JP2004537863A5 - - Google Patents

Claims (22)

1. 反射ピークの櫛を生成するように設けられた分布ブラッグ反射鏡形態の第１の反射鏡によって一方の端部における境界が画定されかつ第２のブラッグ反射鏡によって他方の端部における境界が画定された増幅セクションを有し、前記第２のブラッグ反射鏡は、複数の波長で反射するように設けられ、前記第２のブラッグ反射鏡の個別の複数のセグメントが選択的に調整可能とされることで、前記第２のブラッグ反射鏡の一つもしくは複数のセグメントが、より低い一つの波長にチューニング可能とされており、これにより、前記第２のブラッグ反射鏡の当該より低い波長で反射するセグメントによって反射が生じて、当該より低い波長における反射率が高まるように構成され、前記第２の反射鏡がチューニングされる前記より低い波長が、前記第１の反射鏡のピークに概ね合致することで、当該より低い波長で当該レーザをレーザ発振させるように構成されているチューナブルレーザ。
2. 請求項１に記載のチューナブルレーザにおいて、
   前記第２の反射鏡は、屈折率が変更可能な材料で形成され、前記材料の屈折率を変更することによって、前記反射される波長のチューニングが行われるように設けられていることを特徴とするチューナブルレーザ。
3. 請求項２に記載のチューナブルレーザにおいて、
   前記屈折率は、前記第２の反射鏡が形成されている前記材料に電流を通すことによって変更されるように設けられていることを特徴とするチューナブルレーザ。
4. 請求項３に記載のチューナブルレーザにおいて、
   前記第２のブラッグ反射鏡は、チャープ回折格子とされ、かつ内部に電流が流れることに対応して変更可能な屈折率を持つ材料で形成され、複数の外部電極が前記回折格子の長さに沿って設けられ、各電極には、選択的に電源が接続可能とされていることを特徴とするチューナブルレーザ。
5. 請求項４に記載のチューナブルレーザにおいて、
   前記チャープブラッグ反射鏡は、前記増幅セクションに最も近いところでピッチが最も短くなるようにして自身に沿ってピッチが累加する線形チャープを備えていることを特徴とするチューナブルレーザ。
6. 請求項４または請求項５に記載のチューナブルレーザにおいて、
   前記チャープブラッグ反射鏡は、それぞれが前記チャープ回折格子全体の一部を構成している複数のチャープ・セグメントに分割され、全てのチャープ・セグメントが連結されていることを特徴とするチューナブルレーザ。
7. 請求項３に記載のチューナブルレーザにおいて、
   前記第２のブラッグ反射鏡は、複数の別々の回折格子セグメントを備え、これらの回折格子セグメントの少なくとも２つは、異なるピッチを有し、このとき、より長いピッチを持つ少なくとも一つの回折格子に電流を付与することが可能で、これにより、当該より長いピッチを持つ回折格子の実効波長を、より短いピッチを持つ前記回折格子の波長に同調させることができるように構成されていることを特徴とするチューナブルレーザ。
8. 請求項３に記載のチューナブルレーザにおいて、
   前記第２のブラッグ反射鏡は、複数の別々の回折格子セグメントを備え、各回折格子セグメントは、異なるピッチを有し、これにより、前記増幅セクションに最も近い前記回折格子セグメントが最も短いピッチを有して、前記増幅セクションから順番に連なる回折格子セグメントそれぞれのピッチが直前のセグメントのピッチよりも大きくなるように設けられていることを特徴とするチューナブルレーザ。
9. 請求項８に記載のチューナブルレーザにおいて、
   各回折格子セグメントは、独立に作動可能な電極を有していることを特徴とするチューナブルレーザ。
10. 請求項３から請求項９のいずれか１項に記載のチューナブルレーザにおいて、
    前記電極への電流を入れたり切ったりするためのスイッチング回路が設けられていることを特徴とするチューナブルレーザ。
11. 請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載のチューナブルレーザにおいて、
    半導体材料を用いて製造されていることを特徴とするチューナブルレーザ。
12. 請求項１１に記載のチューナブルレーザにおいて、
    III-V属半導体材料を用いて製造されていることを特徴とするチューナブルレーザ。
13. 請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載のチューナブルレーザにおいて、
    電子ビーム描写技術を用いて製造されていることを特徴とするチューナブルレーザ。
14. 請求項１から請求項１３のいずれか１項に記載のチューナブルレーザにおいて、
    ホログラフィ位相回折格子プレートを用いて製造されていることを特徴とするチューナブルレーザ。
15. 請求項１から請求項１４のいずれか１項に記載のチューナブルレーザにおいて、
    前記ブラッグ・セグメントは、前記第２の反射鏡内では、明細書に定義の如くそれぞれ短く維持され、これにより、前記ブラッグ回折格子に関連する累加する導波路長さが最小化されて、導波路による損失が低く保たれるように設けられていることを特徴とするチューナブルレーザ。
16. 請求項１から請求項１５のいずれか１項に記載のチューナブルレーザにおいて、
    前記第１の反射鏡を形成する前記分布ブラッグ反射鏡は、位相シフトブラッグ回折格子反射鏡とされていることを特徴とするチューナブルレーザ。
17. 請求項１６に記載のチューナブルレーザにおいて、
    前記第１の反射鏡は、明細書に定義の如く長く設けられていることを特徴とするチューナブルレーザ。
18. 請求項１から請求項１７のいずれか１項に記載のチューナブルレーザにおいて、
    前記第２の反射鏡を通して光が放出されるように設けられていることを特徴とするチューナブルレーザ。
19. 請求項１から請求項１８のいずれか１項に記載のチューナブルレーザにおいて、
    前記増幅セクションと、前記反射鏡のいずれか一方もしくは双方との間に、位相変化セクションが設けられていることを特徴とするチューナブルレーザ。
20. 請求項１９に記載のチューナブルレーザにおいて、
    前記位相変化セクションは、前記増幅セクションと、前記第１ないし前記第２の反射鏡との間に配置されていることを特徴とするチューナブルレーザ。
21. 請求項２０に記載のチューナブルレーザにおいて、
    前記位相変化セクションは、位相を変化させるために、該位相変化セクションの材料の屈折率を変化させるよう、該位相変化セクションを通して電流を流せるようにするための電極を有していることを特徴とするチューナブルレーザ。
22. 概ね、明細書に記載されたような、添付の図面に示されたようなチューナブルレーザ。