JP2005045109A - 半導体ウェーハ移し替え装置 - Google Patents

半導体ウェーハ移し替え装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2005045109A
JP2005045109A JP2003279057A JP2003279057A JP2005045109A JP 2005045109 A JP2005045109 A JP 2005045109A JP 2003279057 A JP2003279057 A JP 2003279057A JP 2003279057 A JP2003279057 A JP 2003279057A JP 2005045109 A JP2005045109 A JP 2005045109A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor wafer
support substrate
holding
dicing
frame
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2003279057A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4472285B2 (ja
Inventor
Shinichi Namioka
伸一 波岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP2003279057A priority Critical patent/JP4472285B2/ja
Publication of JP2005045109A publication Critical patent/JP2005045109A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4472285B2 publication Critical patent/JP4472285B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

【課題】半導体ウェーハを支持基板からダイシングフレームに移し替える場合において、移し替えを円滑に行うことができる、半導体ウェーハ移し替え装置の提供。
【解決手段】ダイシングフレーム101を保持するフレーム保持部26と、ダイシングフレーム101と一体となった半導体ウェーハWを保持するチャックテーブル27とを備えた保持手段と、半導体ウェーハWの表面から支持基板103を取り外す支持基板取り外し手段28とを含み、チャックテーブル27は、ダイシングテープ104を介して半導体ウェーハWを保持する保持面と、支持基板103のうち半導体ウェーハWから外周側に突出した外周突部103bがダイシングテープ104に貼着しないようにダイシングテープ104を退避位置に位置付ける退避部27bとを少なくとも備え、ダイシングテープ104を退避部27bに退避させた状態で半導体ウェーハWから支持基板103を剥離する。
【選択図】図1

Description

本発明は、表面が支持基板に固定された状態で裏面の研削が行われた半導体ウェーハをダイシングフレームに移し替える半導体ウェーハの移し替え装置に関する。
表面に回路が複数形成された半導体ウェーハは、裏面が研削されて所定の厚さに形成された後、ダイシング装置によってダイシングされて個々の回路ごとの半導体チップに分割され、各種電子機器に用いられる。
研削により薄く形成された後の半導体ウェーハは、剛性が著しく低くなっているため、そのままの状態では後のダイシング工程への搬送等に不都合が生じることがある。
そこで、半導体ウェーハを剛性の高い金属等で形成された支持基板に固定した状態で研削を行い、その後ダイシングフレームと一体となったダイシングテープに貼り替えることも試みられている(例えば特許文献1参照)。
特開2003−77869号公報
しかしながら、支持基板は半導体ウェーハより若干径が大きく、支持基板には半導体ウェーハの外周側から突出した外周突部が形成されているため、半導体ウェーハの裏面をダイシングテープに貼着する際または支持基板を取り外す際に支持基板を上方から押圧すると、当該外周突部がダイシングテープに貼着されてしまい、支持基板を持ち上げる際にダイシングテープもいっしょに持ち上げられてしまい、支持基板を取り外すことができなくなるという問題がある。
従って、半導体ウェーハを支持基板からダイシングフレームに移し替える場合においては、移し替えを容易に行うことに課題を有している。
上記課題を解決するための具体的手段として本発明は、半導体ウェーハの表面が、半導体ウェーハより大きな径を有する支持基板の上面に粘着剤を介して固定され、その状態で裏面が研削された半導体ウェーハの裏面をダイシングテープに貼着してダイシングフレームと一体とし、半導体ウェーハの表面から支持基板を取り外して半導体ウェーハをダイシングフレームに移し替える半導体ウェーハの移し替え装置であって、ダイシングフレームを保持するフレーム保持部と、ダイシングフレームと一体となった半導体ウェーハを保持するチャックテーブルとを備えた保持手段と、半導体ウェーハの表面から支持基板を取り外す支持基板取り外し手段とを含み、チャックテーブルは、ダイシングテープを介して半導体ウェーハを保持する保持面と、支持基板のうち半導体ウェーハから外周側に突出した外周突部がダイシングテープに貼着されないようにダイシングテープを退避位置に位置付ける退避部とを備えた半導体ウェーハ移し替え装置を提供する。
そしてこの半導体ウェーハ移し替え装置は、退避部が保持面の外周側からテーパ状に傾斜した傾斜面により構成されること、退避部が、保持面を囲繞し、支持基板の外周突部の最端部より外周側に形成される外側壁と外周突部の最端部より内周側に形成される内側壁とを有するリング状の吸引溝により構成されること、支持基板取り外し手段は、支持基板を保持する支持基板保持部と、支持基板保持部に保持された支持基板を半導体ウェーハの表面から剥離させる方向に回動する回動アームと、回動アームを回動自在に支持する支点部とから構成されること、回動アームは、支点部からチャックテーブルに保持された半導体ウェーハの直径方向に向けて延び、支持基板保持部は、回動アームの支点部から半導体ウェーハに貼着された支持基板の遠い側の外周部を保持するように、回動アームの先端部に装着されること、支点部は、チャックテーブルの保持面より低い位置に配設されること、ダイシングフレームとダイシングテープとを貼着するダイシングテープ貼着手段と、支持基板に支持された半導体ウェーハの裏面をダイシングテープに貼着して半導体ウェーハをダイシングフレームと一体とする半導体ウェーハ貼着手段とを備えたこととを付加的要件とする。
本発明においては、半導体ウェーハに固定された支持基板のうち、半導体ウェーハから外周側に突出した外周突部がダイシングテープに貼着されないように、退避部がダイシングテープを退避位置に位置付けることにより、半導体ウェーハに固定された支持基板を取り外す際に、支持基板が支持基板取り外し手段によって押圧されても外周突部がダイシングテープに貼着されないため、支持基板の半導体ウェーハからの取り外しを容易に行うことができる。更に、支持基板の取り外し前、例えば半導体ウェーハをダイシングテープに貼着する際に、支持基板とダイシングテープとが貼着されてしまったとしても、退避部によってダイシングテープと支持基板の外周突部とが分離されるため、支持基板の半導体ウェーハからの取り外しを容易に行うことができる。
また、退避部を、チャックテーブルの保持面の外周側からテーパ状に傾斜した傾斜面により構成することにより、ダイシングテープがチャックテーブルの外周側に向けてテーパ状に下降した状態となり、支持基板がダイシングテープに貼着されないため、支持基板の取り外しが確実かつ円滑に行われる。
更に、退避部を、支持基板の外周突部の最端部より外周側に形成される外側壁と外周突部の最端部より内周側に形成される内側壁とを有するリング状の吸引溝により構成することにより、ダイシングテープが吸引溝に入り込んだ状態で保持され、支持基板がダイシングテープに貼着されないため、支持基板の取り外しが確実かつ円滑に行われる。
支持基板取り外し手段が、支持基板を保持する支持基板保持部と、支持基板保持部に保持された支持基板を半導体ウェーハの表面から剥離させる方向に回動する回動アームと、回動アームを回動自在に支持する支点部とから構成されることにより、回動アームの回動によって支持基板を保持し、支持基板保持部によって保持した支持基板を回動アームの回動によって半導体ウェーハから剥離して搬送することができるため、作業の自動化による効率化を図ることができる。
回動アームが、支点部からチャックテーブルに保持された半導体ウェーハの直径方向に向けて延び、支持基板保持部が、半導体ウェーハに貼着された支持基板の支点部から遠い側の外周部を保持するように、回動アームの先端部に装着されることにより、支持基板の外周部を保持して上昇させることによって、支持基板が撓りながら半導体ウェーハから剥離されるため、取り外しを円滑に行うことができる。
支点部が、チャックテーブルの保持面より低い位置に配設されることにより、支持基板の保持を確実に行うことができる。
ダイシングフレームとダイシングテープとを貼着するダイシングテープ貼着手段と、支持基板に支持された半導体ウェーハの裏面をダイシングテープに貼着して半導体ウェーハをダイシングフレームと一体とする半導体ウェーハ貼着手段とを備えたことにより、ダイシングフレームへのダイシングテープの貼着、半導体ウェーハのダイシングフレームへの一体化も自動的に行うことができるため、半導体ウェーハの移し替えに伴うすべての作業を効率的に行うことができる。
本発明の実施の形態として、図1に示す半導体ウェーハ移し替え装置10について、適宜他の図面を参照しながら説明する。この半導体ウェーハ移し替え装置10においては、図2に示すダイシングフレーム101がフレーム収容手段100に複数収容され、フレーム収容手段載置領域11に載置される。このダイシングフレーム101は、剛性の高い部材によりリング状に形成され、中央部には開口部102が形成されている。
図1に示したフレーム収容手段載置領域11は、基台12に対して昇降することによってフレーム収容手段100を適宜の高さに位置付けることができる。
図1に示したフレーム収容手段100に収納されたダイシングフレーム101は、X軸方向に移動可能なフレーム搬出入手段13が+X方向に移動してフレーム収容手段100に近づき、その先端に形成された挟持部13aがダイシングフレーム101を挟持し、そのままの状態で−X方向に移動することにより搬出される。そして、フレーム載置領域14において挟持状態を解除することにより、ダイシングフレーム101がフレーム載置領域14に載置される。
フレーム載置領域14には、基台12から上方に突出してY軸方向に移動可能な一対の位置調整手段15が対峙して配設されており、一対の位置調整手段15が互いに近づく方向に移動することにより、ダイシングフレーム101が一定の位置に位置合わせされる。
こうして位置合わせされたダイシングフレーム101は、フレーム搬送手段16を構成するフレーム吸着部16aに吸着されて保持される。このフレーム搬送手段16は、ダイシングフレーム101を保持するフレーム吸着部16aと、X軸方向に架設されたレール16bと、レール16bにガイドされてX軸方向に水平移動する水平移動部16cと、水平移動部16cに連結されフレーム吸着部16aを昇降させる昇降駆動部16dとから構成される。
昇降駆動部16dに駆動されてフレーム吸着部16aが下降してダイシングフレーム101を吸着保持すると、フレーム吸着部16aが上昇した後に水平移動部16cが−X方向に移動し、ダイシングフレーム101をダイシングテープ貼着手段24の直上に位置付けて停止する。そして、フレーム吸着部16aが下降し、吸着を解除することにより、ダイシングテープ貼着手段24を構成するフレーム保持テーブル24aにダイシングフレーム101が載置され、保持される。
一方、裏面研削後の半導体ウェーハWは、図3に示すように、支持基板103の上面に固定されており、図4に示すように、支持基板103と半導体ウェーハWとの間には粘着剤106が介在している。支持基板103は、厚さ0.3〜3.0mmほどのガラス、セラミックス、金属、樹脂等の剛性の高い材質により形成され、厚さが100μm以下、50μm以下というように薄く形成された半導体ウェーハでも安定的に支持することができる。図3及び図4に示すように、支持基板103は半導体ウェーハWより若干大きな径を有しており、半導体ウェーハWが固定されていない外周部には外周突部103bが形成されている。また、支持基板103の外周は外周突部の最端部103cを構成している。
こうして半導体ウェーハWが固着された支持基板103は、図1に示す基板収容手段200に収容されており、この基板収容手段200は、基台12に対して昇降可能な基板収容手段載置領域20に載置されている。そして、支持基板103に固定された半導体ウェーハWは、基板搬出入手段21によって搬出される。
基板搬出入手段21は、上下動及び屈曲可能なアーム部21aと、アーム部21aの先端に対して垂直方向に回動可能な保持部21bとから構成され、保持部21bは、基板収容手段200に進入して支持基板103の裏面103a(図4参照)を吸着して搬出し、基板位置調整手段22に搬送する。この搬送の途中では、保持部21bが垂直方向に180度回転することにより、半導体ウェーハW及び支持基板103の表裏を反転させ、図5に示すように、支持基板103の裏面103aが上を向き、半導体ウェーハWの裏面が下を向いた状態とする。
図1を参照して説明を続けると、基板位置調整手段22は、半導体ウェーハW及び支持基板103が載置される載置部22aと、載置部22aにおいて載置された半導体ウェーハW及び支持基板103の外周側に複数配設され載置部22aの中心に接近する方向または当該中心から離反する方向に移動可能な複数の突起状の位置合わせ部材22bとから構成され、載置部22aにおいて保持され半導体ウェーハWが固定された支持基板103は、すべての位置合わせ部材22bが接近する方向に同じだけ移動することにより一定の位置に位置合わせされる。
基板位置調整手段22の近傍には、昇降及び回動可能なアーム部23aと、アーム部23aの先端部において支持基板103を吸着して保持する保持部23bとから構成される半導体ウェーハ貼着手段23が配設されており、保持部23bにおいて支持基板103を保持してアーム部23aが昇降及び回転することにより、基板位置調整手段22によって位置合わせされた半導体ウェーハW及び支持基板103をダイシングテープ貼着手段24に搬送する。
ダイシングテープ貼着手段24は、ダイシングフレーム101を保持するフレーム保持テーブル24aと、貼着しようとするダイシングテープ104を送り出すテープ送り部24bと、ダイシングテープ104を巻き取るテープ巻き取り部24cと、回動及びX軸方向に移動可能な押圧ローラー24dと、ダイシングテープ104をダイシングフレーム101の外周に沿ってカットするテープカッター24eとから構成される。
帯状のダイシングテープ104は、フレーム保持テーブル24aの上方において、粘着面が上を向いた状態でテープ送り部24bからテープ巻き取り部24cに架設されており、フレーム搬送手段16によって搬送されてきたダイシングフレーム101は、フレーム吸着部16aが下降することによって、図6(A)に示すようにダイシングテープ104の上に載置され、ダイシングテープ104を介してダイシングフレーム101が保持される。
一方、半導体ウェーハ貼着手段23によって基板位置調整手段22から搬送されてきた半導体ウェーハW及び支持基板103は、半導体ウェーハWの裏面が下を向いた状態で、図6(B)に示すように、ダイシングフレーム101の開口部102においてダイシングテープ104の上に載置される。
そして、図6(C)に示すように、押圧ローラー24dが回動及びX軸方向の移動を伴って下方に向けて押圧力を加えることにより、半導体ウェーハWの裏面がダイシングテープ104の粘着面に貼着されると共に、ダイシングフレーム101も粘着面に貼着され、テープカッター24eがダイシングフレーム101の外周に沿って作用して円形に切断し、帯状のダイシングテープ104から分離され、図7に示すように、半導体ウェーハW、支持基板103、及びダイシングフレーム101が円形に切断されたダイシングテープ104を介して一体となる。こうして一体となったものを、以降ではウェーハユニット105と呼ぶ。
図1を参照して説明を続けると、次にウェーハユニット105は、フレーム吸着部16aによって保持され、フレーム吸着部16aが−X方向に移動することにより保持手段25の直上に位置付けられる。保持手段25は、ダイシングフレーム101を保持する複数のフレーム保持部26と、ダイシングフレーム101に貼着されたダイシングテープ104を介して半導体ウェーハWを保持するチャックテーブル27とを備えている。
チャックテーブル27は、図8に示すように、ダイシングテープ104を介して半導体ウェーハWを保持する保持面27aと、支持基板103の外周突部103bがダイシングテープTに貼着されないようにダイシングテープ104を退避位置に位置付ける退避部27bとを備えている。
保持面27aは、例えばポーラスセラミックス等の多孔質部材により構成され平面状に形成されている。保持面27aは、チャックテーブル27の内部に形成された吸引路27cを通じて吸引源に連通している。一方、退避部27bは、保持面27aの外周側からチャックテーブル27の外周側に向けてテーパ状に下降する傾斜面27dにより構成されている。
フレーム吸着部16aが下降してウェーハユニット105の保持が解除されると、図9(A)に示すように、半導体ウェーハW及び支持基板103がチャックテーブル27の保持面27aに載置されて保持されると共に、ダイシングフレーム101がフレーム保持部26によって保持される。このとき、支持基板103の外周突部103bは退避部27bの上方に位置し、ダイシングテープTはチャックテーブル27の外周側に向けてテーパ状に下降した状態となって固定される。
図1に示すように、保持手段25に隣接する位置には、ダイシングテープ104に貼着された半導体ウェーハWの表面から支持基板103を取り外す支持基板取り外し手段28が配設されている。支持基板取り外し手段28は、支持基板103を保持する支持基板保持部28aと、支持基板保持部28aが先端部に装着され保持した支持基板103を回動により半導体ウェーハWの表面から剥離させる回動アーム28bと、回動アーム28bを水平方向及び垂直方向に回動自在に支持する支点部28cとを備えている。
回動アーム28bは、支点部28cからチャックテーブル27に保持される半導体ウェーハWの直径方向に向けて延び、支持基板保持部28aは、半導体ウェーハWに貼着された支持基板103のうち、支点部28cから遠い側の外周部を保持するように、回動アーム28bの先端部に装着される。また、支点部28cは、チャックテーブル27の保持面27aより低い位置に配設されていることが望ましい。図示の例では、支持基板保持部28aの下部に向けてエアーを吹き付けるエアー噴出ノズル28dも備えている。
なお、図示の例では、支持基板取り外し手段28の近傍に外的刺激付与手段29が配設されている。この外的刺激付与手段29は、半導体ウェーハWと支持基板103との間に介在する粘着剤106(図4参照)に作用する作用部29aと、作用部29aを所定角度回動させて作用位置と非作用位置とに位置付ける駆動部29bとから構成されている。
図4に示した半導体ウェーハWと支持基板103との間に介在する粘着剤106が、外的刺激により粘着力が低下するタイプのものである場合は、支持基板103を半導体ウェーハWから取り外す前に、図9(B)に示すように、外的刺激付与手段29を構成する作用部29aを支持基板103の直上に移動させ、支持基板103の上方から外的刺激を与えることによって、支持基板103と半導体ウェーハWとの間に介在する粘着剤の粘着力を低下させることができる。
例えば、図4に示した粘着層106が、紫外線により粘着力が低下する粘着剤により構成される場合は、図9(B)に示すように、外的刺激として作用部29aから紫外線を照射することによって粘着力を低下させることができる。この場合、支持基板103は、ガラスのように透明または半透明な部材により構成される。
なお、粘着層106が、熱が加えられることによって粘着力が低下する粘着剤の場合には、外的刺激は加熱であり、作用部29aから粘着層106に対して加熱処理を行う。
また、粘着層106が、レーザー光が照射されることによって粘着力が低下する粘着剤の場合には、外的刺激はレーザー光の照射であり、作用部29aから粘着層106に対してレーザー光の照射を行う。
更に、粘着層106が、溶剤によって溶解して粘着力が低下する粘着剤の場合には、外的刺激は溶剤の供給であり、作用部29aから粘着層106に対して溶剤を供給する。この場合は、支持基板103の表裏を貫通する細孔を複数設け、その細孔を通って溶剤が粘着層106に供給されるようにする。粘着剤が糊のように水によって粘着力が低下するタイプのものである場合も、作用部29aから粘着層106に水を供給するために、支持基板103に細孔が形成される。
図9(A)に示したようにウェーハユニット105が保持手段25において保持された後、または、ウェーハユニット105が保持手段25において保持されてから図9(B)に示したように粘着剤106に外的刺激を与えた後には、回動アーム28bの回動によって支持基板保持部28aが下降して支持基板103を保持し、図9(C)に示すように、回動アーム28bの回動によって支持基板保持部28aが上昇することにより、支持基板103が持ち上げられて半導体ウェーハWから取り外される。
支持基板保持部28aが支持基板103を保持する際には、支持基板103が下方に向けて押圧されるために外周突部103bが下方に押し付けられるが、外周突部103bはチャックテーブル27の退避部27bの上方に位置しており、外周突部103bの下方のダイシングテープTは下方に向けてテーパ状になっているため、外周突部103bがダイシングテープTに貼着されることがない。また、図6に示したように半導体ウェーハWをダイシングテープ104に貼着する際、支持基板103とダイシングテープ104とが貼着されてしまったとしても、退避部27bによってダイシングテープ104と支持基板103の外周突部103bとが分離される。従って、支持基板103を持ち上げた際にダイシングテープTがいっしょに持ち上げられてしまうのを防止することができ、支持基板103を半導体ウェーハWから容易に取り外すことができる。このようにして、半導体ウェーハWのダイシングフレーム101に移し替えが円滑に行われる。
図8に示したチャックテーブル27は一例であり、例えば図10に示すチャックテーブル30のように構成されていてもよい。図10の例におけるチャックテーブル30は、上面が平面状に形成されダイシングテープ104を介して半導体ウェーハWを保持する保持面30aと、保持面30aの外周部に形成された退避部30bと、保持面30aと吸引源とを連通させる吸引路30cとから構成されている。退避部30bは保持面30aを囲繞するリング状の吸引溝30dであり、この吸引溝30dは、半導体ウェーハW及び支持基板103が載置された際に図3及び図4に示した支持基板103の外周突部の最端部103cより外周側に形成される外側壁30eと支持基板103の外周突部の最端部103cより内周側に形成される内側壁30fとを有している。吸引溝30dも吸引路30cを介して吸引源に連通している。
このチャックテーブル30においては、図11(A)に示すように、半導体ウェーハW及び支持基板103がチャックテーブル30の保持面30aに載置されて保持されると共に、ダイシングフレーム101がフレーム保持部26によって保持される。このとき、支持基板103の外周突部103bは退避部30bの上方に位置し、ダイシングテープTは吸引溝30dの内部に入り込んで吸引保持される。外側壁30eは外周突部の最端部103cより外周側に形成され、内側壁30fは外周突部の最端部103cより内周側に形成されているため、外周突部の最端部103cは吸引溝30dの上方に位置する。
図4に示した半導体ウェーハWと支持基板103との間に介在する粘着剤106が、外的刺激により粘着力が低下するタイプのものである場合は、図9(B)で示した例と同様に、支持基板103を半導体ウェーハWから取り外す前に、図11(B)に示すように、外的刺激付与手段29を構成する作用部29aを支持基板103の直上に移動させ、支持基板103の上方から外的刺激を与えることによって、支持基板103と半導体ウェーハWとの間に介在する粘着剤の粘着力を低下させることができる。
図11(A)に示したようにウェーハユニット105が保持手段25において保持された後、または、ウェーハユニット105が保持手段25において保持されてから図11(B)に示したように粘着剤106に外的刺激を与えた後には、回動アーム28bの回動によって支持基板保持部28aが下降して支持基板103を保持し、図11(C)に示すように、回動アーム28bの回動によって支持基板保持部28aが上昇することにより、支持基板103が持ち上げられて半導体ウェーハWから取り外される。
支持基板保持部28aが支持基板103を保持する際には、支持基板103が下方に向けて押圧されるために外周突部103bが下方に押し付けられるが、外周突部の最端部103cはチャックテーブル30の退避部30bの上方に位置しており、外周突部の最端部103cの下方のダイシングテープTは吸引溝30dに入り込んだ状態で吸引保持されているため、外周突部の最端部103cがダイシングテープTに貼着されることがない。また、半導体ウェーハWをダイシングテープ104に貼着する際、支持基板103とダイシングテープ104とが貼着されてしまったとしても、退避部30bによってダイシングテープ104と支持基板103の外周突部103bとが分離される。従って、支持基板103を持ち上げた際にダイシングテープTがいっしょに持ち上げられてしまうのを防止することができ、支持基板103を半導体ウェーハWから容易に取り外すことができる。
図9(C)及び図11(C)のいずれの場合も、回動アーム28bは、支点部28cからチャックテーブル27、30に保持された半導体ウェーハWの直径方向に向けて延び、支持基板保持部28aは、半導体ウェーハWに貼着された支持基板103のうち、支点部28cから遠い側の外周部を保持するため、支持基板103の取り外しが確実かつ円滑に行われる。
更に、支点部28cをチャックテーブル27、30の保持面27a,30aより低い位置に配設させれば、支持基板103の保持を確実に行うことができる。
支持基板103を持ち上げる際には、図9(C)及び図11(C)に示すように、エアー噴出ノズル28dから支持基板103と半導体ウェーハWとの間にエアーを噴射することにより、半導体ウェーハWからの取り外しをより容易に行うことができる。
図9(C)及び図11(C)の例においては、支持基板保持部28aが支持基板103の外周部を保持しているため、回動アーム28bの垂着方向の回動により支持基板103が端部から上昇していき、支持基板103が徐々に半導体ウェーハWから分離していく。支持基板103の全面を保持した場合には支持基板103が半導体ウェーハWから分離しにくいが、支持基板保持部28aが支持基板103の外周部を保持することにより、支持基板103が撓りながら徐々に半導体ウェーハWから剥離されるため、支持基板103を円滑に取り外すことができる。
以上のようにして半導体ウェーハWから取り外され、支持基板保持部28aによって保持された支持基板103は、回動アーム28bが水平方向に回動し、仮置きテーブル31の上に位置付けられ、回動アーム28bが垂直方向に回動して保持を解除することにより、仮置きテーブル31の上に載置される。
そして、半導体ウェーハ貼着手段23によって支持基板103が基板位置調整手段22に搬送され、ここで載置部22aに載置されると共に位置合わせ部22bによって一定の位置に位置合わせされた後、基板搬出入手段21によって基板収容手段200に収容される。こうして基板収容手段200に収容された支持基板103は、後に半導体ウェーハの裏面を研削する際に繰り返し使用することができる。
一方、支持基板103が取り外された後の半導体ウェーハWをダイシングテープ104を介して支持するダイシングフレーム101は、フレーム搬送手段16を構成するフレーム保持手段16aによって保持され、+X方向に移動してフレーム載置領域14に搬送され載置された後、フレーム搬出入手段13によってフレーム収容手段100に収容される。そして、フレーム収容手段100は、次のダイシング工程に搬送される。
本発明は、表面が支持基板に固定されて裏面が研削された半導体ウェーハをダイシング工程に搬送するにあたり、半導体ウェーハから支持基板を取り外すと共に半導体ウェーハをダイシングテープに貼着してダイシングフレームと一体化させることを容易かつ効率的に行うことができるため、研削後の半導体ウェーハをダイシング工程に搬送する際の貼り替えに利用することができる。
本発明に係る半導体ウェーハ移し替え装置の一例を示す斜視図である。 ダイシングフレームを示す斜視図である。 支持基板に固定された半導体ウェーハを示す斜視図である。 支持基板と半導体ウェーハとの間に介在する粘着層を示す断面図である。 半導体ウェーハが固定された支持基板を裏返した状態を示す斜視図である。 (A)は、ダイシングテープにダイシングフレームが載置された状態を示す略示的断面図であり、(B)は、支持基板に固定された半導体ウェーハをダイシングテープに載置する様子を示す略示的断面図であり、(C)は、押圧ローラーを用いて半導体ウェーハ及びダイシングフレームをダイシングテープに押圧する様子を示す略示的断面図である。 支持基板に固定された半導体ウェーハがダイシングテープを介してダイシングフレームと一体となった状態を示す斜視図である。 保持手段の構成の一例を示す略示的断面図である。 (A)は、半導体ウェーハが保持手段に保持された状態を示す略示的断面図であり、(B)は、粘着層に外的刺激を与える様子を示す略示的断面図であり、(C)は、支持基板を半導体ウェーハから取り外す様子を示す略示的断面図である。 保持手段の構成の一例を示す略示的断面図である。 (A)は、半導体ウェーハが保持手段に保持された状態を示す略示的断面図であり、(B)は、粘着層に外的刺激を与える様子を示す略示的断面図であり、(C)は、支持基板を半導体ウェーハから取り外す様子を示す略示的断面図である。
符号の説明
10:半導体ウェーハ移し替え装置 11:フレーム収容手段載置領域 12:基台 13:フレーム搬出入手段 13a:挟持部 14:フレーム載置領域 15:位置調整手段 16:フレーム搬送手段 16a:フレーム吸着部 16b:レール 16c:水平移動部 16d:昇降駆動部
20:基板収容手段載置領域 21:基板搬出入手段 21a:アーム部 21b:保持部 22:基板位置調整手段 22a:載置部 22b:位置合わせ部材 23:半導体ウェーハ貼着手段 23a:アーム部 23b:保持部 24:ダイシングテープ貼着手段 24a:フレーム保持テーブル 24b:テープ送り部 24c:テープ巻き取り部 24d:押圧ローラー 24e:テープカッター 25:保持手段 26:フレーム保持部 27:チャックテーブル 27a:保持面 27b:退避部 27c:吸引路 27d:傾斜面 28:支持基板取り外し手段 28a:支持基板保持部 28b:回動アーム 28c:支点部 28d:エアー噴出ノズル 29:外的刺激付与手段 29a:作用部 29b:駆動部 30:チャックテーブル 30a:保持面 30b:退避部 30c:吸引路 30d:吸引溝 30e:外側壁 30f:内側壁 31:仮置きテーブル
100:フレーム収容手段 101:ダイシングフレーム 102:開口部 103:支持基板 103b:外周突部 103c:外周突部の最端部 104:ダイシングテープ 105:ウェーハユニット 106:粘着剤 200:基板収容手段

Claims (7)

  1. 半導体ウェーハの表面が、該半導体ウェーハより大きな径を有する支持基板の上面に粘着剤を介して固定され、その状態で裏面が研削された該半導体ウェーハの裏面をダイシングテープに貼着してダイシングフレームと一体とし、該半導体ウェーハの表面から該支持基板を取り外して該半導体ウェーハを該ダイシングフレームに移し替える半導体ウェーハの移し替え装置であって、
    ダイシングフレームを保持するフレーム保持部と、該ダイシングフレームと一体となった半導体ウェーハを保持するチャックテーブルとを備えた保持手段と、
    半導体ウェーハの表面から該支持基板を取り外す支持基板取り外し手段とを含み、
    該チャックテーブルは、該ダイシングテープを介して半導体ウェーハを保持する保持面と、該支持基板のうち該半導体ウェーハから外周側に突出した外周突部が該ダイシングテープに貼着されないように該ダイシングテープを退避位置に位置付ける退避部とを備えた半導体ウェーハ移し替え装置。
  2. 退避部は、保持面の外周側からテーパ状に傾斜した傾斜面により構成される請求項1に記載の半導体ウェーハ移し替え装置。
  3. 退避部は、保持面を囲繞し、支持基板の外周突部の最端部より外周側に形成される外側壁と該外周突部の最端部より内周側に形成される内側壁とを有するリング状の吸引溝により構成される請求項1に記載の半導体ウェーハ移し替え装置。
  4. 支持基板取り外し手段は、支持基板を保持する支持基板保持部と、該支持基板保持部に保持された支持基板を半導体ウェーハの表面から剥離させる方向に回動する回動アームと、該回動アームを回動自在に支持する支点部とから構成される請求項1、2または3に記載の半導体ウェーハ移し替え装置。
  5. 回動アームは、支点部からチャックテーブルに保持された半導体ウェーハの直径方向に向けて延び、
    該支持基板保持部は、該回動アームの支点部から半導体ウェーハに貼着された支持基板の遠い側の外周部を保持するように、該回動アームの先端部に装着される請求項4に記載の半導体ウェーハ移し替え装置。
  6. 支点部は、チャックテーブルの保持面より低い位置に配設される請求項4または5に記載の半導体ウェーハ移し替え装置。
  7. ダイシングフレームとダイシングテープとを貼着するダイシングテープ貼着手段と、支持基板に支持された半導体ウェーハの裏面を該ダイシングテープに貼着して該半導体ウェーハを該ダイシングフレームと一体とする半導体ウェーハ貼着手段とを備えた請求項1、2、3、4、5または6に記載の半導体ウェーハ移し替え装置。
JP2003279057A 2003-07-24 2003-07-24 半導体ウェーハ移し替え装置 Expired - Lifetime JP4472285B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003279057A JP4472285B2 (ja) 2003-07-24 2003-07-24 半導体ウェーハ移し替え装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003279057A JP4472285B2 (ja) 2003-07-24 2003-07-24 半導体ウェーハ移し替え装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005045109A true JP2005045109A (ja) 2005-02-17
JP4472285B2 JP4472285B2 (ja) 2010-06-02

Family

ID=34265288

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003279057A Expired - Lifetime JP4472285B2 (ja) 2003-07-24 2003-07-24 半導体ウェーハ移し替え装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4472285B2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008306149A (ja) * 2007-07-24 2008-12-18 Hoya Candeo Optronics株式会社 ウエハ支持ガラス
JP2009043771A (ja) * 2007-08-06 2009-02-26 Disco Abrasive Syst Ltd チャックテーブル機構および被加工物の保持方法
JP2010067782A (ja) * 2008-09-10 2010-03-25 Tokyo Seimitsu Co Ltd 表面保護フィルム剥離装置
JP2013179111A (ja) * 2012-02-28 2013-09-09 Shin Etsu Polymer Co Ltd 半導体ウェーハ用治具及び半導体ウェーハの取り扱い方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6226596B2 (ja) * 2013-07-11 2017-11-08 東京応化工業株式会社 支持体分離装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008306149A (ja) * 2007-07-24 2008-12-18 Hoya Candeo Optronics株式会社 ウエハ支持ガラス
JP2009043771A (ja) * 2007-08-06 2009-02-26 Disco Abrasive Syst Ltd チャックテーブル機構および被加工物の保持方法
JP2010067782A (ja) * 2008-09-10 2010-03-25 Tokyo Seimitsu Co Ltd 表面保護フィルム剥離装置
JP2013179111A (ja) * 2012-02-28 2013-09-09 Shin Etsu Polymer Co Ltd 半導体ウェーハ用治具及び半導体ウェーハの取り扱い方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4472285B2 (ja) 2010-06-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5273791B2 (ja) 基板への接着テープ貼り付け装置
JPWO2003049164A1 (ja) 半導体チップの製造方法
JP2002100595A (ja) ウエ−ハ剥離装置及び方法並びにこれを用いたウエ−ハ処理装置
JP2006100728A (ja) 保護テープ剥離方法およびこれを用いた装置
JP6695173B2 (ja) 基板転写方法および基板転写装置
JP2009064905A (ja) 拡張方法および拡張装置
JP4941944B2 (ja) 基板への接着テープの貼り付け方法及び貼り付け装置
JP2011119578A (ja) 貼着装置
TW201112319A (en) Adhesive tape joining method and adhesive tape joining apparatus
KR20050045823A (ko) 반도체 웨이퍼 뒷면에의 점착테이프 접착방법 및점착테이프 접착장치
JP2020024976A (ja) 保護部材形成装置
JP2012216606A (ja) 基板転写方法および基板転写装置
KR20160007360A (ko) 연삭 장치, 보호 테이프 접착 방법 및 보호 테이프
JP2009246067A5 (ja)
JP4324788B2 (ja) ウェーハマウンタ
JP2004079613A (ja) 半導体ウェーハ移し替え装置
JP2006278629A (ja) 搬送装置
JP4472285B2 (ja) 半導体ウェーハ移し替え装置
JP2019029604A (ja) 分割装置
JP4037218B2 (ja) ウエハのダイシングテープへの転写方法とその装置
JP2005039114A (ja) 半導体ウェーハ移し替え装置
JP2003077869A (ja) 半導体ウエーハの加工方法及びこれに使用される支持基板
JP2010192510A (ja) ワークの移載方法および移載装置
JP2006019354A (ja) 加工装置
JP2002353170A (ja) 半導体ウェーハの分離システム、分離方法及びダイシング装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060623

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20081225

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090507

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090701

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100202

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100303

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4472285

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140312

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term