JPH11288797A - 熱プラズマ装置 - Google Patents
熱プラズマ装置Info
- Publication number
- JPH11288797A JPH11288797A JP10103871A JP10387198A JPH11288797A JP H11288797 A JPH11288797 A JP H11288797A JP 10103871 A JP10103871 A JP 10103871A JP 10387198 A JP10387198 A JP 10387198A JP H11288797 A JPH11288797 A JP H11288797A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- torch
- cooling water
- pressure
- thermal plasma
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 トーチの各部に循環させている冷却水がチャ
ンバー内に流出させない。 【解決手段】 真空タンク２１内の圧力を水封式真空ポ
ンプ２４によりチャンバー９内の圧力より可成り低く調
整する。そして、真空タンク２１内，導入管４２内及び
排出管４３内の圧力、即ち、トーチ部を冷却するための
冷却水循環系内の圧力を、チャンバー内の圧力より低く
した状態で、トーチ部を冷却しながら、トーチ１内に超
高温の誘導プラズマを発生させ、粉末材料の蒸発，溶
融、放射性廃棄物や鉄等の溶解、又はフロンの分解等を
行う。超高温の誘導熱プラズマがトーチ１の円筒部材２
に触れることにより円筒部材が破損したり、冷却水をシ
ールしているオーリングが破損したり、或いは、腐食に
より前記トーチ１の一部やベース蓋８が破損しても、ト
ーチ１の各部に循環させている冷却水がチャンバー９内
に流出しない。
ンバー内に流出させない。 【解決手段】 真空タンク２１内の圧力を水封式真空ポ
ンプ２４によりチャンバー９内の圧力より可成り低く調
整する。そして、真空タンク２１内，導入管４２内及び
排出管４３内の圧力、即ち、トーチ部を冷却するための
冷却水循環系内の圧力を、チャンバー内の圧力より低く
した状態で、トーチ部を冷却しながら、トーチ１内に超
高温の誘導プラズマを発生させ、粉末材料の蒸発，溶
融、放射性廃棄物や鉄等の溶解、又はフロンの分解等を
行う。超高温の誘導熱プラズマがトーチ１の円筒部材２
に触れることにより円筒部材が破損したり、冷却水をシ
ールしているオーリングが破損したり、或いは、腐食に
より前記トーチ１の一部やベース蓋８が破損しても、ト
ーチ１の各部に循環させている冷却水がチャンバー９内
に流出しない。
Description
【０００１】
【発明の属する分野】本発明は、プラズマトーチを備え
た熱プラズマ装置に関する。
た熱プラズマ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図１は熱プラズマ装置の１つである高周
波誘導熱プラズマ装置の概略を示している。図中１は熱
プラズマ発生用のトーチで、例えば、石英ガラスで形成
された円筒部材２、該円筒部材の上部に取り付けられた
ガスリング３、前記円筒部材２の外側に配置された高周
波コイル４等から形成されている。前記円筒部材２は二
重管構造に形成されており、上部フランジ５と下部フラ
ンジ６との間に取り付けられている。前記ガスリング３
の中央部分にはプローブ７が設けられている。該プロー
ブの中心部にはその長手方向に開口が穿たれており、こ
の開口を介して円筒部材２内に、粉末供給部（図示せ
ず）から被処理用の粉末材料がキャリアガスと共に供給
される。前記下部フランジ６はベース蓋８を介してチャ
ンバー９上に載置されている。このチャンバー９の上に
載っている前記円筒部材２、ガスリング３、高周波コイ
ル４、上部フランジ５、下部フランジ６、プローブ７及
びベース蓋８等を総称してトーチと呼んでいる。
波誘導熱プラズマ装置の概略を示している。図中１は熱
プラズマ発生用のトーチで、例えば、石英ガラスで形成
された円筒部材２、該円筒部材の上部に取り付けられた
ガスリング３、前記円筒部材２の外側に配置された高周
波コイル４等から形成されている。前記円筒部材２は二
重管構造に形成されており、上部フランジ５と下部フラ
ンジ６との間に取り付けられている。前記ガスリング３
の中央部分にはプローブ７が設けられている。該プロー
ブの中心部にはその長手方向に開口が穿たれており、こ
の開口を介して円筒部材２内に、粉末供給部（図示せ
ず）から被処理用の粉末材料がキャリアガスと共に供給
される。前記下部フランジ６はベース蓋８を介してチャ
ンバー９上に載置されている。このチャンバー９の上に
載っている前記円筒部材２、ガスリング３、高周波コイ
ル４、上部フランジ５、下部フランジ６、プローブ７及
びベース蓋８等を総称してトーチと呼んでいる。
【０００３】該チャンバーは排気装置（図示せず）によ
り適宜圧力に排気出来るように構成されている。１０は
高周波電源で、前記高周波コイル４に高周波電力を供給
するものである。尚、２０はチャンバー９を高温から守
り、且つチャンバー９内を高温に保つために、チャンバ
ー内壁の回りに設けられた耐火保温材である。
り適宜圧力に排気出来るように構成されている。１０は
高周波電源で、前記高周波コイル４に高周波電力を供給
するものである。尚、２０はチャンバー９を高温から守
り、且つチャンバー９内を高温に保つために、チャンバ
ー内壁の回りに設けられた耐火保温材である。
【０００４】この様な構成の高周波誘導熱プラズマ装置
において、トーチ１のガスリング３を介してプラズマガ
スを供給すると共に、高周波コイル４に高周波電力を供
給することによりトーチ１内に熱プラズマを形成する。
その後、プローブ７を介して被処理用粉末材料をキャリ
アガスと共に熱プラズマ中に供給し、粉末材料を蒸発及
び溶融させる。該蒸発及び溶融された材料はチャンバー
９内の基板（図示せず）上に膜状に付着する。
において、トーチ１のガスリング３を介してプラズマガ
スを供給すると共に、高周波コイル４に高周波電力を供
給することによりトーチ１内に熱プラズマを形成する。
その後、プローブ７を介して被処理用粉末材料をキャリ
アガスと共に熱プラズマ中に供給し、粉末材料を蒸発及
び溶融させる。該蒸発及び溶融された材料はチャンバー
９内の基板（図示せず）上に膜状に付着する。
【０００５】この様な高周波誘導熱プラズマ装置は、上
記粉末材料の蒸発，溶融による成膜だけではなく、放射
性廃棄物や鉄等の溶解、フロン分解等にも使用され、こ
の様な蒸発，溶融，溶解，分解は前記トーチ１内に発生
させた１万度前後の誘導熱プラズマによるものである。
この様高周波誘導熱プラズマ装置ではトーチ１内に約１
万度の誘導熱プラズマを発生させるので、前記プローブ
７，ガスリング３，円筒部材２及びベース蓋８内部に冷
却水を循環させ、これらが前記誘導熱プラズマの輻射熱
で破損しないように構成している。
記粉末材料の蒸発，溶融による成膜だけではなく、放射
性廃棄物や鉄等の溶解、フロン分解等にも使用され、こ
の様な蒸発，溶融，溶解，分解は前記トーチ１内に発生
させた１万度前後の誘導熱プラズマによるものである。
この様高周波誘導熱プラズマ装置ではトーチ１内に約１
万度の誘導熱プラズマを発生させるので、前記プローブ
７，ガスリング３，円筒部材２及びベース蓋８内部に冷
却水を循環させ、これらが前記誘導熱プラズマの輻射熱
で破損しないように構成している。
【０００６】図中１１は冷却水を収容した循環水用タン
ク、１２は冷却器、１３，１４はポンプである。前記ポ
ンプ１３は循環水用タンク１１内の冷却水を吸引し、前
記プローブ７，ガスリング３，円筒部材２及びベース蓋
８の内部に繋がった導入管１５に冷却水を、例えば、３
〜４ｋｇｆ／ｃｍ2 程度の吐出圧で吐出する。そして、
該プローブ７，ガスリング３，円筒部材２及びベース蓋
８の内部を通過した冷却水はこれらの内部に繋がった排
出管１６を通過して前記循環水用タンク１１に戻され
る。ポンプ１４は循環水用タンク１１の冷却水を吸引
し、冷却器１２に繋がった管１７に吐出する。該冷却器
により冷却された冷却水は管１８を通過して前記循環水
用タンク１１に戻される。この様にして、前記循環水用
タンク１１内に収容された冷却水は常に所定の温度に冷
却され、前記プローブ７，ガスリング３，円筒部材２及
びベース蓋８はこの冷却水の循環により常に冷やされる
ことになる。尚、この冷却水は前記高周波電源１０にも
循環されている。
ク、１２は冷却器、１３，１４はポンプである。前記ポ
ンプ１３は循環水用タンク１１内の冷却水を吸引し、前
記プローブ７，ガスリング３，円筒部材２及びベース蓋
８の内部に繋がった導入管１５に冷却水を、例えば、３
〜４ｋｇｆ／ｃｍ2 程度の吐出圧で吐出する。そして、
該プローブ７，ガスリング３，円筒部材２及びベース蓋
８の内部を通過した冷却水はこれらの内部に繋がった排
出管１６を通過して前記循環水用タンク１１に戻され
る。ポンプ１４は循環水用タンク１１の冷却水を吸引
し、冷却器１２に繋がった管１７に吐出する。該冷却器
により冷却された冷却水は管１８を通過して前記循環水
用タンク１１に戻される。この様にして、前記循環水用
タンク１１内に収容された冷却水は常に所定の温度に冷
却され、前記プローブ７，ガスリング３，円筒部材２及
びベース蓋８はこの冷却水の循環により常に冷やされる
ことになる。尚、この冷却水は前記高周波電源１０にも
循環されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】所で、超高温の誘導熱
プラズマが前記円筒部材２に触れることにより該円筒部
材が破損したり、冷却水をシールしているオーリングが
破損したり、或いは、腐食により前記トーチ１の一部や
ベース蓋８が破損した場合、大体１気圧前後の圧力のチ
ャンバー９に対し、前記ポンプ１３の吐出圧は３〜４ｋ
ｇｆ／ｃｍ2あるので、該吐出圧により前記各部に循環
させている冷却水がチャンバー９内に大量に流出する。
この様な流出により、チャンバー内壁に設けられた耐火
保温材２０が割れてしまったり、チャンバー内で水蒸気
爆発が発生したりする。
プラズマが前記円筒部材２に触れることにより該円筒部
材が破損したり、冷却水をシールしているオーリングが
破損したり、或いは、腐食により前記トーチ１の一部や
ベース蓋８が破損した場合、大体１気圧前後の圧力のチ
ャンバー９に対し、前記ポンプ１３の吐出圧は３〜４ｋ
ｇｆ／ｃｍ2あるので、該吐出圧により前記各部に循環
させている冷却水がチャンバー９内に大量に流出する。
この様な流出により、チャンバー内壁に設けられた耐火
保温材２０が割れてしまったり、チャンバー内で水蒸気
爆発が発生したりする。
【０００８】本発明はこの様な問題を解決することを目
的としたもので、新規な熱プラズマ装置を提供するもの
である。
的としたもので、新規な熱プラズマ装置を提供するもの
である。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の熱プラズマ装置
は、熱プラズマが発生され、該熱プラズマ中に被処理材
料が導入されるように成したトーチ、及び、該トーチに
繋がるチャンバーを備え、トーチ内部に冷却水を循環さ
せてトーチを冷却するように成した熱プラズマ装置にお
いて、前記チャンバー内の圧力よりも冷却水循環経路内
の圧力を低くする様に成した事を特徴とする。又、本発
明の熱プラズマ装置は、熱プラズマが発生され、該熱プ
ラズマ中に被処理材料が導入されるように成したトー
チ、及び、該トーチに繋がるチャンバーを備え、トーチ
内部に冷却水を循環させてトーチを冷却するように成し
た熱プラズマ装置において、冷却水を収容し、内部の圧
力がチャンバー内の圧力より低くされた真空タンク、該
真空タンクと前記トーチを繋ぐ冷却水導入用の管と排出
用の管、及び、前記真空タンク内の冷却水を順次、冷却
水導入用管，前記トーチ内部及び冷却水排出用管に循環
させるポンプを備えた事を特徴とする。又、本発明の熱
プラズマ装置は、真空タンク内に一定量のガスを導入し
つつ、該タンク内の圧力が所定の値になるように、ポン
プにより該タンク内のガスを吸引するように成した事を
特徴とする。又、本発明の熱プラズマ装置は、ポンプが
水封式真空ポンプである事を特徴とする。
は、熱プラズマが発生され、該熱プラズマ中に被処理材
料が導入されるように成したトーチ、及び、該トーチに
繋がるチャンバーを備え、トーチ内部に冷却水を循環さ
せてトーチを冷却するように成した熱プラズマ装置にお
いて、前記チャンバー内の圧力よりも冷却水循環経路内
の圧力を低くする様に成した事を特徴とする。又、本発
明の熱プラズマ装置は、熱プラズマが発生され、該熱プ
ラズマ中に被処理材料が導入されるように成したトー
チ、及び、該トーチに繋がるチャンバーを備え、トーチ
内部に冷却水を循環させてトーチを冷却するように成し
た熱プラズマ装置において、冷却水を収容し、内部の圧
力がチャンバー内の圧力より低くされた真空タンク、該
真空タンクと前記トーチを繋ぐ冷却水導入用の管と排出
用の管、及び、前記真空タンク内の冷却水を順次、冷却
水導入用管，前記トーチ内部及び冷却水排出用管に循環
させるポンプを備えた事を特徴とする。又、本発明の熱
プラズマ装置は、真空タンク内に一定量のガスを導入し
つつ、該タンク内の圧力が所定の値になるように、ポン
プにより該タンク内のガスを吸引するように成した事を
特徴とする。又、本発明の熱プラズマ装置は、ポンプが
水封式真空ポンプである事を特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
施の形態を詳細に説明する。
【００１１】図２は本発明の高周波誘導熱プラズマ装置
の一例を示している。図２において、前記図１と同じ番
号及び記号の付されたものは同一構成要素を示す。
の一例を示している。図２において、前記図１と同じ番
号及び記号の付されたものは同一構成要素を示す。
【００１２】図２において、２１は冷却水を収容し、そ
の冷却水でトーチ１を成すプローブ７，ガスリング３，
円筒部材２及びベース蓋８を冷却するための真空タンク
である。２２は真空タンク２１からの冷却水を冷却する
ためのラジエータ、２３は真空タンク２１に収容された
冷却水を吸引，吐出するためのポンプである。
の冷却水でトーチ１を成すプローブ７，ガスリング３，
円筒部材２及びベース蓋８を冷却するための真空タンク
である。２２は真空タンク２１からの冷却水を冷却する
ためのラジエータ、２３は真空タンク２１に収容された
冷却水を吸引，吐出するためのポンプである。
【００１３】２４は真空タンク２１内の圧力を所定の圧
力に減圧するための水封式真空ポンプである。２５は真
空タンク２１内に大気ガスを導入するための管２６に取
り付けられ、単位時間に対する導入大気ガスの量を所定
量に調節するためのバルブである。２７は真空タンク２
１内の圧力を検出する圧力検出器、２８は、該圧力検出
器が検出した圧力値が所定の値になるように、真空タン
ク２１と前記水封式真空ポンプ２４を繋ぐ管２９の途中
に設けられ、真空タンク２１内から前記水封式真空ポン
プ２４に吸引される単位時間当たりの大気ガスの量を調
整するためのバルブ３０をコントロールするための制御
装置である。
力に減圧するための水封式真空ポンプである。２５は真
空タンク２１内に大気ガスを導入するための管２６に取
り付けられ、単位時間に対する導入大気ガスの量を所定
量に調節するためのバルブである。２７は真空タンク２
１内の圧力を検出する圧力検出器、２８は、該圧力検出
器が検出した圧力値が所定の値になるように、真空タン
ク２１と前記水封式真空ポンプ２４を繋ぐ管２９の途中
に設けられ、真空タンク２１内から前記水封式真空ポン
プ２４に吸引される単位時間当たりの大気ガスの量を調
整するためのバルブ３０をコントロールするための制御
装置である。
【００１４】３１は高周波電源１０や前記ラジエータ２
２を冷却するための循環水用タンクである。３２は循環
水用タンク内の冷却水を吸引し、前記ラジエータ２２及
び高周波電源１０方向に吐出するためのポンプである。
３３は循環水用タンク３１内の冷却水を所定の温度に冷
却するための冷却器である。３４は、循環水用タンク内
の冷却水を吸引し、冷却器３３方向に吐出するためのポ
ンプである。
２を冷却するための循環水用タンクである。３２は循環
水用タンク内の冷却水を吸引し、前記ラジエータ２２及
び高周波電源１０方向に吐出するためのポンプである。
３３は循環水用タンク３１内の冷却水を所定の温度に冷
却するための冷却器である。３４は、循環水用タンク内
の冷却水を吸引し、冷却器３３方向に吐出するためのポ
ンプである。
【００１５】この様な構成の高周波誘導プラズマ装置に
おいて、ポンプ３４は循環水用タンク３１の冷却水を吸
引し、冷却器３３に繋がった管３５に吐出する。該冷却
器により冷却された冷却水は管３６を通過して循環水用
タンク３１に戻される。この様にして、冷却水は常に所
定の温度に冷却されている。そして、ポンプ３２は前記
循環水用タンク３１内に収容された冷却水を吸引し、管
３７を介してラジエータ２２及び高周波電源１０に吐出
する。該ラジエータ２２及び高周波電源１０の内部を通
過した冷却水は管３８，３９を通過して前記循環水用タ
ンク３１に戻される。その為、前記ラジエータ２２と高
周波電源１０は常に一定の温度に冷却されている。
おいて、ポンプ３４は循環水用タンク３１の冷却水を吸
引し、冷却器３３に繋がった管３５に吐出する。該冷却
器により冷却された冷却水は管３６を通過して循環水用
タンク３１に戻される。この様にして、冷却水は常に所
定の温度に冷却されている。そして、ポンプ３２は前記
循環水用タンク３１内に収容された冷却水を吸引し、管
３７を介してラジエータ２２及び高周波電源１０に吐出
する。該ラジエータ２２及び高周波電源１０の内部を通
過した冷却水は管３８，３９を通過して前記循環水用タ
ンク３１に戻される。その為、前記ラジエータ２２と高
周波電源１０は常に一定の温度に冷却されている。
【００１６】一方、真空タンク２１内は水封式真空ポン
プ２４により所定の圧力に調整されている。即ち、バル
ブ２５を調節して真空タンク２１内に常時一定量の大気
ガスが導入されるようにする。この状態において、水封
式真空ポンプ２４を作動させ、前記循環水用タンク３１
内の冷却水を管４０を通じて吸引し、更に管４１を通じ
て前記循環水用タンク３１内に吐出することにより、循
環水用タンク内の冷却水を循環させる。この水封式真空
ポンプ２４の吐出動作中に、管２９を介して真空タンク
２１内の大気ガスが管２９を通じて水封式真空ポンプ２
４方向に吸引され、その大気ガスは管４１に入らずに外
部の大気中に排出される。この動作により、真空タンク
２１内は圧力が低下して行く。この時、制御装置２８
は、圧力検出器２７が検出した真空タンク２１内の圧力
値が所定の値になるように、バルブ３０をコントロール
する。例えば、チャンバー９内の圧力が常に７６０Ｔｏ
ｒｒに設定されているとすれば、それより可成り低い５
００Ｔｏｒｒ程度に調整する。
プ２４により所定の圧力に調整されている。即ち、バル
ブ２５を調節して真空タンク２１内に常時一定量の大気
ガスが導入されるようにする。この状態において、水封
式真空ポンプ２４を作動させ、前記循環水用タンク３１
内の冷却水を管４０を通じて吸引し、更に管４１を通じ
て前記循環水用タンク３１内に吐出することにより、循
環水用タンク内の冷却水を循環させる。この水封式真空
ポンプ２４の吐出動作中に、管２９を介して真空タンク
２１内の大気ガスが管２９を通じて水封式真空ポンプ２
４方向に吸引され、その大気ガスは管４１に入らずに外
部の大気中に排出される。この動作により、真空タンク
２１内は圧力が低下して行く。この時、制御装置２８
は、圧力検出器２７が検出した真空タンク２１内の圧力
値が所定の値になるように、バルブ３０をコントロール
する。例えば、チャンバー９内の圧力が常に７６０Ｔｏ
ｒｒに設定されているとすれば、それより可成り低い５
００Ｔｏｒｒ程度に調整する。
【００１７】この様な状態において、ポンプ２３を作動
させる。該ポンプ２３の吸引動作により、真空タンク２
１に収容された冷却水は、ラジエータ２２を介してプロ
ーブ７，ガスリング３，円筒部材２及びベース蓋８の内
部に繋がった導入管４２に送られる。そして、該プロー
ブ７，ガスリング３，円筒部材２及びベース蓋８の内部
を通過した冷却水はこれらの内部に繋がった排出管４３
を通過し、途中ポンプ２３を介して前記真空タンク２１
内に戻される。この時、前記導入管４２内の圧力と排出
管４３内の圧力は、それぞれ、真空タンク２１内の圧力
より少し低い、４００Ｔｏｒｒ，４５０Ｔｏｒｒ程度で
ある。
させる。該ポンプ２３の吸引動作により、真空タンク２
１に収容された冷却水は、ラジエータ２２を介してプロ
ーブ７，ガスリング３，円筒部材２及びベース蓋８の内
部に繋がった導入管４２に送られる。そして、該プロー
ブ７，ガスリング３，円筒部材２及びベース蓋８の内部
を通過した冷却水はこれらの内部に繋がった排出管４３
を通過し、途中ポンプ２３を介して前記真空タンク２１
内に戻される。この時、前記導入管４２内の圧力と排出
管４３内の圧力は、それぞれ、真空タンク２１内の圧力
より少し低い、４００Ｔｏｒｒ，４５０Ｔｏｒｒ程度で
ある。
【００１８】この様に、真空タンク２１内，導入管４２
内及び排出管４３内の圧力、即ち、トーチ部を冷却する
ための冷却水循環系内の圧力を、チャンバー内の圧力よ
り低くした状態で、トーチ部を冷却しながら、トーチ１
内に超高温の誘導プラズマを発生させ、粉末材料の蒸
発，溶融、放射性廃棄物や鉄等の溶解、又はフロンの分
解等を行う。この際、超高温の誘導プラズマがトーチ１
の円筒部材２に触れることにより該円筒部材が破損した
り、冷却水をシールしているオーリングが破損したり、
或いは、腐食により前記トーチ１の一部やベース蓋８が
破損しても、冷却水循環系内の圧力がチャンバー内の圧
力より低いので、トーチ１の各部に循環させている冷却
水がチャンバー９内に大量に流出することはない。その
為、チャンバー内壁に設けられた耐火保温材２０が割れ
てしまったり、チャンバー内で水蒸気爆発が発生したり
する事が避けられる。
内及び排出管４３内の圧力、即ち、トーチ部を冷却する
ための冷却水循環系内の圧力を、チャンバー内の圧力よ
り低くした状態で、トーチ部を冷却しながら、トーチ１
内に超高温の誘導プラズマを発生させ、粉末材料の蒸
発，溶融、放射性廃棄物や鉄等の溶解、又はフロンの分
解等を行う。この際、超高温の誘導プラズマがトーチ１
の円筒部材２に触れることにより該円筒部材が破損した
り、冷却水をシールしているオーリングが破損したり、
或いは、腐食により前記トーチ１の一部やベース蓋８が
破損しても、冷却水循環系内の圧力がチャンバー内の圧
力より低いので、トーチ１の各部に循環させている冷却
水がチャンバー９内に大量に流出することはない。その
為、チャンバー内壁に設けられた耐火保温材２０が割れ
てしまったり、チャンバー内で水蒸気爆発が発生したり
する事が避けられる。
【００１９】尚、前記実施例では、真空タンク２１内の
圧力の設定を自動的に行うようにしたが、真空タンク２
１内の圧力を見ながら、該圧力値が所定の値になるよう
に、バルブ３０をオペレータが手動で調整しても良い。
圧力の設定を自動的に行うようにしたが、真空タンク２
１内の圧力を見ながら、該圧力値が所定の値になるよう
に、バルブ３０をオペレータが手動で調整しても良い。
【００２０】又、前記実施例では真空タンク２１内の圧
力調整を水封式真空ポンプを用いて行ったが、真空タン
ク２１内を減圧出来るものであれば、他のポンプ等でも
良い。
力調整を水封式真空ポンプを用いて行ったが、真空タン
ク２１内を減圧出来るものであれば、他のポンプ等でも
良い。
【００２１】又、前記実施例では高周波誘導熱プラズマ
装置を例に上げたが、他の熱プラズマ装置にも応用でき
る。
装置を例に上げたが、他の熱プラズマ装置にも応用でき
る。
【図１】 従来の高周波誘導熱プラズマ装置の一例を示
している。
している。
【図２】 本発明の熱プラズマ装置の一例を示してい
る。
る。
１…トーチ、２…円筒部材、３…ガスリング、４…高周
波コイル、５…上部フランジ、６…下部フランジ、７…
プローブ、８…ベース蓋、９…チャンバー、１０…高周
波電源、２０…耐火保温部材、２１…真空タンク、２２
…ラジエータ、２３，３２，３４…ポンプ、２４…水封
式真空ポンプ、２５，３０…バルブ、２６，２９，３
５，３６，３７，３８，３９，４０，４１…管、２７…
圧力検出器、２８…制御装置、３１…循環水用タンク、
３３…冷却器、４２…導入管、４３…排出管
波コイル、５…上部フランジ、６…下部フランジ、７…
プローブ、８…ベース蓋、９…チャンバー、１０…高周
波電源、２０…耐火保温部材、２１…真空タンク、２２
…ラジエータ、２３，３２，３４…ポンプ、２４…水封
式真空ポンプ、２５，３０…バルブ、２６，２９，３
５，３６，３７，３８，３９，４０，４１…管、２７…
圧力検出器、２８…制御装置、３１…循環水用タンク、
３３…冷却器、４２…導入管、４３…排出管
Claims (4)
- 【請求項１】 熱プラズマが発生され、該熱プラズマ中
に被処理材料が導入されるように成したトーチ、及び、
該トーチに繋がるチャンバーを備え、トーチ内部に冷却
水を循環させてトーチを冷却するように成した熱プラズ
マ装置において、前記チャンバー内の圧力よりも冷却水
循環経路内の圧力を低くする様に成した熱プラズマ装
置。 - 【請求項２】 熱プラズマが発生され、該熱プラズマ中
に被処理材料が導入されるように成したトーチ、及び、
該トーチに繋がるチャンバーを備え、トーチ内部に冷却
水を循環させてトーチを冷却するように成した熱プラズ
マ装置において、冷却水を収容し、内部の圧力がチャン
バー内の圧力より低くされた真空タンク、該真空タンク
と前記トーチを繋ぐ冷却水導入用の管と排出用の管、及
び、前記真空タンク内の冷却水を順次、冷却水導入用
管，前記トーチ内部及び冷却水排出用管に循環させるポ
ンプを備えた熱プラズマ装置。 - 【請求項３】 前記真空タンク内に一定量のガスを導入
しつつ、該タンク内の圧力が所定の値になるように、ポ
ンプにより該タンク内のガスを吸引するように成した請
求項２記載の熱プラズマ装置。 - 【請求項４】 前記ポンプが水封式真空ポンプである
請求項３記載の熱プラズマ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10103871A JPH11288797A (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | 熱プラズマ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10103871A JPH11288797A (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | 熱プラズマ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11288797A true JPH11288797A (ja) | 1999-10-19 |
Family
ID=14365510
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10103871A Withdrawn JPH11288797A (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | 熱プラズマ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11288797A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012121069A (ja) * | 2006-10-18 | 2012-06-28 | Komatsu Sanki Kk | プラズマ切断装置およびプラズマトーチの冷却方法 |
| CZ305537B6 (cs) * | 2013-11-29 | 2015-11-25 | Ústav Fyziky Plazmatu Akademie Věd České Republiky, V. V. I. | Kapalinová soustava plazmatronu s kapalinovou stabilizací oblouku |
| CN105972440A (zh) * | 2016-06-24 | 2016-09-28 | 中国寰球工程公司 | 一种火炬水封罐稳定、快速自动补水系统 |
-
1998
- 1998-03-31 JP JP10103871A patent/JPH11288797A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012121069A (ja) * | 2006-10-18 | 2012-06-28 | Komatsu Sanki Kk | プラズマ切断装置およびプラズマトーチの冷却方法 |
| CZ305537B6 (cs) * | 2013-11-29 | 2015-11-25 | Ústav Fyziky Plazmatu Akademie Věd České Republiky, V. V. I. | Kapalinová soustava plazmatronu s kapalinovou stabilizací oblouku |
| CN105972440A (zh) * | 2016-06-24 | 2016-09-28 | 中国寰球工程公司 | 一种火炬水封罐稳定、快速自动补水系统 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5421892A (en) | Vertical heat treating apparatus | |
| JP5214832B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| KR960014435B1 (ko) | 플라즈마 처리방법 및 장치 | |
| US5370371A (en) | Heat treatment apparatus | |
| JP2008251614A (ja) | 気化装置、成膜装置及び気化方法 | |
| JPH11312649A (ja) | Ｃｖｄ装置 | |
| KR100699618B1 (ko) | 반도체 제조 설비, 반도체 제조 장치 및 반도체 제조 방법 | |
| KR20020027529A (ko) | 처리 장치 및 처리 방법 | |
| JPH11288797A (ja) | 熱プラズマ装置 | |
| TWI736585B (zh) | 用於純化極紫外線光源之目標材料之方法與裝置 | |
| JP2005069598A (ja) | 真空乾燥装置及びこれを用いた真空乾燥方法 | |
| JPH08187427A (ja) | 処理液供給装置 | |
| KR100895035B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
| JP2007266229A (ja) | 熱処理装置 | |
| JP3465029B2 (ja) | 高周波誘導熱プラズマ装置を用いた有機ハロゲン化合物の分解装置 | |
| EP0382988A1 (en) | CVD apparatus | |
| WO2022101981A1 (ja) | ガス処理炉及びこれを用いた排ガス処理装置 | |
| JPH02111873A (ja) | 蒸着装置用クヌードセン型蒸発源装置 | |
| JP2006093427A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JP2006100078A (ja) | プラズマトーチ | |
| JPH1176742A (ja) | 排ガス処理装置および排ガス処理方法 | |
| JPH07126872A (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JP2024019799A (ja) | イオン源及びその運転方法 | |
| AU745565B2 (en) | Organic halogen compound decomposing device | |
| JPH11186170A (ja) | 成膜方法及び成膜装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050607 |