JP2005127819A - X線回折装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】X線回折像を輝尽性蛍光体に蓄積記録させて読み取るX線回折装置において、露光−読取−消去の一連の工程動作を比較的簡単に高速化させるとともに、装置の小型化および構成の簡略化を可能にする。
【解決手段】X線回折像を輝尽性蛍光体によるイメージングプレート40に蓄積記録させるX線回折装置であって、上記イメージングプレート40を所定の露光ステージに設置するとともに、そのイメージングプレート40の背後に消去手段60を配置し、上記蓄積記録領域の背後を光透過性に形成することにより、上記消去手段60からの消去光を上記イメージングプレート40の背面に照射して上記蓄積記録領域の消去を行わせる
【選択図】 図1
【解決手段】X線回折像を輝尽性蛍光体によるイメージングプレート40に蓄積記録させるX線回折装置であって、上記イメージングプレート40を所定の露光ステージに設置するとともに、そのイメージングプレート40の背後に消去手段60を配置し、上記蓄積記録領域の背後を光透過性に形成することにより、上記消去手段60からの消去光を上記イメージングプレート40の背面に照射して上記蓄積記録領域の消去を行わせる
【選択図】 図1
Description
本発明は被検査試料からのX線回折像を輝尽性蛍光体に蓄積記録させて読み取るX線回折装置に関する。
X線回折装置は試料からのX線回折像を取得するために、写真感光フィルムあるいは蛍光プレートなどの光学的記録媒体(感光体)を使用する。その記録媒体として輝尽性蛍光体によるイメージングプレート(IP)を用いたX線回折装置が従来から提供されている(たとえば特許文献1参照)。
図4は従来のX線回折装置の概略構成を動作状態別に示す。このX線回折装置は、コリメートされたX線(Xo)を試料(試料または試料上の微小領域)30に照射する入射X線生成手段10と、この入射X線生成手段10によって生成される入射X線(Xo)の光路上に試料30を支持する試料支持機構20と、上記試料30からのX線回折像(Xn)を輝尽性蛍光体により蓄積記録するイメージングプレート45と、このイメージングプレート45の蓄積記録像を励起光照射による輝尽発光により読み取る読取手段50と、上記イメージングプレート45に消去光(Le)を照射して上記蓄積記録像を消去する消去手段60とを備えている。上記試料保持機構20にはいわゆるゴニオメータが使用されている。イメージングプレート45は、輝尽性蛍光体シート46を板状の支持体47上に積層したものが使用されている。読取手段50はラインセンサ方式であって、主走査方向にライン画像を読み取りながら副走査方向に移動して二次元の画像読み取りを行う。
図4において、(a)は、試料30からのX線回折像(Xn)を上記輝尽性蛍光体シード46上に蓄積記録させるときの状態(露光工程)を示す。(b)は、上記蓄積記録画像を上記読取手段50で読み取るときの状態(読取工程)を示す。読取手段50は上記蛍光体シート46の記録面上を移動走査して読み取りを行う。(c)は、上記蛍光体シート46に残留している蓄積記録像を消去するときの状態(消去工程)を示す。この消去工程は、上記イメージングプレート45を消去手段60の位置(消去ステージ)まで移動させて行う。この消去工程の後、イメージングプレート45を(a)の状態に復帰させることにより、次のX線回折像の記録準備が整う。
図5は上述した一連の工程サイクル(露光−読取−消去)をフローチャート化して示す。同図に示す工程サイクル(S21〜S25)をたとえばマイクロ化されたコンピュータを用いた制御手段で順次実行させることにより、上記X線回折装置の主要動作を自動化させるができる。
上述したX線回折装置において、上記消去手段60は、X線回折像(Xn)をイメージングプレート45に蓄積記録させる際、およびイメージングプレート45の蓄積記録像を読取手段50が読み取る際に、それぞれの動作に支障とならないように設置する必要がある。このため、消去手段60は、記録時および読取時のイメージプレート45に干渉しないように離れた場所に設置し、消去時だけイメージングプレート45をその消去手段60の設置場所(消去ステージ)に移動させるという構成を余儀なくされていた。
この結果、上述した従来のX線回折装置では、図5に示すように、読取工程(S22)の後、消去工程(S24)の前に、イメージングプレート(IP)を消去手段60が位置する消去ステージに移動させる工程(S23)が必要であった。その消去工程(S24)の後にも、イメージングプレートを元の露光ステージに移動復帰させる工程(S25)が必要であった。この2度の移動工程が介在するため、露光−読取−消去の一連の工程動作を高速化することは非常に困難であった。
また、上記消去手段60を記録時および読取時のイメージプレート45に干渉しないように離れた場所に設置するために、装置が大型化してしまうという問題があった。さらに、イメージングプレート45を移動させるための機構も必要であり、これが装置の構成を複雑化してしまうという問題もあった。
本発明は以上のような問題に鑑みてなされたもので、その目的は、上述した露光−読取−消去の一連の工程動作を比較的簡単に高速化させることができるとともに、装置の小型化および構成の簡略化も可能にしたX線回折装置を提供することにある。
本発明は以上のような問題に鑑みてなされたもので、その目的は、上述した露光−読取−消去の一連の工程動作を比較的簡単に高速化させることができるとともに、装置の小型化および構成の簡略化も可能にしたX線回折装置を提供することにある。
本発明による手段は、コリメートされたX線を試料に照射する入射X線生成手段と、この入射X線生成手段によって生成される入射X線の光路上に試料を支持する試料支持機構と、上記試料からのX線回折像を輝尽性蛍光体により蓄積記録するイメージングプレートと、このイメージングプレートの蓄積記録像を励起光照射による輝尽発光により読み取る読取手段と、上記イメージングプレートに消去光を照射して上記蓄積記録像を消去する消去手段とを備えることにより、上記X線回折像の露光工程と、上記蓄積記録像の読取工程と、上記蓄積画像の消去工程を順次行わせるようにしたX線回折装置であって、上記イメージングプレートを所定の露光ステージに設置するとともに、このイメージングプレートの背後に上記消去手段を配置し、上記蓄積記録領域の背後を光透過性に形成することにより、上記消去手段からの消去光を上記イメージングプレートの背面に照射して上記消去を行わせるようにしたことを特徴とする。
上記手段において、上記イメージングプレートは、輝尽性蛍光体シートが板状の支持体上に積層されているとともに、少なくとも上記シートが積層する支持体部分が光透過性であればよい。
上記消去手段は、上記イメージングプレートの蓄積記録領域の背面全体に消去光を同時照射する面発光体を形成していることが望ましい。上記消去手段は、上記イメージングプレートの背面に沿って配列された複数の発光体により構成することができる。
X線回折像を輝尽性蛍光体に蓄積記録させて読み取るX線回折装置において、露光−読取−消去の一連の工程動作を比較的簡単に高速化させることができるとともに、装置の小型化および構成の簡略化も可能になる。
図1は、本発明に係るX線回折装置の要部における一実施形態を示す。同図において、(a)は全体の概要を示す斜視図、(b)は読取手段の概要を模式的に示す断面図である。
X線回折装置の主要部は、(a)に示すように、入射X線生成手段10、試料支持機構20、イメージングプレート40、読取手段50、消去手段60により構成されている。
入射X線生成手段10はX線源とコリメータを含み、コリメートされたX線(Xo)を試料(試料または試料上の微小領域)30に照射する。試料支持機構20は、入射X線生成手段10によって生成される入射X線(Xo)の光路上に試料30を支持する。この試料支持機構20にはゴニオメータが使用されている。
入射X線生成手段10はX線源とコリメータを含み、コリメートされたX線(Xo)を試料(試料または試料上の微小領域)30に照射する。試料支持機構20は、入射X線生成手段10によって生成される入射X線(Xo)の光路上に試料30を支持する。この試料支持機構20にはゴニオメータが使用されている。
イメージングプレート40は上記試料30からのX線回折像(Xn)が露光される露光ステージに設置されている。この露光ステージにて露光されるX線回折像(Xn)を輝尽性蛍光体により蓄積記録する。このイメージングプレート40は輝尽性蛍光体シート41を板状の支持体42上に積層して形成されている。支持体42にはそれぞれ光透過性(透明または半透明)のものが使用されている。
なお、イメージングプレート40と試料30間の相対的な位置関係は、試料支持機構20における試料30の保持位置調整により、さらに要すれば、イメージングプレート40の露光ステージ内における位置調整により適宜に可変設定される。
なお、イメージングプレート40と試料30間の相対的な位置関係は、試料支持機構20における試料30の保持位置調整により、さらに要すれば、イメージングプレート40の露光ステージ内における位置調整により適宜に可変設定される。
読取手段50は、上記イメージングプレート40の蓄積記録像を励起光照射による輝尽発光により読み取る。この読取手段50はラインセンサ方式であって、主走査方向のライン画像を読み取るラインセンサを、その主走査方向と直交する副走査方向に移動(図中の矢印方向)させることにより、いわゆるXYの2軸走査により、イメージングプレート40上の蓄積記録像を輝尽発光させて読み取る。その読取光学系は、(b)に示すように、励起光源51、輝尽発光受光部52、ビームスプリッタ53などを用いて構成される。
励起光源51からはビーム状の励起光Lxが出射される。この励起光Lxはビームスプリッタ53を経てイメージングプレート40上の読取走査点に照射される。この照射により励起された輝尽発光Lsは、上記ビームスプリッタ53を経て上記受光部52に入光し、検出(光電変換)される。受光部52の入射光軸上には、輝尽発光Lsを励起光Lxから弁別するフィルタが介在させられている。
上記読取手段50による読み取りは、上述したように、主走査と副走査の2軸走査(XY軸方向の2軸走査)により面状に行う。この場合、主走査(ライン読取走査)は読取手段50内にて行うが、副走査は読取手段50の移動により行う。上記イメージングプレート40の支持体42には、その副走査方向(主走査方向と直交する図中の矢印方向)への移動を案内するためのガイド43が形成されている。
励起光源51からはビーム状の励起光Lxが出射される。この励起光Lxはビームスプリッタ53を経てイメージングプレート40上の読取走査点に照射される。この照射により励起された輝尽発光Lsは、上記ビームスプリッタ53を経て上記受光部52に入光し、検出(光電変換)される。受光部52の入射光軸上には、輝尽発光Lsを励起光Lxから弁別するフィルタが介在させられている。
上記読取手段50による読み取りは、上述したように、主走査と副走査の2軸走査(XY軸方向の2軸走査)により面状に行う。この場合、主走査(ライン読取走査)は読取手段50内にて行うが、副走査は読取手段50の移動により行う。上記イメージングプレート40の支持体42には、その副走査方向(主走査方向と直交する図中の矢印方向)への移動を案内するためのガイド43が形成されている。
消去手段60は、上記イメージングプレート40に消去光Leを照射することにより上記蓄積記録像を消去する。この消去手段60はイメージングプレート40の背後に定置状態で設置されている。イメージングプレート40の前面はX線回折像(Xn)が入射する記録面であり、上記消去手段60はその記録面に対して反対側(裏側)面に消去光Leを照射するように配置されている。
イメージングプレート40の背面に照射された消去光Leは、支持板42を透して輝尽性蛍光シート41に照射される。この照射により、輝尽性蛍光シート41に残留している蓄積記録像が消去される。この背面照射による消去を行わせるためには、上記支持体42のうち、少なくとも上記輝尽性蛍光シート41が積層される部分を光透過性に形成すればよい。
上記消去手段60は、上記イメージングプレート40の背面に沿って配列された複数の発光体61により構成されている。この発光体61列は、上記イメージングプレート40の蓄積記録領域の背面全体に消去光を同時照射する面発光体を形成している。
図2は上記X線回折装置の動作工程別状態を示す。同図において、(a)は、試料30からのX線回折像(Xn)を上記輝尽性蛍光体シード41上に蓄積記録させるときの状態(露光工程)を示す。(b)は、上記蓄積記録像を上記読取手段50で読み取るときの状態(読取工程)を示す。読取手段50は上記蛍光体シート41の記録面上を2軸方向に走査して読み取りを行う。(c)は、上記蛍光体シート41の残留記録像を消去するときの状態(消去工程)を示す。
上記消去工程は、上記イメージングプレート40を露光時および読取時と同じステージに固定したまま、つまり露光ステージに位置させた状態のまま、イメージングプレート40の背後に位置する消去手段60の発光体61列を一斉点灯させて行う。発光体61列からの消去光は支持体42を通して輝尽性蛍光体シート41に入射される。これにより、その輝尽性蛍光体シート41に残留している蓄積記録像が消去される。この消去工程の後、イメージングプレート40はそのままの位置で、次のX線回折像を記録できる(a)の状態となる。
図3は上述した一連の工程サイクル(露光−読取−消去)をフローチャート化して示す。同図に示すように、上記X線回折装置では、露光工程(S11)、読取工程(S12)、消去工程(S13)の各工程を、イメージングプレート40を所定の露光ステージから動かすことなく連続して順次実行させることができる。これにより、露光−読取−消去の一連の工程動作を比較的簡単に高速化させることができる。
また、上記消去手段60はイメージングプレート40の背後に設置することができるともに、その位置を動かすことなく消去を行うことができる。これにより、装置の小型化および構成の簡略化が達成される。さらに、上記消去手段60が上記イメージングプレート40の蓄積記録領域の背面全体に消去光を同時照射する面発光体を形成すれば、上記消去工程(S13)に要する時間を非常に短くすることができ、これにより上記一連の工程動作をさらに高速化させることができる。
X線回折像を輝尽性蛍光体に蓄積記録させて読み取るX線回折装置において、露光−読取−消去の一連の工程動作を比較的簡単に高速化させることができるとともに、装置の小型化および構成の簡略化も可能になる。
10 入射X線生成手段
20 試料支持機構(ゴニオメータ)
30 試料
40 イメージングプレート
41 輝尽性蛍光体シート
42 光透過性の支持体
43 走査ガイド
50 読取手段
51 励起光源
52 輝尽発光受光部
53 ビームスプリッタ
60 消去手段
61 消去用発光体
20 試料支持機構(ゴニオメータ)
30 試料
40 イメージングプレート
41 輝尽性蛍光体シート
42 光透過性の支持体
43 走査ガイド
50 読取手段
51 励起光源
52 輝尽発光受光部
53 ビームスプリッタ
60 消去手段
61 消去用発光体
Claims (4)
- コリメートされたX線を試料に照射する入射X線生成手段と、この入射X線生成手段によって生成される入射X線の光路上に試料を支持する試料支持機構と、上記試料からのX線回折像を輝尽性蛍光体により蓄積記録するイメージングプレートと、このイメージングプレートの蓄積記録像を励起光照射による輝尽発光により読み取る読取手段と、上記イメージングプレートに消去光を照射して上記蓄積記録像を消去する消去手段とを備えることにより、上記X線回折像の露光工程と、上記蓄積記録像の読取工程と、上記蓄積画像の消去工程を順次行わせるようにしたX線回折装置であって、上記イメージングプレートを所定の露光ステージに設置するとともに、このイメージングプレートの背後に上記消去手段を配置し、上記蓄積記録領域の背後を光透過性に形成することにより、上記消去手段からの消去光を上記イメージングプレートの背面に照射して上記消去を行わせるようにしたことを特徴とするX線回折装置。
- 請求項1において、上記イメージングプレートは、輝尽性蛍光体シートが板状の支持体上に積層されているとともに、少なくとも上記シートが積層する支持体部分が光透過性であることを特徴とするX線回折装置。
- 請求項1または2において、上記消去手段は、上記イメージングプレートの蓄積記録領域の背面全体に消去光を同時照射する面発光体を形成していることを特徴とするX線回折装置。
- 請求項1から3のいずれかに、上記消去手段は、上記イメージングプレートの背面に沿って配列された複数の発光体により構成されていることを特徴とするX線回折装置。
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US10/967,288 US20050152497A1 (en) | 2003-10-23 | 2004-10-19 | X-ray diffractometer |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publication Number | Publication Date |
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JP (1) | JP2005127819A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109387531A (zh) * | 2018-10-31 | 2019-02-26 | 宁波英飞迈材料科技有限公司 | 一种衍射消光摇摆曲线成像测量装置和方法 |
CN109490335A (zh) * | 2018-11-13 | 2019-03-19 | 中国科学院上海应用物理研究所 | 一种同步辐射硬x射线微聚焦实验平台 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US4933558A (en) * | 1989-01-31 | 1990-06-12 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | X-ray sensitive area detection device |
CA2424893A1 (en) * | 2000-10-19 | 2002-07-25 | Structural Genomix, Inc. | Apparatus and method for identification of crystals by in-situ x-ray diffraction |
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2003
- 2003-10-23 JP JP2003362826A patent/JP2005127819A/ja active Pending
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2004
- 2004-10-19 US US10/967,288 patent/US20050152497A1/en not_active Abandoned
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN109387531A (zh) * | 2018-10-31 | 2019-02-26 | 宁波英飞迈材料科技有限公司 | 一种衍射消光摇摆曲线成像测量装置和方法 |
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