52).
  • Ts second predetermined temperature
  • Tm first predetermined temperature
  • the hole sealing material (42) inserted into the exhaust port (50) or the exhaust pipe (51) connected to the exhaust port (50) is higher than a second predetermined temperature (Ts).
  • Ts a second predetermined temperature
  • a work-in-progress (10) is obtained.
  • the activation step is a step of activating the gas adsorbent (44) after the sealing step.
  • a glass panel unit (100) is obtained.
  • a second aspect is the method for manufacturing a glass panel unit according to the first aspect, wherein, during the sealing step, the hole sealing material (42) includes a first glass plate (1) and a second glass plate (2). Among them, local heating is performed via a glass plate on which the exhaust port (50) is not formed.
  • a third aspect is the method for manufacturing a glass panel unit according to the first or second aspect, wherein the exhaust port (50) is sealed while exhausting the internal space (510).
  • a fourth aspect is the method for manufacturing a glass panel unit according to any one of the first to third aspects, wherein the gas adsorbent (44) contains a metal getter material.
  • a fifth aspect is the method for manufacturing a glass panel unit according to any one of the first to fourth aspects, wherein the gas adsorbent (44) contains titanium, vanadium, and iron.
  • a sixth aspect is the method for manufacturing a glass panel unit according to any one of the first to fifth aspects, wherein the peripheral wall (410) contains a glass frit.
  • the first predetermined temperature (Tm) is selected to be equal to or higher than the softening point of the glass frit.
  • a seventh aspect is the method for manufacturing a glass panel unit according to any one of the first to sixth aspects, wherein a difference in thermal conductance between the work-in-process (10) and the glass panel unit (100) is 12 W / m 2 K or less.

Abstract

本開示は、真空空間中にガスを残留しにくくすることを図る、ガラスパネルユニットの製造方法を提供する。ガラスパネルユニットの製造方法は、組立工程と、接合工程と、排気工程と、封止工程と、活性化工程と、を含む。前記接合工程は、第１所定温度（Ｔｍ）の焼成炉内で周壁（４１０）を溶融させ、溶融後の周壁（４１０）で第１ガラス板（１）と第２ガラス板（２）とを気密に接合させる工程である。前記排気工程は、前記焼成炉内で、排気口（５０）を介して内部空間（５１０）を排気して真空空間（５２）とする工程である。前記封止工程は、孔封止材（４２）または排気管（５１）を第２所定温度（Ｔｓ）よりも高い温度で局所加熱することにより溶融させて排気口（５０）を封止することで、仕掛り品（１０）を得る工程である。前記活性化工程は、前記封止工程後にガス吸着体（４４）を活性化させることで、ガラスパネルユニット（１００）を得る工程である。

Description

ガラスパネルユニットの製造方法
　本開示は、ガラスパネルユニットの製造方法に関する。より詳細には、本開示は、窓等に好適なガラスパネルユニットを製造する方法に関する。
　特許文献１は、真空複層ガラスの製造方法を開示する。特許文献１の製造方法では、２つの板ガラス（第１及び第２板ガラス）の周縁部の間にペースト状の低融点ガラス（第１低融点ガラス）を介在させている。そして、焼成炉内で第１低融点ガラスを溶融させることにより、第１及び第２板ガラスを接合させている。続いて、第１板ガラスの吸引孔内にゲッターを収納させた後、第１及び第２板ガラスの間の隙間部（内部空間）を減圧加熱装置で加熱しながら吸引孔から内部空間を排気している。さらに、排気により内部空間を減圧しながら、蓋体と第１板ガラスとの間に介在する低融点ガラス（第２低融点ガラス）を溶融させ、蓋体を第１板ガラスに接着させることで、吸引孔を閉鎖している。吸引孔の閉鎖後、ゲッターを局所的に加熱して活性化することで、真空複層ガラスが得られている。
　しかし、特許文献１の場合、内部空間を加熱しながら吸引孔を閉鎖しているため、加熱の際に少なくとも第１低融点ガラス中の成分に由来するガスが内部空間に放出されやすい。すなわち、吸引孔の閉鎖直後でも、減圧された内部空間（真空空間）に少なくとも第１低融点ガラスからガスが放出されやすい。このため、ゲッターを活性化させても、真空空間にガスが残留しやすい。
特開２００３－２１２６１０号公報
　本開示の目的は、真空空間中にガスを残留しにくくすることを図る、ガラスパネルユニットの製造方法を提供することである。
　本開示の一態様に係るガラスパネルユニットの製造方法は、組立工程と、接合工程と、排気工程と、封止工程と、活性化工程と、を含む。前記組立工程は、組立て品を用意する工程である。前記組立て品は、第１ガラス板と、第２ガラス板と、周壁と、内部空間と、ガス吸着体と、排気口と、を備える。前記第２ガラス板は前記第１ガラス板に対向する。前記周壁は、前記第１ガラス板と前記第２ガラス板との間にある。前記周壁は、枠状である。前記内部空間は、前記第１ガラス板と、前記第２ガラス板と、前記周壁とで囲まれている。前記ガス吸着体は、前記内部空間内に配置されている。前記排気口は、前記内部空間と外部空間とをつなぐ。前記接合工程は、第１所定温度の焼成炉内で、前記周壁を溶融させ、溶融後の前記周壁で前記第１ガラス板と前記第２ガラス板とを気密に接合させる工程である。前記排気工程は、前記焼成炉内で、前記排気口を介して前記内部空間を排気して真空空間とする工程である。前記封止工程では、前記焼成炉内を前記第１所定温度以下の第２所定温度に保持する。前記封止工程は、前記排気口内に挿入された孔封止材、または前記排気口に接続された排気管を前記第２所定温度よりも高い温度で局所加熱することにより溶融させて前記排気口を封止する工程である。前記封止工程では、仕掛り品を得る。前記活性化工程は、前記封止工程後に前記ガス吸着体を活性化させる工程である。前記活性化工程では、ガラスパネルユニットを得る。
　本開示によれば、真空空間中にガスを残留しにくくすることができる。
図１は、一実施形態に係るガラスパネルユニットの斜視図である。 図２は、上記ガラスパネルユニットの正面図である。 図３は、図２のＡ－Ａ線に沿う断面図である。 図４は、上記実施形態に係るガラスパネルユニットの仕掛り品の斜視図である。 図５は、上記実施形態に係るガラスパネルユニットの組立て品の正面図である。 図６は、図５のＢ－Ｂ線に沿う概略断面図である。 図７は、上記実施形態に係るガラスパネルユニットの製造方法の説明図である。 図８は、上記製造方法の説明図である。 図９は、上記製造方法の説明図である。 図１０は、上記製造方法の説明図である。 図１１は、上記製造方法の説明図である。 図１２は、上記製造方法の説明図である。 図１３は、上記製造方法の説明図である。 図１４は、上記製造方法の説明図である。 図１５は、上記製造方法の説明図である。 図１６は、上記製造方法の説明図である。 図１７は、上記製造方法の説明図である。 図１８は、上記実施形態に係る熱コンダクタンスの測定方法を示す概念図である。 図１９は、上記製造方法の変形例の説明図である。 図２０は、上記製造方法の変形例の説明図である。
　以下、本開示を実施するための形態を説明する。
　１．実施形態
　１．１　概要
　図１～図３は、一実施形態のガラスパネルユニット（ガラスパネルユニットの完成品）１００を示す。ガラスパネルユニット１００は、第１ガラス板１と、第２ガラス板２と、枠体４１と、真空空間５２と、孔封止材４２と、排気口５０と、堰部材４７と、複数のスペーサ（ピラー）４３と、ガス吸着体４４と、を備える。第２ガラス板２は、第１ガラス板１に対向する。枠体４１は、第１ガラス板１と第２ガラス板２との間にある。枠体４１は、第１及び第２ガラス板１，２を気密に接合する。真空空間５２は、第１ガラス板１と第２ガラス板２と枠体４１とで囲まれている。ガス吸着体４４と堰部材４７とは、真空空間５２内にある。孔封止材４２は、堰部材４７で留められ、排気口５０を封止する。
　ガラスパネルユニット１００では、真空空間５２内にガス吸着体４４があるため、ガラスパネルユニット１００の断熱性を低下させにくくできる。
　１．２　構成
　以下、ガラスパネルユニット１００について更に詳細に説明する。本実施形態のガラスパネルユニット１００は、いわゆる真空断熱ガラスユニットである。真空断熱ガラスユニットは、少なくとも一対のガラスパネルを備える複層ガラスパネルの一種であって、一対のガラスパネル間に真空空間を有している。
　ガラスパネルユニット１００は、図１～図３に示すように、一対のガラス板（第１及び第２ガラス板）１，２と、枠体４１と、孔封止材４２と、ガス吸着体４４と、を備える。また、ガラスパネルユニット１００は、第１及び第２ガラス板１，２と枠体４１とで囲まれた空間（真空空間）５２を有する。更に、ガラスパネルユニット１００は、真空空間５２内に、複数のピラー（スペーサ）４３と、堰部材４７と、を備える。
　第１及び第２ガラス板１，２はいずれも矩形の平板状である。第１及び第２ガラス板１，２は同じ平面形状である。
　第１ガラス板１は、本体１５と、赤外線反射膜４５と、排気口５０と、を含む。赤外線反射膜４５は、真空空間５２内にあり、本体１５を覆う。排気口５０は、孔封止材４２により封止されている。赤外線反射膜４５は、本体１５と接触している。赤外線反射膜４５は、透光性を有するものの、赤外線を透過させにくい。このため、赤外線反射膜４５は、ガラスパネルユニット１００の断熱性を向上させることができる。赤外線反射膜４５は、例えば、金属製の薄膜である。赤外線反射膜４５は、例えば、銀を含有する。赤外線反射膜４５の一例は、Ｌｏｗ－Ｅ膜である。本体１５は、第１ガラス板１の主な形状を構成するため、矩形の平板状である。本体１５の材料として、例えば、ソーダライムガラス、高歪点ガラス、化学強化ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、ネオセラム、及び物理強化ガラスが挙げられる。本体１５は、第２ガラス板２と同形状である。
　第２ガラス板２は、有底の凹部２ａを備える。凹部２ａは、真空空間５２内に配置されるようにして形成される。また、凹部２ａは、真空空間５２に対して第１ガラス板１とは反対側に向かって凹むようにして形成される。第２ガラス板２の材料として、例えば、ソーダライムガラス、高歪点ガラス、化学強化ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、ネオセラム、及び物理強化ガラスが挙げられる。
　枠体４１は、第１ガラス板１と、第２ガラス板２との間にあり、第１ガラス板１と第２ガラス板２とを気密に接合する。これによって、第１ガラス板１と、第２ガラス板２と、枠体４１とで囲まれた空間が形成される。そして、第１ガラス板１と、第２ガラス板２と、枠体４１とで囲まれた空間は真空空間５２となっている。枠体４１は、熱接着剤（封着材）で形成されている。言い換えれば、枠体４１は、硬化した熱接着剤である。熱接着剤は、ガラスフリットと、バインダ成分とを含有する。バインダ成分は、樹脂であってもよい。この場合、後述の封着材配置工程で、封着材の塗布性を高めることができる。また、バインダ成分は、好ましくは、低分子量の樹脂で、かつ加熱により分解されやすい成分である。本実施形態では、バインダ成分は特に限定されない。バインダ成分として、例えば、エチルセルロース、アクリル樹脂、及びブチラール樹脂が挙げられる。また、ガラスフリットの例としては、低融点ガラスフリットが挙げられる。低融点ガラスフリットの一例は、Ｖ－Ｔｅ－Ａｇ系ガラスフリットである。枠体４１は、第１及び第２ガラス板１，２と同様の多角形（本実施形態では四角形）の枠状である。枠体４１は、第１及び第２ガラス板１，２の外周に沿って形成されている。また、熱接着剤中の成分は、ガラスフリット、及びバインダ成分に限定されず、例えば、低融点金属や、ホットメルト接着材などであってもよい。
　堰部材４７は、図２に示すように、一部が切り欠かれた環状（例えば、Ｃ字状）の形状を有する。堰部材４７は、平面視において、排気口５０の周縁に沿うようにして配置されている。これにより、堰部材４７は、その内周側にある空間内に孔封止材４２を留めることができる。このため、孔封止材４２は排気口５０を封止できる。堰部材４７は、枠体４１と同じ材料から形成されている。
　ガス吸着体４４は、図３に示すように、凹部２ａ内に配置されている。ガス吸着体４４は、凹部２ａの底面と接している。ガス吸着体４４は、真空空間５２中の不要なガス（残留ガス等）を吸着するために用いられる。不要なガスは、例えば、枠体４１を形成する熱接着剤が加熱された際に、熱接着剤から放出されるガスである。不要なガスの一例は、炭化水素である。
　また、ガス吸着体４４は、金属ゲッタ材を含有する。これにより、ガス吸着体４４の活性化により、ガス吸着体４４は真空空間５２中のガスを吸着できるため、真空空間５２の品質を低下させにくくできる。このため、ガラスパネルユニット１００の断熱性を低下させにくくできる。
　金属ゲッタ材は、非蒸発型ゲッタ材である。具体的には、金属ゲッタ材は、気体分子を化学的に吸着することのできる金属表面を有する金属製のゲッタ材である。ただし、金属ゲッタ材の組成によっては、真空空間中で金属ゲッタ材を活性化させても真空空間中の残留ガスが金属ゲッタ材で吸着されにくく、真空空間の真空度を所定値以下にさせにくい傾向がある。これは、大気中で加熱された際に金属ゲッタ材が大気中のガスを吸着しすぎて失活してしまうことに起因する。このような本実施形態で望ましくない金属ゲッタ材の組成として、例えば、Ｚｒ６０％－Ｖ－Ｆｅ－Ｍｎ－Ｒｅ、及びＺｒ７０％－Ｖ２４．６％－Ｆｅ５．４％が挙げられる。また、他の望ましくない金属ゲッタ材では、真空空間中で活性化する際に金属ゲッタ材をガラス板の軟化点（例えば、７３０℃）以上で活性化させるか、ガラス板の軟化点以下で長時間加熱して金属ゲッタ材を活性化させることが求められる。特にガラス板の軟化点以上で金属ゲッタ材を活性化させるとガラス板が割れやすく、また金属ゲッタ材を１分以上局所加熱させてもガラス板が割れやすい。このような本実施形態で望ましくない他の金属ゲッタ材の組成として、例えば、Ｚｒ６０％－Ｔｉ４０％が挙げられる。このため、本実施形態で望ましい金属ゲッタ材は、チタン、バナジウム、及び鉄を含有する。このような金属ゲッタ材は、大気中で加熱されても失活しにくい性質を有する。具体的には、金属ゲッタ材が、金属ゲッタ材の金属表面に気体分子が吸着されていても、この気体分子を、活性化の際に、金属ゲッタ材の内部に拡散させることができる。このため、金属ゲッタ材は、その活性化前において、金属表面に気体分子を吸着（化学吸着）していてもよい。また、ガス吸着体４４は金属ゲッタ材を含有しているため、金属ゲッタ材は真空空間５２中に存在するガスを吸着することができる。真空空間５２中のガスとして、例えば、水蒸気；窒素；酸素；水素；二酸化炭素及び一酸化炭素等の酸化炭素；並びに炭化水素が挙げられる。特に炭化水素は、チタン、バナジウム、及び鉄を含有する金属ゲッタ材であっても吸着されにくい。このため、本実施形態では、後述の製造方法により、炭化水素等のガスを真空空間５２内に残留させにくくする。
　本実施形態の第１例では、金属ゲッタ材は、８０～９０ａｔｍ％のチタン、０～５ａｔｍ％のアルミニウム、０～１０ａｔｍ％のケイ素、１０～１５ａｔｍ％のバナジウム、及び５～１５ａｔｍ％の鉄を含有する。
　本実施形態の第２例では、金属ゲッタ材は、ガス、特に水素、酸化炭素、及び窒素に対する高い吸着性を有する少なくとも１つの非蒸発性を有するゲッター合金の粉末を含有する。合金の粉末は、組成元素としてチタン及びシリコン、並びにバナジウム、鉄、及びアルミニウムから選択された少なくとも１つの追加の金属元素を備える。各金属元素の範囲は、
ａ．チタン：６０～８５原子パーセント
ｂ．ケイ素：１～２０原子パーセント
ｃ．バナジウム、鉄、及びアルミニウム：合計で１０～３０原子パーセント
において変化させることができる。
　また、金属ゲッタ材を含有するガス吸着体４４の一例は、ＳＡＥＳ　Ｇｅｔｔｅｒｓ　Ｓ．ｐ．Ａ．製のＴＡＡＬである。
　複数のピラー４３は、真空空間５２内に配置されている。複数のピラー４３は、第１及び第２ガラス板１，２間の間隔を所定間隔に維持するために用いられる。つまり、複数のピラー４３は、第１及び第２ガラス板１，２間の距離を所望の値に維持するために使用される。なお、ピラー４３の大きさ、ピラー４３の数、ピラー４３の間隔、ピラー４３の配置パターンは、適宜選択することができる。各ピラー４３は、第１及び第２ガラス板１，２間の距離とほぼ等しい高さを有する円柱状である。例えば、ピラー４３は、直径が１ｍｍ、高さが１００μｍである。なお、各ピラー４３は、角柱状や球状などの所望の形状であってもよい。
　真空空間５２は、真空度が所定値以下の空間である。所定値は、たとえば、０．１Ｐａである。真空空間５２は、第１ガラス板１と第２ガラス板２と枠体４１とで完全に密閉されている。
　１．３　製造方法
　次に、ガラスパネルユニット１００の製造方法について図４～図１７を参照して説明する。ガラスパネルユニット１００の製造方法は、準備工程を含む。
　準備工程は、図４に示すガラスパネルユニットの仕掛り品１０を用意する工程である。仕掛り品１０は、ガス吸着体４４が活性化されていないことを除いて、ガラスパネルユニット１００と同じ構造を有する。また、仕掛り品１０は、図５及び図６に示すガラスパネルユニットの組立て品１１から形成される。
　準備工程は、組立工程（図７～図１１参照）と、溶融工程（図１２参照）と、排気工程（図１２～図１３参照）と、封止工程（図１２、図１４、及び図１５参照）と、活性化工程（図１６及び図１７参照）と、を含む。
　組立工程は、組立て品１１を用意する工程である。
　組立て品１１は、図５及び図６に示すように、第１及び第２ガラス板１，２と、周壁４１０と、を備える。また、組立て品１１は、第１及び第２ガラス板１，２と周壁４１０とで囲まれた内部空間５１０を有する。更に、組立て品１１は、内部空間５１０内に、ガス吸着体４４と、複数のピラー（スペーサ）４３と、堰部材４９と、を備える。更に、組立て品１１は、排気口５０を備える。組立て品１１では、内部空間５１０が排気されていなく、周壁４１０と堰部材４９とが溶融硬化されていなく、排気口５０が封止されていない。
　周壁４１０は、封着材（熱接着剤）から形成される。周壁４１０は、第１ガラス板１と第２ガラス板２との間に配置される。周壁４１０は、図６に示すように、枠状である。特に、周壁４１０は、矩形の枠状である。周壁４１０は、第１及び第２ガラス板１，２の外周に沿って形成されている。これにより、組立て品１１では、周壁４１０と第１ガラス板１と第２ガラス板２とで囲まれた内部空間５１０が形成される。
　堰部材４９は、封着材（熱接着剤）を含む。堰部材４９は、第２ガラス板２上で、かつ内部空間５１０内に形成されている。堰部材４９は、排気口５０の外周に沿うようにして、一部が切り欠かれた環状（たとえばＣ字状）の形状を有する。堰部材４９は、周壁４１０から離間されているものの、周壁４１０に近づけて形成されている。すなわち、堰部材４９は、内部空間５１０の端に形成されている。堰部材４９は、周壁４１０と同じ封着材を含む。
　第１ガラス板１は、図６に示すように、本体１５と、赤外線反射膜４５と、排気口５０とを含む。排気口５０は、本体１５を貫通し、内部空間５１０と外部空間とをつなぐ。赤外線反射膜４５は、内部空間５１０内にあり、本体１５を覆う。赤外線反射膜４５は、本体１５と接触している。本体１５は、第２ガラス板２と同様の板状である。
　第２ガラス板２は、図６に示すように、有底の凹部２ａを備える。凹部２ａは、内部空間５１０内に配置されるようにして形成される。また、凹部２ａは、内部空間５１０に対して第１ガラス板１とは反対側に向かって凹むようにして形成される。
　組立工程は、組立て品１１を得るために、第１ガラス板１、第２ガラス板２、ガス吸着体４４、周壁４１０、堰部材４９、内部空間５１０、排気口５０、凹部２ａ、及び複数のピラー４３を形成する工程である。組立工程は、第１～第７工程を有する。なお、第４～第６工程の順番は、適宜変更してもよい。
　第１工程は、第１ガラス板１及び第２ガラス板２を形成する工程（ガラス板形成工程）である。例えば、第１工程では、第１ガラス板１及び第２ガラス板２を板状に作製する。また、第１工程では、必要に応じて、第１ガラス板１及び第２ガラス板２を洗浄する。
　第２工程は、排気口５０を形成する工程である。第２工程では、図７に示すように、第１ガラス板１に、排気口５０を形成する。また、第２工程では、必要に応じて、第１ガラス板１を洗浄する。
　第３工程は、凹部２ａを形成する工程である。第３工程は、図８に示すように、第２ガラス板２に、凹部２ａを形成する。また、第３工程では、必要に応じて、第２ガラス板２を洗浄する。
　第４工程は、ピラー４３を形成する工程（ピラー形成工程）である。第３工程では、複数のピラー４３を予め形成しておき、チップマウンタなどを利用して、複数のピラー４３を、第２ガラス板２の所定位置に配置する。なお、複数のピラー４３は、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を利用して形成されていてもよい。この場合、複数のピラー４３は、光硬化性材料などを用いて形成される。あるいは、複数のピラー４３は、周知の薄膜形成技術を利用して形成されていてもよい。
　第５工程は、周壁４１０、及び堰部材４９を配置する工程（封着材配置工程）である。第５工程では、ディスペンサなどを利用して、第２ガラス板２の外周に沿って封着材を第２ガラス板２上に塗布して枠状の封着材を形成し、その後枠状の封着材を乾燥させて周壁４１０を形成する（図９参照）。また、ディスペンサなどを利用して、周壁４１０に近い位置で周壁４１０から離間させながら封着材を第２ガラス板２上に塗布して一部が切り欠かれた環状の封着材を形成し、その後環状の封着材を乾燥させて堰部材４９を形成する（図９参照）。なお、第５工程では、枠状の封着材と環状の封着材とを乾燥させるとともに、仮焼成してもよい。例えば、枠状の封着材と環状の封着材とが形成された第２ガラス板２を４８０℃で２０分間加熱する。この場合、第１ガラス板１を第２ガラス板２と一緒に加熱してもよい。つまり、第１ガラス板１を第２ガラス板２と同じ条件（４８０℃で２０分間）で加熱してもよい。これにより、第１ガラス板１と第２ガラス板２との反りの差を低減できる。
　第６工程は、ガス吸着体４４を配置する工程（ガス吸着配置工程）である。第６工程では、チップマウンタなどを利用して、ガス吸着体４４を凹部２ａ内に配置させる。
　第１工程から第６工程が終了することで、図９に示されるような、第２ガラス板２が得られる。この第２ガラス板２には、周壁４１０、堰部材４９、凹部２ａ、ガス吸着体４４及び複数のピラー４３が形成されている。本実施形態では、第１工程～第６工程が終了してから第７工程が行われる。
　第７工程は、第１ガラス板１と第２ガラス板２とを配置する工程（配置工程）である。第７工程では、図１０に示すように、第１ガラス板１と第２ガラス板２とは、互いに平行かつ対向するように配置される。
　上述した組立工程によって、図１１に示す組立て品１１が得られる。そして、組立工程の後には、図１２に示すような、溶融工程（接合工程）と、排気工程と、封止工程と、活性化工程とが実行される。
　溶融工程は、焼成炉内で実行される。溶融工程は、第１所定温度（溶融温度）Ｔｍで、周壁４１０を溶融させ、溶融後の周壁４１０で第１ガラス板１と、第２ガラス板２とを気密に接合する工程である。具体的には、組立て品１１は、焼成炉内に配置される。その後組立て品１１は、溶融温度Ｔｍで第１所定時間（溶融時間）ｔｍだけ加熱される（図１２参照）。また、溶融工程では、堰部材４９も溶融され、溶融後の堰部材４９は第１ガラス板１と、第２ガラス板２とを気密に接合する。溶融温度Ｔｍは、封着材の軟化点以上に選択される。溶融温度Ｔｍは、好ましくは、５００℃以下であり、より好ましくは、３５０℃以下であり、さらにより好ましくは、３００℃以下である。また、本実施形態の一例で、ガス吸着体４４を大気中で加熱する場合、ガス吸着体４４中の金属ゲッタ材は３５０℃で失活しやすい。このため、溶融温度Ｔｍは、３５０℃未満に選択されることが好ましい。また、第１ガラス板１と、第２ガラス板２とのうち少なくとも一方のガラス板が強化ガラスを含む場合、溶融温度Ｔｍは、好ましくは、３００℃以下に選択される。封着材の軟化点は、例えば、２６５℃である。なお、溶融時間ｔｍは、例えば、第１及び第２ガラス板１，２の大きさ、及び周壁４１０の大きさに応じて任意に選択される。
　また、本実施形態では、溶融工程後、封止工程を実行するために焼成炉内の温度が下げられる。これにより、周壁４１０が硬化して枠体４１となり、堰部材４９が硬化して堰部材４７となる。
　排気工程は、焼成炉内で、排気口５０を介して内部空間５１０を排気して真空空間５２とする工程である。排気は、例えば、真空ポンプを用いて行われる。真空ポンプは、図１３に示されるように、減圧機構７１により組立て品１１に接続される。減圧機構７１は、排気ヘッド７５と、接続部７５３と、押圧機構７３と、を備える。接続部７５３は、排気ヘッド７５と、真空ポンプとをつなぐ。排気ヘッド７５は、その内部と、内部空間５１０とを排気口５０を介してつなぐようして組立て品１１に押し当てられる。具体的には、排気ヘッド７５は、第１ガラス板１のうち排気口５０の開口を囲む部分に、気密に押し当てられる。そして、排気ヘッド７５内の空気が、接続部７５３を通じて吸引（図１３中の白抜き矢印参照）されると、排気口５０を通じて、内部空間５１０が排気される。押圧機構７３は、排気ヘッド７５の内部に設けられている。押圧機構７３は、減圧機構７１によって真空空間５２を維持した状態で、排気口５０に挿入された孔封止材４２を、第２ガラス板２に向けて押し込むように構成されている。排気工程中、排気口５０に、排気口５０の内径よりも小さい径の孔封止材４２とプレート４６が挿入される（図１３参照）。プレート４６は、孔封止材４２と押圧機構７３との間に介在している。この状態で、孔封止材４２とプレート４６は、押圧機構７３により、第２ガラス板２に向けて弾性的に押し込まれる。孔封止材４２は、例えばガラスフリットを用いて形成された固形の封止材である。孔封止材４２は、ブロック状の形状を有するが、上下に貫通した筒状の形状を有することも好ましい。
　本実施形態では、排気工程は、図１２に示すように、溶融工程の途中から開始される。したがって、溶融工程においても、排気口５０を介して内部空間５１０が排気される。そのため、組立て品１１の内外の圧力差が生じ、この圧力差によって、第１及び第２ガラス板１，２が互いに接近するように移動させられる。これによって、第１及び第２ガラス板１，２に反りがある場合でも、周壁４１０によって第１ガラス板１と第２ガラス板２とを気密に接合しやすくなる。また、排気工程が溶融工程の途中から開始されることで、溶融工程中に周壁４１０及び堰部材４９から放出された不要なガス等が排気される。このため、図４に示すような仕掛り品１０の真空空間５２内に不要なガスを残留させにくくできる。
　封止工程は、排気口５０内に挿入された孔封止材４２を局所加熱して溶融させ、溶融後の孔封止材４２で排気口５０を封止する工程である。封止工程は、焼成炉内で実行される。封止工程中、図１２に示すように、排気工程は継続して実行される。また封止工程における焼成炉内の温度は、溶融温度Ｔｍ以下の第２所定温度（封止温度）Ｔｓに保持される。具体的には、焼成炉内の温度は、溶融温度Ｔｍよりも低い封止温度Ｔｓに保持される。封止工程では、封止温度Ｔｓよりも高い温度で孔封止材４２だけが局所加熱されて溶融する。このため、排気口５０の封止後、真空空間５２に残留するガスの量を軽減できる。封止温度Ｔｓは、例えば、２５０℃である。
　本実施形態では、封止工程は、図１４に示すように、加熱機構７２を用いて実行される。加熱機構７２は、組立て品１１に対して排気ヘッド７５とは反対側に配置される。加熱機構７２は、排気口５０に挿入された孔封止材４２を、非接触で加熱するように構成されている。この場合、孔封止材４２は加熱機構７２により局所加熱されているため、組立て品１１の温度は封止温度Ｔｓに保持されている。
　加熱機構７２は、照射器７２０を含む。照射器７２０は、第２ガラス板２を介して、孔封止材４２に赤外線（近赤外線）を照射し、孔封止材４２を加熱するように構成されている。
　封止工程中、加熱機構７２と押圧機構７３の両方を実行させることで、真空空間５２が維持されたまま、排気口５０が孔封止材４２により封止される。この場合、孔封止材４２を溶融させ、溶融した孔封止材４２が堰部材４７の内周側にある空間内に留められる。その後、溶融した孔封止材４２が硬化することで、排気口５０は封止される。
　つまり、封止工程では、加熱機構７２によって孔封止材４２が加熱溶融され、かつ、押圧機構７３がプレート４６を介して及ぼす付勢力によって、孔封止材４２が第２ガラス板２に向けて押し付けられる。孔封止材４２は、真空空間５２内において堰部材４７の内周面に当たるまで変形する。堰部材４７に設けられた切欠き部分は、変形した孔封止材４２によって封止される。
　排気口５０を封止することで、排気ヘッド７５を取り外しても、真空空間５２を維持させることができる。排気ヘッド７５を取り外すにあたって、溶融した孔封止材４２を、除熱によって硬化させる。排気口５０を孔封止材４２で封止させた後、排気工程を停止させる。これにより、図４及び図１５示すような仕掛り品１０が得られる。排気工程及び封止工程の終了後、仕掛り品１０は、焼成炉から取り出される。
　本実施形態では、排気工程及び封止工程の後、活性化工程が実行される。
　活性化工程は、焼成炉外で実行される。活性化工程は、図１６に示すように、ガス吸着体４４を局所加熱することでガス吸着体４４を活性化させる工程である。活性化工程中、仕掛り品１０のうち、ガス吸着体４４周辺を除く全体の温度は、室温程度であってもよい。活性化工程では、図１６に示す局所加熱機構６によって、所定の活性化温度に至るまでガス吸着体４４は局所加熱される。局所加熱機構６は、第２ガラス板の外側に配置され、かつ第２ガラス板２に対向している。
　ガス吸着体４４の活性化温度は、金属ゲッタ材及び第２ガラス板２の材料に応じて任意に選択される。活性化温度は、例えば、第２ガラス板２の軟化点よりも低い。この場合、活性化工程で第２ガラス板２を破損させにくくできる。また、活性化工程中、ガス吸着体４４は局所加熱されるため、枠体４１及び堰部材４７は再溶融しない。活性化温度は、例えば、４００～６００℃の範囲内で選択される。
　局所加熱機構６は、レーザーを出射するように構成された照射器６１を含む（図１６参照）。これにより、照射器６１からのレーザーを第２ガラス板２を介してガス吸着体４４に照射することができる。このため、ガス吸着体４４は非接触で局所加熱される。ガス吸着体４４を局所加熱することで、活性化工程の作業効率を向上させることができる。
　本実施形態では、活性化工程でガス吸着体４４を活性化させるとで、図１及び図１７に示すようなガラスパネルユニット１００が得られる。
　本実施形態に係る製造方法では、仕掛り品１０とガラスパネルユニット１００との熱コンダクタンス差は、１２Ｗ／ｍ２Ｋ以下であることが好ましい。この場合、仕掛り品１０の真空空間５２にガスが残留していても、このガスを活性化後のガス吸着体４４で吸着させ、ガラスパネルユニット１００の真空空間５２にガスを残留しにくくすることができる。このため、ガラスパネルユニット１００の真空空間５２の品質を向上させることができ、ガラスパネルユニット１００の断熱性を向上させることができる。すなわち、ガラスパネルユニット１００の熱コンダクタンスを０．０５Ｗ／ｍ２Ｋ以下にできる。より好ましくは、熱コンダクタンス差は、１０Ｗ／ｍ２Ｋ以下である。この場合、ガラスパネルユニット１００の熱コンダクタンスを０．０２５Ｗ／ｍ２Ｋ以下にできる。特に好ましくは、熱コンダクタンス差は、８Ｗ／ｍ２Ｋ以下である。この場合、ガラスパネルユニット１００の熱コンダクタンスを略０Ｗ／ｍ２にできる。
　ガラスパネルユニット１００の熱コンダクタンスは、図１８に示すように、第１温度計Ｔｈ１と、第２温度計Ｔｈ２と、加温部８１と、冷却部８２と、熱流計９と、を用いて測定される。
　熱流計９は、熱流計本体９１と、センサ９２とを備える。センサ９２は、熱流計本体９１に接続されている。熱流計本体９１は、センサ９２で検出された単位面積当たりの熱流束を表示するように構成されている。
　図１８の例では、ガラスパネルユニット１００は、加温部８１と、冷却部８２と仕切るようにして配置されている。そして、第１ガラス板の外面に第１温度計Ｔｈ１が配置され、第２ガラス板の外面に第２温度計Ｔｈ２と、センサ９２とが配置されている。この場合、ガラスパネルユニット１００を介して加温部８１から冷却部８２に伝えられた熱の流束をセンサ９２で検出される。また、第１温度計Ｔｈ１で第１ガラス板１の表面温度が測定され、第２温度計Ｔｈ２で第２ガラス板２の表面温度が測定される。このようにして測定された熱流束と、第１ガラス板１の表面温度と、第２ガラス板２の表面温度と、を下記式（１）に導入することで、ガラスパネルユニット１００の熱コンダクタンスが算出される。
　Ｑ＝Ｃ（Ｔ１－Ｔ２）　・・・（１）
式（１）中、Ｑは熱流束（Ｗ／ｍ２）を示し、Ｔ１は第１ガラス板１の表面温度（Ｋ）を示し、Ｔ２は第２ガラス板２の表面温度（Ｋ）を示し、Ｃは熱コンダクタンス（Ｗ／ｍ２Ｋ）を示す。
　また、仕掛り品１０の熱コンダクタンスは、ガラスパネルユニット１００の熱コンダクタンスと同様にして算出される。
　２．変形例
　本開示の実施形態は、上記実施形態に限定されない。上記実施形態は、本開示の目的を達成できれば、設計等に応じて種々の変更が可能である。以下に、上記実施形態の変形例を列挙する。
　上記実施形態では、ガラスパネルユニット１００は矩形状であるが、ガラスパネルユニット１００は、円形状や多角形状など所望の形状であってもよい。つまり、第１ガラス板１、第２ガラス板２、及び枠体４１は、矩形状ではなく、円形状や多角形状など所望の形状であってもよい。また、堰部材４７の形状は、Ｃ字状ではなく、一部が切り欠かれた多角形の環状であってもよい。なお、周壁４１０及び堰部材４９の形状は、上記実施形態の形状に限定されず、所望の形状のガラスパネルユニット１００が得られるような形状であればよい。なお、ガラスパネルユニット１００の形状や大きさは、ガラスパネルユニット１００の用途に応じて決定される。
　上記実施形態では、堰部材４９の高さは、周壁４１０よりも低く、ピラー４３よりも高い。しかし、堰部材４９の高さは、周壁４１０と同じであってもよい。
　第１及び第２ガラス板１，２は同じ平面サイズを有していなくてもよいし、同じ厚みを有していなくてもよい。また、第１及び第２ガラス板１，２は同じ材料で形成されていなくてもよい。
　上記実施形態では、第１ガラス板１は、赤外線反射膜４５を備えているが、赤外線反射膜４５の代わりに、所望の物理特性を有する膜を備えてもよい。また、第１ガラス板１は、本体１５のみから構成されてもよい。すなわち、第１ガラス板１は、赤外線反射膜４５を備えなくてもよい。
　周壁４１０（枠体４１）は、封着材に加えて、芯材等の他の要素を備えていてもよい。堰部材４９（堰部材４７）は、封着材に加えて、芯材等の他の要素を備えていてもよい。
　また、組立て品１１では、周壁４１０は第１及び第２ガラス板１，２間にあるだけでこれらを接合していない。しかしながら、組立て品１１の段階で、周壁４１０が第１及び第２ガラス板１，２同士を接合していてもよい。要するに、組立て品１１では、周壁４１０は第１及び第２ガラス板１，２間にあればよく、これらを接合していることは必須ではない。
　上記実施形態では、排気口５０は、第１ガラス板１に形成されている。しかし、排気口５０は、第２ガラス板２に形成されていてもよい。この場合、ガス吸着体４４は、第１ガラス板１に形成される。この変形例に係る封止工程では、第１ガラス板１を介して孔封止材４２を局所加熱させる。排気口５０は、第１ガラス板１と第２ガラス板２とのうちの一方に形成される。
　上記実施形態の封止工程では、排気口５０は、孔封止材４２を溶融させることにより封止される。しかし、図２０に示すように、排気口５０は、封止部（キャップ）４２ａにより封止されてもよい。封止部４２ａは、図１９に示すような排気管５１のうち、排気口５０の近傍を局所加熱して溶融切断することにより形成される。排気管５１は、第２工程において排気口５０に接続される。排気管５１の内面は排気口５０に接続されている。これにより、排気管５１は、排気口５０を介して内部空間５１０につながっている。また、排気管５１は、排気工程において、真空ポンプに接続される。これにより、内部空間５１０は、排気管５１と排気口５０とを介して排気される。また、図１９の例では、排気管５１は、第１ガラス板１に形成されている。しかし、上記実施形態の変形例では、排気管５１は、第２ガラス板２又は周壁４１０に形成されてもよい。すなわち、排気管５１は、第１ガラス板１と第２ガラス板２と周壁４１０のうちの一方に形成されていることが好ましい。この場合、排気口５０は、排気管５１と内部空間５１０との間にある。また、封止部４２ａは、第１ガラス板１と第２ガラス板２と枠体４１のうちの一方に形成されていることが好ましい。この場合、排気口５０は、真空空間５２と封止部４２ａとの間にある。なお、排気管５１は、例えば、孔封止材４２と同様のガラスフリットを用いて筒状に形成されている。この場合、排気管５１は、封止工程において、上記実施形態と同様の温度で、加熱機構７２により局所加熱される。
　上記実施形態の活性化工程では、第２ガラス板２を介してガス吸着体４４を局所加熱している。しかし、ガス吸着体４４は、第１ガラス板１を介して局所加熱されてもよい。
　上記実施形態では、ガス吸着体４４は、凹部２ａ内に配置されている。しかし、ガス吸着体４４は、ピラー４３と同じ平面に配置されてもよい。すなわち、第２ガラス板２は、凹部２ａを備えなくてもよい。
　上記実施形態では、ガス吸着体４４は、タブレット状であるが、他の形状であってもよい。また、ガス吸着体４４は、必ずしも真空空間５２の端にある必要はない。
　上記実施形態では、ガラスパネルユニット１００は真空空間５２を備えているが、真空空間５２の代わりに、減圧空間を備えてもよい。減圧空間は、減圧状態となった内部空間５１０である。減圧状態とは、圧力が大気圧より低い状態であればよい。
　３．態様
　上記実施形態及び変形例から明らかなように、本開示は、下記の態様を含む。以下では、実施形態との対応関係を明示するためだけに、符号を括弧付きで付している。
　第１態様は、ガラスパネルユニットの製造方法であって、組立工程と、接合工程と、排気工程と、封止工程と、活性化工程と、を含む。前記組立工程は、組立て品（１１）を用意する工程である。組立て品（１１）は、第１ガラス板（１）と、第２ガラス板（２）と、周壁（４１０）と、内部空間（５１０）と、ガス吸着体（４４）と、排気口（５０）と、を備える。第２ガラス板（２）は第１ガラス板（１）に対向する。周壁（４１０）は、第１ガラス板（１）と第２ガラス板（２）との間にある。周壁（４１０）は、枠状である。内部空間（５１０）は、第１ガラス板（１）と、第２ガラス板（２）と、周壁（４１０）とで囲まれている。ガス吸着体（４４）は、内部空間（５１０）内に配置されている。排気口（５０）は、内部空間（５１０）と外部空間とをつなぐ。前記接合工程は、第１所定温度（Ｔｍ）の焼成炉内で、周壁（４１０）を溶融させ、溶融後の周壁（４１０）で第１ガラス板（１）と第２ガラス板（２）とを気密に接合させる工程である。前記排気工程は、前記焼成炉内で、排気口（５０）を介して内部空間（５１０）を排気して真空空間（５２）とする工程である。前記封止工程では、前記焼成炉内を第１所定温度（Ｔｍ）以下の第２所定温度（Ｔｓ）に保持する。前記封止工程は、排気口（５０）内に挿入された孔封止材（４２）、または排気口（５０）に接続された排気管（５１）を第２所定温度（Ｔｓ）よりも高い温度で局所加熱することにより溶融させて排気口（５０）を封止する工程である。前記封止工程では、仕掛り品（１０）を得る。前記活性化工程は、前記封止工程後にガス吸着体（４４）を活性化させる工程である。前記活性化工程では、ガラスパネルユニット（１００）を得る。
　第１態様によれば、真空空間（５２）中にガスを残留しにくくすることができる。
　第２態様は、第１態様のガラスパネルユニットの製造方法であって、前記封止工程中、孔封止材（４２）は、第１ガラス板（１）と第２ガラス板（２）とのうち、排気口（５０）が形成されていないガラス板を介して局所加熱される。
　第２態様によれば、真空空間（５２）中にガスを残留しにくくすることができる。
　第３態様は、第１又は第２態様のガラスパネルユニットの製造方法であって、内部空間（５１０）を排気しながら排気口（５０）を封止する。
　第３態様によれば、真空空間（５２）中にガスを残留しにくくすることができる。
　第４態様は、第１～第３態様のうちのいずれか１つのガラスパネルユニットの製造方法であって、ガス吸着体（４４）は、金属ゲッタ材を含有する。
　第４態様によれば、真空空間（５２）中にガスを残留しにくくすることができる。
　第５態様は、第１～第４態様のうちのいずれか１つのガラスパネルユニットの製造方法であって、ガス吸着体（４４）は、チタン、バナジウム、及び鉄を含有する。
　第５態様によれば、真空空間（５２）中にガスを残留しにくくすることができる。
　第６態様は、第１～第５態様のうちのいずれか１つのガラスパネルユニットの製造方法であって、周壁（４１０）は、ガラスフリットを含有する。第１所定温度（Ｔｍ）は、前記ガラスフリットの軟化点以上の温度に選択される。
　第６態様によれば、真空空間（５２）中にガスを残留しにくくすることができる。
　第７態様は、第１～第６態様のうちのいずれか１つのガラスパネルユニットの製造方法であって、仕掛り品（１０）とガラスパネルユニット（１００）との熱コンダクタンス差が、１２Ｗ／ｍ２Ｋ以下である。
　第７態様によれば、真空空間（５２）中にガスを残留しにくくすることができる。
　１００　ガラスパネルユニット
　１０　仕掛り品
　１１　組立て品
　１　第１ガラス板
　２　第２ガラス板
　４１０　周壁
　４２　孔封止材
　４４　ガス吸着体
　５０　排気口
　５１　排気管
　５１０　内部空間
　５２　真空空間
　Ｔｍ　第１所定温度（溶融温度）
　Ｔｓ　第２所定温度（封止温度）

Claims (7)

  1. 　組立工程と、接合工程と、排気工程と、封止工程と、活性化工程と、を含み、
    　前記組立工程は、組立て品を用意する工程であり、
    　前記組立て品は、
    　第１ガラス板と、
    　前記第１ガラス板に対向する第２ガラス板と、
    　前記第１ガラス板と前記第２ガラス板との間にある枠状の周壁と、
    　前記第１ガラス板と、前記第２ガラス板と、前記周壁とで囲まれた内部空間と、
    　前記内部空間内に配置されたガス吸着体と、
    　前記内部空間と外部空間とをつなぐ排気口とを備え、
    　前記接合工程は、第１所定温度の焼成炉内で前記周壁を溶融させ、溶融後の前記周壁で前記第１ガラス板と前記第２ガラス板とを気密に接合させる工程であり、
    　前記排気工程は、前記焼成炉内で、前記排気口を介して前記内部空間を排気して真空空間とする工程であり、
    　前記封止工程は、前記焼成炉内を前記第１所定温度以下の第２所定温度に保持し、前記排気口内に挿入された孔封止材、または前記排気口に接続された排気管を前記第２所定温度よりも高い温度で局所加熱することにより溶融させて前記排気口を封止することで、仕掛り品を得る工程であり、
    　前記活性化工程は、前記封止工程後に前記ガス吸着体を活性化させることで、ガラスパネルユニットを得る工程である、
    　ガラスパネルユニットの製造方法。
  2. 　前記封止工程中、前記孔封止材は、前記第１ガラス板と前記第２ガラス板とのうち、前記排気口が形成されていないガラス板を介して局所加熱される、
    　請求項１に記載のガラスパネルユニットの製造方法。
  3. 　前記内部空間を排気しながら前記排気口を封止する、
    　請求項１又は２に記載のガラスパネルユニットの製造方法。
  4. 　前記ガス吸着体は、金属ゲッタ材を含有する、
    　請求項１～３のいずれか１項に記載のガラスパネルユニットの製造方法。
  5. 　前記ガス吸着体は、チタン、バナジウム、及び鉄を含有する、
    　請求項１～４のいずれか１項に記載のガラスパネルユニットの製造方法。
  6. 　前記周壁は、ガラスフリットを含有し、
    　前記第１所定温度は、前記ガラスフリットの軟化点以上の温度に選択される、
    　請求項１～５のいずれか１項に記載のガラスパネルユニットの製造方法。
  7. 　前記仕掛り品と前記ガラスパネルユニットとの熱コンダクタンス差が、１２Ｗ／ｍ２Ｋ以下である、
    　請求項１～６のいずれか１項に記載のガラスパネルユニットの製造方法。
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