JP2001293355A - 真空容器へのゲッター材の導入法及びその導入装置 - Google Patents
真空容器へのゲッター材の導入法及びその導入装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】真空容器内に効率よく活性化されたゲッター材
を導入する。 【解決手段】ブラウン管、プラズマディスプレー、蛍光
表示管、魔法瓶などの真空容器において、真空容器とは
別のチャンバー内でゲッター材を活性化させ、そのゲッ
ター材を冷却後に真空容器内に搬送し、その後該真空容
器の排気開口部の封止を行う。
を導入する。 【解決手段】ブラウン管、プラズマディスプレー、蛍光
表示管、魔法瓶などの真空容器において、真空容器とは
別のチャンバー内でゲッター材を活性化させ、そのゲッ
ター材を冷却後に真空容器内に搬送し、その後該真空容
器の排気開口部の封止を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ブラウン管、プラ
ズマディスプレー、蛍光表示管、魔法瓶などの真空容器
内を効率よく排気し、その系の圧力を長期にわたって保
持する技術に関する。
ズマディスプレー、蛍光表示管、魔法瓶などの真空容器
内を効率よく排気し、その系の圧力を長期にわたって保
持する技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】ブラウン管、プラズマディスプレー、蛍
光表示管、魔法瓶などの真空容器の性能は容器内の圧力
や残存気体に依存する。真空容器を長期に使用するにあ
たって系内の脱ガスやリークによる系内の圧力上昇や不
純気体による汚染を防ぐために、一般的にはゲッター材
と呼ばれている化学的に活性な金属を系内に設置し、そ
のゲッター材による気体の吸着作用を利用して、脱ガ
ス、リークにようる系内の圧力上昇や不純気体による汚
染を押さえ、真空容器の長期使用を実現している。
光表示管、魔法瓶などの真空容器の性能は容器内の圧力
や残存気体に依存する。真空容器を長期に使用するにあ
たって系内の脱ガスやリークによる系内の圧力上昇や不
純気体による汚染を防ぐために、一般的にはゲッター材
と呼ばれている化学的に活性な金属を系内に設置し、そ
のゲッター材による気体の吸着作用を利用して、脱ガ
ス、リークにようる系内の圧力上昇や不純気体による汚
染を押さえ、真空容器の長期使用を実現している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記ゲッター
材を化学的に活性化させ気体吸着作用をもたせるために
は、通常９００℃程度の真空系内での加熱が必要で、低
温で活性化できるゲッター材でも４００〜５００℃の加
熱が必要である。そのため、ゲッター材を活性化させる
ために、真空容器を局所的に加熱すると、製品が劣化す
るといった問題が発生する。また、真空容器の局所加熱
を防ぐために排気条件をゲッターの活性化温度と同等で
行うために大がかりな設備が必要であるなどの問題点が
あった。さらには、ゲッター材の活性化を行うときに、
そのゲッター材からも一時的ではあるが放出ガスが発生
するために排気効率が低下するといった問題点を有して
いた。
材を化学的に活性化させ気体吸着作用をもたせるために
は、通常９００℃程度の真空系内での加熱が必要で、低
温で活性化できるゲッター材でも４００〜５００℃の加
熱が必要である。そのため、ゲッター材を活性化させる
ために、真空容器を局所的に加熱すると、製品が劣化す
るといった問題が発生する。また、真空容器の局所加熱
を防ぐために排気条件をゲッターの活性化温度と同等で
行うために大がかりな設備が必要であるなどの問題点が
あった。さらには、ゲッター材の活性化を行うときに、
そのゲッター材からも一時的ではあるが放出ガスが発生
するために排気効率が低下するといった問題点を有して
いた。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は以上の問題点を
鑑みてなされたものである。その手段として、真空容器
の製造において、該真空容器の排気開口部に接続されて
いる排気経路に、ゲッター材の活性化経路を接続し、ゲ
ッター材を加熱して活性化し、活性化されたゲッター材
を冷却した後、該ゲッター材を該真空容器内まで搬送す
ることを特徴とする真空容器内へのゲッター材の導入方
法である。
鑑みてなされたものである。その手段として、真空容器
の製造において、該真空容器の排気開口部に接続されて
いる排気経路に、ゲッター材の活性化経路を接続し、ゲ
ッター材を加熱して活性化し、活性化されたゲッター材
を冷却した後、該ゲッター材を該真空容器内まで搬送す
ることを特徴とする真空容器内へのゲッター材の導入方
法である。
【０００５】また、ゲッター材が蒸発型の場合、活性化
経路でゲッター材を加熱して被蒸着体に蒸着し、ゲッタ
ー材を蒸着した被蒸着体を真空容器へ導入することを特
徴としている。
経路でゲッター材を加熱して被蒸着体に蒸着し、ゲッタ
ー材を蒸着した被蒸着体を真空容器へ導入することを特
徴としている。
【０００６】そして、これらの方法でゲッター材を導入
する装置は、真空容器の排気開口部に接続されている排
気経路に、ゲッター材の活性化経路が接続され、該活性
化経路がゲッター材の搬送装置を有し、ゲッター材を活
性化する区域と活性化したゲッター材を冷却する区域と
からなることを特徴としていることが好ましい。
する装置は、真空容器の排気開口部に接続されている排
気経路に、ゲッター材の活性化経路が接続され、該活性
化経路がゲッター材の搬送装置を有し、ゲッター材を活
性化する区域と活性化したゲッター材を冷却する区域と
からなることを特徴としていることが好ましい。
【０００７】
【発明の実施の形態】真空容器とはブラウン管、プラズ
マディスプレー、蛍光表示管、魔法瓶などである。真空
容器内の排気時に該真空容器の排気開口部に排気経路を
接続する。この排気経路は、ステンレス鋼製、ガラス
製、ブタジエンゴム、ポリプロピレン、テフロン（登録
商標）、ポリエチレンなどの有機高分子製などの材料で
構成されていることが好ましい。また、この経路は主排
気ポンプと連結される。この排気ポンプは限定されるも
のではないが、ロータリーポンプ、油拡散ポンプ、メカ
ニカルブースターポンプ、ソープションポンプ、クライ
オポンプ、ターボ分子ポンプ、ドライポンプなどが目標
到達圧力や使用目的に応じ組み合わせて使用される。こ
の排気経路にゲッター材を活性化経路を接続する。該接
続経路には、ゲッター材を搬送する装置を組み込んでお
く。この接続経路は、ステンレス鋼製、ガラス製、ブタ
ジエンゴム、ポリプロピレン、テフロン、ポリエチレン
などの有機高分子製などの材料で構成されていることが
好ましい。また、接続経路には、排気経路との間にゲー
トバルブと活性化したゲッターを冷却するための冷却区
域を設けていることが好ましい。また、ゲッター材を活
性化させる区域に排気経路へのゲートバルブとは別の箇
所、好ましくは排気経路へのゲートバルブとは同一直線
上の反対側にゲートバルブを設け排気ポンプを有する隣
接区域を設けると大気と真空系の緩衝地帯とすることが
でき活性化前のゲッターを導入しやすくなり好ましい。
上記緩衝地帯用の排気ポンプは、限定されるものではな
いが、ロータリーポンプ、油拡散ポンプ、メカニカルブ
ースターポンプ、ソープションポンプ、クライオポン
プ、ターボ分子ポンプ、ドライポンプなどが到達目標圧
力や使用目的に応じ組み合わせて使用される。
マディスプレー、蛍光表示管、魔法瓶などである。真空
容器内の排気時に該真空容器の排気開口部に排気経路を
接続する。この排気経路は、ステンレス鋼製、ガラス
製、ブタジエンゴム、ポリプロピレン、テフロン（登録
商標）、ポリエチレンなどの有機高分子製などの材料で
構成されていることが好ましい。また、この経路は主排
気ポンプと連結される。この排気ポンプは限定されるも
のではないが、ロータリーポンプ、油拡散ポンプ、メカ
ニカルブースターポンプ、ソープションポンプ、クライ
オポンプ、ターボ分子ポンプ、ドライポンプなどが目標
到達圧力や使用目的に応じ組み合わせて使用される。こ
の排気経路にゲッター材を活性化経路を接続する。該接
続経路には、ゲッター材を搬送する装置を組み込んでお
く。この接続経路は、ステンレス鋼製、ガラス製、ブタ
ジエンゴム、ポリプロピレン、テフロン、ポリエチレン
などの有機高分子製などの材料で構成されていることが
好ましい。また、接続経路には、排気経路との間にゲー
トバルブと活性化したゲッターを冷却するための冷却区
域を設けていることが好ましい。また、ゲッター材を活
性化させる区域に排気経路へのゲートバルブとは別の箇
所、好ましくは排気経路へのゲートバルブとは同一直線
上の反対側にゲートバルブを設け排気ポンプを有する隣
接区域を設けると大気と真空系の緩衝地帯とすることが
でき活性化前のゲッターを導入しやすくなり好ましい。
上記緩衝地帯用の排気ポンプは、限定されるものではな
いが、ロータリーポンプ、油拡散ポンプ、メカニカルブ
ースターポンプ、ソープションポンプ、クライオポン
プ、ターボ分子ポンプ、ドライポンプなどが到達目標圧
力や使用目的に応じ組み合わせて使用される。
【０００８】上記ゲッター材搬送装置のゲッター材荷台
にステンレス鋼、鉄鋼、チタン鋼、ニッケル鋼、セラミ
ックス、ガラス製の材料を使用することが好ましい。
にステンレス鋼、鉄鋼、チタン鋼、ニッケル鋼、セラミ
ックス、ガラス製の材料を使用することが好ましい。
【０００９】また、上記ゲッター材の活性化区域にはゲ
ッター材を活性化させるための加熱システムを組み込ん
でおり、その加熱方式としては、コイルで発生した磁界
により、ゲッター内部に誘導電流を発生させる方式、ゲ
ッター内部に電流を流し、ジュール熱を発生させ加熱す
る方式、電熱ヒータでゲッターを直接加熱する方式、レ
ーザーや赤外線による方式、活性化区域全体を加熱する
方式などが採用できる。
ッター材を活性化させるための加熱システムを組み込ん
でおり、その加熱方式としては、コイルで発生した磁界
により、ゲッター内部に誘導電流を発生させる方式、ゲ
ッター内部に電流を流し、ジュール熱を発生させ加熱す
る方式、電熱ヒータでゲッターを直接加熱する方式、レ
ーザーや赤外線による方式、活性化区域全体を加熱する
方式などが採用できる。
【００１０】非蒸発型のゲッター材を使用する場合に
は、搬送装置の荷台にゲッター材を配置し、ゲッター材
の活性化区域が所定の圧力になった後で、ゲッター材を
加熱し活性化させる。
は、搬送装置の荷台にゲッター材を配置し、ゲッター材
の活性化区域が所定の圧力になった後で、ゲッター材を
加熱し活性化させる。
【００１１】蒸発型のゲッター材を使用する場合には、
搬送装置の荷台に被蒸着物を配置し、ゲッター材の活性
化区域が所定の圧力になった後で、ゲッター材を加熱し
蒸発させ被蒸着物に蒸着させ、活性なゲッター材を得
る。被蒸着物の材質は耐熱性があれば特に材質は問わな
いが金属、ガラス、セラミックス製が好ましい。
搬送装置の荷台に被蒸着物を配置し、ゲッター材の活性
化区域が所定の圧力になった後で、ゲッター材を加熱し
蒸発させ被蒸着物に蒸着させ、活性なゲッター材を得
る。被蒸着物の材質は耐熱性があれば特に材質は問わな
いが金属、ガラス、セラミックス製が好ましい。
【００１２】また、使用するゲッター材としては、非蒸
発型では、Ｚｒを主成分とする合金でＺｒ−Ａｌ系、Ｚ
ｒ−Ｖ−Ｆｅ系、Ｚｒ−Ｔｉ系などの合金でバルク形状
や多孔質形状のものが採用できる。蒸発型ではＢａ、Ｂ
ａ−Ａｌ系、Ｔｉ系の金属、合金などが採用できる。
発型では、Ｚｒを主成分とする合金でＺｒ−Ａｌ系、Ｚ
ｒ−Ｖ−Ｆｅ系、Ｚｒ−Ｔｉ系などの合金でバルク形状
や多孔質形状のものが採用できる。蒸発型ではＢａ、Ｂ
ａ−Ａｌ系、Ｔｉ系の金属、合金などが採用できる。
【００１３】活性化されたゲッター材を冷却後、主排気
経路まで搬送し、上記荷台中の貫通孔から棒を挿入しゲ
ッター材を真空容器内へと導入し、真空容器の封止を行
う。
経路まで搬送し、上記荷台中の貫通孔から棒を挿入しゲ
ッター材を真空容器内へと導入し、真空容器の封止を行
う。
【００１４】
【実施例】実施例１ 図１は、本発明の実施例１における真空容器への活性化
されたゲッター材の導入装置、真空容器の排気装置およ
び真空容器を示す概略断面図である。排気ポンプ４で主
排気経路５を０．０１Ｐａまで減圧する。ゲッター材導
入区域６へ、ゲートバルブ１１から非蒸発型のゲッター
材９（Ｚｒ８４％-Ａｌ１６％からなる合金）をＮｉ−
Ｃｒ合金製のゲッター材荷台７上に配置する。荷台の上
視図を図２に示す。ゲートバルブ１１を締めゲッター材
導入区域６を排気ポンプ１２で所定の圧力まで減圧す
る。ゲートバルブ１１’を開け、ゲッター材搬送用棒１
０にてゲッター材９をゲッター材活性化区域１４まで搬
送し、ゲートバルブ１１’を締める。高周波コイル１５
に電流を流し、ゲッター材荷台７に誘導電流を発生さ
せ、荷台７を加熱するとともにゲッター材９を加熱し、
ゲッター材を活性化されたゲッター材９’とする。その
後、ゲッター材９’を冷却区域１７まで搬送し、真空容
器２と同程度の温度まで冷却する。
されたゲッター材の導入装置、真空容器の排気装置およ
び真空容器を示す概略断面図である。排気ポンプ４で主
排気経路５を０．０１Ｐａまで減圧する。ゲッター材導
入区域６へ、ゲートバルブ１１から非蒸発型のゲッター
材９（Ｚｒ８４％-Ａｌ１６％からなる合金）をＮｉ−
Ｃｒ合金製のゲッター材荷台７上に配置する。荷台の上
視図を図２に示す。ゲートバルブ１１を締めゲッター材
導入区域６を排気ポンプ１２で所定の圧力まで減圧す
る。ゲートバルブ１１’を開け、ゲッター材搬送用棒１
０にてゲッター材９をゲッター材活性化区域１４まで搬
送し、ゲートバルブ１１’を締める。高周波コイル１５
に電流を流し、ゲッター材荷台７に誘導電流を発生さ
せ、荷台７を加熱するとともにゲッター材９を加熱し、
ゲッター材を活性化されたゲッター材９’とする。その
後、ゲッター材９’を冷却区域１７まで搬送し、真空容
器２と同程度の温度まで冷却する。
【００１５】ゲッター材９’の冷却後ゲートバルブ１
１’’を開け、ゲッター材９’を主排気経路５’まで搬
送しゲッター材搬送棒１０’にてゲッター材９’を真空
容器２内に導入した。
１’’を開け、ゲッター材９’を主排気経路５’まで搬
送しゲッター材搬送棒１０’にてゲッター材９’を真空
容器２内に導入した。
【００１６】その後、図示しない加熱装置で排気管３を
加熱し、排気管３の管内を融着封止し、真空容器２（図
３）を得た。このようにして真空容器２内に活性化され
たゲッター材９’を導入することによって真空容器２に
ゲッター材を活性化させるための加熱負荷が不要となり
効率良く真空容器を製造することができた。 実施例２ 図４は、本発明の実施例２における真空容器への活性化
されたゲッター材の導入装置、真空容器の排気装置およ
び真空容器を示す概略断面図である。
加熱し、排気管３の管内を融着封止し、真空容器２（図
３）を得た。このようにして真空容器２内に活性化され
たゲッター材９’を導入することによって真空容器２に
ゲッター材を活性化させるための加熱負荷が不要となり
効率良く真空容器を製造することができた。 実施例２ 図４は、本発明の実施例２における真空容器への活性化
されたゲッター材の導入装置、真空容器の排気装置およ
び真空容器を示す概略断面図である。
【００１７】ゲッター材導入区域６内の中央に貫通孔２
４を持ったＮｉ−Ｃｒ合金製のゲッター材荷台７上に真
空封止用の蓋２１（４２−６合金）と非蒸発型のゲッタ
ー材９を配置する。本実施例におけるゲッター材荷台７
の上視図を図５に示す。
４を持ったＮｉ−Ｃｒ合金製のゲッター材荷台７上に真
空封止用の蓋２１（４２−６合金）と非蒸発型のゲッタ
ー材９を配置する。本実施例におけるゲッター材荷台７
の上視図を図５に示す。
【００１８】ゲッター材導入区域６を所定の圧力まで減
圧後、ゲッター材をゲッター材活性化区域１４まで搬送
する。ゲッター材活性化区域１４中でゲッター材荷台７
と電源１６を継手２２で接続し、荷台７に電流を流しＮ
ｉ−Ｃｒ合金を発熱させゲッター材９を加熱して活性化
させると同時に真空封止蓋２１を加熱する。
圧後、ゲッター材をゲッター材活性化区域１４まで搬送
する。ゲッター材活性化区域１４中でゲッター材荷台７
と電源１６を継手２２で接続し、荷台７に電流を流しＮ
ｉ−Ｃｒ合金を発熱させゲッター材９を加熱して活性化
させると同時に真空封止蓋２１を加熱する。
【００１９】その後、活性化されたゲッタ材９’と真空
封止蓋２１を冷却区域１７まで搬送し、排気開始前に主
排気経路５’に配設された真空封止蓋用接着剤２３（例
えば、ガラス軟化温度が４００℃の低融点ガラスはん
だ）の接着温度まで冷却し、活性化されたゲッタ材９’
と真空封止蓋２１を主排気経路５’まで搬送し、貫通孔
２４を通して、ゲッター材搬送棒１０’にて活性化され
たゲッタ材９’と真空封止蓋２１を真空容器２まで導入
し、接着剤２３を冷却することで真空容器２を得た。
（図６） このようにして真空容器２内に活性化されたゲッター材
９’を導入することによって真空容器２にゲッター材を
活性化させるための加熱負荷が不要となり効率良く真空
容器を製造することができた。 実施例３ 図７は、本発明の実施例３における真空容器への活性化
されたゲッター材の導入装置、真空容器の排気装置及び
真空容器を示す概略断面図である。
封止蓋２１を冷却区域１７まで搬送し、排気開始前に主
排気経路５’に配設された真空封止蓋用接着剤２３（例
えば、ガラス軟化温度が４００℃の低融点ガラスはん
だ）の接着温度まで冷却し、活性化されたゲッタ材９’
と真空封止蓋２１を主排気経路５’まで搬送し、貫通孔
２４を通して、ゲッター材搬送棒１０’にて活性化され
たゲッタ材９’と真空封止蓋２１を真空容器２まで導入
し、接着剤２３を冷却することで真空容器２を得た。
（図６） このようにして真空容器２内に活性化されたゲッター材
９’を導入することによって真空容器２にゲッター材を
活性化させるための加熱負荷が不要となり効率良く真空
容器を製造することができた。 実施例３ 図７は、本発明の実施例３における真空容器への活性化
されたゲッター材の導入装置、真空容器の排気装置及び
真空容器を示す概略断面図である。
【００２０】ゲッター材導入区域６内の図８の形状を有
するＮｉ−Ｃｒ合金製のコイル状のゲッター材荷台７の
コイル内に蒸発型のゲッター材９（Ｂａ−Ａｌ合金）を
配置し、貫通孔２４を有するセラミックス製の荷台７’
上に真空封止用の蓋２１（４２−６合金）を配置する。
本実施例における荷台７’の上視図を図９に示す。
するＮｉ−Ｃｒ合金製のコイル状のゲッター材荷台７の
コイル内に蒸発型のゲッター材９（Ｂａ−Ａｌ合金）を
配置し、貫通孔２４を有するセラミックス製の荷台７’
上に真空封止用の蓋２１（４２−６合金）を配置する。
本実施例における荷台７’の上視図を図９に示す。
【００２１】ゲッター材導入区域６を所定の圧力まで減
圧後、ゲッター材をゲッタ材活性化区域１４まで搬送す
る。ゲッター材活性化区域１４中でゲッター材荷台７の
Ｎｉ−Ｃｒ合金のコイルに電流を流すことで発熱し、ゲ
ッター材９を蒸発させ、活性化されたゲッター材を真空
封止蓋２１に蒸着する。その後、活性化されたゲッタ材
が蒸着された真空封止蓋を真空容器２まで搬送し、真空
封止を行い、真空容器２を得た。（図１０） このようにして真空容器２内に活性化されたゲッター材
を導入することによって真空容器２にゲッター材を活性
化させるための加熱負荷が不要となり効率良く真空容器
を製造することができた。
圧後、ゲッター材をゲッタ材活性化区域１４まで搬送す
る。ゲッター材活性化区域１４中でゲッター材荷台７の
Ｎｉ−Ｃｒ合金のコイルに電流を流すことで発熱し、ゲ
ッター材９を蒸発させ、活性化されたゲッター材を真空
封止蓋２１に蒸着する。その後、活性化されたゲッタ材
が蒸着された真空封止蓋を真空容器２まで搬送し、真空
封止を行い、真空容器２を得た。（図１０） このようにして真空容器２内に活性化されたゲッター材
を導入することによって真空容器２にゲッター材を活性
化させるための加熱負荷が不要となり効率良く真空容器
を製造することができた。
【００２２】
【発明の効果】真空容器とは別のチャンバー内でゲッタ
ーを活性化させ、そのゲッターを冷却後に真空容器内に
搬送し、その後該真空容器の排気開口部の封止を行うこ
とで効率よく真空容器内に活性化されたゲッター材を導
入することができる。
ーを活性化させ、そのゲッターを冷却後に真空容器内に
搬送し、その後該真空容器の排気開口部の封止を行うこ
とで効率よく真空容器内に活性化されたゲッター材を導
入することができる。
【図１】本発明の実施例１における排気装置とゲッター
材の活性化装置の概略図である。
材の活性化装置の概略図である。
【図２】本発明の実施例１におけるゲッター材荷台の上
視図である。
視図である。
【図３】本発明の実施例１の装置で作製された真空容器
の概略図である。
の概略図である。
【図４】本発明の実施例２における排気装置とゲッター
材の活性化装置の概略図である。
材の活性化装置の概略図である。
【図５】本発明の実施例２におけるゲッター材荷台の上
視図である。
視図である。
【図６】本発明の実施例２の装置で作製された真空容器
の概略図である。
の概略図である。
【図７】本発明の実施例３における排気装置とゲッター
材の活性化装置の概略図である。
材の活性化装置の概略図である。
【図８】本発明の実施例３におけるコイル状のゲッター
材荷台の概略図である。
材荷台の概略図である。
【図９】本発明の実施例３における真空封止蓋用荷台の
上視図である。
上視図である。
【図１０】本発明の実施例３の装置で作製された真空容
器である。
器である。
１．真空容器排気装置とゲッター材活性化装置 ２．真空容器 ３．排気管 ４．主排気経路の排気ポンプ ５、５’．主排気経路 ６．ゲッター材導入区域 ７．ゲッター材荷台 ８．セラミックス心材 ９、９’．ゲッター材 １０、１０’、１０’’．ゲッター材搬送棒 １１、１１’、１１’’．ゲートバルブ １２．ゲッター材導入区域用排気ポンプ １３．リーク弁 １４．ゲッター材活性化区域 １５．高周波コイル １６．電源 １７．冷却区域 １８．水冷ホース １９．継手 ２０．Ｏ−リング ２１、２１’．真空容器封止蓋 ２２．電源とゲッター材荷台中ヒーターとの継手 ２３．真空封止蓋用接着剤 ２４．貫通孔
Claims (3)
- 【請求項１】真空容器の製造において、該真空容器の排
気開口部に接続されている排気経路に、ゲッター材の活
性化経路を接続し、ゲッター材を加熱して活性化し、活
性化されたゲッター材を冷却した後、該ゲッター材を該
真空容器内まで搬送することを特徴とする真空容器内へ
のゲッター材の導入方法。 - 【請求項２】蒸発型のゲッター材が、活性化経路で加熱
して被蒸着体に蒸着し、ゲッター材を蒸着した被蒸着体
を真空容器へ導入することを特徴とする請求項１に記載
の真空容器内へのゲッター材の導入方法。 - 【請求項３】真空容器の排気開口部に接続されている排
気経路に、ゲッター材の活性化経路が接続され、該活性
化経路がゲッター材の搬送装置を有し、ゲッター材を活
性化する区域と活性化したゲッター材を冷却する区域と
からなることを特徴とする請求項１または２に記載の方
法に用いる真空容器内へのゲッター材の導入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000113048A JP2001293355A (ja) | 2000-04-14 | 2000-04-14 | 真空容器へのゲッター材の導入法及びその導入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000113048A JP2001293355A (ja) | 2000-04-14 | 2000-04-14 | 真空容器へのゲッター材の導入法及びその導入装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001293355A true JP2001293355A (ja) | 2001-10-23 |
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ID=18625091
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|---|---|---|---|
| JP2000113048A Pending JP2001293355A (ja) | 2000-04-14 | 2000-04-14 | 真空容器へのゲッター材の導入法及びその導入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001293355A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111740334A (zh) * | 2020-07-24 | 2020-10-02 | 广东电网有限责任公司惠州供电局 | 一种散热装置 |
| CN112584597A (zh) * | 2019-09-30 | 2021-03-30 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 加热与射频放电等离子体激活大体积吸气剂并增强吸附速率的装置 |
| CN112584595A (zh) * | 2019-09-30 | 2021-03-30 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 射频放电等离子体激活吸气剂并增强其吸附速率的装置 |
| CN112569894A (zh) * | 2019-09-30 | 2021-03-30 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 射频放电等离子体激活大体积吸气剂并增强吸附速率的装置 |
| CN114588738A (zh) * | 2020-12-07 | 2022-06-07 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 双环射频容性耦合放电等离子体加强型吸气剂装置 |
-
2000
- 2000-04-14 JP JP2000113048A patent/JP2001293355A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112584597A (zh) * | 2019-09-30 | 2021-03-30 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 加热与射频放电等离子体激活大体积吸气剂并增强吸附速率的装置 |
| CN112584595A (zh) * | 2019-09-30 | 2021-03-30 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 射频放电等离子体激活吸气剂并增强其吸附速率的装置 |
| CN112569894A (zh) * | 2019-09-30 | 2021-03-30 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 射频放电等离子体激活大体积吸气剂并增强吸附速率的装置 |
| CN112569894B (zh) * | 2019-09-30 | 2022-03-08 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 射频放电等离子体激活大体积吸气剂并增强吸附速率的装置 |
| CN111740334A (zh) * | 2020-07-24 | 2020-10-02 | 广东电网有限责任公司惠州供电局 | 一种散热装置 |
| CN114588738A (zh) * | 2020-12-07 | 2022-06-07 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 双环射频容性耦合放电等离子体加强型吸气剂装置 |
| CN114588738B (zh) * | 2020-12-07 | 2022-11-15 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 双环射频容性耦合放电等离子体加强型吸气剂装置 |
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