JP2005015908A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2005015908A5
JP2005015908A5 JP2003352701A JP2003352701A JP2005015908A5 JP 2005015908 A5 JP2005015908 A5 JP 2005015908A5 JP 2003352701 A JP2003352701 A JP 2003352701A JP 2003352701 A JP2003352701 A JP 2003352701A JP 2005015908 A5 JP2005015908 A5 JP 2005015908A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
frame
vapor deposition
primary
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2003352701A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2005015908A (ja
JP4369199B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2003352701A priority Critical patent/JP4369199B2/ja
Priority claimed from JP2003352701A external-priority patent/JP4369199B2/ja
Publication of JP2005015908A publication Critical patent/JP2005015908A/ja
Publication of JP2005015908A5 publication Critical patent/JP2005015908A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4369199B2 publication Critical patent/JP4369199B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

JP2003352701A 2003-06-05 2003-10-10 蒸着マスクとその製造方法 Expired - Lifetime JP4369199B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003352701A JP4369199B2 (ja) 2003-06-05 2003-10-10 蒸着マスクとその製造方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003160644 2003-06-05
JP2003352701A JP4369199B2 (ja) 2003-06-05 2003-10-10 蒸着マスクとその製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2005015908A JP2005015908A (ja) 2005-01-20
JP2005015908A5 true JP2005015908A5 (enrdf_load_stackoverflow) 2006-11-24
JP4369199B2 JP4369199B2 (ja) 2009-11-18

Family

ID=34196771

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003352701A Expired - Lifetime JP4369199B2 (ja) 2003-06-05 2003-10-10 蒸着マスクとその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4369199B2 (enrdf_load_stackoverflow)

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3765314B2 (ja) 2004-03-31 2006-04-12 セイコーエプソン株式会社 マスク、マスクの製造方法、電気光学装置の製造方法および電子機器
JP4863247B2 (ja) * 2004-12-08 2012-01-25 九州日立マクセル株式会社 金属多孔体とその製造方法
JP4587851B2 (ja) * 2005-03-17 2010-11-24 大日本印刷株式会社 メタルマスクセット方法
JP4847081B2 (ja) * 2005-09-20 2011-12-28 九州日立マクセル株式会社 メタルマスクおよびその製造方法
JP4677363B2 (ja) * 2006-04-07 2011-04-27 九州日立マクセル株式会社 蒸着マスクおよびその製造方法
KR100847046B1 (ko) * 2007-03-29 2008-07-18 한국기계연구원 열선
KR100847047B1 (ko) * 2007-03-29 2008-07-18 한국기계연구원 열선 제조방법
JP5607312B2 (ja) * 2009-04-02 2014-10-15 株式会社ボンマーク 蒸着マスク及びその製造方法
JP5751810B2 (ja) * 2010-11-26 2015-07-22 日立マクセル株式会社 メタルマスクの製造方法、枠部材及びその製造方法
JP2014077186A (ja) * 2012-10-12 2014-05-01 V Technology Co Ltd メタルマスクの製造方法
US20180138408A1 (en) * 2015-08-05 2018-05-17 Applied Materials, Inc. A shadow mask for organic light emitting diode manufacture
CN105220110A (zh) * 2015-10-20 2016-01-06 昆山允升吉光电科技有限公司 一种蒸镀用复合磁性掩模板的制作方法
JP6722512B2 (ja) 2016-05-23 2020-07-15 マクセルホールディングス株式会社 蒸着マスクおよびその製造方法
JP6851820B2 (ja) 2016-12-28 2021-03-31 マクセルホールディングス株式会社 蒸着用マスク並びにその設置方法及び製造方法
KR20180130989A (ko) * 2017-05-31 2018-12-10 주식회사 티지오테크 프레임 일체형 마스크
KR102702151B1 (ko) 2017-07-31 2024-09-04 맥셀 주식회사 증착 마스크
JP6904852B2 (ja) * 2017-08-28 2021-07-21 マクセルホールディングス株式会社 電鋳用母型及びその製造方法
JP6932047B2 (ja) * 2017-08-29 2021-09-08 マクセルホールディングス株式会社 母型保持具及びマスク製造方法
CN111357129B (zh) * 2017-09-18 2023-05-02 悟劳茂材料公司 框架一体型掩模
CN109811301A (zh) 2017-11-22 2019-05-28 麦克赛尔控股株式会社 蒸镀掩模及其制造方法
KR102559894B1 (ko) * 2018-06-15 2023-07-27 삼성디스플레이 주식회사 마스크 어셈블리, 이를 포함하는 증착설비, 및 이를 이용한 표시장치의 제조방법
WO2020009088A1 (ja) * 2018-07-03 2020-01-09 大日本印刷株式会社 マスク及びその製造方法
KR20200040474A (ko) * 2018-10-10 2020-04-20 주식회사 오럼머티리얼 프레임 일체형 마스크 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
JP7454934B2 (ja) * 2019-11-29 2024-03-25 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスク及びその製造方法
JP2021161509A (ja) * 2020-04-01 2021-10-11 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスクの作製方法
JP7645630B2 (ja) * 2020-11-18 2025-03-14 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスクの製造方法
CN114824027A (zh) * 2021-01-22 2022-07-29 荣星科技股份有限公司 Ic载板的挡墙结构的结合方法及发光二极管光学结构
TWI802974B (zh) * 2021-08-25 2023-05-21 達運精密工業股份有限公司 遮罩以及遮罩的製造方法
KR20250100700A (ko) 2022-11-10 2025-07-03 캐논 아네르바 가부시키가이샤 증착 마스크의 제조 방법 및 표시 디바이스의 제조 방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2005015908A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP4369199B2 (ja) 蒸着マスクとその製造方法
JP5751810B2 (ja) メタルマスクの製造方法、枠部材及びその製造方法
JP4677363B2 (ja) 蒸着マスクおよびその製造方法
JP5607312B2 (ja) 蒸着マスク及びその製造方法
KR102654794B1 (ko) 증착 마스크 및 그 제조 방법
JP2025078821A (ja) 枠体及び蒸着マスク
JP2008255449A (ja) 蒸着マスクとその製造方法
JP4475496B2 (ja) 有機el素子用の蒸着マスクとその製造方法
JP7470734B2 (ja) 枠体および蒸着マスク
JP7450076B2 (ja) 蒸着マスク
WO2016104207A1 (ja) 蒸着マスク及びその製造方法
TWI791549B (zh) 蒸鍍罩
JP7203887B2 (ja) マスクおよびその製造方法
KR20120005422A (ko) 반도체 패키지용 기판의 제조 방법
JP2023042234A (ja) メタルマスク
JP7542425B2 (ja) メタルマスクとその製造方法
JPS59222951A (ja) 半導体装置用リ−ドフレ−ム
JP2007138256A (ja) 蒸着方法
JP2021123777A (ja) 蒸着マスクの製造方法および製造装置
WO2013072964A1 (ja) 転写金型の製造方法及びその転写金型
JP2831060B2 (ja) 電鋳製のic用リードフレーム
JP7133383B2 (ja) 蒸着マスク
JP2020164913A (ja) 蒸着マスク
JP2004361635A (ja) 曲面微細構造の形成方法