JP2004521740A5 - - Google Patents
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Claims (30)
- 化学式1で表示されるキラルサレン触媒であって、
- 上記のX1、X2、X3、X4、X5、X6、X7、X8、Y1及びY2は、互いに独立して水素原子、C1〜C6アルキル基及びC1〜C6アルコキシ基からなる群から選択されることを特徴とする請求項1に記載のキラルサレン触媒。
- 上記のX1、X2、X3、X4、X5、X6、X7及びX8は、互いに独立して水素原子またはt−ブチル基であり、上記のY1及びY2はすべて水素原子である請求項2に記載のキラルサレン触媒。
- R1及びR’1が、互いに組合わさってC4〜C6の炭素環を形成して、R’2及びR2が水素原子、C1〜C6アルキル基、またはC1〜C6アルコキシ基であるか、またはR’1及びR1が素原子、C1〜C6アルキル基、及びC1〜C6アルコキシ基であり、R2及びR’2が互いに組合わさってC4〜C6の炭素環を形成することを特徴とする請求項1に記載のキラルサレン触媒。
- LQ3が、BF3、BCl3、BBr3またはAlCl3であることを特徴とする請求項1に記載のキラルサレン触媒。
- LQ3が、BF3であることを特徴とする請求項1に記載のキラルサレン触媒。
- 上記のMは、Coであることを特徴とする請求項1に記載のキラルサレン触媒。
- 上記の X1、X2、X3、X4、X5、X6、X7、X8、Y1及びY2は、互いに独立して水素原子、C1〜C6アルキル基、及びC1〜C6アルコキシ基からなる群から選択されることを特徴とする請求項9に記載のキラルサレン触媒の製造方法。
- 上記のX1、X2、X3、X4、X5、X6、X7及びX8は、互いに独立して水素原子またはt−ブチル基であり、上記のY1及びY2はすべて水素原子である請求項10に記載のキラルサレン触媒の製造方法。
- R1及びR’1が互いに組合わさってC4〜C6の炭素環を形成し、R’2及びR2が水素原子、C1〜C6アルキル基、またはC1〜C6アルコキシ基であるか、またはR’1及びR1が水素原子、C1〜C6アルキル基、及びC1〜C6アルコキシ基であり、R2及びR’2が互いに組合わさってC4〜C6の炭素環を形成することを特徴とする請求項9に記載のキラルサレン触媒の製造方法。
- LQ3が、BF3、BCl3、BBr3またはAlCl3であることを特徴とする請求項9に記載のキラルサレン触媒の製造方法。
- LQ3が、BF3であることを特徴とする請求項9に記載のキラルサレン触媒の製造方法。
- 上記のBF3が、ホウ素トリフルオライド−ジハイドレート、ホウ素トリフルオライド−酢酸、ホウ素トリフルオライド−t−ブチルメチルエーテレート、ホウ素トリフルオライド−ジブチルエーテレート、ホウ素トリフルオライド−ジエチルエーテレート、ホウ素トリフルオライド−ジメチルエーテレート、ホウ素トリフルオライド−エチルアミン、ホウ素トリフルオライド−メタノール、ホウ素トリフルオライド−メチルスルファイド、ホウ素トリフルオライド−フェノール、ホウ素トリフルオライド−リン酸、ホウ素トリフルオライド−プロパノール、及びホウ素トリフルオライド−テトラヒドロフランで構成された群から選択されるホウ素トリフルオライド誘導体の形態で添加されることを特徴とする請求項14に記載のキラルサレン触媒の製造方法。
- 上記のMは、Coであることを特徴とする請求項9に記載のキラルサレン触媒の製造方法。
- ラセミックエポキシドを立体選択的に加水分解反応させてキラルエポキシド、またはキラル1,2−ジオールのキラル化合物を製造する方法において、上記の反応に、請求項1に記載された化学式1のキラルサレン触媒を使用することを特徴とするキラル化合物の製造方法。
- 上記の X1、X2、X3、X4、X5、X6、X7、X8、Y1及びY2は、互いに独立して水素原子、C1〜C6アルキル基、及びC1〜C6アルコキシ基で構成された群から選択されることを特徴とする請求項18に記載のキラル化合物の製造方法。
- 上記のX1、X2、X3、X4、X5、X6、X7及びX8は、互いに独立して水素原子またはt−ブチル基であり、上記のY1及びY2はすべて水素原子である請求項18に記載のキラル化合物の製造方法。
- R1及びR’1が互いに組合わさってC4〜C6の炭素環を形成して、R’2及びR2が水素原子、C1〜C6アルキル基、またはC1〜C6アルコキシ基であるか、またはR’1及びR1が水素原子、C1〜C6アルキル基及びC1〜C6アルコキシ基であり、R2及びR’2が互いに組合わさってC4〜C6の炭素環を形成することを特徴とする請求項18に記載のキラル化合物の製造方法。
- LQ3が、BF3、BCl3、BBr3またはAlCl3であることを特徴とする請求項18に記載のキラル化合物の製造方法。
- LQ3が、BF3であることを特徴とする請求項18に記載のキラル化合物の製造方法。
- 上記のMは、Coであることを特徴とする請求項18に記載のキラル化合物の製造方法。
- 上記のラセミックエポキシドが次の化学式4で表示され、
- 上記の方法が、
a) ラセミックエポキシドを請求項1に記載された化学式1のキラルサレン触媒の存在下で水と反応させて加水分解させる工程と、
b) 未反応のキラルエポキシドまたは加水分解され生成されたキラル1,2−ジオールを精製する工程とを含むことを特徴とする請求項18に記載のキラル化合物の製造方法。 - 上記の精製されたキラル化合物が、未反応のキラルエポキシドであることを特徴とする請求項18に記載のキラル化合物の製造方法。
- Q は F または Cl である請求項1に記載のキラルサレン触媒。
- Q は F である請求項1に記載のキラルサレン触媒。
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