JP2005101545A5 - - Google Patents

Claims (7)

1. 配線金属の除去を制限するための腐食インヒビターと、
   酸性ｐＨと、
   砥粒と、
   式：
   

   

   
   （Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄は非置換のアリール、アルキル、アラルキル又はアルカリール基を表わす基であり、Ｒ₁は、２〜１５個の炭素原子の炭素鎖長を有する）を用いて形成される有機含有アンモニウム塩と
   を含み、
   前記有機含有アンモニウム塩が、２１．７kPa未満の少なくとも１つの研磨圧力を用いて、ＴＥＯＳ除去を促進し、かつＳｉＣ、ＳｉＣＮ、Ｓｉ₃Ｎ₄及びＳｉＣＯからなる群より選択される少なくとも１つのコーティングの除去を減少させる濃度を有する、
   水性研磨組成物。
2. Ｒ ₁ が２〜１５個の炭素原子の炭素鎖長を有する、請求項１記載の水性研磨組成物。
3. アンモニウム塩が、テトラエチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、ベンジルトリブチルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウム、ベンジルトリエチルアンモニウム、ジアリルジメチルアンモニウム、ジエチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウム、３−（メタクリルアミド）プロピルトリメチルアンモニウム、トリエチレンテトラミン、テトラメチルグアニジン、ヘキシルアミン、及びそれらの混合物から選択される化合物で形成される、請求項１記載の水性研磨組成物。
4. 砥粒０．０５〜１５重量％と、
   酸化剤０〜１０重量％と、
   配線金属の除去を制限するための腐食インヒビター０．００２５〜６重量％と、
   ５未満のｐＨと、
   式：
   

   

   
   （Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄は非置換のアリール、アルキル、アラルキル又はアルカリール基を表わす基であり、Ｒ₁は、２〜１５個の炭素原子の炭素鎖長を有する）を用いて形成される有機含有アンモニウム塩０．００１〜３重量％と
   を含み、
   前記有機含有アンモニウム塩が、２１．７kPa未満の少なくとも１つの研磨圧力を用いて、ＴＥＯＳ除去を促進し、かつＳｉＣ、ＳｉＣＮ、Ｓｉ₃Ｎ₄及びＳｉＣＯからなる群より選択される少なくとも１つのコーティングの除去を減少させる濃度を有する、
   水性研磨組成物。
5. 砥粒がシリカを含み、酸化剤が過酸化水素を含み、腐食インヒビターがベンゾトリアゾールを含み、組成物が３未満のｐＨと有機アンモニウムフッ化物塩を有する、請求項４記載の水性研磨組成物。
6. 研磨組成物が硝酸、硫酸、塩酸、リン酸又はこれらの混合物を用いてｐＨを２〜３に調整されたものである、請求項５記載の水性研磨組成物。
7. Ｒ ₁ が２〜５個の炭素原子の炭素鎖長を有する、請求項４記載の水性研磨組成物。