JP2005064514A - リソグラフィ装置および装置調整方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】検出器がどの突起の高さが異常であるかを検出し、その異常の程度に応じて、制御ユニットの制御の下で、高さ調整装置によって異常突起に材料を付加および/または削除して突起の高さを均一化する。この作業を投影装置の実際の使用状態で行うので、組立による凹凸を除去することができる。この方法は、基板だけでなくマスク等の支持にも適用できる。
【選択図】図2
Description
− 放射線の投影ビームを供給するための放射線システム;
− 所望のパターンに従ってこの投影ビームをパターン化するのに役立つパターニング手段を支持するための支持構造体;
− このパターン化したビームをこの基板の目標部分上に投影するための投影システムを含む。
− マスク。マスクの概念は、リソグラフィでよく知られ、それには、二値、交互位相シフト、および減衰位相シフトのようなマスク型、並びに種々のハイブリッドマスク型がある。そのようなマスクを放射線ビーム中に置くと、このマスク上のパターンに従って、このマスクに入射する放射線の選択透過(透過性マスクの場合)または選択反射(反射性マスクの場合)を生ずる。マスクの場合、この支持構造体は、一般的にマスクテーブルであり、それがこのマスクを入射放射線ビームの中の所望の位置に保持できること、およびもし望むなら、それをこのビームに対して動かせることを保証する。
簡単のために、この本文の残りは、或る場所で、マスクおよびマスクテーブルを伴う例を具体的に指向するかも知れないが、しかし、そのような場合に議論する一般原理は、上に示すようなパターニング手段の広い文脈で見るべきである。
類似の問題は、反射マスクまたは透過マスクのような、ビーム経路を横切って都合よく定めた平面に支持しなければならない他の物品のための支持テーブルで直面するかも知れない。
表面要素がこのチャックに載せてあるとき物品の平らな表面の表面平坦度に影響するこれらの突起のそれぞれの一つの高さ異常を測定する工程、および
これらの突起のそれぞれの一つの検出した高さ異常に対応して、表面要素をチャックに載せたままにして、選択的にこれらの突起のそれぞれの一つで突起材料の高さを調整する工程、を含む方法にも関する。(ここで使う“アレイ”とは、空間的に周期的な配置だけでなく、突起のあらゆる空間的配置を指す)。
図1は、この発明の特定の実施例によるリソグラフィ投影装置を概略的に描く。この装置は、
放射線(例えば、EUV放射線)の投影ビームPBを供給するための、この特別な場合放射線源LAも含む、放射線システムEx、IL、
マスクMA(例えば、レチクル)を保持するためのマスクホルダを備え、且つこのマスクを部材PLに関して正確に位置決めするために第1位置決め手段PMに結合された第1物体テーブル(マスクテーブル)MT、
基板W(例えば、レジストを塗被したシリコンウエハ)を保持するための基板ホルダを備え、且つこの基板を部材PLに関して正確に位置決めするために第2位置決め手段PWに結合された第2物体テーブル(基板テーブル)WT、および
マスクMAの被照射部分を基板Wの目標部分C(例えば、一つ以上のダイを含む)上に結像するための投影システム(“レンズ”)PL(例えば、ミラーグループ)、を含む。
ステップモードでは、マスクテーブルMTを本質的に固定して保持し、全マスク像を目標部分C上に一度に(即ち、単一“フラッシュ”で)投影する。次に基板テーブルWTをxおよび/またはy方向に移動して異なる目標部分CをビームPBで照射できるようにする。
走査モードでは、与えられた目標部分Cを単一“フラッシュ”では露光しないことを除いて、本質的に同じシナリオを適用する。その代りに、マスクテーブルMTが与えられた方向(所謂“走査方向”、例えば、y方向)に速度vで動き得て、それで投影ビームPBがマスク像の上を走査させられ同時に、基板テーブルWTがそれと共に同じまたは反対方向に速度V=Mvで動かされ、このMはレンズPLの倍率(典型的には、M=1/4または1/5)である。この様にして、比較的大きい目標部分Cを、解像度について妥協する必要なく、露光することができる。
22 支持テーブル、表面要素
24 突起
26 伝播方向
40 レーザ
50 検出器
52 制御ユニット
54 高さ調整装置、材料除去装置、材料除去および/または付加装置
C 目標部分
MA マスク
PB 投影ビーム
W 基板
WT 基板テーブル
Claims (15)
- 放射線の投影ビームを用意し、前記ビームをパターン化しおよび上記パターン化したビームを基板の目標部分上に投影するためのビーム生成システム、
物品をその物品の平らな表面が前記投影ビームの伝播方向に直角な所定の平面内にあるように支持するための支持テーブルで、支持面および前記支持面から伸びる突起のアレイを有し、上記物品を前記突起で支持するようになっていて、各突起の少なくとも上端が実質的に一体の突起材料で出来ているテーブル、を含むリソグラフィ投影装置であって、
前記突起のそれぞれの一つの、前記物品の表面平坦度に影響する高さ異常を検出するための検出器、
前記支持テーブルが前記投影装置で動作可能であるとき、前記個々の突起の前記突起材料の高さを修正するために個々の突起に独立に作用するように構成した位置選択性高さ調整装置、
前記検出器と前記高さ調整装置の間に結合され、且つ前記突起のそれぞれの一つのそれぞれ検出した高さ異常に対応して前記突起材料の前記高さを調整するために上記高さ調整装置を制御するように構成した制御ユニットを含むことを特徴とする投影装置。 - 前記位置選択性高さ調整装置が前記突起のそれぞれの一つからまたは一つへ材料を除去および/または付加するように構成してある請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記位置選択性高さ調整装置が前記突起のそれぞれの一つの材料に、前記突起の前記高さを増す少なくとも半永久的に膨張した相をとらせるように構成してある請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記物品が基板である請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記物品が前記ビームをパターン化するために使うレチクルまたはマスクである請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記位置選択性高さ調整装置が、除去強度を調整可能な機能を有する、少なくとも材料除去装置であり、前記制御ユニットは、前記除去装置の除去強度が前記突起材料の一部を除去するに十分な第1レベルより上にセットしてある第1モードと上記除去強度が上記突起材料の一部を除去するには不十分であるが、前記突起から他の材料の汚染を除去するに十分である第2レベル以下にセットしてある第2モードの間で切替え可能である請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記材料除去および/または付加装置が前記突起から突起材料を除去させるに十分な強度で、前記突起の選択可能なものにビームを投射するように構成したレーザを含み、前記制御ユニットは、前記レーザが前記突起のそれぞれの一つのために測定した前記高さ異常に依って前記突起のそれぞれの一つへ送出するそれぞれの蓄積出力線量を制御するように構成してある請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記材料除去および/または付加装置が前記突起材料が冷却後少なくとも半永久的に膨張した相をとるようにそれを加熱するために選択した強度レベルで、前記突起の選択可能なものにビームを投射するように構成したレーザを含み、前記制御ユニットは、前記レーザが前記突起のそれぞれの一つのために測定した前記高さ異常に依って前記突起のそれぞれの一つへ送出するエネルギー強度を制御するように構成してある請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- 前記検出器が、
前記支持テーブルによって支持された前記物品の更なる面に対向する、前記物品の前記平面の高さ分布を測定するための測定ユニット、および
前記高さ分布から前記突起の前記高さ異常を計算するように構成してあり、前記高さ異常に依って前記材料除去および/または付加装置を制御する計算ユニットを含む請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。 - 前記高さ調整装置が局部材料堆積ユニットを含み、前記支持テーブルと前記堆積ユニットの少なくとも一つが他に対して前記制御ユニットの制御の下で可動である請求項1に記載されたリソグラフィ投影装置。
- リソグラフィ投影装置でビーム経路に直角な所定の平面で平らな表面を有する物品を保持するための支持テーブルの支持面上の突起の高さを調整する方法であって、前記支持テーブルが少なくともチャックおよび前記チャックに載せたテーブル表面要素を含み、前記テーブル表面要素が突起のアレイを含み、それらの少なくとも上端が突起材料で一体に作ってあり、前記突起は、前記物品を支持するために前記支持面から伸び、前記方法は、
前記表面要素が上記チャックに載せてあるとき前記物品の上記平らな表面の表面平坦度に影響する前記突起のそれぞれの一つの高さ異常を測定する工程、および
前記突起のそれぞれの一つの検出した高さ異常に対応して、前記表面要素を前記チャックに載せたままにして、選択的に前記突起のそれぞれの一つで前記突起材料の前記高さを調整する工程、を含む方法。 - 前記突起のそれぞれの一つの検出した高さ異常に対応して突起材料を除去する工程を含む請求項11に記載された方法。
- 前記突起のそれぞれの一つの検出した高さ異常に対応した高さ増大をもたらすために突起材料の少なくとも半永久的膨張を生ずるように前記突起材料を加熱する工程を含む請求項11に記載された方法。
- 前記測定および高さ調整工程を、前記支持テーブルが上記リソグラフィ投影装置で動作可能位置にある間に実行する請求項11に記載された方法。
- 前記測定工程が、
物品を前記支持テーブル上に、突起によって支持されるように置く工程、
前記突起から離れて向く側で前記物品の前記平らな表面の高さ分布を測定する工程、および
前記高さ分布から前記突起の高さ異常を計算する工程、を含む請求項11に記載された方法。
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