JP2005099248A

JP2005099248A - 液晶表示装置

Info

Publication number: JP2005099248A
Application number: JP2003331269A
Authority: JP
Inventors: Shinichi Morishima; 慎一森嶌; Yoshirou Futamura; 恵朗二村; Shigeo Kamihira; 茂生上平
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2003-09-24
Filing date: 2003-09-24
Publication date: 2005-04-14
Anticipated expiration: 2023-09-24
Also published as: JP4493313B2; KR101175573B1; KR20050030152A

Abstract

【課題】液晶セルが正確に光学的に補償され、且つ薄層化が可能な液晶表示装置を提供する。
【手段】外部電界が印加されていない非駆動状態において、前記液晶性分子が前記基板に対して略垂直な方向に配向する液晶セルと、光学的に負の屈折率異方性を持ち、ディスコティック液晶性化合物及び下記一般式（Ｉ）、（II）又は（III）（式中、ＲおよびＲ¹〜Ｒ⁹はそれぞれ置換基等を、及びＸ¹〜Ｘ³はそれぞれ二価の連結基等を表す）で表される化合物の少なくとも一種を含有する組成物から形成され、可視光に対してＲｅが１０ｎｍ以下である光学異方性層とを有する液晶表示装置である。
【化１】

【化２】

【化３】

【選択図】なし

Description

本発明は、液晶表示装置に関し、特に視野角特性の優れた垂直配向ネマチック型液晶表示装置に関する。

液晶表示装置は、通常、液晶セル及び偏光板を有する。前記偏光板は保護フィルム及び偏光膜を有し、例えば、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護フィルムにて積層して得られる。透過型液晶表示装置では、この偏光板を液晶セルの両側に取り付け、さらには一枚以上の光学補償シートを配置することもある。反射型液晶表示装置では、反射板、液晶セル、一枚以上の光学補償シート、及び偏光板の順に配置する。液晶セルは、液晶性分子、それを封入するための二枚の基板及び液晶性分子に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、液晶性分子の配向状態の違いで、ＯＮ・ＯＦＦ表示を行い、透過及び反射型いずれにも適用できる、ＴＮ（ＴｗｉｓｔｅｄＮｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−ＰｌａｎｅＳｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（ＯｐｔｉｃａｌｌｙＣｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙＢｅｎｄ）、ＶＡ（ＶｅｒｔｉｃａｌｌｙＡｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（ＥｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙＣｏｎｔｒｏｌｌｅｄＢｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）のような表示モードが提案されている。

この様なＬＣＤの中でも、高い表示品位が必要な用途については、正の誘電率異方性を有するネマチック液晶分子を用い、薄膜トランジスタにより駆動する９０度ねじれネマチック型液晶表示装置（以下、ＴＮモードという）が主に用いられている。しかしながら、ＴＮモードは正面から見た場合には優れた表示特性を有するものの、斜め方向から見た場合にコントラストが低下したり、階調表示で明るさが逆転する階調反転等が起こることにより表示特性が悪くなるという視野角特性を有しており、この改良が強く要望されている。

近年、この視野角特性を改良するＬＣＤの方式として、負の誘電率異方性を有するネマチック液晶分子を用い、電圧を印加しない状態で液晶分子の長軸を基板に略垂直な方向に配向させ、これを薄膜トランジスタにより駆動する垂直配向ネマチック型液晶表示装置（以下、ＶＡモードという）が提案されている（特許文献１参照）。このＶＡモードは、正面から見た場合の表示特性がＴＮモードと同様に優れているのみならず、視野角補償用位相差フィルムを適用することで広い視野角特性を発現する。ＶＡモードでは、フィルム面に垂直な方向に光学軸を有する負の一軸性位相差フィルムを２枚、液晶セルの上下に用いることでより広い視野角特性を得ることができ、このＬＣＤに更に面内のレターデーション値が５０ｎｍである正の屈折率異方性を有する一軸配向性位相差フィルムを用いることで、更により広い視野角特性を実現できることも知られている（非特許文献１参照）。

しかしながら、３枚の位相差フィルムを用いること（非特許文献１参照）は生産コストの上昇を伴うだけでなく、多数のフィルムを貼り合わせるために歩留まりの低下を引き起こし、さらには複数のフィルムを用いるために厚さが増し、表示装置の薄形化に不利となるなどの問題がある。また、延伸フィルムの積層には粘着層を用いるため、温湿度変化により粘着層が収縮してフィルム間の剥離や反りといった不良が発生することがある。これらを改善する方法として、位相差フィルムの枚数を減らす方法やコレステリック液晶層を用いる方法が開示されている（特許文献２および３参照）。しかしながら、これらの方法でも複数のフィルムを貼り合わせる必要があり、薄層化、生産コスト低減という点では不十分であった。さらに、黒表示時の偏光板の斜め方向からの光漏れが認められ、視野角が充分に（理論的に期待できる程度まで）拡大していないという問題があった。
特開平２−１７６６２５号公報特開平１１−９５２０８号公報特開２００３−１５１３４号公報ＳＩＤ９７ＤＩＧＥＳＴ８４５頁〜８４８頁

本発明の課題は、液晶セルが正確に光学的に補償され、かつ貼り合わせるシートの枚数が少なく、薄層化が可能な液晶表示装置、特にＶＡモードの液晶表示装置を提供することである。

本発明の目的は、下記［１］〜［９］の液晶表示装置により達成された。
［１］互いの吸収軸が直交している二枚の偏光膜と、前記二枚の偏光膜の間に、一対の基板及び該基板間に挟持される液晶性分子からなる液晶層を有するとともに、外部電界が印加されていない非駆動状態において、前記液晶性分子が前記基板に対して略垂直な方向に配向する液晶セルと、光学的に負の屈折率異方性を持ち、ディスコティック液晶性化合物及び下記一般式（Ｉ）、（II）又は（III）で表される化合物の少なくとも一種を含有する組成物から形成され、可視光に対して下記で定義されるＲｅが１０ｎｍ以下である光学異方性層とを有する液晶表示装置。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（１）
（ｎｘは層の面内における遅相軸方向の屈折率、ｎｙはｎｘと直交する方向の面内の屈折率、ｄは層の厚みを表す。）

［式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は各々独立して、水素原子又は置換基を表し、Ｘ¹、Ｘ²及びＸ³は単結合又は二価の連結基を表す。］

［式中、Ｒは置換基を表し、ｍは０〜５の整数を表し、ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲは同一でも異なっていてもよい。］

［式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。］

［２］光学的に正の屈折率異方性を持ち、可視光に対して下記で定義されるＲｅが４０〜１５０ｎｍである第1の光学異方性層の少なくとも一層と、［１］中の光学異方性層である第２の光学異方性層の少なくとも一層とを有し、前記第２の光学異方性層の下記で定義されるＲｔｈが６０〜２５０ｎｍである［１］に記載の液晶表示装置。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（１）
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２ − ｎｚ｝×ｄ（２）
（ｎｘは層の面内における遅相軸方向の屈折率、ｎｙはｎｘと直交する方向の面内の屈折率、ｎｚは層の厚み方向の屈折率、ｄは層の厚みを表す。）
［３］前記第２の光学異方性層において、ディスコティック液晶性化合物が実質的に水平配向している［２］に記載の液晶表示装置。
［４］前記第２の光学異方性層が、前記二枚の偏光膜の少なくとも一方の保護膜を兼ねる［２］または［３］に記載の液晶表示装置。
［５］前記ディスコティック液晶性化合物が、トリフェニレン液晶性化合物である［２］〜［４］のいずれかに記載の液晶表示装置。
［６］前記第１の光学異方性層が、棒状液晶性化合物を含有する組成物から形成された層又は高分子ポリマーからなる層である［２］〜［５］のいずれかに記載の液晶表示装置。
［７］前記第１の光学異方性層が、下記一般式（IV）で表される棒状液晶性化合物を含有する組成物から形成された層である［２］〜［６］のいずれかに記載の液晶表示装置。
一般式（IV）
Ｑ¹−Ｌ¹−Ａ¹−Ｌ³−Ｍ−Ｌ⁴−Ａ²−Ｌ²−Ｑ²
［式中、Ｑ¹及びＱ²はそれぞれ独立に重合性基を表わし、Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³及びＬ⁴はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基を表し、Ａ¹及びＡ²はそれぞれ独立に炭素原子数２〜２０を有するスペーサー基を表わし、Ｍはメソゲン基を表わす。］
［８］前記第１の光学異方性層が、前記二枚の偏光膜の吸収軸の一方に対して実質的に直交する方向に水平配向している棒状液晶性化合物からなる層である［２］〜［７］のいずれかに記載の液晶表示装置。
［９］前記第１の光学異方性層と前記第２の光学異方性層が液晶セルを挟んで配置されている［２］〜［８］のいずれかに記載の液晶表示装置。

本明細書において、角度について「実質的に」とは、厳密な角度±５°未満の範囲内であることを意味する。厳密な角度との誤差は、４゜未満であることが好ましく、３゜未満であることがより好ましい。また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。さらに屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。また、本明細書において、「可視光」とは、４００ｎｍ〜７００ｎｍのことをいい、さらに屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。また、本明細書では、「偏光膜」及び「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体のことを意味するものとする。

本発明では、所定の光学異方性層を利用することにより、従来の液晶表示装置と同じ構成で、液晶セルを光学的に正確に補償することが可能になった。前記光学異方性層を有する本発明の液晶表示装置は、表示品位のみならず、視野角が著しく改善されている。即ち、本発明によれば、液晶セルが正確に光学的に補償される液晶表示装置、特にＶＡモードの液晶表示装置を提供することができる。

発明の実施の形態

本発明を具体的に説明する。まず、図面を用いて、本発明の液晶表示装置の一態様について説明する。
図１は本発明の液晶表示装置、図２は本発明に使用可能な偏光板の構成の一例を示す模式図である。図１では、電界効果型液晶として負の誘電異方性を有するネマチック液晶を用いてアクティブ駆動を行った例で説明する。

［液晶表示装置］
図１において、液晶表示装置は、液晶セル（５〜８）、及び液晶セルの両側に配置された一対の偏光板１及び１２を有する。偏光板１と液晶セル５〜８との間には、第１の光学異方性層３が、偏光板１２と液晶セル５〜８との間には、第２の光学異方性層１０が配置されている。液晶セルは、上側電極基板５と下側電極基板８と、これらに挟持される液晶分子７とからなる。液晶性分子７は、電極基板５及び８の対向面に施されたラビング処理の方向６及び９によって、外部電界が印加されていない非駆動状態において、前記基板に対して略垂直な方向に配向するように制御されている。また、上側偏光板１と下側偏光板１２は、その吸収軸２と吸収軸１３とが概略直交するように積層されている。

図２に示す様に、偏光板１及び１２は、保護膜１０１及び１０５に挟持される偏光膜１０３からなる。偏光板１及び１２は、例えば、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行うことによって偏光膜１０３を得、その両面に保護膜１０１及び１０５を積層して作製することができる。積層の際には、一対の保護膜と偏光膜の合計３枚のフィルムを、ロール・ＴＯ・ロールで貼り合わせると、生産性の点で好ましい。また、ロール・ＴＯ・ロールの積層では、図２に示す様に、保護膜１０１及び１０５の遅相軸１０２及び１０６と、偏光膜１０３の吸収軸１０４とが平行となる様に容易に積層でき、偏光板の寸法変化やカールの発生が起こりに難い機械的安定性が高い偏光板となるので好ましい。また、３枚のフィルムの少なくとも２つの軸、例えば、一方の保護膜の遅相軸と偏光膜吸収軸、あるいは２枚の保護フィルムの遅相軸などが実質的に平行であれば同じ効果が得られる。

再び図１において、第１の光学異方性層３は、光学的に正の屈折率異方性を持ち、可視光に対してレターデーション（Ｒｅ）が４０〜１５０ｎｍを示す。第１の光学異方性層３を構成している材料については特に制限はなく、液晶性化合物を含有する組成物から形成された層であっても、ポリマーフィルムからなっていてもよいが、棒状液晶性化合物を含有する組成物から形成された層であるのが好ましい。一方、第２の光学異方性層１０は、光学的に負の屈折率異方性を持ち、ディスコティック液晶性化合物を含有する組成物から形成され、可視光に対してＲｅが１０ｎｍ以下である。さらに、第２の光学異方性層１０は、可視光に対してＲｔｈが６０〜２５０ｎｍであるのが好ましい。これらの光学異方性層３及び１０は、液晶セルの画像着色を解消し、及び視野角の拡大に寄与する。

図１中、上側を観察者側とすると、図１には、第１の光学異方性層３は、観察者側の偏光板１と観察者側液晶セル用基板５との間に、第２の光学異方性層１０は、背面側の偏光板１２と背面側液晶セル用基板８との間に配置した構成を示したが、第１の光学異方性層と第２の光学異方性層が入れ替わった構成であってもよいし、また、第１及び第２の光学異方性層の双方が、観察者側の偏光板１と観察者側液晶セル用基板５との間に配置されていてもよいし、または背面側の偏光板１２と背面側液晶セル用基板８との間に配置されていてもよい。また、第１の光学異方性層３は、偏光板１と一体となっていてもよく、偏光板１と一体化した状態で液晶表示装置内に組み込むことができる。第１の光学異方性層が、棒状液晶性化合物を含有する組成物からなる場合、通常、支持体上に形成される。例えば、第１の光学異方性層の支持体を、偏光膜の一方の側の保護膜として機能させてもよく、透明保護膜、偏光膜、透明保護膜（透明支持体を兼用）及び第１の光学異方性層の順序で積層した一体型偏光板とするのが好ましい。前記一体型偏光板を液晶表示装置内に組み込む場合は、装置の外側（液晶セルから遠い側）から、透明保護膜、偏光膜、透明保護膜（兼透明支持体）及び第１の光学異方性層の順序になるように組み込むのが好ましい。さらに、第１の光学異方性層３が、ポリマーフィルムである場合は、第１の光学異方性層３が、偏光板１の一方の保護膜であってもよい。かかる態様では、透明保護膜、偏光膜及び第１の光学異方性層（透明保護膜を兼ねる）の順序で積層した一体型偏光板とし、該一体型偏光板を、外側（液晶セルから遠い側）から、透明保護膜、偏光膜及び第１の光学異方性層（兼透明保護膜）の順序になるように液晶表示装置内に組み込むのが好ましい。

第２の光学異方性層１０についても同様であり、偏光板１２と一体化した一体型偏光板として液晶表示装置内に組み込むことができ、偏光板１２の一方の保護膜が第２の光学異方性層１０の透明支持体を兼ねていてもよい。かかる態様では、透明保護膜、偏光膜、透明保護膜（透明支持体を兼用）及び第２の光学異方性層の順序で積層した一体型偏光板とし、該一体型偏光板を、外側（液晶セルから遠い側）から、透明保護膜、偏光膜、透明保護膜（兼透明支持体）及び第２の光学異方性層の順序になるように液晶表示装置内に組み込むのが好ましい。

本発明の液晶表示装置は、上記構成に限定されず、他の部材を含んでいてもよい。例えば、液晶セルと偏光膜との間にカラーフィルターを配置してもよい。また、透過型液晶表示装置の態様では、冷あるいは熱陰極蛍光管、発光ダイオード、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置することができる。一方、反射型液晶表示装置の態様では、偏光板は観察側に１枚配置したのみでよく、液晶セル背面あるいは液晶セルの下側基板の内面に反射膜を設置する。もちろん前記光源を用いたフロントライトを液晶セル観察側に設けることも可能である。さらに、表示装置の１画素内に、透過部と反射部を設けた半透過型も可能である。

本発明の液晶表示装置の種類については特に限定されず、画像直視型、画像投影型及び光変調型のいずれの液晶表示装置も含まれる。ＴＦＴやＭＩＭのような３端子または２端子半導体素子を用いたアクティブマトリクス液晶表示装置が本発明は有効である。もちろん時分割駆動と呼ばれるＳＴＮ型に代表されるパッシブマトリクス液晶表示装置でも有効である。

［ＶＡモード液晶セル］
本発明において、液晶セルはＶＡモードであるのが好ましい。ＶＡモードの液晶セルは、対向面がラビング処理された上下基板の間に誘電異方性が負の液晶性分子を封入してなる。例えば、Δｎ＝０．０８１３、及びΔε＝−４．６程度の液晶分子を用い、液晶分子の配向方向を示すダイレクタ、いわゆるチルト角が約８９°の液晶セルを作製することができる。この時、液晶層の厚さｄは３．５μｍ程度にすることができる。液晶層の厚さｄと、屈折率異方性Δｎとの積Δｎｄの大きさにより白表示時の明るさが変化する。最大の明るさを得るためには、液晶層の厚さと屈折率異方性Δｎとの積Δｎｄは０．２〜０．５μｍの範囲であるのが好ましい。

基板５及び基板８のそれぞれの配向膜（図示せず）の内側には、透明電極（図示せず）が形成されるが、電極に駆動電圧を印加しない非駆動状態では、液晶層中の液晶分子７は、基板面に対して概略垂直に配向し、その結果液晶パネルを通過する光の偏光状態はほとんど変化しない。上記した様に、液晶セルの上側偏光板１の吸収軸２と下側偏光板１２の吸収軸１３とは概略直交になっているので、光は偏光板を通過せず、すなわち、図１の液晶表示装置では、非駆動状態において理想的な黒表示を実現する。これに対し、駆動状態では、液晶分子は基板面に平行な方向に傾斜し、液晶パネルを通過する光はかかる傾斜した液晶分子により偏光状態を変化させ、偏光板を通過する。換言すると、図１の液晶表示装置では、駆動状態において白表示が得られる。

ここでは上下基板間に電界が印加されるため、電界方向に垂直に液晶分子が応答するような、誘電率異方性が負の液晶材料を使用した例を示した。また電極を一方の基板に配置し、電界が基板面に平行の横方向に印加される場合は、液晶材料は正の誘電率異方性を有するものを使用することができる。
なお、ＶＡモードの液晶表示装置では、ＴＮモードの液晶表示装置で一般的に使われているカイラル材の添加は、動的応答特性の劣化させるため用いることは少ないが、配向不良を低減するために添加されることもある。

ＶＡモードの特徴は、高速応答であることと、コントラストが高いことである。しかし、コントラストは正面では高いが、斜め方向では低下するという課題がある。黒表示時に液晶性分子は基板面に垂直に配向している。正面から観察すると、液晶分子の複屈折はほとんどないため透過率は低く、高コントラストが得られる。しかし、斜めから観察した場合は液晶性分子に複屈折が生じる。さらに上下の偏光板吸収軸の交差角が、正面では９０°の直交であるが、斜めから見た場合は９０°より大きくなる。この２つの要因のために斜め方向では漏れ光が生じ、コントラストが低下する。本発明では、これを解決するために、第１及び第２の光学異方性層を少なくとも一層ずつ配置する。

ＶＡモードでは、白表示時には液晶性分子が傾斜しているが、傾斜方向とその逆方向では、斜めから観察した時の液晶性分子の複屈折の大きさが異なり、輝度や色調に差が生じる。これを解決するためには、液晶セルをマルチドメインにするのが好ましい。マルチドメインとは、一つの画素中に、配向状態の異なる複数の領域を形成した構造をいう。例えば、マルチドメイン方式のＶＡモードの液晶セルでは、一つの画素中に、電界印加時の液晶性分子の傾斜角が互いに異なる複数の領域が存在する。マルチドメイン方式のＶＡモード液晶セルでは、電界印加による液晶性分子の傾斜角を画素ごとに平均化することができ、そのことによって、視角特性を平均化することができる。一画素内で配向を分割するには、電極にスリットを設けたり、突起を設け、電界方向を変えたり電界密度に偏りを持たせる。全方向に均等な視野角を得るには、この分割数を多くすればよいが、４分割もしくは８分割以上することでほぼ均等な視野角が得られる。また、液晶分子を中心から放射状に連続的に配向させるＣＰＡ（ＣｏｎｔｉｎｕｏｕｓＰｉｎｗｈｅｅｌＡｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式が例えばＡＭ−ＬＣＤ’０１（２００１年）の２０１頁に提案されている。この場合、配向制御方向は３６０度に渡って均一であるため、全方向に均等な視野角を得ることが可能である。

突起等による配向制御処理方向６及び９と偏光板の吸収軸２及び１３とは、電圧印加時に配向制御処理方向を含む垂直面内で液晶分子７が水平方向に傾斜することにより発生するレターデーションで偏光状態を変化させるため、１〜８９度の角度を為すことが好ましい。さらに、前述の分割数によっても異なるが、例えば４分割であれば４０〜６０度がより好ましく、８分割であれば２０〜７０度がより好ましい。またＣＰＡ方式においては、配向制御処理方向は３６０度に渡って均一であるため、偏光板の吸収軸は任意の角度に設定することができる。

また配向分割の領域境界では、液晶分子が応答しづらい。そのためノーマリーブラック表示では黒表示が維持されるため、輝度低下が問題となる。液晶材料にカイラル剤を添加することは、境界領域を小さくするのに寄与する。

以下、本発明の液晶表示装置に用いられる第１及び第２の光学異方性層について、詳細に説明する。
本発明において、第１及び第２の光学異方性層は、液晶表示装置の画像着色を解消し、及び視野角の拡大に寄与する。また、光学異方性層の支持体が偏光板の保護膜を兼ねることによって、または光学異方性層が偏光板の保護膜を兼ねることによって、液晶表示装置の構成部材を減少させることができるので、かかる態様では、液晶表示装置の薄型化にも寄与する。

本発明では、第２の光学異方性層は、ディスコティック液晶性化合物を含有する組成物から形成される。第１の光学異方性層については、その原料は特に制限されないが、液晶性化合物を含有する組成物から形成してもよい。液晶性分子の配向によって発現された光学異方性を有する光学異方性層は、従来の延伸複屈折ポリマーフィルムでは得ることができない光学的性質を実現することができる。特に棒状液晶化合物を含有する組成物から形成された第１の光学異方性層と、ディスコティック液晶性化合物を含有する組成物から形成された第２の光学異方性層の組合せにより、液晶表示装置の光学特性を格段に向上させることができる。なお、本発明では、第２の光学異方性層は、ディスコティック液晶性分子の配向によって発現された光学異方性を示す層であり、該層はディスコティック液晶性化合物のみならず、液晶性分子の配向を制御するのに寄与する材料や、液晶性分子を配向状態に固定するのに必要な材料等を含んでいてもよい。また、ディスコティック液晶性分子は、配向状態に固定された後は、液晶性を失っていてもよい。

本発明において、第１の光学異方性層の面内レターデーション（Ｒｅ）は可視光に対して４０〜１５０ｎｍであり、第２の光学異方性層のＲｅは可視光に対して１０ｎｍ以下である。第２の光学異方性層は、可視光に対してＲｔｈが６０〜２５０ｎｍ以下であるのが好ましい。第１及び第２の光学異方性層は、組み合わされることによって、全体として光学補償機能を奏するので、組み合わせた全体のレターデーションとして調整することがより好ましい。第１及び第２の光学異方性層は、組み合わされることによって、全体として、Ｒｅが３０〜２００ｎｍであり、Ｒｔｈが６０〜５００ｎｍであるのが好ましい。ここで、Ｒｅ及びＲｔｈは、おのおの以下の式によって定義される。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（１）
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２ − ｎｚ｝×ｄ（２）
式中、ｎｘは層の面内における遅相軸方向の屈折率、ｎｙはｎｘと直交する方向の面内の屈折率、ｎｚは層の厚み方向の屈折率、ｄは層の厚みを表す。

［第１の光学異方性層］
本発明に用いる第１の光学異方性層は、棒状液晶性化合物を含有する組成物から形成されているのが好ましく、可視光に対するＲｅが４０〜１５０ｎｍであり、好ましくは５０〜１２０ｎｍである。前記棒状液晶性化合物は、重合性基を有しているのが好ましい。重合性基を有する棒状液晶性化合物の場合は、実質的に水平（ホモジニアス）配向に固定化することが好ましい。実質的に水平とは、棒状液晶性化合物分子の長軸方向と光学異方性層の面との平均角度（平均傾斜角）が０°〜１０°の範囲内であることを意味する。棒状液晶性化合物分子を斜め配向させてもよい。斜め配向の場合でも、平均傾斜角は０°〜２０°であることが好ましい。

棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。特に好ましく用いられる、低分子の重合性基を有する棒状液晶性化合物としては、下記一般式（IV）の棒状液晶性化合物である。

一般式（IV）
Ｑ¹−Ｌ¹−Ａ¹−Ｌ³−Ｍ−Ｌ⁴−Ａ²−Ｌ²−Ｑ²
式中、Ｑ¹及びＱ²はそれぞれ独立に重合性基を表わし、Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³及びＬ⁴はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基であり、Ａ¹及びＡ²は炭素原子数２〜２０を有するスペーサー基を表わし、Ｍはメソゲン基を表わす。

以下にさらに重合性棒状液晶化合物について説明する。
式中、Ｑ¹及びＱ²はそれぞれ独立に重合性基である。重合性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。言い換えると、重合性基は、付加重合反応または縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。

Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³及びＬ⁴で表される二価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ²−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ²−、−ＮＲ²−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ²−、−ＮＲ²−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ²−ＣＯ−ＮＲ²−、または単結合からなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ²は炭素原子数が１〜７のアルキル基または水素原子である。Ｌ³及びＬ⁴は、それぞれ−Ｏ−または−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−が好ましい。

Ｑ¹とＬ¹またはＱ²とＬ²の組み合わせで表される基のうち、ＣＨ₂＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）−ＣＯ−Ｏ−、及びＣＨ₂＝Ｃ（Ｃｌ）−ＣＯ−Ｏ−が好ましく、最も好ましくはＣＨ₂＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−である。

Ａ¹及びＡ²はそれぞれ、炭素原子数２〜２０を有するスペーサー基を表し、炭素原子数２〜１２の脂肪族基を表すのが好ましい。スペーサー基は鎖状であることがさらに好ましく、隣接していない酸素原子または硫黄原子を含んでいてもよい。また、置換基として、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素）、シアノ基、メチル基、エチル基が置換していてもよい。

Ｍで表されるメソゲン基としては、すべての公知のメソゲン基を使用することができるが、中でも下記一般式（Ｖ）で表される基が好ましい。
一般式（Ｖ）
−（−Ｗ¹−Ｌ⁵）_n−Ｗ²−
Ｗ¹及びＷ²はそれぞれ、二価の環状脂肪族基、二価の芳香族基または二価のヘテロ環基を表わす。Ｗ¹及びＷ²として好ましくは、１，４−シクロヘキサンジイル、１，４−フェニレン、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル等が挙げられる。１，４−シクロヘキサンジイルの場合、トランス体及びシス体の構造異性体があるが、本発明ではどちらの異性体であってもよく、任意の割合の混合物でもよいが、トランス体であることが好ましい。Ｌ⁵はＬ¹〜Ｌ⁴で表される基のいずれか、又はＣＨ₂−Ｏ−もしくは−Ｏ−ＣＨ₂−を表わす。Ｌ⁵として好ましくは、−ＣＨ₂−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ₂−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ²−、−ＮＲ²−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−である。ｎは１、２または３を表わし、好ましくは２である。Ｗ¹及びＷ²はそれぞれ置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、シアノ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基など）、炭素原子数１〜１０のアシル基（ホルミル基、アセチル基など）、炭素原子数２〜１０のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、炭素原子数２〜１０のアシルオキシ基（アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など）、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、などが挙げられる。一般式（Ｖ）で表されるメソゲン基の基本骨格で好ましいものは以下の通りである。これらに上記置換基が置換していてもよい。

これらの中で特に好ましいのは下記の基本骨格である。

以下に本発明の一般式（IV）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、一般式（IV）で表される化合物は特表平１１−５１３０１９号公報に記載の方法を参考にして合成することができる。

本発明において、第１の光学異方性層はポリマーフィルムからなっていてもよい。前記ポリマーフィルムは、正の屈折率異方性を有する熱可塑性高分子延伸フィルムであるのが好ましい。前記熱可塑性高分子としては、例えばポリアリレート系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリオレフィン系、ポリエーテル系、ポリスルフィン系、ポリスルホン系およびポリエーテルスルホン系などの重合体群から選ばれる１種類または２種類以上が挙げられる。中でも、ポリカーボネート共重合体、ポリエステル共重合体、ポリエステルカーボネート共重合体、ポリアリレート共重合体が好ましく、ポリカーボネート共重合体がより好ましい。前記ポリカーボネート共重合体としては、フルオレン骨格を有するポリカーボネート共重合体が好ましく、透明性、耐熱性または生産性の観点から、ビスフェノール類とホスゲンあるいは炭酸ジフェニルなどの炭酸エステル形成化合物と反応させて得られるポリカーボネート共重合体が特に好ましい。フルオレン骨格を有する成分は、１〜９９モル％含まれていることが好ましい。本発明に用いるポリカーボネート共重合体は、国際特許００／２６７０５号公報に記載の、一般式（Ｉ）と一般式（II）で示される繰り返し単位を有することが好ましい。

前記熱可塑性高分子フィルムは、延伸によって熱可塑性高分子を配向させたフィルムである。このようなフィルムの製造方法としては、公知の溶融押し出し法、溶液キャスト法などが用いられるが、外観、厚みむらなどの観点から、溶液キャスト法がより好ましく用いられる。溶液キャスト法における溶剤としては、メチレンクロライド、ジオキソランなどが用いられる。また、延伸方法も公知の方法を用いることができるが、縦一軸延伸が好ましい。

第１の光学異方性層が高分子ポリマーで形成される場合の膜厚としては、Ｒｅが４０〜１５０ｎｍであれば特に制限はないが、薄膜化と製造時の取り扱い易さの観点から、２０〜２００μｍが好ましく、４０μｍ〜１５０μｍがより好ましい。

［第２の光学異方性層］
本発明において、第２の光学異方性層は、ディスコティック液晶性化合物及び前記一般式（Ｉ）、（II）又は（III）で表される化合物の少なくとも一種とを含有する組成物から形成される。前記第２の光学異方性層は、負の屈折率異方性を持ち、可視光に対してＲｅが１０ｎｍ以下である。さらに、可視光に対してＲｔｈが６０〜２５０ｎｍであるのが好ましく、Ｒｅはより好ましくは可視光に対して５ｎｍ以下であり、さらに好ましくは、２ｎｍ以下である。

ディスコティック液晶性化合物の分子を、前記一般式（Ｉ）〜（III）で表される化合物の少なくとも一種の存在下で配向させることによって、ディスコティック液晶性分子の円盤面を層平面に対して実質的に水平（０〜１０度の範囲の平均傾斜角）に配向させることができる。ディスコティック液晶性化合物は、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅｅｔａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ１１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅｅｔａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ１７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇｅｔａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ２６５５（１９９４））に記載されている。ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。

ディスコティック液晶性化合物は、重合により固定可能なように、重合性基を有するのが好ましい。例えば、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させた構造が考えられるが、但し、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に連結基を有する構造が好ましい。即ち、重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記一般式（VI）で表わされる化合物であることが好ましい。
一般式（VI）
Ｄ（−Ｌ−Ｐ）_n
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。

前記式（VI）中の円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）及び重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）であり、同公報に記載の内容を好ましく用いることができる。ディスコティック液晶性化合物の具体例としては、ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の５８頁６行〜６５頁８行に記載されているものも好ましい。

重合性基を有するディスコティック液晶性化合物の場合も、実質的に水平配向させることが好ましい。実質的に水平とは、ディスコティック液晶性化合物の円盤面と光学異方性層の面との平均角度（平均傾斜角）が０°〜１０°の範囲内であることを意味する。ディスコティック液晶性化合物を斜め配向させてもよい。斜め配向の場合でも、平均傾斜角は０°〜２０°であることが好ましい。

［水平配向剤］
第２の光学異方性層は、ディスコティック液晶性化合物と下記一般式（Ｉ）〜（III）で表される化合物の少なくとも一種とを含有する組成物により形成する。下記一般式（Ｉ）〜（III）で表される化合物は、ディスコティック液晶性化合物の水平配向剤として機能する。なお、本発明で「水平配向」とは、液晶層の水平面（例えば液晶層が支持体上に形成されている場合は支持体の表面）に対してディスコティック液晶性化合物の長軸方向（すなわち、コアの円盤面）が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、コアの円盤面と水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。傾斜角は５度以下が好ましく、３度以下がより好ましく、２度以下がさらに好ましく、１度以下が最も好ましい。前記傾斜角は０度であってもよい。

式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は各々独立して、水素原子又は置換基を表し、Ｘ¹、Ｘ²及びＸ³は各々独立して、単結合又は二価の連結基を表す。

式中、Ｒは置換基を表し、ｍは０〜５の整数を表し、ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲは同一でも異なっていてもよい。

式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。

まず、一般式（Ｉ）で表される化合物について説明する。
前記一般式（Ｉ）中、Ｒ¹〜Ｒ³で各々表される置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜４０、より好ましくは炭素数０〜３０、特に好ましくは炭素数０〜２０のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、

アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜４０、より好ましくは炭素数６〜３０、特に好ましくは炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、例えば、フェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアシル基であり、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜４０、より好ましくは炭素数７〜３０、特に好ましくは炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基であり、例えば、フェニルオキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、

アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜４０、より好ましくは炭素数７〜３０、特に好ましくは炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜４０、より好ましくは炭素数０〜３０、特に好ましくは炭素数０〜２０のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、

アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、１，３，５−トリアジル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。

Ｒ¹〜Ｒ³で各々表される置換基としては、好ましくは置換もしくは無置換の、アルキル基（中でも、無置換のアルキル基またはフッ素置換アルキル基がより好ましい）、アリール基（中でもフッ素置換アルキル基を有するアリール基が好ましい）、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン原子である。

前記一般式（Ｉ）中、Ｘ¹、Ｘ²及びＸ³で各々表される二価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、―ＮＲ^a−（Ｒ^aは炭素原子数が１〜５のアルキル基または水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基は、アルキレン基、フェニレン基、−ＣＯ−、−ＮＲ^a−、−Ｏ−、−Ｓ−及び−ＳＯ₂−からなる群より選ばれる二価の連結基又は該群より選ばれる基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。二価の芳香族基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。アルキレン基、アルケニレン基及び二価の芳香族基は、可能であれば前述のＲ¹、Ｒ²及びＲ³の置換基として例示された基（例、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ、アルコキシ基、アシルオキシ基）によって置換されていてもよい。

前記一般式（Ｉ）で表される化合物の中でも、下記一般式（Ｉａ）又は（Ｉｂ）で表される化合物が特に好ましい。

式中、Ｒ¹¹、Ｒ²²及びＲ³³は各々独立に、水素原子又は置換基を表し、Ｘ¹¹、Ｘ²²及びＸ³³は各々独立に、−ＮＨ−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表し、ｍ¹¹、ｍ²²及びｍ³³は各々独立に、１〜３の整数を表す。

式中、Ｒｆ¹、Ｒｆ²及びＲｆ³は各々独立に、末端にＣＦ₃基又はＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基を表し、Ｙ¹、Ｙ²及びＹ³は各々独立に、アルキレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−及び−ＳＯ₂−からなる群より選ばれる二価の連結基または該群より選ばれる基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基を表す。

まず、一般式（Ｉａ）にて表される化合物について説明する。
Ｒ¹¹、Ｒ²²及びＲ³³で各々表される置換基は、前記一般式（Ｉ）におけるＲ¹、Ｒ²及びＲ³と同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｒ¹¹、Ｒ²²及びＲ³³で各々表される置換基としては、特に好ましくは末端にＣＦ₃基又はＣＦ₂Ｈ基を有するアルコキシ基であり、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、好ましくは炭素数４〜２０であり、さらに好ましくは炭素数４〜１６であり、特に好ましくは６〜１６である。前記末端にＣＦ₃基又はＣＦ₂Ｈ基を有するアルコキシ基は、アルコキシ基に含まれる水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルコキシ基である。アルコキシ基中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されているのが好ましく、６０％以上が置換されているのがより好ましく、７０％以上を置換されているのが特に好ましい。以下に、Ｒ¹¹、Ｒ²²及びＲ³³で表される末端にＣＦ₃基又はＣＦ₂Ｈ基を有するアルコキシ基の例を示す。

Ｒ１：ｎ−Ｃ₈Ｆ₁₇−Ｏ−
Ｒ２：ｎ−Ｃ₆Ｆ₁₃−Ｏ−
Ｒ３：ｎ−Ｃ₄Ｆ₉−Ｏ−
Ｒ４：ｎ−Ｃ₈Ｆ₁₇−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−
Ｒ５：ｎ−Ｃ₆Ｆ₁₃−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−
Ｒ６：ｎ−Ｃ₄Ｆ₉−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−
Ｒ７：ｎ−Ｃ₈Ｆ₁₇−（ＣＨ₂）₃−Ｏ−
Ｒ８：ｎ−Ｃ₆Ｆ₁₃−（ＣＨ₂）₃−Ｏ−
Ｒ９：ｎ−Ｃ₄Ｆ₉−（ＣＨ₂）₃−Ｏ−
Ｒ１０：Ｈ−（ＣＦ₂）₈−Ｏ−
Ｒ１１：Ｈ−（ＣＦ₂）₆−Ｏ−
Ｒ１２：Ｈ−（ＣＦ₂）₄−Ｏ−
Ｒ１３：Ｈ−（ＣＦ₂）₈−（ＣＨ₂）−Ｏ−
Ｒ１４：Ｈ−（ＣＦ₂）₆−（ＣＨ₂）−Ｏ−
Ｒ１５：Ｈ−（ＣＦ₂）₄−（ＣＨ₂）−Ｏ−
Ｒ１６：Ｈ−（ＣＦ₂）₈−（ＣＨ₂）−Ｏ−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−
Ｒ１７：Ｈ−（ＣＦ₂）₆−（ＣＨ₂）−Ｏ−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−
Ｒ１８：Ｈ−（ＣＦ₂）₄−（ＣＨ₂）−Ｏ−（ＣＨ₂）₂−Ｏ−

式（Ｉａ）中、Ｘ¹¹、Ｘ²²及びＸ³³はそれぞれ、好ましくは−ＮＨ−又は−Ｏ−を表し、最も好ましくは−ＮＨ−を表す。ｍ¹¹、ｍ²²及びｍ³³はそれぞれ、好ましくは２である。

次に、一般式（Ｉｂ）にて表される化合物について説明する。
Ｒｆ¹、Ｒｆ²及びＲｆ³で表される末端にＣＦ₃基又はＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、好ましくは炭素数４〜２０であり、さらに好ましくは炭素数４〜１６であり、特に好ましくは６〜１６である。フッ素原子以外の置換基を有していてもよい。前記末端にＣＦ₃基又はＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基は、アルキル基に含まれる水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルキル基である。アルキル基中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されているのが好ましく、６０％以上が置換されているのがより好ましく、７０％以上を置換されているのが特に好ましい。Ｒｆ¹、Ｒｆ²及びＲｆ³で表される末端にＣＦ₃基又はＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基の例を以下に示す。

Ｒｆ１：ｎ−Ｃ₈Ｆ₁₇−
Ｒｆ２：ｎ−Ｃ₆Ｆ₁₃−
Ｒｆ３：ｎ−Ｃ₄Ｆ₉−
Ｒｆ４：ｎ−Ｃ₈Ｆ₁₇−（ＣＨ₂）₂−
Ｒｆ５：ｎ−Ｃ₆Ｆ₁₃−（ＣＨ₂）₂−
Ｒｆ６：ｎ−Ｃ₄Ｆ₉−（ＣＨ₂）₂−
Ｒｆ７：Ｈ−（ＣＦ₂）₈−
Ｒｆ８：Ｈ−（ＣＦ₂）₆−
Ｒｆ９：Ｈ−（ＣＦ₂）₄−
Ｒｆ１０：Ｈ−（ＣＦ₂）₈−（ＣＨ₂）−
Ｒｆ１１：Ｈ−（ＣＦ₂）₆−（ＣＨ₂）−
Ｒｆ１２：Ｈ−（ＣＦ₂）₄−（ＣＨ₂）−

前記式（Ｉｂ）中、Ｙ¹、Ｙ²及びＹ³はそれぞれ、好ましくはアルキレン基、−ＮＨ−、−Ｏ−及び−Ｓ−からなる群より選ばれる二価の連結基又は該群から選ばれる基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基を表し、特に好ましくはアルキレン基、−ＮＨ−及び−Ｏ−からなる群より選ばれる二価の連結基または該群より選ばれる基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基を表し、最も好ましくは−ＮＨ−、−Ｏ−又は−ＮＨ（ＣＨ₂）_n1−Ｏ−（ｎ１は１〜８の整数を表す。最も好ましくは３である。窒素原子でトリアジン環に結合する。）を表す。

次に、一般式（II）にて表される化合物について説明する。
Ｒで表される置換基としては、一般式（Ｉ）におけるＲ¹、Ｒ²、及びＲ³で表される置換基と同義であり、その好ましい範囲も同一である。ｍは、好ましくは１〜３の整数を表し、特に好ましくは２又は３である。

前記一般式（II）で表される化合物の中でも、下記一般式（IIａ）で表される化合物が特に好ましい。

式中、Ｒｆ¹¹、Ｒｆ²²及びＲｆ³³はそれぞれ、末端にＣＦ₃基又はＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基を表し、Ｙ¹¹、Ｙ²²及びＹ³³はそれぞれ、アルキレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−及び−ＳＯ₂−からなる群より選ばれる二価の連結基または該群より選ばれる基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基を表す。

Ｒｆ¹¹、Ｒｆ²²及びＲｆ³³で表される末端にＣＦ₃基又はＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基としては、一般式（Ｉｂ）におけるＲｆ¹、Ｒｆ²及びＲｆ³で表される末端にＣＦ₃基又はＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基と同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｙ¹¹、Ｙ²²及びＹ³³としては、前記一般式（Ｉｂ）における。Ｙ¹、Ｙ²及びＹ³と同義であり、その好ましい範囲も同一である。最も好ましくは、アルキレン基、−Ｏ−又はそれらを組み合わせた二価の連結基である。

最後に、一般式（III）にて表される化合物について説明する。
Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹でそれぞれ表される置換基としては、一般式（Ｉ）におけるＲ¹、Ｒ²及びＲ³で表される置換基として挙げた置換基のうち、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換もしくは無置換のアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルホニル基、ヘテロ環基、シリル基を表し、その好ましい範囲も同一である。

前記一般式（III）で表される化合物の中でも、下記一般式（IIIａ）で表される化合物が特に好ましい。

式中、Ｒｆ¹¹¹、Ｒｆ²²²、Ｒｆ³³³、Ｒｆ⁴⁴⁴、Ｒｆ⁵⁵⁵及びＲｆ⁶⁶⁶は各々独立して、末端にＣＦ₃基又はＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基を表し、Ｙ¹¹¹、Ｙ²²²、Ｙ³³³、Ｙ⁴⁴⁴、Ｙ⁵⁵⁵及びＹ⁶⁶⁶は各々独立して、アルキレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−及び−ＳＯ₂−からなる群より選ばれる二価の連結基または該群より選ばれる基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基を表す。

Ｒｆ¹¹¹、Ｒｆ²²²、Ｒｆ³³³、Ｒｆ⁴⁴⁴、Ｒｆ⁵⁵⁵及びＲｆ⁶⁶⁶でそれぞれ表される末端にＣＦ₃基又はＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基としては、一般式（Ｉｂ）におけるＲｆ¹、Ｒｆ²及びＲｆ³で表される末端にＣＦ₃基又はＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基と同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｙ¹¹¹、Ｙ²²²、Ｙ³³³、Ｙ⁴⁴⁴、Ｙ⁵⁵⁵及びＹ⁶⁶⁶として最も好ましいものは、アルキレン基、−Ｏ−又はそれらの組み合わせからなる二価の連結基である。

前記一般式（Ｉ）、（II）又は（III）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる化合物はこれらに限定されるものではない。下記の具体例中、Ｎｏ．Ｉ−１〜３９は一般式（Ｉ）、Ｎｏ．Ｉ−４０〜５０は一般式（II）、Ｎｏ．Ｉ−５１〜５９は一般式（III）で表される化合物の例である。

本発明において、前記一般式（Ｉ）〜（III）にて表される化合物の添加量としては、ディスコティック液晶性化合物の量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０５〜１０質量％がより好ましく、０．１〜５質量％が特に好ましい。なお、前記一般式（Ｉ）〜（III）にて表される化合物は、単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。

なお、本発明に係る前記一般式（Ｉ）で表される１，３，５−トリアジン環を有する化合物は、特開２００２−２０３６３号公報に記載の方法によって容易に合成することができ、一般式（II）及び（III）で表される化合物は、一般的なヒドロキシ基のアルキル化反応、エステル化反応、及びエーテル化反応等を組み合わせることによって容易に合成することができる。

まず、一般式（Ｉ）で表される化合物の合成例を示す。
［化合物Ｎｏ．（Ｉ−６）の合成］
化合物Ｎｏ．（Ｉ−６）は、以下に記載するスキームで合成することができる。

化合物Ｎｏ．（Ｉ−６ａ）の合成：２−（１，１，２，２−テトラヒドロトリデカフルオロオクチルオキシ）エタノール（３６．４ｇ、０．１０モル）及びテトラブチルアンモニウム硫酸水素塩（６．８ｇ、０．０２０モル）をテトラヒドロフラン（５０ｍＬ）に溶解させた後、０℃で５０％水酸化ナトリウム水溶液（５０ｍＬ）及びブロモ酢酸−ｔｅｒｔ−ブチル（２９．３ｇ、０．１５モル）を順次滴下し、２０℃以下で６時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（１００ｍＬ）を加え２ｍｏｌ／ｌの塩酸水で抽出した後、溶媒留去することによって黄色油状物として目的物４５．４ｇを得た。これは理論収量の９５％に相当する。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ４．０（ｓ，２Ｈ），３．８（ｔ，２Ｈ），２．５（ｍ，２Ｈ），１．５（ｓ，９Ｈ）。

化合物Ｎｏ．（Ｉ−６ｂ）の合成：窒素雰囲気下、水素化リチウムアルミニウム（４．０ｇ、０．１１モル）をテトラヒドロフラン（１５０ｍＬ）に懸濁させた後、０℃で化合物Ｎｏ．（Ｉ−６ａ）（４７．８ｇ、０．１０モル）を滴下し、室温で２時間攪拌した。反応液に３ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液（１４０ｍＬ）及び酢酸エチル（３００ｍＬ）を順次加え、セライトろ過した後、有機層を溶媒留去することによって無色透明油状物として目的物３４．９ｇを得た。これは理論収量の８６％に相当する。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ３．７−３．９（ｍ，４Ｈ），３．６（ｔ，２Ｈ），２．５（ｍ，２Ｈ）。

化合物Ｎｏ．（Ｉ−６ｃ）の合成：化合物Ｎｏ．（Ｉ−６ｂ）（３４．９ｇ、０．０８６モル）及びトリエチルアミン（１４．５ｍＬ、０．１０モル）を酢酸エチル（２００ｍＬ）に溶解させた後、０℃で塩化メタンスルフォニル（１１．８ｇ、０．１０モル）を滴下し、室温で２時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（１００ｍＬ）を加え飽和食塩水で抽出した後、溶媒留去することによって黄色油状物として目的物４１．６ｇを得た。これは理論収量の９９％に相当する。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ４．４（ｔ，２Ｈ），３．７−３．９（ｍ，４Ｈ），３．０（ｓ，３Ｈ），２．５（ｍ，２Ｈ）。

化合物Ｎｏ．（Ｉ−６ｄ）の合成：化合物Ｎｏ．（Ｉ−６ｃ）（４８．６ｇ、０．１０モル）、４−ニトロカテコール（７．１ｇ、０．０４５モル）及び炭酸カリウム（２０．１ｇ、０．１５モル）をジメチルアセトアミド（１５０ｍＬ）に懸濁させた後、１１０℃で３時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（１００ｍＬ）を加え飽和食塩水で抽出した後、溶媒留去することによって黄色粉末として目的物４１．４ｇを得た。これは理論収量の９５％に相当する。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ７．９（ｄｄ，１Ｈ），７．８（ｄ，１Ｈ），６．９（ｄ，１Ｈ），４．２（ｔ，４Ｈ），３．７−３．９（ｍ，８Ｈ），２．５（ｍ，４Ｈ）。

化合物Ｎｏ．（Ｉ−６ｅ）の合成：還元鉄（２４ｇ、０．４３モル）及び塩化アンモニウム（０．７８ｇ、０．０１４モル）を２−プロパノール（４５０ｍＬ）と水（９０ｍＬ）の混合溶媒に懸濁させ３０分間加熱還流した後、化合物Ｎｏ．（Ｉ−６ｄ）（４０ｇ、０．０４３モル）を分割添加し、さらに５時間還流した。反応液をセライトろ過した後、溶媒留去することによって黄色油状物として目的物３６．８ｇを得た。これは理論収量の９５％に相当する。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ６．８（ｄ，１Ｈ），６．３（ｓ，１Ｈ），６．２（ｄ，１Ｈ），４．１（ｍ，４Ｈ），３．７−３．９（ｍ，８Ｈ），２．５（ｍ，４Ｈ）。

化合物Ｎｏ．（Ｉ−６）の合成：化合物Ｎｏ．（Ｉ−６ｅ）（３６．８ｇ、０．０４１モル）及び塩化シアヌル（２．２７ｇ、０．０１２モル）をメチルエチルケトン（１５０ｍＬ）に懸濁させた後、炭酸カリウム（５．６７ｇ、０．０４１モル）を添加し、３時間加熱還流した。反応液に水（４００ｍＬ）を加えた後、白色沈殿物を濾取し、ヘキサンで再結晶することによって目的物２８．８ｇを得た。これは理論収量の８６％に相当する。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ７．２（ｂｒ，３Ｈ），７．１（ｂｒ，３Ｈ），６．９（ｂｒ，３Ｈ），６．８（ｄ，３Ｈ），３．９−４．２（ｍ，１２Ｈ），３．６−３．８（ｍ，２４Ｈ），２．５（ｍ，１２Ｈ）。

次に、一般式（II）で表される化合物の合成例を示す。
［化合物Ｎｏ．（Ｉ−４５）の合成］
化合物Ｎｏ．（Ｉ−４５）は、以下に記載するスキームで合成することができる。

化合物Ｎｏ．（Ｉ−４５）の合成：化合物Ｎｏ．（Ｉ−６ｃ）（３．３２ｇ、６．８ミリモル）、没食子酸メチル（０．３８ｇ、２．１ミリモル）及び炭酸カリウム（０．９４ｇ、６．８ミリモル）をジメチルアセトアミド（１０ｍＬ）に懸濁させた後、１１５℃で６時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／ｌの塩酸（４０ｍＬ）を加えた後、酢酸エチルで抽出し溶媒留去することによって黄色油状物をえた。得られた黄色油状物をエタノール（２０ｍＬ）と水（４ｍＬ）の混合溶媒に懸濁させた後、水酸化カリウム（０．２４ｇ，４．２ミリモル）を加え、２時間加熱還流した。反応液に塩酸水を加えた後、黄色沈殿物を濾取し、ヘキサンで洗浄することによって目的物１．４ｇを得た。これは理論収量の５０％に相当する。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ７．４（ｓ，２Ｈ），４．３（ｍ，６Ｈ），３．７−３．９（ｍ，１２Ｈ），２．５（ｍ，６Ｈ）。

最後に、一般式（III）で表される化合物の合成例を示す。
［化合物Ｎｏ．（Ｉ−５６）の合成］
化合物Ｎｏ．（Ｉ−５６）は、以下に記載するスキームで合成することができる。

化合物Ｎｏ．（Ｉ−５６）の合成：化合物Ｎｏ．（Ｉ−６ｃ）（４．９ｇ、０．０１０モル）、化合物Ｎｏ．（Ｉ−５６ａ）（０．４８ｇ、１．４ミリモル）及び炭酸カリウム（２．７６ｇ、０．０２０モル）をジメチルアセトアミド（１０ｍＬ）に懸濁させた後、１１５℃で４時間攪拌した。反応液に１ｍｏｌ／ｌの塩酸（４０ｍＬ）を加えた後、白色沈殿物を濾取し、ヘキサンで再結晶することによって目的物２．４ｇを得た。これは理論収量の６３％に相当する。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ７．９（ｓ，６Ｈ），４．３（ｔ，１２Ｈ），３．８−３．９（ｍ，２４Ｈ），２．５（ｍ，１２Ｈ）。

［液晶性化合物の配向状態の固定化］
第１及び第２の光学異方性層をそれぞれ、液晶性化合物を含有する組成物から形成する場合は、液晶性化合物の分子を配向させた後、その配向状態に固定するのが好ましい。固定化は、液晶性化合物に導入した重合性基の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応がより好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。

光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ²〜５０Ｊ／ｃｍ²であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。光学異方性層の厚さは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがさらに好ましい。

光学異方性層は、液晶性化合物及び上記の重合開始剤や他の添加剤を含む組成物（塗布液）を、配向膜の上に塗布することで形成することが好ましい。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。塗布液の塗布は、公知の方法（例、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。

［配向膜］
第１及び第２の光学異方性層を液晶性化合物を含有する組成物から形成する場合、液晶性化合物の分子を配向させるために、配向膜を用いることが好ましい。配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログループを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω−トリコ酸、ジオクタデシルジメチルアンモニウムクロリド、ステアリル酸メチルなど）の累積のような手段で設けることが出来る。さらに電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により配向機能が生じる配向膜も知られている。ポリマーのラビング処理により形成する配向膜がとくに好ましい。ラビング処理はポリマー層の表面を紙や布で一定方向に数回こすることにより実施する。

配向膜に使用するポリマーの種類は、液晶性化合物の分子の配向（特に平均傾斜角）に応じて決定することができる。例えば、液晶性化合物の分子を水平に配向させるためには配向膜の表面エネルギーを低下させないポリマー（通常の配向用ポリマー）を用いる。具体的なポリマーの種類については液晶セルまたは光学補償シートについて種々の文献に記載がある。特に、本発明において、ラビング処理の方向に対して直交する方向に液晶性化合物の分子を配向する場合には、特開２００２−６２４２７号公報に記載の変性ポリビニルアルコール、特開２００２−９８８３６号公報に記載のアクリル酸系コポリマー、特開２００２−２６８０６８号公報に記載のポリイミド、ポリアミック酸を好ましく用いることができる。いずれの配向膜においても、光学異方性層と透明支持体との密着性を改善する目的で、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、側鎖に重合性基を有する繰り返し単位を導入するか、あるいは、環状基の置換基として導入することができる。界面で液晶性化合物と化学結合を形成する配向膜を用いることがより好ましく、かかる配向膜としては特開平９−１５２５０９号公報に記載されている。配向膜の厚さは０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。なお、配向膜を用いて液晶性化合物の分子を配向させてから、その配向状態のまま液晶性化合物を固定して光学異方性層を形成し、光学異方性層のみをポリマーフィルム（または透明支持体）上に転写してもよい。

次に、本発明の液晶表示装置に用いられる偏光膜について、詳細に説明する。
［偏光膜］
本発明に使用可能な偏光膜については、特に制限されず従来公知のものを使用することができる。例えば、ポリビニルアルコールや部分ホルマール化ポリビニルアルコール、エチレン・酢酸ビニル共重合体部分ケン化物等の親水性ポリマーからなるフィルムに、ヨウ素及び／又はアゾ系やアントラキノン系、テトラジン系等の二色性染料などからなる二色性物質を吸着させて、延伸配向処理したものなどを用いることができる。本発明では、特開２００２−１３１５４８号公報に記載の延伸方法を用いることが好ましい。

偏光膜は、通常、少なくとも片面が透明保護膜（保護フィルムともいう）によって保護された偏光板として用いられる。透明保護膜の種類は特に限定されず、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースプロピオネート等のセルロースエステル類、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリエステル等を用いることができる。

透明保護膜のレターデーションは、例えば６３２．８ｎｍにおいて１０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がさらに好ましい。このような低レターデーションの観点から、透明保護膜として使用するポリマーはセルローストリアセテート、ゼオネックス、ゼオノア（共に日本ゼオン（株）製）、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ（株）製）のようなポリオレフィン類が好ましく用いられる。その他、例えば特開平８−１１０４０２号公報又は特開平１１−２９３１１６号公報に記載されているような非複屈折性光学樹脂材料が挙げられる。なお、透明保護膜にセルロースアセテートを用いる場合には、環境の温湿度によるレターデーション変化を小さくおさえる目的から、レターデーションは３ｎｍ未満であることが好ましく、さらに２ｎｍ以下であることが好ましい。

本発明では、薄型化等を目的に、偏光膜の保護膜のうち一方が、光学異方性層の支持体を兼ねていてもよいし、また光学異方性層そのものであってもよい。光学異方性層と偏光膜は、光学軸のズレ防止やゴミなどの異物の侵入防止などの点から、固着処理されていることが好ましい。その固着積層には例えば透明接着層を介した接着方式などの適宜な方式を適用することができる。その接着剤等の種類について特に限定はなく、構成部材の光学特性の変化防止などの点から、接着処理時の硬化や乾燥の際に高温のプロセスを要しないものが好ましく、長時間の硬化処理や乾燥時間を要しないものが望ましい。このような観点から、親水性ポリマー系接着剤や粘着層が好ましく用いられる。

前記粘着層の形成には、例えばアクリル系重合体やシリコーン系ポリマー、ポリエステルやポリウレタン、ポリエーテルや合成ゴムなどの適宜なポリマーを用いてなる透明粘着剤を用いることができる。このうち、光学的透明性や粘着特性、耐候性などの点よりアクリル系粘着剤が好ましい。なお粘着層は、液晶セル等の被着体への接着を目的に偏光板の片面又は両面に必要に応じて設けることもできる。その場合、粘着層が表面に露出するときにはそれを実用に供するまでの間、セパレータ等を仮着して粘着層表面の汚染等を防止することが好ましい。

偏光膜の片面又は両面に、上記の透明保護膜に準じた耐水性等の各種目的の保護膜、表面反射の防止等を目的とした反射防止層又は／及び防眩処理層などの適宜な機能層を形成した偏光板を用いてもよい。前記反射防止層は、例えばフッ素系ポリマーのコート層や多層金属蒸着膜等の光干渉性の膜などとして適宜に形成することができる。また防眩処理層も例えば微粒子含有の樹脂塗工層やエンボス加工、サンドブラスト加工やエッチング加工等の適宜な方式で表面に微細凹凸構造を付与するなどにより表面反射光が拡散する適宜な方式で形成することができる。なお、前記微粒子には、例えば平均粒径が０．５〜２０μｍのシリカや酸化カルシウム、アルミナやチタニア、ジルコニアや酸化錫、酸化インジウムや酸化カドミウム、酸化アンチモン等の導電性のこともある無機系微粒子や、ポリメチルメタクリレートやポリウレタの如き適宜なポリマーからなる架橋又は未架橋の有機系微粒子などの適宜なものを１種又は２種以上用いうる。また上記した接着層ないし粘着層は、斯かる微粒子を含有して光拡散性を示すものであってもよい。

［偏光板の光学性能］
本発明に関連する透明保護膜、偏光膜及び透明支持体からなる偏光板の光学的性質及び耐久性（短期、長期での保存性）は、市販のスーパーハイコントラスト品（例えば、株式会社サンリッツ社製ＨＬＣ２−５６１８等）同等以上の性能を有することが好ましい。具体的には、可視光透過率が４２．５％以上で、偏光度（｛（Ｔｐ−Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝^1/2 ≧ ０．９９９５（ただし、Ｔｐは平行透過率、Ｔｃは直交透過率）であり、温度６０℃、湿度９０％ＲＨ雰囲気下に５００時間及び８０℃、ドライ雰囲気下に５００時間放置した場合のその前後における光透過率の変化率が絶対値に基づいて３％以下、更には１％以下、偏光度の変化率は絶対値に基づいて１％以下、更には０．１％以下であることが好ましい。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。

［実施例１］
図１に示す構成の液晶表示装置を作製した。即ち、観察方向（上層）から上側偏光板１、液晶セル（上基板５、液晶層７、下基板８）、下側偏光板１２を積層し、さらにバックライト光源（不図示）を配置した。また上下各偏光板と液晶セルの間には、液晶表示装置の光学性能を向上させるための第１の光学異方性層３及び第２の光学異方性層１０を配置した。用いた上側偏光板１及び下側偏光板１２として、図２に示す構成、保護膜１０１、偏光膜１０３、保護膜１０５（保護膜１０５がより液晶セルに近い側に配置されるとする）からなるものを用いたが、上側偏光板１については、保護膜１０５を第１の光学異方性層３の透明支持体として兼用し、光学異方性層３を一体化した、一体型上側偏光板を作製してから液晶表示装置に組み込んだ。同様に、下側偏光板１２についても、保護膜１０５を第２の光学異方性層１０の透明支持体として兼用し、光学異方性層１０を一体化した、一体型下側偏光板を作製してから液晶表示装置に組み込んだ。

以下に、用いた部材それぞれの作製方法を説明する。
＜液晶セルの作製＞
ＶＡモードの液晶セルを以下の手順で作製した。基板表面に配向膜（ＪＳＲ社製のＪＡＬＳ２０４Ｒ）を塗布後、ラビング処理により液晶性分子の配向方向を示すダイレクタ、いわゆる基板面に対するチルト角を約８９°とした。上下基板間のセルギャップは３．５μｍとし、その間に誘電異方性が負で、Δｎ＝０．０８１３、Δε＝−４．６程度の液晶（例えばメルク社製のＭＬＣ−６６０８）を滴下注入して封入した。

＜一体型上側偏光板の作製＞
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。液晶セルに遠い側の透明保護膜（図２中、１０１）には、ケン化処理した市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）を用いた。この保護膜のＲｅ値は３ｎｍ、Ｒｔｈ値は５０ｎｍであった。一方、液晶セルに近い側の透明保護膜（図２中、１０５）には、下記方法により作製してケン化処理した透明支持体Ａを用いた。

（透明支持体Ａの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
セルロースアセテート溶液組成
酢化度６０．７〜６１．１％のセルロースアセテート１００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）３３６質量部
メタノール（第２溶媒）２９質量部

別のミキシングタンクに、下記のレターデーション上昇剤１６質量部、メチレンクロライド９２質量部及びメタノール８質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。セルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション上昇剤溶液２５質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、３．５質量部であった。

得られたドープを、バンド延伸機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、７０℃の温風で１分乾燥し、バンドからフィルムを１４０℃の乾燥風で１２分間乾燥し、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアセテートフィルム（厚さ：８０μｍ）を作製した。作製したセルロースアセテートフィルムについて、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長５５０ｎｍにおけるＲｅ値及びＲｔｈ値を測定した。Ｒｅは２ｎｍ（ばらつき±１ｎｍ）、Ｒｔｈは１２０ｎｍ（ばらつき±３ｎｍ）であった。さらに、４００ｎｍ〜７００ｎｍの各波長のＲｅは２±１ｎｍ、４００ｎｍ〜７００ｎｍの各波長のＲｔｈは１２０±２ｎｍの範囲であった。作製したセルロースアセテートフィルムを２．０Ｎの水酸化カリウム溶液（２５℃）に２分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗し、その後乾燥させた。このセルロースアセテートフィルムの表面エネルギーを接触法により求めたところ、６３ｍＮ／ｍであった。こうして作製したセルロースアセテートフィルムを透明支持体Ａとした。

（配向膜の形成）
次に、作製した透明支持体Ａの反対側の表面（偏光膜と貼り合せたのと反対側の表面）に、下記組成の塗布液を＃１５のワイヤーバーコーターで２６．３ｍｌ／ｍ²塗布した。
配向膜塗布液組成
下記の高分子化合物Ｐ４質量部
トリエチルアミン２質量部
デコナールＥＸ−５２１の５％水溶液
（ナガセ化成工業株式会社のエポキシ化合物）８．１質量部
水５７質量部
メタノール２９質量部

２５℃で３０秒間、１２０℃の温風で１２０秒間乾燥した。乾燥後の配向膜の厚みは１．０μｍであった。また、配向膜の表面粗さを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：ＡｔｏｍｉｃＦｏｒｃｅＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ、ＳＰＩ３８００Ｎ、セイコーインスツルメンツ（株）製）にて測定したところ、１．１３５ｎｍであった。次に、形成した膜に、透明支持体Ａの遅相軸１０６（長手方向：波長５５０ｎｍ測定）と同じ方向にラビング処理した。

（第１の光学異方性層の形成）
この配向膜上に、第１の光学異方性層を形成した。具体的には、上記の配向膜の上に、下記の組成の塗布液をバーコーターを用いて連続的に塗布、乾燥、及び加熱（配向熟成）し、さらに紫外線照射して厚さ０．７μｍの水平配向した第１の光学異方性層を形成した。
第１の光学異方性層用塗布液組成
本明細書中の棒状液晶性化合物（例示化合物 IV−２）３８．１質量％
下記の増感剤Ａ０．３８質量％
下記の光重合開始剤Ｂ１．１４質量％
配向制御剤Ｃ０．１９質量％
グルタールアルデヒド０．０４質量％
メチルエチルケトン６０．１５質量％

形成した第１の光学異方性層３は、透明支持体Ａの長手方向（ラビング方向）と直交する方向に遅相軸４を有し、５５０ｎｍにおけるＲｅ値は８５ｎｍであった。また、光学的に正の屈折率異方性を持ち、可視光全域におけるＲｅ値は９１±９ｎｍであった。

作製した透明支持体Ａと第１光学異方性層との積層体、及び上記セルロールトリアセテートフィルムフジタックＴＤ８０ＵＦを、作製した偏光膜の両面に、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付け、一体型上側偏光板を作製した。図２中、液晶セル側から遠い透明保護膜１０１がフジタックＴＤ８０ＵＦ、液晶セルに近い透明保護膜１０５が透明支持体Ａである。各フィルムの積層角度は表示装置を上から見た時の左右の方向を基準（０°）にすると、上側偏光板保護膜遅相軸１０２の角度は０°、１０６の角度は０°、及び偏光膜吸収軸１０４（図１中、２）の角度は０°とした。この様にして作製した、上側偏光板１と第１の光学異方性層３との一体型上側偏光板を、第１の光学異方性層３が、上側液晶セル基板５により近くなる様に、液晶表示装置に組み込んだ。

＜一体型下側偏光板の作製＞
下側偏光膜の保護膜として、上側偏光膜の保護膜と同様、市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製、Ｒｅ値は３ｎｍ、Ｒｔｈ値は５０ｎｍ）を用いた。
（配向膜層の作製）
上側偏光板の透明支持体Ａと同様なケン化処理を行ったフジタックＴＤ８０ＵＦ（Ｒｅ＝３ｎｍ、Ｒｔｈ＝５０ｎｍ）上に、下記の組成の塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ²塗布した。
配向膜塗布液組成
下記の変性ポリビニルアルコール２０質量部
水３６１質量部
メタノール１１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）０．５質量部

２５℃で６０秒間、６０℃の温風で６０秒間、さらに９０℃の温風で１５０秒間乾燥した。乾燥後の配向膜厚みは１．１μｍであった。また、配向膜の表面粗さを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：ＡｔｏｍｉｃＦｏｒｃｅＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ、ＳＰＩ３８００Ｎ、セイコーインスツルメンツ（株）製）にて測定したところ、１．１４７ｎｍであった。

（第２の光学異方性層の形成）
下記の組成のディスコティック液晶を含む塗布液を塗布した。
ディスコティック液晶層の塗布液組成
ディスコティック液晶性化合物（１）＊１３２．６質量％
本明細書中一般式（Ｉ）で表される化合物（例示化合物Ｉ−５）
０．１質量％
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）３．２質量％
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．４質量％
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）１．１質量％
メチルエチルケトン６２．６質量％
＊１：ディスコティック液晶性化合物（１）として、１，２，１’，２’，１’’，２’’−トリス［４、５−ジ（ビニルカルボニルオキシブトキシベンゾイルオキシ）フェニレン（特開平８−５０２０６号公報、段落００４４に記載の例示化合物ＴＥ−８の（８）、ｍ＝４）を用いた。

その後、１３０℃の乾燥ゾーンで２分間加熱乾燥し、円盤状化合物を配向させた。次に、１３０℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、４秒間ＵＶ照射し円盤状化合物を重合させた。その後、室温まで放冷して、厚さ３．０μｍ、光学的に負の屈折率異方性を示し、可視光に対して、Ｒｅ＝０ｎｍ、Ｒｔｈ＝１４０ｎｍの第２の光学異方性層を形成した。第２の光学異方性層のディスコティック液晶性化合物は±２°の範囲で水平配向していた。

作製したフジタックＴＤ８０ＵＦと第２の光学異方性層の積層体及びフジタックＴＤ８０ＵＦを、偏光膜の両面にポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付け、一体型偏光板を作製した。各フィルムの積層角度は表示装置を上から見た時の左右の方向を基準（０°）にすると、図２中、偏光膜吸収軸１０４（図１中、１３）の軸角度は９０°、保護膜遅相軸１０２及び１０６の角度は９０°に設定した。作製した一体型下側偏光板を、第２の光学異方性層１０が上側液晶セル基板８に接するように、液晶表示装置に組み込んだ。

＜作製した液晶表示装置の漏れ光の測定＞
この様にして作製した液晶表示装置の透過率の視野角依存性を測定した。仰角は正面から斜め方向へ１０°毎に８０°まで、方位角は水平右方向（０°）を基準として１０°毎に３６０°まで測定した。黒表示時の輝度は正面方向から仰角が増すにつれ、漏れ光透過率も上昇し、仰角６０°近傍で最大値をとることがわかった。また黒表示透過率が増すことで、白表示透過率と黒表示透過率の比であるコントラストが悪化することもわかった。そこで、正面の黒表示透過率と仰角６０°の漏れ光透過率の最大値で、視野角特性を評価することにした。本実施例での正面透過率は０．０５％、仰角６０°の漏れ光透過率の最大値は、方位角３０°で０．１％であった。

［実施例２〜８、比較例１］
実施例１の第２の光学異方性層の作製に用いた一般式（Ｉ）で表される化合物を、第１表の如く変更した以外は、実施例１と同様にして液晶表示装置を作製した。実施例２〜８で作製したいずれの第２の光学異方性層も、可視光におけるＲｅおよびＲｔｈが、実施例１で作製した第２の光学異方性層のそれぞれと同一であった。作製した液晶表示装置の漏れ光の測定値は実施例１と同様である。なお、第１表中に示されている傾斜角及び配向状態は、第２の光学異方性層におけるディスコティック液晶性化合物の傾斜角及び配向状態を表しており、該傾斜角は、エリプソメーター（ＡＰＥ−１００、島津製作所（株）製）を用いて観察角度を変えてレターデーションを測定し、屈折率楕円体モデルと仮想し、ＤｅｓｉｇｎｉｎｇＣｏｎｃｅｐｔｓｏｆｔｈｅＤｉｓｃｏｔｉｃＮｅｇａｔｉｖｅＢｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅＣｏｍｐｅｎｓａｔｉｏｎＦｉｌｍｓＳＩＤ９８ＤＩＧＥＳＴに記載されている手法で算出した。測定波長は６３２．８ｎｍである。

［比較例２］
第２の光学異方性層を形成しなかった以外は、実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、同様に評価した。

＜液晶表示装置の評価＞

上記第１表に示した実施例１〜８及び比較例２の結果から判るように、ディスコティック液晶性化合物と、前記一般式（Ｉ）、（II）又は（III）で表される化合物を含有する組成物から形成された第２の光学異方性層を有する液晶表示装置は、光学異方性層においてディスコティック液晶性化合物が実質的に水平配向しているため、漏れ光が小さくコントラスト比の高い液晶表示装置を実現できる。一方、第２の光学異方性層を、前記一般式（Ｉ）、（II）又は（III）で表される化合物を含有しない組成物から形成した比較例１の液晶表示装置では、ディスコティック液晶性化合物が水平配向せず、シュリーレン欠陥が多数存在する状態であるため、実施例１〜８に比べ、漏れ光が大きくコントラスト比の低い液晶表示装置になってしまう。

本発明の液晶表示装置の一例を示す概略図である。本発明に使用可能な偏光板の一例を示す概略図である。

符号の説明

１上側偏光板
２上側偏光板吸収軸
３第１の光学異方性層
４第１の光学異方性層遅相軸の方向
５液晶セル上電極基板
６上基板配向制御方向
７液晶性分子
８液晶セル下電極基板
９下基板配向制御方向
１０第２の光学異方性層
１２下側偏光板
１３下側偏光板吸収軸の方向
１０１偏光板保護膜
１０２偏光板保護膜遅相軸の方向
１０３偏光板偏光膜
１０４偏光膜吸収軸方向
１０５偏光板保護膜
１０６偏光板保護膜遅相軸の方向

Claims

互いの吸収軸が直交している二枚の偏光膜と、前記二枚の偏光膜の間に、一対の基板及び該基板間に挟持される液晶性分子からなる液晶層を有するとともに、外部電界が印加されていない非駆動状態において、前記液晶性分子が前記基板に対して略垂直な方向に配向する液晶セルと、光学的に負の屈折率異方性を持ち、ディスコティック液晶性化合物及び下記一般式（Ｉ）、（II）又は（III）で表される化合物の少なくとも一種を含有する組成物から形成され、可視光に対して下記で定義されるＲｅが１０ｎｍ以下である光学異方性層とを有する液晶表示装置。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（１）
（ｎｘは層の面内における遅相軸方向の屈折率、ｎｙはｎｘと直交する方向の面内の屈折率、ｄは層の厚みを表す。）

［式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は各々独立して、水素原子又は置換基を表し、Ｘ¹、Ｘ²及びＸ³は単結合又は二価の連結基を表す。］

［式中、Ｒは置換基を表し、ｍは０〜５の整数を表し、ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲは同一でも異なっていてもよい。］

［式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。］
光学的に正の屈折率異方性を持ち、可視光に対して下記で定義されるＲｅが４０〜１５０ｎｍである第1の光学異方性層の少なくとも一層と、請求項１中の光学異方性層である第２の光学異方性層の少なくとも一層とを有し、前記第２の光学異方性層の下記で定義されるＲｔｈが６０〜２５０ｎｍである請求項１に記載の液晶表示装置。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（１）
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２ − ｎｚ｝×ｄ（２）
（ｎｘは層の面内における遅相軸方向の屈折率、ｎｙはｎｘと直交する方向の面内の屈折率、ｎｚは層の厚み方向の屈折率、ｄは層の厚みを表す。）
前記第２の光学異方性層において、ディスコティック液晶性化合物が実質的に水平配向している請求項２に記載の液晶表示装置。
前記第２の光学異方性層が、前記二枚の偏光膜の少なくとも一方の保護膜を兼ねる請求項２または３に記載の液晶表示装置。
前記ディスコティック液晶性化合物が、トリフェニレン液晶性化合物である請求項２〜４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
前記第１の光学異方性層が、棒状液晶性化合物を含有する組成物から形成された層又は高分子ポリマーからなる層である請求項２〜５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
前記第１の光学異方性層が、下記一般式（IV）で表される棒状液晶性化合物を含有する組成物から形成された層である請求項２〜６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
一般式（IV）
Ｑ¹−Ｌ¹−Ａ¹−Ｌ³−Ｍ−Ｌ⁴−Ａ²−Ｌ²−Ｑ²
［式中、Ｑ¹及びＱ²はそれぞれ独立に重合性基を表わし、Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³及びＬ⁴はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基を表し、Ａ¹及びＡ²はそれぞれ独立に炭素原子数２〜２０を有するスペーサー基を表わし、Ｍはメソゲン基を表わす。］
前記第１の光学異方性層が、前記二枚の偏光膜の吸収軸の一方に対して実質的に直交する方向に水平配向している棒状液晶性化合物からなる層である請求項２〜６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
前記第１の光学異方性層と前記第２の光学異方性層が液晶セルを挟んで配置されている請求項２〜８のいずれか１項に記載の液晶表示装置。