JP2004241770A5 - - Google Patents
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- 絶縁表面を有する基板上に、半導体層を形成し、
前記半導体層上に、ゲート絶縁層を形成し、
前記ゲート絶縁層上に、減圧下で、第1の導電性材料を含む第1の組成物を吐出してゲート電極を形成し、
前記ゲート電極に、ランプまたはレーザー光により加熱処理を施し、
前記ゲート電極上に、絶縁層を形成し、
前記絶縁層に、前記半導体層を露出させるような開孔を形成し、
前記開孔を充填するように、減圧下で、第2の導電性材料を含む第2の組成物を吐出してソース及びドレイン配線を形成し、
前記ソース及びドレイン配線に、ランプまたはレーザー光により加熱処理を施すことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 絶縁表面を有する基板上に、半導体層を形成し、
前記半導体層上に、ゲート絶縁層を形成し、
前記ゲート絶縁層上に、減圧下で、第1の導電性材料を含む第1の組成物を吐出してゲート電極を形成し、
前記ゲート電極に、ランプまたはレーザー光により加熱処理を施し、
前記ゲート電極を平坦化し、
前記ゲート電極上に、絶縁層を形成し、
前記絶縁層に、前記半導体層を露出させるような開孔を形成し、
前記開孔を充填するように、減圧下で、第2の導電性材料を含む第2の組成物を吐出してソース及びドレイン配線を形成し、
前記ソース及びドレイン配線に、ランプまたはレーザー光により加熱処理を施し、
前記ソース及びドレイン配線を平坦化することを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 絶縁表面を有する基板上に、半導体層を形成し、
前記半導体層上に、ゲート絶縁層を形成し、
前記ゲート絶縁層上に、減圧下で、第1の導電性材料を含む第1の組成物を吐出してゲート電極を形成し、
前記ゲート電極に、ランプまたはレーザー光により加熱処理を施し、
前記ゲート電極上に、絶縁層を形成し、
前記絶縁層に、前記半導体層を露出させるような開孔を形成し、
前記開孔を充填するように、減圧下で、第2の導電性材料を含む第2の組成物を吐出してソース及びドレイン配線を形成し、
前記ソース及びドレイン配線に、ランプまたはレーザー光により加熱処理を施し、
前記ソース及びドレイン配線に接続された第1の電極を形成し、
前記第1の電極に接するように、減圧下で、第3の導電性材料を含む第3の組成物を吐出して電界発光層を形成し、
前記電界発光層上に、減圧下で、第4の導電性材料を含む第4の組成物を吐出して第2の電極を形成し、
前記第2の電極に、ランプまたはレーザー光により加熱処理を施すことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 絶縁表面を有する基板上に、半導体層を形成し、
前記半導体層上に、ゲート絶縁層を形成し、
前記ゲート絶縁層上に、減圧下で、第1の導電性材料を含む第1の組成物を吐出してゲート電極を形成し、
前記ゲート電極に、ランプまたはレーザー光により加熱処理を施し、
前記ゲート電極を平坦化し、
前記ゲート電極上に、絶縁層を形成し、
前記絶縁層に、前記半導体層を露出させるような開孔を形成し、
前記開孔を充填するように、減圧下で、第2の導電性材料を含む第2の組成物を吐出してソース及びドレイン配線を形成し、
前記ソース及びドレイン配線に、ランプまたはレーザー光により加熱処理を施し、
前記ソース及びドレイン配線を平坦化し、
前記ソース及びドレイン配線に接続された第1の電極を形成し、
前記第1の電極に接するように、減圧下で、第3の導電性材料を含む第3の組成物を吐出して電界発光層を形成し、
前記電界発光層上に、減圧下で、第4の導電性材料を含む第4の組成物を吐出して第2の電極を形成し、
前記第2の電極に、ランプまたはレーザー光により加熱処理を施すことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 絶縁表面を有する基板上に、減圧下で、第1の導電性材料を含む第1の組成物を吐出してゲート電極を形成し、
前記ゲート電極に、ランプまたはレーザー光により加熱処理を施し、
前記ゲート電極上に、半導体層を形成し、
前記半導体層上に、チャネル保護層を形成し、
前記チャネル保護層上に、一導電型が付与された半導体層を形成し、
前記一導電型が付与された半導体層上に、減圧下で、第2の導電性材料を含む第2の組成物を吐出してソース及びドレイン配線を形成し、
前記ソース及びドレイン配線に、ランプまたはレーザー光により加熱処理を施すことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 絶縁表面を有する基板上に、減圧下で、第1の導電性材料を含む第1の組成物を吐出してゲート電極を形成し、
前記ゲート電極に、ランプまたはレーザー光により加熱処理を施し、
前記ゲート電極を平坦化し、
前記ゲート電極上に、半導体層を形成し、
前記半導体層上に、チャネル保護層を形成し、
前記チャネル保護層上に、一導電型が付与された半導体層を形成し、
前記一導電型が付与された半導体層上に、減圧下で、第2の導電性材料を含む第2の組成物を吐出してソース及びドレイン配線を形成し、
前記ソース及びドレイン配線に、ランプまたはレーザー光により加熱処理を施し、
前記ソース及びドレイン配線を平坦化することを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 絶縁表面を有する基板上に、減圧下で、第1の導電性材料を含む第1の組成物を吐出してゲート電極を形成し、
前記ゲート電極に、ランプまたはレーザー光により加熱処理を施し、
前記ゲート電極上に、半導体層を形成し、
前記半導体層上に、チャネル保護層を形成し、
前記チャネル保護層上に、一導電型が付与された半導体層を形成し、
減圧下で、第2の導電性材料を含む第2の組成物を吐出して画素電極を形成し、
前記画素電極に、ランプまたはレーザー光により加熱処理を施し、
前記一導電型が付与された半導体層上に、減圧下で、第3の導電性材料を含む第3の組成物を吐出してソース及びドレイン配線を形成し、
前記ソース及びドレイン配線に、ランプまたはレーザー光により加熱処理を施すことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 絶縁表面を有する基板上に、減圧下で、第1の導電性材料を含む第1の組成物を吐出してゲート電極を形成し、
前記ゲート電極に、ランプまたはレーザー光により加熱処理を施し、
前記ゲート電極を平坦化し、
前記ゲート電極上に、半導体層を形成し、
前記半導体層上に、チャネル保護層を形成し、
前記チャネル保護層上に、一導電型が付与された半導体層を形成し、
減圧下で、第2の導電性材料を含む第2の組成物を吐出して画素電極を形成し、
前記画素電極に、ランプまたはレーザー光により加熱処理を施し、
前記画素電極を平坦化し、
前記一導電型が付与された半導体層上に、減圧下で、第3の導電性材料を含む第3の組成物を吐出してソース及びドレイン配線を形成し、
前記ソース及びドレイン配線に、ランプまたはレーザー光により加熱処理を施し、
前記ソース及びドレイン配線を平坦化することを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項3または請求項4において、
前記第1の電極は、減圧下で、第5の導電性材料を含む第5の組成物を吐出することにより形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項1、請求項2、請求項5または請求項6のいずれか一項において、
第1のインクヘッドを用いて、前記第1の組成物を吐出し、
第2のインクヘッドを用いて、前記第2の組成物を吐出することを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項3または請求項4において、
第1のインクヘッドを用いて、前記第1の組成物を吐出し、
第2のインクヘッドを用いて、前記第2の組成物を吐出し、
第3のインクヘッドを用いて、前記第3の組成物を吐出し、
第4のインクヘッドを用いて、前記第4の組成物を吐出することを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項7または請求項8において、
第1のインクヘッドを用いて、前記第1の組成物を吐出し、
第2のインクヘッドを用いて、前記第2の組成物を吐出し、
第3のインクヘッドを用いて、前記第3の組成物を吐出することを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項1、請求項2、請求項5または請求項6のいずれか一項において、
前記第1の導電性材料と前記第2の導電性材料は、それぞれ、金を含むことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項1、請求項2、請求項5または請求項6のいずれか一項において、
前記第1の導電性材料と前記第2の導電性材料は、それぞれ、銀を含むことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項1、請求項2、請求項5または請求項6のいずれか一項において、
前記第1の導電性材料と前記第2の導電性材料は、それぞれ、銅を含むことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項3または請求項4において、
前記第1の導電性材料、前記第2の導電性材料及び前記第4の導電性材料は、それぞれ、金を含むことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項3または請求項4において、
前記第1の導電性材料、前記第2の導電性材料及び前記第4の導電性材料は、それぞれ、銀を含むことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項3または請求項4において、
前記第1の導電性材料、前記第2の導電性材料及び前記第4の導電性材料は、それぞれ、銅を含むことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項7または請求項8において、
前記第1の導電性材料、前記第2の導電性材料及び前記第3の導電性材料は、それぞれ、金を含むことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項7または請求項8において、
前記第1の導電性材料、前記第2の導電性材料及び前記第3の導電性材料は、それぞれ、銀を含むことを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項7または請求項8において、
前記第1の導電性材料、前記第2の導電性材料及び前記第3の導電性材料は、それぞれ、銅を含むことを特徴とする半導体装置の作製方法。
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