CN1616369A - 玻璃面板的制造方法和用该方法制造的玻璃面板 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种能使玻璃面板的中空层的减压状态长期维持的玻璃面板的制造方法和用该方法制造的玻璃面板。其中的真空多层玻璃(100)设有:要在中间形成中空层(10)、通过衬垫(3)而相对配置的一对板玻璃(1)、(2);将一对板玻璃(1)、(2)的周缘部接合的低熔点玻璃(4);用于使中空层(10)内的气体进行真空排气的排气孔(5)。该真空多层玻璃(100)是由设有下述步骤的制造方法制造,即、一边通过排气孔(5)、对中空层(10)内的气体进行真空排气(真空排气步骤S304),一边将真空多层玻璃(100)的各个构件加热到约200℃、同时由YAG激光振荡器(16)以强度为5200W/m2、φ7mm将以10Hz进行振荡的波长355nm的紫外线照射到真空多层玻璃(100)的各个构件上(加热·紫外线照射步骤S305)。
Description
技术领域
本发明涉及玻璃面板的制造方法和用该方法制造的玻璃面板,特别是关于利用紫外线照射的玻璃面板制造方法和用该制造方法制造的玻璃面板。
背景技术
以前、在制造玻璃面板时都是如下所述地进行接合处理的,即、将胶状的低熔点玻璃涂敷在一对板玻璃的周缘部上、而且加热到低熔点玻璃的熔点以上,将低熔点玻璃加热成熔融状态之后、冷却到常温而使它固化,由此将一对板玻璃的周缘部密封地接合。
而且,一旦冷却到常温之后,再次进行将一对板玻璃的中空层或低熔点玻璃等加热到预定温度的加热处理,并进行将中空层的气体真空排出的真空排气处理(例如、国际公开第03/000613号小册子)。
在长期使用这样的玻璃面板时,吸附在构成玻璃面板的板玻璃等结构零件上的气体分子类(种)(下面将它称为“气体”),就会由外部能量的激发而脱离。
为了防止由该气体脱离而对玻璃面板的中空层的减压维持的妨碍,最好、在制造玻璃面板时,仅可能使吸附在构成玻璃面板的结构零件上的气体脱离的状态下进行真空排气处理。其中,为了诱发气体脱离,考虑过增高加热处理温度、加长加热处理时间。
但是、当增高加热处理温度时,不仅在制造玻璃面板时需要很大的能量,而且、只要由稍稍的温度差引起的温度不均匀,玻璃面板上就会由此而产生变形或引起裂缝,此外还有不能将温度增高到用于使板玻璃周缘部密闭接合的低熔点玻璃的熔点以上的问题。
而且,存在加热处理时间加长时,导致玻璃面板的制造效率降低、成本增高的问题。
而且,如上所述,由于以前的加热处理一旦冷却到常温之后、再次进行加热,因而特别是在加热处理初期时(下述的图5中的A),由于热量没传到整个玻璃面板上,会有不能有效地诱发气体脱离的问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种能长期维持玻璃面板中的中空层的减压状态的玻璃面板的制造方法和用该方法制造的玻璃面板。
为了达到上述目的而作出的本发明玻璃面板的制造方法,其所制造的玻璃面板具有:要在中间形成中空层、通过衬垫而相对配置的一对板玻璃;将上述一对板玻璃接合的密封材料;要使上述中空层进行排气而设置的排气孔;要将上述中空层密闭而将上述排气孔密封的密封部,上述制造方法的特征在于,设有:将紫外线照射到上述玻璃面板上的紫外线照射步骤;使上述中空层的气体从上述排气孔进行真空排气的真空排气步骤。
最好、在本发明中、上述紫外线照射步骤是与上述真空排气步骤同时地进行的。
最好、在本发明中、还设有与上述紫外线照射步骤同时地对上述玻璃面板进行加热的加热步骤。
最好、在本发明中、上述紫外线的强度是30~35000W/m2。
最好、在本发明中、上述加热步骤是将目标温度作为100℃~500℃。
最好、在本发明中、上述紫外线照射步骤是将紫外线照射到上述板玻璃上的。
最好、在本发明中、上述紫外线照射步骤是将紫外线照射到上述衬垫上的。
最好、在本发明中、上述紫外线照射步骤是将紫外线照射到上述密封材料上的。
最好、在本发明中、上述紫外线照射步骤是将紫外线照射到上述密封部上的。
最好、在本发明中、还设有将吸气器收容的吸气器收容步骤,该吸气器是用于吸附上述中空层里的气体;上述紫外线照射步骤是将紫外线照射到上述吸气器上的。
为了达到上述目的,本发明的玻璃面板的特征在于,它是用上述玻璃面板的制造方法制造的。
本发明具有如下所述的效果。
根据本发明的玻璃面板的制造方法,由于将紫外线照射到玻璃面板上而使中空层的气体进行真空排气,因而能在紫外线照射之后、马上诱发气体脱离而进行真空排气,而且能抑制真空排气之后的气体脱离,进而能长期维持玻璃面板中的中空层的减压状态。
由于最好是将紫外线照射到玻璃面板上、同时进行真空排气,因而能有效地使脱离的气体进行真空排气。
由于最好是与紫外线照射的同时、对玻璃面板进行加热,因而能有效地使脱离的气体进行真空排气。
由于紫外线的强度最好是30~35000W/m2,因而能在紫外线照射之后、马上可靠地诱发气体脱离。
由于最好是将目标温度作为100℃~500℃而加热,因而能更有效地诱发气体脱离。
由于最好是将紫外线照射到板玻璃上,因而能可靠地诱发吸附在板玻璃上的气体的脱离。
由于最好是将紫外线照射到衬垫上,因而能可靠地诱发吸附在衬垫上的气体的脱离。
由于最好是将紫外线照射到密封材料上,因而能可靠地诱发吸附在密封材料上的气体的脱离。
由于最好是将紫外线照射到密封部上,因而能可靠地诱发吸附在密封部上的气体的脱离。
由于最好是将紫外线照射到吸气器上,因而能在紫外线照射之后、马上诱发吸气器上吸附的气体脱离,而且能有效地使吸气器活性化。
附图说明
图1是表示将作为本发明实施例的玻璃面板的真空多层玻璃形成一部分缺口的立体图。
图2是表示图1中的排气孔周边的剖面图。
图3是表示图1的真空多层玻璃的制造方法的流程图。
图4是表示图1的真空多层玻璃的真空排气时的周边剖面图。
图5是表示紫外线照射时间与加热时间和气体脱离量变化之间关系的图表。
图6是表示将图1的真空多层玻璃的变形例形成一部分缺口的立体图。
具体实施方式
本发明人为了达到上述目的而进行的精心的研究的结果发现了这一点,即、在具有要在中间形成中空层并通过衬垫而相对配置的一对板玻璃、使一对板玻璃接合的密封材料、要使中空层排气而设置的排气孔、和要将中空层密闭而将排气孔密封的密封部的玻璃面板的制造方法中,当设置将紫外线照射到玻璃面板上的紫外线照射步骤、和使中空层的气体从排气孔进行真空排气的真空排气步骤时,就能在紫外线照射之后、马上诱发气体脱离而进行真空排气,而且能抑制真空排气之后的气体脱离,进而能将玻璃面板中的中空层的减压状态长期地维持。
本发明是根据上述的研究结果而作出的。
下面,参照着附图来说明本发明实施例涉及的玻璃面板的制造方法和用该方法制造的玻璃面板。
图1是表示将作为本发明实施例的玻璃面板的真空多层玻璃形成一部分缺口的立体图。
图1中,作为本发明实施例的玻璃面板的真空多层玻璃100具有:要在中间形成中空层10、通过衬垫3而相对配置的一对板玻璃1、2;作为使一对板玻璃1、2的周缘部接合的接合用密封材料、熔点比一对板玻璃1、2还低、而且气体穿透性低的低熔点玻璃4;用于使中空层10内的气体进行排气的排气孔5;能与中空层10内的气体接触地设置的吸气器7;覆盖在划分中空层10的面1a、2a中的面1a上的低放射率膜(Low-E膜)17。
一对板玻璃1、2是使用厚度为2~10mm左右的透明的含有铅、锡玻璃,一对板玻璃1、2中间的中空层10被减压到1.33Pa以下。
而且,衬垫3的形状最好作成圆柱状、衬垫3是用压缩强度是4.9×108Pa(5×103kgf/cm2)以上的材料,譬如用不锈钢(SUS304)或因康镍合金(インコンネル)718等材料形成以便能承受作用在一对板玻璃1、2上的大气压。
而且,如果衬垫3的形状是圆柱状时,则直径为0.3~1.0mm左右、高度是0.15~1.0mm左右,各个衬垫3之间的间隔设定为20mm左右。
图2是表示图1中的排气孔的周边的剖面图。
图2中,在一个的板玻璃1上、穿设着剖面是圆形的排气孔5。该排气孔5构成为兼用作用于收容圆柱状的吸气器7的吸气器收容空间6,在该吸气器收容空间6中收容着吸气器7、包括透明的板玻璃的盖体(密封部)8位于排气孔5的开口上,该盖体8由密封用密封材料、具体地说是由熔点比构成接合密封材料的低熔点玻璃4还高、比盖体8或板玻璃1低的结晶性低熔点玻璃(密封部)9粘接固定到板玻璃1上,并以密闭状态对排气孔5的开口进行密封。
下面,就制造方法的工序来说明该真空多层玻璃100。
将一对板玻璃1、2中、没有穿透地设置排气孔5的板玻璃2大致支撑成水平,在它的周缘部的上面涂敷胶状的低熔点玻璃4,而且以预定的间隔配设多个衬垫3,从它的上方、使覆盖着低放射率薄膜17的那一面1a成为下面而放置另一个的板玻璃1(图3中的配置步骤S301)。
然后、将一对板玻璃1、2大致成水平地收容到图外的加热炉内,用烧成方法使低熔点玻璃4熔融,由处于该熔融状态的低熔点玻璃4将一对板玻璃1、2的周缘部接合而进行使中空层10密闭的接合处理(图3中的接合步骤S302)。
此后,如图2所示地、将吸气器7插入而收容在兼用作吸气器收容空间6的板玻璃1的排气孔5中(图3中的吸气器收容步骤S303),由于吸气器收容空间6的内径比吸气器7的外径稍稍大一些,因而吸气器收容空间6和吸气器7之间可有间隙,吸气器7就通过该间隙而与中空层10内的气体相接触。
在将吸气器7收容到吸气器收容空间6里之后,配置环形状的结晶性低熔点玻璃9,在其上放置包括透明的板玻璃的盖体8,再如图4所示地、从其上方覆盖吸引密封装置20。
吸引密封装置20具有圆筒状的吸引盖子(カツプ)12,该吸引盖子12的上面是用透明的石英玻璃11封闭的,在该吸引盖子12上设有:与吸引盖子12的内部空间连通的柔性管13、使吸引盖子12与板玻璃1上面之间密闭的O圈14。在吸引盖子12的外侧上面配设着包括灯泡等的加热器15和YAG激光振荡器16,该YAG激光振荡器16能对真空多层玻璃100的整个表面进行紫外线照射。
用与柔性管13相连接的回转泵或涡轮分子形成的吸引使吸引盖子12内减压,通过排气孔5使中空层10内的气体进行真空排气、使中空层10内的压力变成1.33Pa以下,与此同时(图3中的真空排气步骤S304),在将吸引密封装置20覆盖在板玻璃1上的状态下、用炉子等加热装置(图中没有表示)或加热源15等、将真空多层玻璃100的各个构件(板玻璃1、2、衬垫3、低熔点玻璃4、吸气器7、盖体8、低熔点玻璃9等)加热到约200℃、还同时通过YAG激光振荡器16、以强度为5200W/m2、φ为7mm、使以10Hz振荡的波长为355nm的紫外线对真空多层玻璃100的各个构件进行照射(图3中的加热·紫外线照射步骤S305)。再用加热源15对低熔点玻璃9进行局部地加热而使其熔融,此后、经冷却而使盖体8粘接、密封在板玻璃1上(图3中的密封步骤S306)。
在加热·紫外线照射步骤S305中,在将紫外线照射到真空多层玻璃100上的同时、对真空多层玻璃100进行加热是根据下述的图5的结果而进行的。
图5是表示紫外线照射和加热处理时间与气体脱离量变化之间关系的图表。
图5中的紫外线照射处理样品的结果是经过如下所述的操作而得到的,即、用带有SnO2膜的钠石灰玻璃制作密闭容器,在进行真空排气、使内部压力为1×10-1Pa以下的同时、从加热到200℃或400℃的测定用原先试料切出20mm×40mm的单片板玻璃,迅速地放置到超高真空排气装置内之后,在超高真空排气装置内压力是4×10-7Pa左右的压力下,通过YAG激光、以强度为5200W/m2、φ为7mm、使以10Hz振动的波长为355nm的紫外线,从玻璃的非膜面照射试料,在SnO2膜面一侧、用四重极质量分析计测定脱离的气体质量数值。
而图5中的加热处理样品的结果是经过如下所述的操作而得到的,即、从上述测定用原先试料切出20mm×40mm的单片板玻璃,迅速地放置到超高真空排气装置内之后,在超高真空排气装置内压力是4×10-7Pa左右的压力下,将试料加热到约20℃,在SnO2膜面一侧、用四重极质量分析计测定脱离的气体质量数值。
在图5中,表示加热处理样品中的碳系气体(譬如一氧化碳或二氧化碳)、和氢系气体一起随着处理时间的经过而使脱离量增加、并成为一定量的变化,与此相对地、还表示紫外线照射处理样品中的碳系气体、氢系气体从紫外线照射开始时起、高的脱离量,紫外线照射开始之后、碳系气体的脱离量减少、氢系列气体的脱离量细微增加、细微减少的变化。
从上述气体脱离量变化可以看出,在进行加热处理的同时进行紫外线照射处理时,则在加热处理初期A、能通过紫外线照射处理将碳系气体和氢系气体一起、将脱离量维持成较高;在加热处理初期A经过之后,能用加热处理将碳系列气体的脱离量维持成较高;能通过加热处理和紫外线照射处理两种方式将氢系气体的脱离量维持成较高。
本发明人对于施加了30分钟的加热·紫外线照射处理的样品,进行了有没有气体脱离、有没有玻璃恶化的观测,并把观测的结果表示在表1上。该加热·紫外线照射处理是如下所述地进行的。从测定用原先试料、切成20mm×40mm的单片板玻璃,迅速地放置到超高真空排气装置内之后,在装置内压力是4×10-7Pa左右压力下,加热到目标温度100~600℃(也保括不加热的情况)的同时、通过YAG激光以强度为30~40000W/m2照射以10Hz频率进行振荡的波长355nm的紫外线(也保括不照射的情况)。
本发明人还将取代上述单一板玻璃而对吸气器施加与上述同样的处理的情况、进行有没有气体脱离的观测,并把观测的结果表示在表2上。
其中,气体脱离观测中的◎是表示在整个处理时间中、都能充分观测到气体脱离;○是表示在整个处理时间中、能稍稍观测到气体脱离;△是表示在处理初期、没能观测到气体脱离;×是示在整个处理时间中、都没能观测到气体脱离。而在玻璃恶化观测中,◎是表示完全看不到玻璃恶化、○是表示几乎看不到玻璃恶化、×是表示能看到玻璃恶化。而在综合评价中、◎、○、△和×则表示玻璃样品的质量(表1)和吸气器活性化(表2)的程度。
【表1】
目标温度(℃) | 紫外线照射强度(W/m2) | 加热·紫外线照射时间(分钟) | 气体脱离 | 玻璃恶化 | 综合评价 | |
实施例1 | 室温(不加热) | 30 | 30 | ○ | ◎ | ○ |
实施例2 | 室温(不加热) | 5200 | 30 | ◎ | ◎ | ◎ |
实施例3 | 室温(不加热) | 13000 | 30 | ◎ | ◎ | ◎ |
实施例4 | 室温(不加热) | 35000 | 30 | ◎ | ○ | ○ |
实施例5 | 100 | 30 | 30 | ◎ | ◎ | ◎ |
实施例6 | 100 | 5200 | 30 | ◎ | ◎ | ◎ |
实施例7 | 100 | 13000 | 30 | ◎ | ◎ | ◎ |
实施例8 | 100 | 35000 | 30 | ◎ | ○ | ○ |
实施例9 | 400 | 30 | 30 | ◎ | ◎ | ◎ |
实施例10 | 400 | 5200 | 30 | ◎ | ◎ | ◎ |
实施例11 | 400 | 13000 | 30 | ◎ | ◎ | ◎ |
实施例12 | 400 | 35000 | 30 | ◎ | ○ | ○ |
实施例13 | 500 | 30 | 30 | ◎ | ○ | ○ |
实施例14 | 500 | 5200 | 30 | ◎ | ○ | ○ |
实施例15 | 500 | 13000 | 30 | ◎ | ○ | ○ |
实施例16 | 500 | 35000 | 30 | ◎ | ○ | ○ |
比较例1 | 室温(不加热) | 0(不照射) | 30 | × | ◎ | × |
比较例2 | 室温(不加热) | 40000 | 30 | ◎ | × | × |
比较例3 | 100 | 0(不照射) | 30 | △ | ◎ | △ |
比较例4 | 100 | 40000 | 30 | ◎ | × | × |
比较例5 | 400 | 0(不照射) | 30 | △ | ◎ | △ |
比较例6 | 400 | 40000 | 30 | ◎ | × | × |
比较例7 | 500 | 0(不照射) | 30 | △ | ○ | △ |
比较例8 | 600 | 0(不照射) | 30 | △ | × | × |
【表2】
目标温度(℃) | 紫外线照射强度(W/m2) | 加热·紫外线照射时间(分钟) | 气体脱离 | 综合评价 | |
实施例1 | 室温(不加热) | 30 | 30 | ○ | ○ |
实施例2 | 室温(不加热) | 5200 | 30 | ◎ | ◎ |
实施例3 | 室温(不加热) | 13000 | 30 | ◎ | ◎ |
实施例4 | 室温(不加热) | 35000 | 30 | ◎ | ◎ |
实施例5 | 100 | 30 | 30 | ◎ | ◎ |
实施例6 | 100 | 5200 | 30 | ◎ | ◎ |
实施例7 | 100 | 13000 | 30 | ◎ | ◎ |
实施例8 | 100 | 35000 | 30 | ◎ | ◎ |
实施例9 | 400 | 30 | 30 | ◎ | ◎ |
实施例10 | 400 | 5200 | 30 | ◎ | ◎ |
实施例11 | 400 | 13000 | 30 | ◎ | ◎ |
实施例12 | 400 | 35000 | 30 | ◎ | ◎ |
实施例13 | 500 | 30 | 30 | ◎ | ◎ |
实施例14 | 500 | 5200 | 30 | ◎ | ◎ |
实施例15 | 500 | 13000 | 30 | ◎ | ◎ |
实施例16 | 500 | 35000 | 30 | ◎ | ◎ |
比较例1 | 室温(不加热) | 0(不照射) | 30 | × | × |
比较例2 | 室温(不加热) | 40000 | 30 | ◎ | ◎ |
比较例3 | 100 | 0(不照射) | 30 | △ | △ |
比较例4 | 100 | 40000 | 30 | ◎ | ◎ |
比较例5 | 400 | 0(不照射) | 30 | △ | △ |
比较例6 | 400 | 40000 | 30 | ◎ | ◎ |
比较例7 | 500 | 0(不照射) | 30 | △ | △ |
比较例8 | 600 | 0(不照射) | 30 | △ | △ |
从表1所示的结果可以知道,当对单片板玻璃进行紫外线照射处理时,会诱发单片板玻璃上吸附着的气体脱离。
还可以知道,当对单片板玻璃进行紫外线照射处理的同时、进行加热处理时,在整个处理时间中都会诱发单片板玻璃上吸附着的气体脱离。
此外,还可以知道在将单片板玻璃加热到作为目标温度的500℃时,有发生变形或裂缝等玻璃恶化的情况;在加热到600℃时,确实产生了变形或裂缝等玻璃恶化。还可以知道在紫外线的强度小于30W/m2时,几乎不能诱发气体脱离;在紫外线的强度大于35000W/m2时,譬如是40000W/m2时,虽然能充分诱发气体脱离,但产生失去透明性等玻璃恶化。
而且,当紫外线的强度是13000W/m2以下时,看不到SnO2膜的恶化。
而且,从表2所示的结果可以知道、在对吸气器进行紫外线照射处理时,能诱发吸附在吸气器上的气体脱离、还能使吸气器活性化。
此外,在对吸气器进行紫外线照射处理的同时、进行加热处理时,在整个处理时间中都能诱发吸附在吸气器上的气体脱离、还能有效地使吸气器活性化。
从上面的说明可以知道、当进行强度是30W/m2以上的紫外线照射的紫外线照射处理时,能诱发气体脱离。而在进行强度是30~35000W/m2的紫外线照射的紫外线照射处理的同时、进行加热到目标温度100~500℃、最好进行加热到100~400℃的加热处理时,能防止板玻璃1、2等发产生恶化,还能有效地诱发气体脱离,即、能缩短气体脱离用的处理时间。
根据本实施例,由于一边使中空层10进行真空排气、一边对真空多层玻璃100的各个构件进行加热,与此同时将紫外线照射到真空多层玻璃100的各个构件上,因而在紫外线照射之后、能马上有效地诱发气体脱离、使中空层10进行真空排气,而且、能抑制真空排气之后的气体脱离,进而能长期地维持真空多层玻璃100中的中空层10的减压状态。
根据本实施例,由于将紫外线照射到吸气器7上,因而能在紫外线照射之后、马上诱发吸附在吸气器7上的气体脱离,而且能有效地使吸气器7活性化。
虽然本实施例是一边使中空层10内进行真空排气(真空排气步骤S304)、一边对真空多层玻璃100的各个构件进行加热,与此同时将紫外线照射到真空多层玻璃100的各个构件上(加热·紫外线照射步骤S305),但本发明并不局限于使加热·紫外线照射处理(加热·紫外线照射步骤S305)和真空排气处理(真空排气步骤S304)同时地进行,譬如、可以在通过衬垫3将板玻璃1、2相对配置(配置步骤S301)之前就进行加热·紫外线照射处理(加热·紫外线照射步骤S305)。
虽然本实施例是在对真空多层玻璃100的各个构件进行加热的同时、将紫外线照射到真空多层玻璃100的各个构件上,但本发明并不局限于此,可以不加热真空多层玻璃100的各个构件而只将紫外线照射到真空多层玻璃100的各个构件上。
虽然本实施例是将作为接合用密封材料的低熔点玻璃4熔融并冷却(接合步骤S302)之后,进行真空排气处理(真空排气步骤S304),但本发明并不局限于此,例如可以在低熔点玻璃4熔融时就进行真空排气处理。
虽然本实施例是用YAG激光振荡器16照射紫外线,但本发明并不局限于此,例如可以用CO2激光振荡器照射紫外线。
虽然本实施例是对真空多层玻璃100的各个构件(板玻璃1、2、衬垫3、低熔点玻璃4、吸气器7、盖体8、低熔点玻璃9)进行照射,但本发明并不局限于此,可以对真空玻璃100的各个构件中的任意一个进行照射,
虽然本实施例是将穿透一个的板玻璃1的排气孔5表示成完全兼用作能收容吸气器7的吸气器收容空间6的结构,但可以将凹入部设置在与排气孔5面对着的另一个板玻璃2上,将该凹入部构成吸气器收容空间6的一部分而加以实施,而且吸气器7可以是蒸发型、非蒸发型中的任意一种,此外、还可以不设置吸气器7。
虽然本实施例是将盖体8用作密封部,但本发明并不局限于此,可以是图6所示的玻璃管60。
虽然本实施例是将低熔点玻璃4用作接合用密封材料,但本发明并不局限于此,譬如可以只将铟、铅、锡、或锌等作为主要成分的金属焊锡用作接合用密封材料。
虽然本实施例是将含有铅、锡玻璃用作板玻璃1、2,但本发明并不局限于此,可以根据玻璃面板的用途或目的,选择适当的各种玻璃加以实施,譬如、可选用图案玻璃、经过表面处理而具有光扩散机能的毛玻璃、嵌网玻璃、嵌丝玻璃、强化玻璃、加倍强化玻璃、低反射玻璃、高透过板玻璃、陶瓷印刷玻璃、具有热线或紫外线吸收机能的特殊玻璃、或者将这些组合的玻璃等。而玻璃的组成可以使用钠硅酸盐玻璃、钠钙玻璃、硼硅酸盐玻璃、铝硅酸盐玻璃、各种结晶化玻璃等;该板玻璃1、2的厚度可以自由地选择。
虽然本实施例是将不锈钢或因康镍合金用作衬垫3,但本发明并不局限于此,只要在外力作用下难变形的都能使用,例如、铁、铜、铝、钨、镍、铬、钛等金属、此外、还可以使用碳素钢、铬钢、镍钢、镍铬钢、锰钢、铬锰钢、铬钼钢、硅钢、黄铜、焊锡(ハンダ)、硬铝(ジユラルミン)等合金或陶瓷或玻璃等;它的形状也不局限于圆柱形,可以作成棱柱状或球状等各种形状。
虽然本实施例只将低放射率膜17覆盖在表面1a上,但本发明并不局限于此,可以只覆盖表面2a,或将表面1a、2a都覆盖,还可以在表面1a、2a中的任意一个上不覆盖低放射率薄膜17。
产业上的可利用性
虽然本实施例是将真空多层玻璃100表示为玻璃面板的一个例子,但它也可以适用于将气体封入到一对板玻璃1、2的中空层10中的等离子显示器面板等的制造,这时,在进行真空排气处理之后,就将预定的气体封入到中空层10里。
而且,玻璃面板的用途也可以从用于建筑物或交通工具(汽车、铁道车辆、船舶)用的窗玻璃、或以等离子显示器等器械构件为开始,用于冰箱或保温装置等各种装置的门或壁部等构件。
Claims (11)
1.一种玻璃面板的制造方法,其所制造的玻璃面板具有:要在中间形成中空层、通过衬垫而相对配置的一对板玻璃;将上述一对板玻璃接合的密封材料;使上述中空层进行排气而设置的排气孔;为将上述中空层密闭而将上述排气孔密封的密封部,上述制造方法的特征在于,设有:将紫外线照射到上述玻璃面板上的紫外线照射步骤;使上述中空层的气体从上述排气孔进行真空排气的真空排气步骤。
2.如权利要求1所述的玻璃面板的制造方法,其特征在于,上述紫外线照射步骤是与上述真空排气步骤同时地进行的。
3.如权利要求1所述的玻璃面板的制造方法,其特征在于,还设有与上述紫外线照射步骤同时地对上述玻璃面板进行加热的加热步骤。
4.如权利要求1所述的玻璃面板的制造方法,其特征在于,上述紫外线的强度是30~35000W/m2。
5.如权利要求3所述的玻璃面板的制造方法,其特征在于,上述加热步骤是将目标温度作为100℃~500℃而加热。
6.如权利要求1所述的玻璃面板的制造方法,其特征在于,上述紫外线照射步骤是将紫外线照射到上述板玻璃上的。
7.如权利要求1所述的玻璃面板的制造方法,其特征在于,上述紫外线照射步骤是将紫外线照射到上述衬垫上的。
8.如权利要求1所述的玻璃面板的制造方法,其特征在于,上述紫外线照射步骤是将紫外线照射到上述密封材料上的。
9.如权利要求1所述的玻璃面板的制造方法,其特征在于,上述紫外线照射步骤是将紫外线照射到上述密封部上的。
10.如权利要求1所述的玻璃面板的制造方法,其特征在于,在上述制造方法中还设有将吸气器收容的吸气器收容步骤,该吸气器是用于吸附上述中空层里的气体;上述紫外线照射步骤是将紫外线照射到上述吸气器上的。
11.一种玻璃面板,其特征在于,其是用上述权利要求1所述的玻璃面板的制造方法制造的。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |