JP2005111975A - 微細凹凸パターンの形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基材シート10上に第1のパターンを有する光回折構造12aが形成された転写層12が積層された光回折構造転写シート1であって、光回折構造12aには、前記第1のパターンと異なる第2のパターンが形成されたパターン領域12bが肉眼では視認できない大きさで組込まれている。
【選択図】 図2
Description
(1)熱可塑性を有する樹脂からなるレリーフ形成層を備えるレリーフ形成材と、表面に原版の微細凹凸パターンに対応するレリーフパターンを有するレリーフパターンシートを用い、光熱変換層がレリーフ形成材またはレリーフパターンシートに設けられ、レリーフ形成層とレリーフパターンとが接するようにレリーフ形成材とレリーフパターンシートとを接触させた状態で、光熱変換層に光を照射して光熱変換層を発熱させて、レリーフ形成層にレリーフパターンシートのレリーフパターンに対応する原版の微細凹凸パターンを賦型することを特徴とする微細凹凸パターンの形成方法、
(2)レリーフパターンシートに光熱変換層が設けられていて、レリーフパターンシート側から光を照射する上記(1)記載の微細凹凸パターンの形成方法、
(3)レリーフ形成材に光熱変換層が設けられている上記(1)または(2)記載の微細凹凸パターンの形成方法、
(4)レリーフ形成層が、熱可塑性を有する電離放射線硬化性樹脂からなる上記(1)〜(3)のいずれか1に記載の微細凹凸パターンの形成方法、
(5)レリーフ形成材とレリーフパターンシートとを真空吸着により密着させる上記(1)〜(4)のいずれか1に記載の微細凹凸パターンの形成方法、
を要旨とするものである。
この場合、図2(c)に示すように、最終的に得られるレリーフ形成体10は光熱変換層7を含まないため、レリーフ形成体として任意の色に着色したすることができるから、意匠的に優れる。
ii)カルボキシル基を有する単量体:アクリル酸、メタクリル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネートなど。
iii)エポキシ基を有する単量体:グリシジルメタクリレートなど。
iv)アジリジニル基を有する単量体:2-アジリジニルエチルメタクリレート、2−アジリジニルプロピオン酸アリルなど。
v)アミノ基を有する単量体:アクリルアミド、メタクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレートなど。
vi)スルフォン基を有する単量体:2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルフォン酸など。
vii)イソシアネート基を有する単量体:2,4-トルエンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチルアクリレートの1モル対1モル付加物などのジイソシアネートと活性水素を有するラジアル重合性単量体の付加物など。
viii)さらに、上記の重合体または共重合体のガラス転移点を調節したり、硬化膜の物性を調節したりするために、上記の化合物と、この化合物と共重合可能な以下のような単量体とを共重合させることもできる。このような共重合可能な単量体としては、たとえばメチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、t−ブチルアクリレート、t−ブチルメタクリレート、イソアミルアクリレート、イソアミルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレートなどが挙げられる。
(イ)水酸基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキシル基を有する単量体などを縮合反応させる。
(ロ)カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有する単量体を縮合反応させる。
(ハ)エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリジニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシル基を有する単量体を付加反応させる。
(ニ)水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有する単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体あるいはジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステル単量体の1対1モルの付加物を付加反応させる。
上記反応を行うには、微量のハイドロキノンなどの重合禁止剤を加え乾燥空気を送りながら行うことが好ましい。
下記の塗工液組成物を作成し、PETシートの表面にグラビアコーティング法で塗工した(塗工量:0.5g/m2)
・カーボンブラック(三善化学:#258) 1
・バインダー樹脂(ポリエステル樹脂、東洋紡バイロン200) 1
・UV硬化剤(三井武田ケミカル社:タケネートA10) 0.1
・溶剤(MEK/トルエン=1/1) 8
下記の配合割合の組成物をメチルエチルケトン(MEK)で希釈して組成物の固形分を50%に調整しインキとし、前記光熱変換層の上からグラビアコーティング法で塗工した(塗工量:2g/m2)。
・ウレタン変性アクリレート(A) 100
・シリコーン(トリメチルシロキシケイ酸含有メチルポリシロキサン、信越化学社製商品名:KF−7312) 1
・多官能ウレタンアクリレート(日本合成化学工業社製商品名:紫光UV−1700B) 25
・光重合開始剤(チバスペシャリティケミカルズ社製商品名:イルガキュア907) 5
冷却器、滴下ロートおよび温度計付きの2リットルの四つ口フラスコに、トルエン40gおよびメチルエチルケトン(MEK)40gをアゾ系の開始剤と共に仕込み、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)24.6g、メチルメタクリレート(MMA)73.7g、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート24.6g、トルエン20g、およびMEK20gの混合液を滴下ロートを経て、約2時間かけて滴下させながら100〜110℃の温度下で8時間反応させた後、室温まで冷却した。これに、2−イソシアネートエチルメタクリレート(昭和電工社製:カレンズMOI)27.8g、トルエン20gおよびMEK20gの混合液を加えて、ラウリン酸ジブチル錫を触媒として付加反応させた。反応生成物をIR分析し、イソシアネート基の2200cm−1の吸収ピークの消失を確認して反応を終了させた。得られたウレタン変性アクリレートの溶液は、不揮発分が41.0%、該アクリレートのGPC分析(溶剤THF、標準ポリスチレン換算)による分子量は3万、ポリマー1分子中の二重結合の平均個数は13.0モル%であった。
レリーフパターンシートは2P法により作成した。易接着PETシートに版材用UV硬化性樹脂(ザ・インクテック社製:UV−SELクリヤーOPニス)を滴下し、回折格子パターン樹脂原版にラミネートし、紫外線を仮照射した。その後回折格子パターン樹脂原版を剥離し、易接着PETシート表面に形成された回折格子パターンに対応する仮硬化したレリーフパターンに、紫外線を再照射して該レリーフパターンを本硬化させた。
先ず易接着PETシートに光熱変換層を設ける。光変換層は実施例1の塗工組成物と同じ組成物を用いて同じ方法で形成した。次いで該光変換層の上に版材用UV硬化性樹脂(ザ・インクテック社製:UV−SELクリヤーOPニス)を滴下し、回折格子パターン樹脂原版にラミネートし、紫外線を仮照射した後、回折格子パターン樹脂原版を剥離し、紫外線を再照射して該レリーフパターンを本硬化させて、PETシート、光熱変換層、レリーフパターンが順次形成されたシートを得た。
2 レリーフ形成層
3 レリーフ形成材
4 レリーフパターンシートの基材
5 レリーフパターン
6 レリーフパターンシート
7 光熱変換層
8 光
9 微細凹凸パターン
10 レリーフパターン形成体
Claims (5)
- 熱可塑性を有する樹脂からなるレリーフ形成層を備えるレリーフ形成材と、表面に原版の微細凹凸パターンに対応するレリーフパターンを有するレリーフパターンシートを用い、光熱変換層がレリーフ形成材またはレリーフパターンシートに設けられ、レリーフ形成層とレリーフパターンとが接するようにレリーフ形成材とレリーフパターンシートとを接触させた状態で、光熱変換層に光を照射して光熱変換層を発熱させて、レリーフ形成層にレリーフパターンシートのレリーフパターンに対応する原版の微細凹凸パターンを賦型することを特徴とする微細凹凸パターンの形成方法。
- レリーフパターンシートに光熱変換層が設けられていて、レリーフパターンシート側から光を照射する請求項1記載の微細凹凸パターンの形成方法。
- レリーフ形成材に光熱変換層が設けられている請求項1または2記載の微細凹凸パターンの形成方法。
- レリーフ形成層が、熱可塑性を有する電離放射線硬化性樹脂からなる請求項1〜3のいずれか1に記載の微細凹凸パターンの形成方法。
- レリーフ形成材とレリーフパターンシートとを真空吸着により密着させる請求項1〜4のいずれか1に記載の微細凹凸パターンの形成方法。
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