JP2005013985A5 - - Google Patents

Claims (5)

1. アクティブマトリクス基板の製造方法において、
   基板上にゲート配線となる膜パターンを形成する第１の工程と、
   前記ゲート配線上にゲート絶縁膜を形成する第２の工程と、
   前記ゲート絶縁膜を介して半導体層を積層する第３の工程と、
   前記ゲート絶縁層の上にソース電極及びドレイン電極となる膜パターンを形成する第４の工程と、
   前記ソース電極及び前記ドレイン電極上に絶縁材料を配置する第５の工程と、
   前記ドレイン電極と電気的に接続する画素電極となる膜パターンを形成する第６の工程と、を有し、
   前記第１の工程、前記第４の工程及び前記第６の工程の少なくとも１つの工程では、
   所定の領域を区画するように無機質の材料にてバンクを形成する工程と、
   前記バンクによって区画された領域に、前記膜パターンを形成するための機能液を配置する工程と、
   前記バンクによって区画された領域に配置された前記機能液を乾燥させる工程とを有することを特徴とするアクティブマトリクス基板の製造方法。
2. 請求項１のアクティブマトリクス基板の製造方法において、
   前記バンクに前記基板よりも高い撥液性を付与する工程を有することを特徴とするアクティブマトリクス基板の製造方法。
3. 請求項１、または請求項２に記載のアクティブマトリクス基板の製造方法において、
   前記機能液を、液滴吐出法を用いて前記バンクによって区画された領域に配置することを特徴とするアクティブマトリクス基板の製造方法。
4. 請求項１から請求項３のいずれかに記載のアクティブマトリクス基板の製造方法において、
   前記機能液は、導電性微粒子を含むことを特徴とするアクティブマトリクス基板の製造方法。
5. 請求項１から請求項３のいずれかに記載のアクティブマトリクス基板の製造方法において、
   前記機能液には、熱処理または光処理により導電性を発現する材料が含まれることを特徴とするアクティブマトリクス基板の製造方法。