JP2003507845A - ゲッターを有する真空排気されたガラスパネル - Google Patents

ゲッターを有する真空排気されたガラスパネル

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JP2003507845A JP2001517019A JP2001517019A JP2003507845A JP 2003507845 A JP2003507845 A JP 2003507845A JP 2001517019 A JP2001517019 A JP 2001517019A JP 2001517019 A JP2001517019 A JP 2001517019A JP 2003507845 A JP2003507845 A JP 2003507845A
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glass
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Abstract

(57)【要約】 二枚の互いに離間されたガラスシート（１０及び１２）によって形成されるチャンバ（１８）と溶融エッジシール（１６）とを備える真空排気されたガラスパネル、特に真空排気された複層ガラス、を製造する方法。前記方法は、前記両ガラスシート（１０）及び（１２）を複数のピラー（１４）を使用して離間関係に配置する工程と、前記両ガラスシート間に形成される前記チャンバの領域（２２）内にゲッター（２０，２１又は２３）を配置する工程とを有する。前記両ガラスシート（１０及び１２）のエッジの周りに可溶性シーラント材（１６）が堆積され、前記両ガラスシート間の空間に不活性ガスを導入することによって、両ガラスシート間から空気を排出する。前記不活性ガスの導入後、前記シーラント材が溶融されて、このシーラント材の溶融によって形成される前記チャンバ内に前記不活性ガスを維持しながら、前記両ガラスシートの周囲に溶融エッジシール（１６）が形成される。その後、前記チャンバを真空排気し、使用されるゲッター（２０，２１又は２３）のタイプに応じて、前記チャンバの真空排気後、又は、前記両ガラスシートの周囲の前記エッジシールの溶融中に、前記ゲッターが活性化される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】発明の分野 本発明は、ゲッターを有する真空排気されたガラスパネルと、このパネルの製
造方法とに関する。前記真空排気されたパネルは、二枚の離間されたガラスシー
ト間に位置するチャンバと、このチャンバを包囲する溶融シールとを備えて形成
される。
【０００２】 本発明は、特に、真空排気された複層ガラスに適用され、以後、このコンテク
ストで説明される。しかしながら、本発明は、たとえば、ガラスディスプレイパ
ネルの製造等を含む、より広い用途を有するものと理解されるであろう。
【０００３】発明の背景 電子管や真空複層ガラス等の、永久封止され真空排気された装置又は構造体に
於いて、効果的な性能の為に必要とされる圧力レベル（たとえば真空圧）は、大
気圧と比較して非常に低い。電子管等の装置に於いては、その内部圧は通常１０ -3 Ｐａ以下であり、真空複層ガラス等の断熱構造体に於いて、その圧力は通常１
０-1Ｐａ以下である。
【０００４】 装置又は構造体内の真空状態の安定性は、真空排気及び封止後に於けるその装
置又は構造体の内表面からのガスの低放出に依存する。従って、安定した真空状
態が維持されなければならない装置又は構造体は、通常、排気を行いながら、表
面（吸着）及びバルク（吸収）ガスをできるだけ多く放出するべく高温の脱離（
outgassing）処理を受ける。脱離ができるだけ迅速に行われるように、これは、
通常、可能な限り最も高い温度で行われる。
【０００５】 前記脱離工程に加えて、電子管等のいくつかの永久真空排気装置に於いては、
その真空状態の維持を助けるために、少量の高反応性材（即ち、「ゲッター」）
が、装置内部に配置される。適当なゲッター材としては、アルミニウム、バリウ
ム、ストロンチウム、チタン、及びジルコニウム等の化学的に活性な金属材が含
まれる。
【０００６】 ゲッターは、それらの装置からの放出されうる大半の種類の気体原子と、安定
、不活性、低蒸気圧の化合物の形成を提供し、これによって、それら装置の内部
容積部からの気体原子を効果的に除去する。しかしながら、ゲッターは、そのゲ
ッター自身が製造工程中に於いて劣化しない場合にのみ使用することができる。
【０００７】 ゲッターの劣化は、空気中に於いて約４００℃の昇温状態にまで加熱される時
に発生するので、二枚の離間したガラスシートによって形成されるチャンバと、
溶融エッジシールとを有する真空排気ガラス構造体に活性ゲッターを設けること
はこれまで実施不能であった。これは、前記溶融エッジシールが、中に含まれる
空気の排出に先立って、ゲッターを内部に配置したまま構造体全体を４００℃を
超える温度にまで加熱することを必要とするからである。前記溶融シールを形成
するためにガラス構造体のエッジを局所的に加熱すること（構造体全体を加熱す
ることの代替手段として）は、それによって、ガラスシートに対して過度の応力
がかかることから適当ではなく、溶融シールを形成するための局所的加熱は、一
般に、電子管等の円筒状ガラス装置に於いてのみ適したものである。
【０００８】発明の要旨 本発明は、上述した困難を避けることを課題とするものであり、広義には、二
枚の離間したガラスシートによって形成されたチャンバと、溶融エッジシールと
を備える真空排気されたガラスパネルを製造する方法を提供するものと定義でき
る。この方法は以下の工程を有する、 （ａ）前記両ガラスシートを離間関係に配置し、これら両ガラスシート間に形成
される前記チャンバの領域内にゲッターを配置する、 （ｂ）前記両ガラスシートのエッジの周りに可溶性シーラント材を堆積させる、
（ｃ）前記両ガラスシート間から空気を排出する、 （ｄ）前記両ガラスシート間の空間に不活性ガスを導入する、 （ｅ）前記シーラント材の溶融によって形成される前記チャンバ内に前記不活性
ガスを維持しながら、前記シーラント材を溶融して前記両ガラスシートの周囲に
溶融エッジシールを形成する、 （ｆ）前記チャンバを真空排気する、そして （ｇ）前記ゲッターを活性化する。
【０００９】 本発明は、更に、上記方法によって形成される真空排気されたガラスパネル自 身 を提供するものとしても定義することができる。
【００１０】発明の好適な特徴構成 前記方法の工程（ｃ）と（ｄ）は、好ましくは、組み合わされて、前記不活性
ガスは、前記両ガラスシート間から空気を排出するように、これら両ガラスシー
ト間の空間に導入される。
【００１１】 前記空気は、好ましくは、前記シーラント材の溶融の前に、前記両ガラスシー
トのエッジの周りに堆積される前記シーラント材を介して排出される。
【００１２】 前記ゲッターの性質により、それは、空気の排出及び前記不活性ガスの導入後
、いつでも活性化することができる。前記ゲッターが非蒸発性タイプのものであ
る場合、このゲッターは、好ましくは、前記方法工程（ｅ）が行われる時に活性
化される。即ち、両ガラスシートを、前記シーラント材の溶融を行い、かつ、前
記ゲッターを活性化するのに十分な温度にまで実質的に均一に加熱することによ
って、行われる。前記ゲッターが蒸発性タイプのものである場合には、このゲッ
ターは、好ましくは、前記チャンバの真空排気後に活性化される。
【００１３】 前記ゲッターが蒸発性タイプのものである場合は、このゲッターは、電気接続
を介してゲッターに電流を通過させることによって加熱することができる。或い
は、誘導加熱工程によって、加熱電流が誘導されゲッターを流れるように構成す
ることもできる。この後者の場合、ガラスパネルの外側に誘導コイルを配置し、
これを起動させて高周波エネルギをゲッターに送るように構成することができる
。
【００１４】 本発明は、本発明を実施するその好適及び別実施例に関する以下の記載からよ
り完全に理解されるであろう。この記載は、添付の図面を参照して提供される。
【００１５】図面の簡単な説明 図面に於いて、 図１は、ゲッターを備える真空排気された複層ガラスとして構成されるパネル
を示した図であり、 図２は、非蒸発性ゲッターを使用した場合の前記真空排気された複層ガラスの
製造の順次工程を示すフローチャートであり、 図３は、蒸発性ゲッターを使用した場合の前記真空排気された複層ガラスの製
造の順次工程を示すフローチャートであり、 図４Ａ〜４Ｄは、第１の方法による製造中に於ける、前記真空排気された複層
ガラスの一部の断面図であり、 図５は、図４に図示した構成の変形例を図示し、 図６Ａ〜６Ｄは、第２の方法による製造中に於ける、前記真空排気された複層
ガラスの一部の断面図であり、 図７Ａ〜７Ｄは、第３の方法による製造中に於ける、前記真空排気された複層
ガラスの一部の断面図であり、そして 図８Ａ〜８Ｄは、第４の方法による製造中に於ける、前記真空排気された複層
ガラスの一部の断面図である。
【００１６】発明の実施例の詳細説明 図面の図１に図示されているように、真空排気された複層ガラスは、ピラー１
４の配列によって互いに離間関係に維持されている二枚の面状シート１０及び１
２を有する。これらガラスシート１０及び１２は、一般に、下記の寸法を有する 表面積 ０．０２−４．００ｍ2 シート厚 ２．０−５．０ｍｍ シート間隔 ０．１０−０．２０ｍｍ
【００１７】 上側のガラスシート１０は、下側のガラスシート１２よりも僅かに小さな周寸
法を有し、これらガラスシートの周部の周りにエッジシール１６を形成するため
に溶融はんだガラスが使用されている。前記離間ガラスシート１０及び１２と前
記溶融エッジシール１６とによってチャンバ１８が形成され、このチャンバは、
約１０-1Ｐａ以下の圧力にまで真空排気されている。これによって、両ガラスシ
ート１０及び１２間に、その他の熱流機構と比較して無視できる程度の熱伝導が
発生する。
【００１８】 前記両ガラスシート間の前記チャンバ１８の領域２２内に、ゲッター２０，２
１又は２３が配置され、これは、前記チャンバ内の真空状態を維持する目的で活
性化される。このゲッターは、非蒸発性又は蒸発性のものとすることができ、図
２及び３は、それぞれのタイプのゲッターを使用して真空排気された複層ガラス
を製造する順次工程を含むフローチャートを提供している。
【００１９】 図２及び３に示されている手順工程は、図４〜８に図示されている構成のいず
れとも実行可能である。
【００２０】 図４Ａ〜４Ｄに図示された構成に於いて、前記二枚のガラスシート１０及び１
２は、最初、離間対向関係に配置され、ペースト状のはんだガラス１６が、これ
らシートの辺縁エッジの周りに、上側ガラスシート１０の垂直エッジに接触し、
かつ、下側ガラスシート１２の水平突出部分上に載置される状態で堆積される。
前述したように、これら両ガラスシート１０及び１２は、これら対向するガラス
シート間に前記チャンバ１８が位置する状態で、図１に図示されているように、
前記ピラー１４によって離間関係に維持されている。
【００２１】 ペレット状の非蒸発性ゲッター２０が、前記チャンバ１８の前記領域２２に配
置される。前記領域２２は、前記下側ガラスシート１２に凹部として形成されて
いる。
【００２２】 前記上側ガラスシート１０には排気通路２４が設けられ、この通路２４の上端
部にはガラス製排気チューブ２６が接続されて上側ガラスシート１０の上面を超
えて延出している。ペースト状のはんだガラスの別の堆積材２８が、ガラスシー
ト１０の上面上の前記排気チューブ２６の周囲に配置されている。
【００２３】 前記上側ガラスシート１０の上面には真空排気具３０が取り外し可能に取り付
けられている。この真空排気具は、環状凹部３２を備え、ここから、空気が、真
空排気ライン３４に接続されたポンプ（図示せず）によって排出される。前記凹
部３２の真空排気によって、前記ガラスシート１０の上面と前記真空排気具の平
坦部３６との間にシールが形成される。
【００２４】 前記真空排気具３０と上側ガラスシート１０間にシールが形成されると、アル
ゴン等の不活性ガスを、ガス供給ライン３８を介して前記チャンバ１８に導入す
る。ガスは、真空排気具３０の中央凹部４０へと流入し、前記通路２４を通って
チャンバ１８に入る。
【００２５】 前記はんだガラス１６は、図４Ａに図示されているように、溶融の前には通気
性を維持しており、前記不活性ガスのチャンバ１８への導入によって、この未溶
融ハンダガラスを介したチャンバ１８からの空気の排出が起こる。チャンバ１８
からすべての空気が排出されると、前記ゲッター２０は不活性ガスによって包囲
される。
【００２６】 前記チャンバ１８から空気が排出されると、内部の不活性ガスを含み、図４Ａ
に示される完全な構成は、炉チャンバ（図示せず）内で熱に晒され、完全な構造
体が、図４Ｂに示されているように、溶融はんだガラスシール１６及び２８を形
成するのに十分なレベルにまで加熱される。不活性ガスの流入は、はんだガラス
堆積材１６及び２８が溶融して両ガラスシートのエッジの周りと、更に、前記排
気チューブ２６の周りとに於いて不透過性のシールを形成するまで、維持される
。これにより、前記ゲッター２０は、前記加熱工程中ずっと不活性ガス環境内に
留め置かれる。
【００２７】 前記完全構成は、前記はんだガラスシール１６及び２８を溶融させるために約
４５０℃の温度にまで加熱され、そしてこの温度は前記非蒸発性ゲッター２０を
活性化するのに十分なものである。
【００２８】 前記ゲッター２０の活性化は、このゲッターの表面上に元から存在する酸化物
層が破断する結果として起こる。これによって、未反応の反応性材がゲッター２
０を包囲するガス分子に晒される。
【００２９】 前記ゲッターの表面上の元から存在する酸化物層は、ゲッターが、たとえ室温
に於いても、空気に晒される時に元々形成されているものである。従って、万一
、ゲッター２０が活性化の時に空気によって包囲されていたならば、ゲッター２
０の反応性材は、空気の気体分子と急速に反応することになる。しかしながら、
前記不活性ガスの気体分子は、ゲッター２０の材料と化合物を形成しないので、
ゲッターが不活性ガスによって包囲されている場合には反応は起こらず、これに
よって、ゲッターは、元の酸化物層が破断し、不活性ガスがチャンバ１８から排
出された後に於いても活性を保つ。
【００３０】 その後、前記完全構成は、前記チャンバ１８内に不活性ガスを留め置きしなが
ら、前記溶融シール１６及び２８の固化を起すべく徐々に冷却される。通常は約
４００℃の温度で発生する溶融シールの固化が起こると、前記不活性ガスの供給
を終了し、図４Ｃに示されているように、チャンバ１８を、前記ガラス製排気チ
ューブ２６と、かつてガス供給ライン３８であったラインとを介して真空排気す
る。この目的で、前記ライン３８には真空ポンプ（図示せず）が接続されている
。前記真空排気工程中、前記完全構造体は、チャンバ１８の内部表面の脱離を行
うために、通常は、約２５０℃以上の昇温状態に維持される。前記真空排気工程
が完了すると、前記ガラス製排気チューブ２６を、図４Ｄに図示されているよう
な構造体を形成するべく、その開口端部を溶かすことによって封止する。この目
的の為に、前記真空排気具３０内には抵抗加熱コイル４２が配置され、外部電源
に電気接続されている。
【００３１】 前記ガラス製排気チューブ２６が閉じられた後、前記真空排気具の中央凹部４
０と環状凹部３２とを通気し、この真空排気具を真空排気された複層ガラスから
取り外す。
【００３２】 図５は、図４（特に図４Ａ）の構造に対する代替構造が図示されており、ここ
では、細長いゲッター２１が設けられ、これが二枚のガラスシート１０及び１２
の間に挟まれている。この構成に依れば、図４に示した実施例に於いて図示され
た凹部２２を設ける必要が無くなる。
【００３３】 図６Ａ〜６Ｄは、図４Ａ〜４Ｄの構成に類似の構成を図示し、類似の部品は類
似の参照番号によって示されている。しかしながら、図６Ａ〜６Ｄの構成は、チ
ャンバ１８内の真空状態を最終的に維持するために蒸発性（非蒸発性と異なる）
のゲッター２３が使用される実施例である。
【００３４】 前記蒸発性ゲッター２３は、ステンレス鋼等の金属から形成される円筒リング
状ハウジング４４内に収納される。前記ハウジング４４は、下側ガラスシート１
２の前記凹部２２の底部に面する開口下端部を有する。更に、このハウジング４
４は、該ハウジングと前記ガラスシート１２との間の低熱伝導を提供する細長い
指状支持部材４６によって前記凹部２２内に位置保持されている。
【００３５】 図６Ａ〜６Ｄに図示した構造は、図４Ａ〜４Ｄとの関連に於いて前述したのと
同様の方法で製造、加工される。即ち、チャンバ１８への不活性ガスの導入によ
ってチャンバ１８内から空気が排出され、溶融シール１６及び２８を形成するべ
く完全構造体が加熱される。しかしながら、溶融シールの形成中に前記ゲッター
２３を劣化から保護するために不活性ガスを使用することが必要ではあるが、前
記ガラスはんだ溶融を行うために必要な熱のレベルは、前記蒸発性ゲッターを活
性化するのに十分ではない。蒸発性ゲッターの活性化は、ゲッター内の未反応の
バルク材が蒸発して始めて起こる。
【００３６】 その活性化の前にゲッター２３を保護する必要性について次に説明する。
【００３７】 前記非蒸発性ゲッターの場合と同様、蒸発性ゲッターの外側層は、ゲッターが
たとえ室温でも空気に最初に晒された時に、気体分子と即座に反応する。もしも
、ゲッターが前記シール形成加熱工程中に空気に晒されたならば、ゲッターの劣
化を引き起こすのに十分なレベルの反応が起こるであろう。非蒸発性ゲッターの
場合と同様、蒸発性ゲッターの反応済み外側層は、約４５０℃の温度で破断し、
これによって未反応のバルク材を空気に晒す。これによって、このバルク材と空
気中の気体分子との間で即座の反応が起こり、その結果、蒸発性ゲッターの劣化
が起こるであろう。
【００３８】 前記不活性ガスの導入、前記溶融シール１６及び２８の形成、及び前記チャン
バ１８の完全な真空排気の後、前記蒸発性ゲッター２３を、約８００℃の温度に
まで加熱することによって活性化する。これは、前記ハウジング４４に電流を通
過させることによって、或いは、前記下側ガラスシート１２の外側に位置するコ
イル（図示せず）からハウジング材に高周波エネルギを送ることによって達成す
ることができる。
【００３９】 前記ハウジング４４のための前記指状支持部材４６は、ゲッターの加熱中に於
いて、ハウジング４４とガラスシート１２との間の熱伝導を最小化するべく作用
する。ハウジング４４とガラスシート１２との間に大きな熱伝導があれば、前記
蒸発性ゲッター２３をその蒸発の為に必要な温度にまで加熱することがほとんど
不可能になってしまうであろう。更に、ハウジング４４とガラスシート１０，１
２間の熱伝達を最小化することによって、両ガラスシートは、局所的な加熱によ
って発生するような、過度の応力を受けない。
【００４０】 前記蒸発工程の結果、活性ゲッター材の膜４８が、前記凹部２２の底部に堆積
され、これが、長期に渡るチャンバ１８内の必要な真空状態の維持を提供する。
【００４１】 図７Ａ〜７Ｄ及び８Ａ〜８Ｄは、それぞれ、図４Ａ〜４Ｄ及び６Ａ〜６Ｄのも
のに類似の構成を図示している。しかしながら、これら図７及び図８の実施例に
於いては、前記真空排気具３０の使用は省略され、ガスの導入と排出は、一つの
ガラスチューブ５０を介して行われる。このガラスチューブ５０は、その上端部
を、前記真空排気された複層ガラスがその製造工程中に配置される加熱チャンバ
（図示せず）の外側に位置させるのに十分な長さを有する。これは、ガス供給／
排出用継手（図示せず）が加熱工程によって劣化するＯリングを備える場合に、
これら取り付け具をガラスチューブ５０に接続することを可能にするために必要
とされる。
【００４２】 添付のクレームに定義された本発明の範囲から逸脱することなく、上述した本
発明に於いてその他の改造及び改変を行うことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】 ゲッターを備える真空排気された複層ガラスとして構成されたパネルを示した図
【図２】 非蒸発性ゲッターを使用した場合の前記真空排気された複層ガラスの製造の順次
工程を示すフローチャート
【図３】 蒸発性ゲッターを使用した場合の前記真空排気された複層ガラスの製造の順次工
程を示すフローチャート
【図４】 １の方法による製造中に於ける、真空排気された複層ガラスの一部の断面図
【図５】 図４に図示した構成の変形例を示した図
【図６】 第２の方法による製造中に於ける、真空排気された複層ガラスの一部の断面図
【図７】 第３の方法による製造中に於ける、真空排気された複層ガラスの一部の断面図
【図８】 第４の方法による製造中に於ける、真空排気された複層ガラスの一部の断面図
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１３年８月２８日（２００１．８．２８）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】発明の要旨 本発明は、上述した困難を避けることを課題とするものであり、広義には、二
枚の離間したガラスシートによって形成されたチャンバと、溶融エッジシールと
を備える真空排気されたガラスパネルを製造する方法を提供するものと定義でき
る。この方法は以下の工程を有する、 （ａ）前記両ガラスシートを離間関係に配置し、これら両ガラスシート間に形成
される前記チャンバの領域内にゲッターを配置する、 （ｂ）前記両ガラスシートのエッジの周りに可溶性シーラント材を堆積させる、
（ｃ）前記両ガラスシート間から空気を排出する、 （ｄ）前記両ガラスシート間の空間に不活性ガスを導入する、 （ｅ）前記ゲッターを実質的に不活性化するべく前記チャンバ内の前記不活性ガ
スを維持しながら、前記シーラント材を溶融して前記両ガラスシートの周囲に溶
融エッジシールを形成して前記チャンバを形成する、 （ｆ）前記チャンバを真空排気する、そして （ｇ）前記ゲッターを活性化する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ， ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ， ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＢＺ，Ｃ Ａ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ ，ＤＺ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ， ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，Ｋ Ｅ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ， ＭＷ，ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，Ｒ Ｕ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ， ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ 【要約の続き】 ートの周囲の前記エッジシールの溶融中に、前記ゲッタ ーが活性化される。

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 二枚の離間したガラスシートによって形成されたチャンバと
    、溶融エッジシールとを備える真空排気されたガラスパネルを製造する方法であ
    って、この方法は以下の工程を有する、 （ａ）前記両ガラスシートを離間関係に配置し、これら両ガラスシート間に形成
    される前記チャンバの領域内にゲッターを配置する、 （ｂ）前記両ガラスシートのエッジの周りに可溶性シーラント材を堆積させる、
    （ｃ）前記両ガラスシート間から空気を排出する、 （ｄ）前記両ガラスシート間の空間に不活性ガスを導入する、 （ｅ）前記シーラント材の溶融によって形成される前記チャンバ内に前記不活性
    ガスを維持しながら、前記シーラント材を溶融して前記両ガラスシートの周囲に
    溶融エッジシールを形成する、 （ｆ）前記チャンバを真空排気する、そして （ｇ）前記ゲッターを活性化する。
  2. 【請求項２】 前記不活性ガスは、前記両ガラスシート間から空気を排出す
    るように、これら両ガラスシート間の前記空間に導入される、請求項１に記載の
    方法。
  3. 【請求項３】 前記シーラント材はガラスはんだであり、前記空気は、前記
    シーラント材の溶融の前に、このシーラント材を通して排出される、請求項２に
    記載の方法。
  4. 【請求項４】 前記エッジシールの溶融は、前記両ガラスシート、前記ゲッ
    ター、及び前記内在不活性ガスとを有する完全構造体を炉チャンバ内で加熱する
    ことによって行われる、請求項１〜３の何れか一項に記載の方法。
  5. 【請求項５】 前記ゲッターは、非蒸発性ゲッターであり、前記ゲッターは
    、前記完全構造体の加熱中に熱活性化される、請求項４に記載の方法。
  6. 【請求項６】 前記ゲッターは、非蒸発性ゲッターであり、前記ゲッターは
    、前記チャンバの真空排気後に熱活性化される、請求項４に記載の方法。
  7. 【請求項７】 前記ゲッターが配置される前記領域は、前記ガラスシートの
    一方に形成された凹部である、請求項１〜６の何れか一項に記載の方法。
  8. 【請求項８】 前記ゲッターは、前記両ガラスシート間に挟まれる、請求項
    １〜６の何れか一項に記載の方法。
  9. 【請求項９】 前記ゲッターは、前記ガラスシートの一方に形成されて前記
    チャンバ内へ開口する凹部内に配置された金属製ハウジング内に収納される、請
    求項６に記載の方法。
  10. 【請求項１０】 前記ハウジングは、このハウジングと前記凹部が形成され
    た前記ガラスシートとの間の熱伝導を最小化するための指状部材によって前記凹
    部内に保持される、請求項９に記載の方法。
  11. 【請求項１１】 前記ゲッターは、外部電流源から前記ハウジングに加熱電
    流を通過させることによって熱活性化される、請求項９又は１０に記載の方法。
  12. 【請求項１２】 前記ゲッターは、このゲッターの近傍に取り外し可能に配
    置された外部誘導コイルによって熱活性化される、請求項９又は１０に記載の方
    法。
  13. 【請求項１３】 請求項１〜１２の何れか一項に記載の方法によって製造さ
    れる真空排気された複層ガラスとして構成される真空排気されたガラスパネル。
  14. 【請求項１４】 添付図面の図４〜８のいずれかを参照してここに実質的に
    記載された真空排気された複層ガラスの製造方法。
  15. 【請求項１５】 添付図面の図４〜８のいずれかを参照してここに記載され
    た方法によって製造される真空排気された複層ガラスとして構成されたガラスパ
    ネル。
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