JP2005017155A - 金属基板上のアレイの作製方法 - Google Patents

金属基板上のアレイの作製方法 Download PDF

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基樹 京
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Abstract

【課題】容易にかつ安価にかつ、安定性良く金属基板上にアレイを作製できる方法を確立する
【解決手段】固定化する物質を含む溶液をピンに保持させ、ピンを基板に接触させることにより、金属基板チップ上に溶液をスポッティングすることでアレイを作製する方法であって、周囲の湿度を70%以上に保つことにより、スポットの乾燥を防ぎ、生体分子の活性を保つことにより、表面プラズモン法で測定した際にも安定したコントラストの像が得られる。
【選択図】 なし

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、金属基板上にアレイを作製する方法に関し、スポット部分を乾燥させることなく長時間維持することにより安定したスポット部分を得ることができ、安定した評価結果の得られるアレイの作製方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
生体分子の機能解析、もしくは細胞内に発現している生体分子を調べる手段として相互作用解析が注目を浴びている。中でも表面プラズモン共鳴(SPR)法、エリプソメトリー法をはじめとした光学的検出方法はラベルフリーかつリアルタイムに測定できる相互作用解析法として広く使われるようになっている。このような光学的検出方法は金属基板上に分子を固定化し、相互作用するかどうか調べたい測定対象物質(アナライト)を表面に曝露させる。アナライトが表面に結合したかどうかについて反射光を分析することで知ることができる。蛍光やラジオアイソトープを用いた方法ではアナライトをそれぞれのラベル物質で標識しておく必要があるのに対し、上記の光学的検出法ではアナライトをラベルする必要がないのが大きな利点である。
【0003】
しかし、従来の光学的相互作用検出法は、多数点での検出は困難であり、最大4点までしか検出できず、研究の効率は不十分であった。Jordanらはレーザー光を広げてから偏光平行光にし、金薄層を蒸着したチップの広い面積に照射し、その反射光を撮影することで、DNAハイブリダイゼーションによるSPR変化を観察するのに成功した(例えば、非特許文献1参照)。
【0004】
また、Brockmanらは7回のステップによって750μm四方のDNAスポットを作製し、複数のスポットでDNA−蛋白相互作用を観察するのに成功した(例えば、非特許文献2参照)。
【0005】
いずれも固定化したサンプルはDNAであり、スポット後に乾燥しても問題は少ない。しかし、蛋白などのサンプルを固定化する場合、乾燥によりサンプルが変性する可能性があった。
【0006】
また、乾燥していく場合、液滴が周囲より徐々に小さくなっていくため、スポットの大きさが一定しない、濃縮されていくためにスポットの部分部分で固定化条件が異なる、十分な結合前に乾燥する、などスポットの固定化密度のムラがひどくなり、相互作用観察の結果が安定して得られない問題があった。
本発明は金属基板に固定化するサンプルを乾燥させることなく、相互作用解析のためのアレイを得る手段を提供する。
【0007】
【非特許文献1】
Jordanら Anal. Chem., 69, 1449−1456, 1997
【非特許文献2】
Brockmanら j. Am. Chem. Soc., 121, 8044−8051, 1999
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、スポットした液滴を乾燥させないことで、スポットに含まれるサンプルを変性させず、スポットのムラを抑制し、安定した観察のできる分子を固定化したアレイを得ることにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは鋭意検討した結果、以下に示す手段により、上記課題を解決できることを見出した。
1.基板周囲の湿度を70%以上に保ち、スポッティング操作を行う金属基板上のアレイの作製方法
2.上記湿度が78%以上である1記載のアレイの作製方法
3.上記金属基板が表面プラズモン共鳴測定用である1〜2いずれか記載のアレイの作製方法
4.上記金属基板が表面プラズモン共鳴イメージング用である1〜3いずれか記載のアレイの作製方法
5.上記金属基板が金である1〜4いずれか記載のアレイの作製方法
6.上記金属基板が金薄層をコーティングしたガラスである1〜5いずれか記載のアレイの作製方法
7.スポッティングの中心間間隔が1.5mm以下である1〜6いずれか記載のアレイの作製方法
【0010】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を詳細に説明する。本発明は、主に金属基板チップ上にピンの接触によってのアレイを作製する方法を開示している。
【0011】
本発明において、スポッティング操作により微小液滴が金属基板上に形成される。スポッティング操作は特に限定されるものではなく、ピンを用いた接触法やインクジェット法などが挙げられる。微小液滴の乾燥を防ぐため、基板周囲の湿度は70%RH以上が好ましく、78%RH以上がより好ましい。それ以下の湿度であると、乾燥によって液滴が徐々に小さくなりスポットの大きさが一定しない、液滴中のサンプル濃度が濃縮されていき、スポットの部分部分で、固定化条件が異なるために固定ムラが生じる、反応により固定化する際には十分な反応前に乾燥するために固定ムラが生じる、等が起こりやすい。大きさの大きなムラや固定ムラがある場合、相互作用によって得られるシグナルにばらつきが生じ易いため、好ましくない。よって、微小液滴は周囲の湿度調整により、乾燥を防ぐほうが好ましい。
【0012】
湿度調整は、基板近傍のみだけでもよく、スポッティングを行う装置全体であってもよい。ただし、本発明における湿度とは基板近傍にて測定されたものを言う。
【0013】
湿度を70%RH以上に維持する手段としては、スポッター内部を閉鎖空間とし、加湿機構を設けることが好ましい。加湿機構としては、水のたまり場を設ける方法、ヒーター等で水を加熱して水蒸気を発生させる方法、超音波で霧を噴霧する方法等、任意のものが挙げられる。また、加湿機構と湿度センサーを連動させ、一定の湿度にコントロールされるようにすることも好ましい。
さらに、スポッター内部の空気を循環させることで、スポッター内の湿度の場所による偏り、時間的変動を少なくすることができ好ましい。
【0014】
周囲温度は特に限定されるものではないが、常識的には4℃から30℃でスポッティングは行われる。室温25℃前後で使用するのが安価であり簡便であるが、4〜10℃に冷やす方法も湿度を高める手段として有効である。
【0015】
スポット後、基板は微小液滴が乾燥されない状態で好ましくは5分以上、好ましくは10分以上、さらに好ましくは15分以上の時間、湿度70%RH以上、さらには78%RH以上の環境下に放置され、固定化が完全に行われることが好ましい。スポット後の放置はスポッターのチップ置き場でそのまま放置しても良いし、スポッター内部の別の場所で湿度70%RH以上の場所に移動させて放置しても良い。さらには基板をスポッターから取り出して別の湿度70%RHの容器内に放置しても良い。湿度70%RH以上の容器としては、密封できる容器でスポッターと同様の加湿機構を持つものが好ましい。簡便なものとしては、底部に水を入れたデシケータ等が挙げられる。
【0016】
また、本発明は基板上のサンプルが結合する部分に、サンプルと化学反応可能な官能基を有し、この化学反応可能な官能基とサンプルとが化学反応により結合することにより固定化されるものに特に好ましく適応できる。
サンプルと化学反応可能な官能基としては、カルボン酸基、アミノ基、酸無水物、マレイミド基、スクシンイミド基、エポキシ基、イソシアネート基、アジド基などが挙げられる、中でもマレイミド基、スクシンイミド基が好ましい官能基として挙げられる。
【0017】
また、また、化学反応以外でも、基板上の官能基とによるキレート結合、イオン結合、疎水結合となる様式にも好ましく適応することができる。
【0018】
スポッティング後すぐには乾燥されることなく十分な時間を与えられることにより、基板上のこれら官能基とスポットされるサンプルの官能基とが十分に結合し、強固なスポットとなるために安定した各種の観測が可能となる。
【0019】
このようにして完全に固定化された基板は、必要により、過剰分のサンプル液を洗い流す、さらに別の反応液と反応させる、乾燥させる等の後処理を行い、測定用のアレイとする。
【0020】
作製したアレイを用いて相互作用を観察する手段としてはSPR法、エリプソメトリー法、和周波発生(SFG)法などが挙げられるが、中でもSPR法は広く用いられており、相互作用の測定方法として信頼性が高いために好ましい。また、SPRイメージング法は広い範囲の相互作用を観察することができるため、さらに好ましい。
【0021】
金属基板の金属は金であることが好ましい。金は金−硫黄結合により、表面修飾が容易であるためである。例えば、末端に前述の官能基、特にアミノ基やカルボキシル基などの官能基をもつアルカンチオールを溶液中で接触させることでアルカンチオールの自己組織化表面が形成され、表面に官能基を導入することができる。
【0022】
金基板は金薄層をコーティングしたガラス基板であることが好ましい。金薄膜をコーティングする手段は特に限定されるものではないが、蒸着法、スパッタリング法、イオンコーティング法などが挙げられる。金の厚さは特に限定されるものではないが、通常は30〜100nmの範囲で使用される。金の剥離を防ぐために、金をコーティングする前に、基板にあらかじめクロムもしくはチタンの層を1〜10nmだけ形成しておくのが一般的である。
【0023】
ガラスはさまざまな屈折率を有する透明基板が用意できるため好ましい。プラスチックも基板に使うことは可能であるが、残存応力が残らないようにして成形するのは困難である。ガラス板は平面であることが好ましい。回折格子などの加工を行うことで、プリズムを用いずに測定ができることができるものの、加工は高価である。
【0024】
こうして得られるアレイにおける隣り合うスポットの中心間の距離は1.5mm以下である。1.5mmより大きいスポットの場合、スポッティング操作中に液滴が乾燥することはほとんど考えられない。本発明は微小液滴の乾燥を防ぐのに非常に有効である。
【実施例】
以下に実施例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
【0025】
[実施例]
末端にチオール基を有するポリエチレングリコール(PEGチオール:日本油脂製SUNBRIGHT MESH−50H)を1mMの濃度で7mlのエタノール:水=6:1の混合溶液に溶解させた。PEGチオールの分子量は5,000であり、親水性が非常に高い。また、PEGの末端はメトキシ基であり、反応性をほとんど有さない。
【0026】
18mm四方、1mm厚のLak10ガラススライドにクロムを3nm蒸着し、金を45nm蒸着した金蒸着スライドを、上記PEGチオール溶液に3時間浸漬させ、金基板全体にPEGチオールを結合させた。
【0027】
スライドをミリQ水とエタノールで洗浄し、空気噴霧により乾燥させたのち、このスライドの上に図1に示すフォトマスクを載せ、500W超高圧水銀ランプ(ウシオ電機製)で2時間照射し、照射された部分のPEGチオールを除去した。フォトマスクのパターンは500μm×500μmの四角形が96個並んだものである。
【0028】
ミリQ水とエタノールで洗浄したのち、7−カルボキシル−1−ヘプタンチオール(7−CHT:同仁化学研究所)の1mM溶液中にスライドを1時間浸漬し、紫外線照射部にカルボキシル基を導入した。
【0029】
300μLの0.2M 1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(水溶性カルボジイミド)/0.05M N−ヒドロキシスクシンイミド PBS(−)溶液をスライドの上に滴下して一時間反応させ、COOH基をスクシンイミドエステルとして活性化した。
【0030】
スライドを水洗後、空気噴霧により乾燥させ、自動スポッターに装着した。13種類の抗ヤギIgGモノクローナル抗体を100μg/mlの濃度に調整し(PBS(−))、10μlを96穴プレートのA1〜12、B1のウェルに用意した。自動スポッターの内部湿度を81%、温度25℃に保ち、n=4でスポッティングを行った。湿度はアズワン社NT−1800デジタル温湿度計をチップ置場横に置いて測定した。
【0031】
スポッティングのパターンを図2に示す。このように、96穴プレートに入れたサンプルの入れ方を反映した形でスポッティングを行った。B2〜12のウェルにはモノクローナル抗体サンプルは入っていないため、ブランクのスポットとなる。
【0032】
スポッティングに用いたピンの先端の図を図3に示す。ピンの直径は487μmであり、200μmの幅の溝が入っている。従って、面積は0.09mmである。また、ピンが取り付けられたヘッド部分の内部構造の概略図を図4に示す。ピンはガイドを通して内部のピン固定治具に取り付けられており、ピン固定治具は上下方向に移動可能となっている。ピン固定治具の上には緩衝材として軟質ウレタンフォームが設けられ、ピンが基板に押し付けられた時には、ピンがピン固定治具と共に上方に移動し、緩衝材が圧縮され、衝撃を緩和すると共にピンに適度な応力を与える。
【0033】
スポッティングは自動的に行われる。図5に使用した自動スポッターの内部の配置の概略を示す。ピンは96穴プレートに浸漬され、ウェル内のサンプルを保持し、スライド上へと移動し、スポッティングを行う。実施例の場合はn=4であるため、96穴プレートとスライドの間を3回往復する。4回目のスポッティングが終わった段階でピンは洗浄浴へと移動し、ミリQ水で2回洗浄される。洗浄後にドライヤー内にて上下運動が30mmの振り幅で3回行われ、ピンが乾燥される。次のウェルにてサンプルと採取し、同様の動作は付属したコンピュータで制御されて自動的に行われる。
湿度の調整は超音波加湿器を用い、超音波により発生した霧をスポッター内に吹き込む方式とし、内部湿度はチップ置き場周辺での湿度を測定し、このデータを元に超音波加湿器のON/OFFを切り替えて調整した。基板周辺の湿度は81%±2%内に維持されていた。装置の概略は図11および図12に示す。
【0034】
スポッティング終了後、スポッターからスライドを取り出し、直ちに加湿チャンバー内にスライドを移し、2時間保持してスライド上の官能基と抗体のアミノ基を反応させ、抗体を表面に固定化した。なお、加湿チャンバーは、図13に示した様に、容器の底部に水を張り、中段にスライドを置ける構造となったものであり、密閉が可能であるため、長時間乾燥させることなく反応の進行を続けることが出来る。内部の湿度はほば100%である。
反応終了後のチップをミリQ水で数回洗浄した上で、空気噴霧により水を取り除き、分子量2,000のアミノ基末端ポリエチレングリコール水溶液を2mg/mlの濃度でpH8.5に調製し、300μlをスライド上に注ぎ、残存するスクシンイミド基にポリエチレングリコールを反応させ、ブロッキング反応を行った。表面固定化の反応スキームを図6に示す。
【0035】
抗体を固定化したスライドを3回水洗した後、空気噴霧により乾燥させ、SPRイメージング装置(東洋紡績製)にセットした。緩衝液としてPBS(−)を250μl/mlの流速で30分通液し、100μl/mlの流速で30分通液して安定化させた。その際のSPRイメージング像を図7に示す。白くなっているスポット部分には抗体が固定化されており、その他の部分には固定化されていない。ピンが接触してサンプル液がスポットされた部分には全く傷は見当たらなかった。
【0036】
次に抗原であるヤギIgGを1μg/mlから8μg/mlまで濃度(C)を段階的に倍増させて流し、各々の濃度における平衡時のシグナル(Req)を得た。この際のSPRシグナルの変化を図8に示す。
【0037】
Req/CとCをプロットした(スキャッチャードプロット)結果を図9に示す。いずれもほぼ直線関係が得られている。図9の直線の傾きから結合平衡定数を算出し、表1に示す。
ただし、シグナルが低いために相関係数が0.8未満となったデータは省いている。このように金属基板上に基板を傷つけることなく、分子のアレイを作製し有用なデータを取ることが可能となった。
【0038】
[比較例]
スポッターのカバーを外し、加湿装置を作動させることなく、25℃30%RH環境下で実施例1と同様にスポットを行った。目視による観察ではスポット部の微小液滴はスポッティング後1分以内に乾燥した。さらに加湿チャンバーで保存することなく直ちにミリQ水で洗浄して後は実施例と同様に行った。得られたスライドをSPRにより観察した時のイメージング像を図10に示す。スポット部は不鮮明であり、安定したデータが見込めなかったため、測定は中止した。
【0039】
【表1】
Figure 2005017155
【0040】
【発明の効果】
本発明により、金属基板上にサンプル溶液の微小液滴が形成されて、アレイが得られた。液滴は乾燥することはなく、スポットの固定ムラとサンプルの変性を抑制した。今後、本発明により作製されたアレイは生体分子の相互作用解析に広く使用されていくと期待される。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例に使用したフォトマスクパターン。黒色部分にクロムがコーティングされ光を遮断する。
【図2】実施例1で使用したスポッティングのパターン。上図がスライド上を表し、下図が96穴プレートを示す。96穴プレートのA1〜B12のウェル内のサンプルを、上図のパターンでスポットした。実施例1ではB2〜12はブランクとした。
【図3】実施例で使用したピンの先端の概略図
【図4】実施例で使用したピンの取り付けヘッド内部の概略図
【図5】実施例の自動スポッターの内部構造概略図
【図6】実施例でのスライド上の反応スキーム
【図7】実施例での抗体を固定化したスライドのSPRイメージング像
【図8】実施例での抗原の濃度を段階的に増加させた場合のSPRシグナル変化
【図9】図7のデータから作成したスキャッチャードプロット
【図10】比較例での抗体を固定化したスライドのSPRイメージング像
【図11】実施例の自動スポッターの概略図(斜視図、レール、ヘッドは省略)
【図12】実施例の自動スポッターの概略図(断面図)
【図13】実施例で用いた加湿チャンバーの概略図

Claims (6)

  1. 基板周囲の湿度を70%RH以上に保ち、スポッティング操作を行う金属基板上のアレイの作製方法
  2. 上記金属基板が表面プラズモン共鳴測定用である請求項1記載のアレイの作製方法
  3. 上記金属基板が表面プラズモン共鳴イメージング用である請求項2記載のアレイの作製方法
  4. 上記金属基板が金である請求項1〜3いずれか記載のアレイの作製方法
  5. 上記金属基板が金薄層をコーティングしたガラスである請求項1〜4いずれか記載のアレイの作製方法
  6. スポッティングの中心間間隔が1.5mm以下である請求項1〜5いずれか記載のアレイの作製方法
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