JP2004513162A - 新規のインダニリデン化合物 - Google Patents

Abstract

新規のインダニリデン化合物は工業用の適用のみならずまた、皮膚および毛髪を保護するための化粧品物質中のＵＶ−Ａフィルターとして使用することができる。

Description

【０００１】
（発明の分野）
本発明は新規のインダニリデン化合物、それらの製法およびＵＶＡフィルターとしてのそれらの使用に関する。
【０００２】
ＵＶ吸収性を有するインダニリデン化合物は既に欧州特許第８２３　４１８号明細書から知られている。しかし、欧州特許第８２３　４１８号明細書に前記のインダニリデン化合物は適用のためには低過ぎる光安定性を有する。
【０００３】
式
【０００４】
【化５】

【０００５】
［式中
Ｒ^１〜Ｒ^４は相互に独立に、水素、Ｃ_１−Ｃ_２０−アルキルまたはＣ_５−Ｃ_１０−シクロアルキルである、ただし隣接する炭素原子上の２置換基は一緒になって更に、場合により置換されていてもよいＣ_１−Ｃ_４−アルキレン基であってもよく、
更にまた、相互に独立に、そこで少なくとも１メチレン基が酸素、Ｃ_３−Ｃ_２０−アルケニル、Ｃ_３−Ｃ_２０−アルキニルまたは基Ｓにより置換されていてもよい、Ｃ_２−Ｃ_２０−アルキルであってもよく、
ここでＳはシラン、オリゴシロキサンまたはポリシロキサン基であってもよく、
Ｒ^５〜Ｒ^８は相互に独立に、水素、Ｃ_１−Ｃ_２０−アルキルまたはＣ_５−Ｃ_１０−シクロアルキルまたはＣ_１−Ｃ_２０−アルコキシ、Ｃ_５−Ｃ_１０−シクロアルコキシ、ヒドロキシル、アセトキシ、アセトアミノ、カルボキシル、カルボアルコキシ（ｃａｒｂａｌｋｏｘｙ）またはカルバモイルであり、
更に、隣接炭素原子上のＲ^５〜Ｒ^８のうちの２置換基は一緒になって３個までのヘテロ原子、とりわけ酸素または窒素を含有する５〜７員環を形成することができ、そこで環原子は環外二重結合酸素（ケト基）により置換されていてもよく、
更に、アルコキシの場合には、相互に独立に、そこで少なくとも１メチレン基が酸素、Ｃ_３−Ｃ_２０−アルケニル、Ｃ_３−Ｃ_２０−アルキニルまたは基Ｓで置換されていてもよいＣ_２−Ｃ_２０−アルキルであってもよい、
ここでＳはシラン、オリゴシロキサンまたはポリシロキサン基であってもよく、
Ｘはシアノ、ＣＯＮ（Ｒ）_２またはＣＯ_２Ｒであり、ここでＲは水素またはＣ_１−Ｃ_８−アルキルであり、
ｎは１または０であり、
Ｒ^９〜Ｒ^１１は、ｎ＝１の場合には、水素、Ｃ_１−Ｃ_２０−アルキルまたはＣ_５−Ｃ_１０−シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールであってもよく、
更に、Ｒ^９〜Ｒ^１１のうちの２置換基はβ−原子と一緒になって、３個までのヘテロ原子、とりわけ酸素または窒素を含有してもよい３〜７員環を形成することができ、
更に、ｎ＝０の場合には、Ｒ^９およびＲ^１０はβ−原子と一緒になってアリールまたはヘテロアリール基である］
の新規のインダニリデン化合物が発見された。
【０００６】
新規のインダニリデン化合物は欧州特許第８２３　４１８号明細書から知られるインダニリデン化合物からは予期されなかった選択物を表わす。それらは欧州特許第８２３　４１８号明細書に記載の化合物より著しく高い光安定性および、他のＵＶフィルター（例えば、ｐ−メトキシケイ皮酸イソオクチル）との高度の相容性を有する。
【０００７】
好ましいものは式
【０００８】
【化６】

【０００９】
のインダニリデン化合物である。
【００１０】
特に好ましいものは、式
【００１１】
【化７】

【００１２】
のインダニリデン化合物である。
【００１３】
具体的には、下記の好ましいインダニリデン化合物を列挙することができる、
２−（５，６−ジメトキシ−３，３−ジメチル−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル、
２−（５−メトキシ−３，３，４，６−テトラメチル−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル、
２−（３，３，５，６−テトラメチル−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル、
２−（３，３，６−トリメチル−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル、
２−（５，６−エチレンジオキソ−３，３−ジメチル−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル、
２−（５−メトキシ−３，３，６−トリメチル−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル、
２−［（５−メトキシ−３，３−ジメチル−（２−メチル−３−（１，３，３，３−テトラメチル−１−（トリメチル−シリルオキシ）−ジシロキサニル）−プロピル）−インダニリデン）］−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリルおよび
２−（６−アセトキシ−３，３−ジメチル−５−メトキシ−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル。
【００１４】
本発明に従うインダニリデン化合物は式
【００１５】
【化８】

【００１６】
［式中、Ｒ^１〜Ｒ^８は前記に与えられた意味をもつ］
の化合物の、式
【００１７】
【化９】

【００１８】
［式中、Ｒ^９〜Ｒ^１１およびＸは前記の意味をもつ］
の化合物との（クネベナーゲル）縮合により調製することができる。
【００１９】
本明細書で使用されるインダノンは（置換された）アクリル酸エステルの（置換された）芳香族とのフリーデル−クラフツ反応によりまたはヒドロキシル置換基の場合には、対応するフェニルエステルのフリース転位（Ｆ．−Ｈ．Ｍａｒｑｕａｒｄｔ，Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ　１５９，１４７６（１９６５））により調製することができる。
【００２０】
本発明に従うインダニリデン化合物の調製は例えば、下記のように実施することができる、
前記のインダノンを、クネベナーゲル縮合の条件に従って酢酸アンモニウムの触媒を伴なって等モル量のピヴァロイルアセトニトリルと縮合される。
【００２１】
調製は下記の反応スキームにより具体的に表わすことができる。
【００２２】
【化１０】

【００２３】
本発明に従うインダニリデン化合物はＵＶ吸収剤として、例えば、化粧品組成物中に、とりわけ急性皮膚損傷（日焼け）および更に慢性皮膚損傷（早期皮膚老化）の防御のために、特に、日焼け止め組成物、日常の手入れ製品および毛髪手入れ製品中に、しかしまた、工業用製品（例えば、塗料、表面塗膜、プラスチック、織物、包装材およびゴム）の光安定性を改善するために、使用することができる。
【００２４】
本発明に従うインダニリデン化合物は対応する調製物中に個別にまたは混合物として使用することができ、更に、それらを他の物質群のＵＶ吸収剤と組み合わせて、そして更に後者は相互にどんな所望の混合物中でも使用することもできる。例えば、下記のＵＶ吸収剤を列挙することができる、
・ｐ−アミノ安息香酸、
・エトキシル化ｐ−アミノ安息香酸エチル（２５モル）、
・ｐ−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、
・Ｎ−プロポキシル化ｐ−アミノ安息香酸エチル（２モル）、
・ｐ−アミノ安息香酸グリセロール、
・サリチル酸ホモメンチル（ホモサレート）（Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＨＭＳ）、
・サリチル酸エチルヘキシル（Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＯＳ），
・サリチル酸トリエタノールアミン、
・サリチル酸４−イソプロピルベンジル、
・アントラニル酸メンチル（Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＭＡ）、
・ジイソプロピルケイ皮酸エチル、
・ｐ−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル（Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＡＶ）、
・ジイソプロピルケイ皮酸メチル、
・ｐ−メトキシケイ皮酸イソアミル（Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）Ｅ１０００）、
・ｐ−メトキシケイ皮酸ジエタノールアミン塩、
・ｐ−メトキシケイ皮酸イソプロピル、
・２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸２−エチルヘキシル（Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）３０３）、
・２−シアノ−３，３’−ジフェニルアクリル酸 エチル、
・２−フェニルベンズイミダゾールスルホン酸および塩（Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ｈｙｄｒｏ）、
・３−（４’−トリメチルアンモニウム）−ベンジリデン−ボルナン−２−オンメチルスルフェート、
・テレフタリリデン−ジボルナンスルホン酸および塩（Ｍｅｘｏｒｙｌ^（Ｒ）ＳＸ）、
・４−ｔ−ブチル−４’−メトキシ−ジベンゾイルメタン（Ａｖｏｂｅｎｚｏｎ）／（Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）３５７）、
・β−イミダゾール−４（５）−アクリル酸（ウロカニン酸）、
・２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン（Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＢＢ）、
・２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸、
・ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、
・２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、
・テトラヒドロキシベンゾフェノン、
・２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、
・２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、
・２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−メチルベンゾフェノン、
・３−（４’−スルホ）ベンジリデン−ボルナン−２−オンおよび塩、
・３−（４’−メチルベンジリデン）−ｄ，ｌ−カンファー（Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＭＢＣ）、
・３−ベンジリデン−ｄ，ｌ−カンファー、
・４−イソプロピルジベンゾイルメタン、
・２，４，６−トリアニリノ−（ｐ−カルボ−２’−エチルヘキシル−１’−オキシ）−１，３，５−トリアジン、
・フェニレン−ビス−ベンズイミダジル−テトラスルホン酸二ナトリウム塩（Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＡＰ）、
・２，２’−（１，４−フェニレン）−ビス−（１Ｈ−ベンズイミダゾール−４，６−ジスルホン酸）、一ナトリウム塩、
・Ｎ−［（２および４）−［２−（オキソボルン−３−イリデン）メチル］ベンジル］−アクリルアミド−ポリマー、
・フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（２−メチル−３−（１，３，３，３−テトラメチル−１−（トリメチルシリル）−オキシ）−ジシロキシアニル）−プロピル）（Ｍｅｘｏｒｙｌ^（Ｒ）ＸＬ）、
・４，４’−［（６−［４−（１，１−ジメチル）−アミノカルボニル）−フェニルアミノ］−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル）ジイミノ］−ビス（安息香酸）ビス−（２−エチルヘキシル）（Ｕｖａｓｏｒｂ^（Ｒ）ＨＥＢ）、
・２，２’−メチレン−ビス−（６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェノール（Ｔｉｎｏｓｏｒｂ^（Ｒ）Ｍ）、
・２，４−ビス−［４−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−１，３，５−トリアジン、
・マロン酸−ポリシロキサンベンジリデン（Ｐａｒｓｏｌ^（Ｒ）ＳＬＸ）、
・ヘキサン酸−ジメトキシケイ皮酸グリセリルエチル、
・２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−５，５’−ジスルホ−ベンゾフェノン二ナトリウム、
・サリチル酸ジプロピレングリコール、
・ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸ナトリウム、
・４，４’，４”−（１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリイルトリイミノ）−トリス−安息香酸トリス（２−エチルヘキシル）（Ｕｖｉｎｕｌ^（Ｒ）Ｔ１５０）、
・２，４−ビス−［｛（４−（２−エチル−ヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシ｝−フェニル］−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン（Ｔｉｎｏｓｏｒｂ^（Ｒ）Ｓ）、
・２，４−ビス−［｛（４−（３−スルホナト）−２−ヒドロキシ−プロピルオキシ）−２−ヒドロキシ｝−フェニル］−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジンナトリウム塩、
・２，４−ビス−［｛（３−（２−プロピルオキシ）−２−ヒドロキシ−プロピルオキシ）−２−ヒドロキシ｝−フェニル］−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
・２，４−ビス−［｛（４−（２−エチル−ヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシ｝−フェニル］−６−［４−（２−メトキシエチル−カルボニル）−フェニルアミノ］−１，３，５−トリアジン、
・２，４−ビス−［｛４−（３−（２−プロピルオキシ）−２−ヒドロキシ−プロピルオキシ）−２−ヒドロキシ｝−フェニル］−６−［４−（２−エチルカルボキシル）−フェニルアミノ］−１，３，５−トリアジン、
・２，４−ビス−［｛４−（２−エチル−ヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシ｝−フェニル］−６−（１−メチル−ピロル−２−イル）−１，３，５−トリアジン、
・２，４−ビス−［｛４−トリス−（トリメチルシロキシ−シリルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ｝−フェニル］−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
・２，４−ビス−［｛４−（２”−メチルプロペニルオキシ）−２−ヒドロキシ｝−フェニル］−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
・２，４−ビス−［｛４−（１’，１’，１’３’，５’，５’，５’−ヘプタメチルシロキシ−２”−メチル−プロピルオキシ）−２−ヒドロキシ｝−フェニル］−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン。
【００２５】
特に適したＵＶ吸収剤は以下である。
・ｐ−アミノ安息香酸、
・３−（４’−トリメチルアンモニウム）−ベンジリデン−ボルナン−２−オンメチルスルフェート、
・サリチル酸ホモメチル（Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＨＭＳ）、
・２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン（Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＢＢ）、
・２−フェニルベンズイミダゾールスルホン酸（Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）Ｈｙｄｒｏ）、
・テレフタリリデンジボルナンスルホン酸および塩（Ｍｅｘｏｒｙｌ^（Ｒ）ＳＸ）、
・４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン（Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）３５７）、
・３−（４’−スルフォ）ベンジリデン−ボルナン−２−オンおよび塩、
・２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸２−エチルヘキシル（Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）３０３）、
・Ｎ−［（２および４）−［２−（オキソボルン−３−イリデン）メチル］ベンジル］−アクリルアミド・ポリマー、
・ｐ−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル（Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＡＶ）、
・エトキシル化ｐ−アミノ安息香酸エチル（２５モル）、
・ｐ−メトキシケイ皮酸イソアミル（Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）Ｅ１０００）、
・２，４，６−トリアニリノ−（ｐ−カルボ−２’−エチルヘキシル−１’−オキシ）−１，３，５−トリアジン（Ｕｖｉｎｕｌ^（Ｒ）Ｔ１５０）、
・フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（２−メチル−３（１，３，３，３−テトラメチル−１−（トリメチルシリル）−オキシ）−ジシロキシアニル）−プロピル）（Ｍｅｘｏｒｙｌ^（Ｒ）ＸＬ）、
・４，４’−［（６−［４−（１，１−ジメチル）−アミノカルボニル）−フェニルアミノ］−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル）−ジイミノ］−ビス−（安息香酸）ビス−（２−エチルヘキシル）（ＵｖａｓｏｒｂＨＥＢ）、
・３−（４’−メチルベンジリデン）−ｄ，ｌ−カンファー（Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＭＢＣ）、
・３−ベンジリデンカンファー、
・サリチル酸２−エチルヘキシル（Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＯＳ）、
・４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル（Ｐａｄｉｍａｔｅ　Ｏ）、
・ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸およびＮａ塩、
・２，２’−メチレン−ビス−（６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェノール）（Ｔｉｎｏｓｏｒｂ^（Ｒ）Ｍ）、
・フェニレン−ビス−ベンズイミダジルテトラスルホン酸二ナトリウム塩（Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＡＰ）、
・２，４−ビス−［｛（４−（２−エチル−ヘキシルオキシ）−２−ヒドロキシ｝−フェニル］−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン（Ｔｉｎｏｓｏｒｂ^（Ｒ）Ｓ）、
・マロン酸−ポリシロキサンベンジリデン（Ｐａｒｓｏｌ^（Ｒ）ＳＬＸ）、
・アントラニル酸メンチル（Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＭＡ）。
【００２６】
本発明に従う調製物中にポリマー結合のまたはポリマーのＵＶ吸収剤、とりわけ国際公開第９２／２０６９０号パンフレットに記載のものを使用することも有利であるかも知れない。ＵＶ遮蔽を伴なう日焼け止めおよび日常の手入れ製品中への微粉砕無機および有機顔料（例えば、二酸化チタン、酸化亜鉛および酸化鉄およびＴｉｎｏｓｏｒｂ^（Ｒ）Ｍ）との、本発明に従うインダニリデン化合物の組み合わせ物も同様に可能である。
【００２７】
本発明の目的に使用することができる、与えられたＵＶフィルターのリストはもちろん、それらに限定する意図はもたれない。
【００２８】
最終的化粧品または皮膚科学的調製物中のすべての（モノ−およびポリスルホン酸化）水溶性ＵＶフィルター物質（例えば、１種もしくは複数のフェニレン−ビス−ベンズイミダジル−テトラスルホン酸二ナトリウム塩および／または対応するジスルホン酸もしくはその塩および／または２−フェニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸とその塩および／または２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸とその塩および／または４−（２−オキソ−３−ボルニリデンメチル−ベンゼンスルホン酸とその塩および／または２−メチル−５−（２−オキソ−３−ボルニリデンメチル）−ベンゼンスルホン酸とその塩および／またはベンゼン−１，４−ジ−（２−オキソ−３−ボルニリデンメチル）−１０−スルホン酸とその塩）の総量は有利には、これらの物質の存在が所望される場合は、調製物の総重量に基づいて、０．１〜１０．０重量％、好ましくは、０．５〜６．０重量％の範囲から選択される。
【００２９】
最終化粧品または皮膚科学的調製物中の油溶性ＵＶフィルター物質（例えば、４，４’，４”−（１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリイルトリイミノ）−トリス−安息香酸トリス（２−エチルヘキシル）および／または４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシ−ジベンゾリルメタンおよび／または４−メチルベンジリデンカンファーおよび／またはオクチルジメチル−ｐ−アミノ安息香酸および／またはＭｅｘｏｒｙｌ^（Ｒ）ＸＬおよび／またはＵｖａｓｏｒｂ^（Ｒ）ＨＥＢおよび／またはＴｉｎｏｓｏｒｂ^（Ｒ）Ｓおよび／またはベンゾフェノン−３および／またはＰａｒｓｏｌ^（Ｒ）ＳＬＸおよび／またはＮｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＭＡ）の総量は有利には、これらの物質の存在が所望される場合は、調製物の総重量に基づいて、０．１〜１０．０重量％、好ましくは、０．５〜６．０重量％の範囲から選択される。
【００３０】
最終化粧品または皮膚科学的調製物中のｐ−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルおよび／またはｐ−メトキシケイ皮酸イソアミルの総量は有利には、これらの物質の存在が所望される場合は、調製物の総重量に基づいて、０．１〜１５．０重量％、好ましくは、０．５〜７．５重量％の範囲から選択される。
【００３１】
最終化粧品または皮膚科学的調製物中の２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エチルヘキシルの総量は有利には、これらの物質の存在が所望される場合は、調製物の総重量に基づいて、０．１〜１５．０重量％、好ましくは、０．５〜１０．０重量％の範囲から選択される。
【００３２】
最終化粧品または皮膚科学的調製物中の１種以上のサリチル酸誘導体の総量は有利には、調製物の総重量に基づいて、０．１〜１５．０重量％、好ましくは、０．５〜１０．０重量％の範囲から選択される。サリチル酸エチルヘキシルが選択される場合は、その総量を０．１〜５．０重量％の範囲から選択することが有利である。サリチル酸ホモメンチルが選択される場合は、その総量を０．１〜１０．０重量％の範囲から選択することが有利である。
【００３３】
本発明に従うインダニリデン化合物はまた、具体的な程度に、低いＵＶ光線安定性をもつＵＶ吸収剤を光安定化させるのに適する。ジベンゾイルメタン（例えば、ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン）の非常に光不安定な化合物の光安定化は特に有効である。
【００３４】
更なる光安定なＵＶフィルター組み合わせ物は、０．１〜１０重量％、好ましくは１〜１０重量％のｐ−メトキシケイ皮酸エチルヘキシルまたはｐ−メトキシケイ皮酸イソアミルを、０．１〜１０重量％、好ましくは１〜６重量％の式Ｉの化合物とともに、好ましくは、１：１の比率で使用することにより達成される。
【００３５】
ｐ−メトキシケイ皮酸エステルおよびジベンゾイルメタン誘導体および式Ｉの化合物の組み合わせ物は、例えば、０．１〜５重量％（好ましくは、１〜３重量％）の４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、０．１〜１０重量％（好ましくは、１〜７．５重量％）のｐ−メトキシケイ皮酸エチルヘキシルまたはｐ−メトキシケイ皮酸イソアミルおよび少なくとも０．２重量％（好ましくは、１〜６重量％）の式Ｉの化合物を、好ましくはジベンゾイルメタン誘導体１部、ｐ−メトキシケイ皮酸エステル２部および本発明に従うインダニリデン化合物２部の比率で使用することにより光安定性であるようにに調製することができる。
【００３６】
更に、この３種組み合わせ物に１種以上の非常に光安定性のＵＶ吸収剤（例えば、メチルベンジリデンカンファー、２−シアノ−３，３’−ジフェニルアクリル酸２−エチルヘキシル、オクチルトリアゾン、Ｕｖａｓｏｒｂ^（Ｒ）ＨＥＢ、Ｔｉｎｏｓｏｒｂ^（Ｒ）Ｓ、Ｔｉｎｏｓｏｒｂ^（Ｒ）Ｍ、サリチル酸エチルヘキシル、サリチル酸ホモメンチルおよびフェニレン−ビスイミダゾールスルホン酸またはフェニレン−ビス−ベンズイミダゾール−テトラスルホン酸二ナトリウム塩、Ｍｅｘｏｒｙｌ^（Ｒ）ＳＸ、Ｍｅｘｏｒｙｌ^（Ｒ）ＸＬまたはＰａｒｓｏｌ^（Ｒ）ＳＬＸ）を添加することが有利である。
【００３７】
更に、化粧品調製物において、他のＵＶフィルターと組み合わせた式Ｉのインダニリデン誘導体を使用して、日光遮蔽因子の相乗的増加が驚くほどに達成される。日光遮蔽因子の相乗的増加の例は、式Ｉの化合物および更にメトキシケイ皮酸エチルヘキシルまたはオクトクリレン双方、またはメトキシケイ皮酸エチルヘキシルと２−フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、あるいはメトキシケイ皮酸エチルヘキシルとメチルベンジリデンカンファー、あるいはメトキシケイ皮酸エチルヘキシルと４−ｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、あるいはＮｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＡＰとメトキシケイ皮酸エチルヘキシル、との式Ｉの化合物の組み合わせ物、あるいはオクトクリレン、メチルベンジリデンカンファーおよび酸化亜鉛との式Ｉの化合物の組み合わせ物、を含んで成る化粧品エマルションである。式Ｉの化合物の、ジベンゾイルメタン、メチルベンジリデンカンファー、２−フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＡＰ、Ｍｅｘｏｒｙｌ^（Ｒ）ＳＸ、Ｍｅｘｏｒｙｌ^（Ｒ）ＸＬ、Ｐａｒｓｏｌ^（Ｒ）ＳＬＸ、Ｔｉｎｏｓｏｒｂ^（Ｒ）Ｓ、Ｔｉｎｏｓｏｒｂ^（Ｒ）Ｍ、Ｕｖｉｎｕｌ^（Ｒ）Ｔ１５０、Ｕｖａｓｏｒｂ^（Ｒ）ＨＥＢおよび微細顔料、酸化亜鉛および酸化チタン、との組み合わせ物もまた、日光遮蔽因子の相乗的増加を有する。前記ＵＶフィルター組み合わせ物は例により列挙されているが、前記の組み合わせ物に限定されるものと理解するべきではない。このように、式Ｉの化合物との、特に８／９ページに適当なものとして既に列挙されたすべてのＵＶ吸収剤および下記の刊行物中に承認されたＵＶフィルターの組み合わせ物、または前記の組み合わせ物を個別に、またはあらゆる所望の混合物中に使用することができる。
ＵＳＡ：食品および医薬品局（ＦＤＡ）。店頭販売可能な人間の使用に対する日焼け止め剤製品のための研究論文の刊行。
欧州：技術進歩のための化粧品組成物に関する加盟国の法規改定に適合させるための議会のＥＣ指針７６／７６８。欧州共同体の公式ジャーナルの刊行物。
日本：厚生省（ＭＨＷ）の化粧品指針の刊行物。
ドイツ：食品および商品に関する条例に従う化粧品組成物に関する指針における刊行物。
オーストラリア：治療製品省（ＴＧＡ）による記録（ｒｅｇｉｓｔｒａｔｉｏｎ）および治療製品のオーストラリア記録（ｒｅｇｉｓｔａｒ）（ＡＲＴＧ）における刊行物。
【００３８】
これらの組み合わせ物は通常ＵＶ日光遮蔽因子の相乗的増加を達成する。
【００３９】
式Ｉの化合物のＵＶ−Ａ吸収剤（特にＵＶ−ＡＩＩ吸収剤）との組み合わせ物はＵＶ−Ａ光線（３２０〜４００ｎｍ）の広域の遮蔽を与える。とりわけ、式Ｉの化合物のＮｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＡＰ（ＵＶ−ＡＩＩ吸収剤）との組み合わせ物は広域のＵＶ−Ａ遮蔽能につき言及することができる。式Ｉの化合物のみと組み合わせて使用されるかまたは式Ｉの化合物およびＮｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＡＰと組み合わせて使用される更なるＵＶ−ＡフィルターはＭｅｘｏｒｙｌ^（Ｒ）ＳＸ、Ｍｅｘｏｒｙｌ^（Ｒ）ＸＬ、Ｔｉｎｏｓｏｒｂ^（Ｒ）Ｍ、Ｔｉｎｏｓｏｒｂ^（Ｒ）Ｓ、ベンゾフェノン−３、ベンゾフェノン−４、Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）３５７、Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＭＡである。
【００４０】
ＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂ光線に対する最適な広域の遮蔽のためには、前記の組み合わせ物をすべてのＵＶ−Ｂフィルターおよびこれらのフィルター（６〜９ページのリストを参照されたい）の混合物と組み合わせることができる。好ましくは、Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＡＶ、Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）Ｅ１０００、Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）Ｈｙｄｒｏ、Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＭＢＣ、Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）３０３、Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＯＳ、Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＨＭＳ、Ｕｖｉｎｕｌ^（Ｒ）Ｔ１５０、Ｕｖａｓｏｒｂ^（Ｒ）ＨＥＢ、ジメチルアミノ安息香酸エチルヘキシルが適している。
【００４１】
式Ｉの化合物をＮｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＡＰおよびＵＶ−Ｂフィルター（例えば、メトキシケイ皮酸エチルヘキシル）またはＵＶ−Ｂフィルター混合物および被覆もしくは非被覆微細分散金属酸化物（例えば、酸化亜鉛、二酸化チタン）と組み合わせることは、臨界波長λ_{ｃｒｉｔ．}＞３８０ｎｍをもつＵＶ広域遮蔽能を達成する（Ｉｎｔ．Ｊ．Ｃｏｓｍ．ＳｃｉｅｎｃｅにおけるＤｉｆｆｅｙ　１６，４７（１９９４）を参照されたい）。
【００４２】
更に、本発明に従うインダニリデン化合物は工業製品の遮蔽のために使用されるＵＶ吸収剤（単独でまたは他のＵＶ吸収剤ともに）と組み合わせることができる。
【００４３】
このようなＵＶ吸収剤の例はベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ケイ皮酸エステルおよびオキサルアニリドの群からの化合物である。
【００４４】
本発明に従うインダニリデン化合物は晶質であり、長期間の貯蔵後の再結晶の問題を回避するために化粧品調製物中に十分に溶解しなければならない。再結晶化を回避するためには、化粧品調製物中に通常使用される十分量の油成分、液体の油溶性ＵＶ吸収剤またはアルコール（例えば、エタノール、イソプロパノールまたは１−ブタノール）が必要である。特に好ましいものは、本発明に従うインダニリデン化合物の組み合わせ物の適切な溶解度を達成するための次の油成分および／またはＵＶ吸収剤：メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、メトキシケイ皮酸イソアミル、オクトクリレン、サリチル酸エチルヘキシル、ホモサレート、アントラニル酸メンチル、パヂメートＯ、アジピン酸ジイソプロピル、安息香酸Ｃ_{１２−１５}−アルキル（Ｗｉｔｃｏｎｏｌ　ＴＮ）、ジカプリル酸／ジカプリン酸ブチレングリコール（Ｍｉｇｌｙｏｌ　８８１０）、ココグリセリド（Ｍｙｒｉｔｏｌ　３３１）、カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド（Ｍｉｇｌｙｏｌ　８１２）、イソノナン酸セテアリル（Ｃｅｔｉｏｌ　ＳＮ）、ＰＶＰ／ヘキサデセン・コポリマー（Ｕｎｉｍｅｒ　Ｕ１５１）、アジピン酸／ジエチレングリコール／イソノナン酸・コポリマー（Ｌｅｘｏｒｅｚ　１００）、ジカプリル酸／ジカプリン酸プロピレングリコール（Ｍｙｒｉｔｏｌ　ＰＣ）、ラウリン酸ヘキシル（Ｃｅｔｉｏｌ　Ａ）、ジカプリルエーテル（ＣｅｔｉｏｌＯＥ）、ナフタリン酸ジエチルヘキシル（Ｈａｌｌｂｒｉｔｅ^（Ｒ）ＴＱ）、サリチル酸ブチルオクチル（Ｈａｌｌｂｒｉｔｅ^（Ｒ）ＢＨＢ）、アジピン酸ジブチル（Ｃｅｔｉｏｌ　Ｂ）、クエン酸トリエチル（ｈｙｄａｇｅｎ　ＣＡＴ）、二安息香酸プロピレングリコール（Ｆｉｎｓｏｌｖ　ＰＧ　２２）、クエン酸トリブチル、リンゴ酸ジオクチル（Ｃｅｒａｐｈｙｌ　４５）、二安息香酸ジプロピレングリコール（Ｂｅｎｚｏｆｌｅｘ　２４５）、クエン酸アセチルトリブチル（Ｃｉｔｒｏｆｌｅｘ　Ａ−４）、クエン酸アセチルトリエチル（Ｃｉｔｒｏｆｌｅｘ　Ａ−２）、の使用である。本発明の目的のために使用することができる前記の油のリストはもちろん、限定することを意図されない。
【００４５】
式Ｉの化合物を含む化粧品エマルション中のすべての油成分の使用量は０．５〜３０重量％、好ましくは、２〜１５重量％である。すべての前記の油成分および液体油溶性ＵＶフィルターはすべての晶質の油溶性ＵＶ吸収剤のための優れた溶媒である。
【００４６】
ＵＶ吸収剤が衣料品から洗い落とすことができないしみを残す場合、それは重大な欠点である。とりわけＵＶ−Ａ吸収剤のｔｅｒｔ−ブチルメトキシジベンゾイルメタンは洗い落とすことができない滲みを織物上に形成することが知られている。本発明に従うインダニリデン化合物は、織物上に形成されたしみを非常に容易に洗い落とすことができるために、この欠点をもたない。
【００４７】
十分なＵＶ遮蔽が水泳もしくは水浴中に、使用者、とりわけ幼児に確保されるためには日焼け止め製品は耐水性でなければならない。本発明に従うインダニリデン化合物の組み合わせ物は特に良好な程度にこれらの要請を満足させる。本発明に従うインダニリデン化合物の組み合わせ物を３重量％含有するＯ／Ｗエマルション中では、洗浄後に９７％のＵＶ吸収剤の残留率（ｓｕｂｓｔａｎｔｉｖｉｔｙ）が測定され、そしてＷ／Ｏエマルション中には９５％が測定された。更に、水溶性の、モノ−もしくはポリスルホン酸化ＵＶフィルター（例えば、Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）ＡＰ、Ｍｅｘｏｒｙｌ^（Ｒ）ＳＸ、ベンゾフェノン−４、Ｎｅｏ　Ｈｅｌｉｏｐａｎ^（Ｒ）Ｈｙｄｒｏ）およびページ６〜９に挙げた油溶性ＵＶ吸収剤を含有する日光遮蔽製品の耐水性は式Ｉの化合物との組み合わせの結果として有意に増加させることができる。
【００４８】
本発明に従って挙げられたＵＶ吸収剤を、例えば、欧州特許第４９６　４３４号明細書、欧州特許第３１３　３０５号明細書および国際公開第９４／０４１２８号パンフレットに挙げられたような錯体形成物質と、またはポリアルパラギン酸およびエチレンジアミン−テトラメチル−ホスホン酸塩とを組み合わせることも著しく有利であるかも知れない。
【００４９】
本発明の目的のための化粧品および皮膚科学的調製物は、脂質相および／または水相中に個々の物質として、または相互とのあらゆる混合物中の１種以上の通常のＵＶ−Ａ、ＵＶ−Ｂおよび／または広域フィルターを含んで成る。それらは驚くべきほどに、高度のＵＶ−Ａ遮蔽能および高度の日光遮蔽因子を特徴とする、あらゆる点で満足な製品である。
【００５０】
本発明は更に、同量の通常のフィルターまたは本発明に従うＵＶフィルター自体を使用して達成される遮蔽の程度を超える（相乗効果）、有害なＵＶ光線に対する遮蔽性を高めるために通常のＵＶ吸収剤と組み合わせた本発明に従うＵＶ吸収剤の使用を提供する。
【００５１】
個々の物質であろうと相互のどんな混合物中であろうと、最終化粧品または皮膚科学的調製物中のＵＶフィルター物質（ＵＶ−Ａ、ＵＶ−Ｂおよび／または広域フィルター）の総量は有利には、調製物の総重量に基づいて０．１〜３０重量％好ましくは、０．１〜１０．０重量％、とりわけ０．５〜５．０重量％の範囲から選択される。
【００５２】
更に、本発明に従う化粧品および皮膚科学的調製物は有利には、強制的ではないが、水に不溶性かまたは殆ど溶解性ではない微細分散金属酸化物および／または他の金属化合物に基づいた無機顔料（とりわけチタン酸化物（ＴｉＯ_２）、亜鉛酸化物（ＺｎＯ）、鉄酸化物（例えば、Ｆｅ_２Ｏ_３）、ジルコニウム酸化物（ＺｒＯ_２）、ケイ素酸化物（ＳｉＯ_２）、マンガン酸化物（例えば、ＭｎＯ）、アルミニウム酸化物（Ａｌ_２Ｏ_３）、セリウム酸化物（例えば、Ｃｅ_２Ｏ_３）、対応する金属の混合酸化物およびこれらの酸化物の混合物）を含んで成る。これらの顔料はＸ線非晶質または非Ｘ線非晶質である。特に好ましいものはＴｉＯ_２に基づいた顔料である。Ｘ線非晶質酸化物顔料はＸ線回折実験において、全くまたは認識可能な程度には晶質構造を示さない金属酸化物または半金属酸化物である。このような顔料はしばしば、例えば、炎中で水素および空気（または純粋な酸素）と金属または半金属ハロゲン化物を反応させることによる、炎色反応により得ることができる。
【００５３】
化粧品、皮膚科学的または医薬調製物中において、Ｘ線非晶質酸化物顔料は増粘剤およびチキソトロピー剤、エマルションおよび分散物の安定化のための流動補助剤として、そして担体物質として（例えば、微粉砕粉末の容量を増加するため）使用される。既知の、そして化粧品または皮膚科学的生薬中にしばしば使用されるＸ線非晶質酸化物顔料は例えば、高純度の酸化ケイ素である。好ましいものは、粒子を非常に均一なディメンションの球形粒子と見なすことができる、５〜４０ｎｍの範囲の粉末度および５０〜４００ｍ^２／ｇ（好ましくは、１５０〜３００ｍ^２／ｇ）の範囲の活性表面積（ＢＥＴ）をもつ高純度のＸ線非晶質の二酸化ケイ素顔料である。顕微鏡により、二酸化ケイ素顔料は緩い白色粉末として認めることができる。二酸化ケイ素顔料はＡｅｒｏｓｉｌ^（Ｒ）（ＣＡＳ−Ｎｏ．７６３１−８５−９）またはＣａｒｂ−Ｏ−Ｓｉｌの名称で市販されている。
【００５４】
有利なＡｅｒｏｓｉｌ^（Ｒ）等級は例えば、Ａｅｒｏｓｉｌ^（Ｒ）０Ｘ５０、Ａｅｒｏｓｉｌ^（Ｒ）１３０、Ａｅｒｏｓｉｌ^（Ｒ）１５０、Ａｅｒｏｓｉｌ^（Ｒ）２００、Ａｅｒｏｓｉｌ^（Ｒ）３００、Ａｅｒｏｓｉｌ^（Ｒ）３８０、Ａｅｒｏｓｉｌ^（Ｒ）ＭＱＸ　８０、Ａｅｒｏｓｉｌ^（Ｒ）ＭＯＸ　１７０、Ａｅｒｏｓｉｌ^（Ｒ）ＣＯＫ　８４、Ａｅｒｏｓｉｌ^（Ｒ）Ｒ　２０２、Ａｅｒｏｓｉｌ^（Ｒ）Ｒ　８０５、Ａｅｒｏｓｉｌ^（Ｒ）Ｒ　８１２、Ａｅｒｏｓｉｌ^（Ｒ）Ｒ　９７２、Ａｅｒｏｓｉｌ^（Ｒ）Ｒ　９７４、Ａｅｒｏｓｉｌ^（Ｒ）Ｒ　９７６である。
【００５５】
本発明に従う化粧品または皮膚科学的光遮蔽調製物は０．１〜２０重量％（有利には０．５〜１０重量％、極めて特には１〜５重量％）のＸ線−非晶質酸化物顔料を含んで成る。
【００５６】
本発明に従う非Ｘ線非晶質無機顔料は有利には疎水性形態にあり、すなわち撥水性の表面処理をされている。この表面処理はそれ自体既知の方法により、顔料に薄い疎水性の膜を提供することを伴なう可能性がある。このような方法は例えば、
ｎＴｉＯ_２＋ｍ（ＲＯ）_３Ｓｉ−Ｒ’→ｎＴｉＯ_２（表面）
［式中、ｎおよびｍは所望に従って使用することができる化学量論的パラメーターであり、ＲおよびＲ’は所望の有機基である］
に従う反応により疎水性表面層を形成することを伴なう。例えば、ドイツ特許第３３　１４　７４２号明細書に類似のように調製された疎水性化顔料が有利である。
【００５７】
例えば、Ｄｅｇｕｓｓａから商品名Ｔ８０５として市販されているようなＴｉＯ_２顔料を挙げることができる。更に好ましいものは、例えば、これもＤｅｇｕｓｓａから商品名Ｔ８１７として供給されるようなＴｉＯ_２／Ｆｅ_２Ｏ_３混合酸化物である。
【００５８】
最終化粧品または皮膚科学的調製物中の無機顔料、とりわけ疎水性無機微細顔料の総量は有利には、調製物の総重量に基づいて０．１〜３０重量％、好ましくは０．１〜１０重量％、特には０．５〜６．０重量％の範囲から選択される。
【００５９】
本発明に従う化粧品および／または皮膚科学的調製物は通常の組成をもつことができ、化粧品および／または皮膚科学的日光遮蔽のため並びに更に皮膚および／または毛髪の処置、手入れおよび／または洗浄のために並びに、装飾化粧品中のメークアップ製品として使用することができる。従って、本発明に従う調製物はそれらの処方に従って、例えば、皮膚保護クリーム、クレンジング乳液、日焼け止めローション、栄養クリーム、デイクリームもしくはナイトクリーム、等として使用することができる。場合によっては、医薬調製物の基剤として本発明に従う調製物を使用することができ、有利である。とりわけ好ましいものは、皮膚の手入れまたはメークアップ製品の形態の化粧品および皮膚科学的調製物である。具体的な態様は、クリーム、ゲル剤、ローション、アルコール溶液および水溶液／アルコール溶液、エマルションまたはスティック調製物、である。これらの組成物はまた、更なる補助剤および添加剤として、緩和な界面活性剤、共乳化剤、超脂肪添加剤、真珠光沢ワックス、増粘剤（ｂｏｄｙｉｎｇ　ａｇｅｎｔｓ）、増粘剤（ｔｈｉｃｋｅｎｅｒｓ）、ポリマー、シリコーン化合物、脂肪、ワックス、安定剤、生物活性成分、消臭活性成分、フケ抑制剤、フィルム形成剤、膨潤剤、ヒドロトロープ剤、保存剤、忌虫剤、日焼け剤、人工自己日焼け剤（ｓｅｌｆ−ｔａｎｎｉｎｇ　ａｇｅｎｔ）（例えば、ジヒドロキシアセトン）、安定剤、香油、染料、抗微生物剤等を含んで成ることができる。
【００６０】
使用のためには、本発明に従う化粧品および皮膚科学的調製物は、化粧品として通常の方法で十分量を皮膚および／または毛髪に適用される。
【００６１】
特に好ましいものは、皮膚および毛髪の保護のための化粧品組成物形態の化粧品および皮膚科学的調製物である。これらは有利には、本発明に従って使用されるＵＶ−Ａ、ＵＶ−Ｂおよび／または広域フィルターの他に、少なくとも１種の無機顔料、好ましくは無機微細顔料を含んで成ることができる。
【００６２】
本発明に従う化粧品および皮膚科学的調製物はこのような調製物中に通常使用されるような化粧品補助剤（例えば、保存剤、殺バクテリア剤、香料、気泡抑制剤、染料、着色作用をもつ顔料、増粘剤、加湿剤および／または保湿剤、脂肪、油、ワックスあるいは化粧品または皮膚科学的調製物のその他の通常の成分（例えば、アルコール、ポリオール、ポリマー、気泡安定剤、電解質、有機溶媒またはシリコーン誘導体）を含んで成ることができる。適当な非イオン性乳化剤または分散剤は、ジポリヒドロキシステアリン酸ポリグリセリル−２（Ｄｅｌｈｙｍｕｌｓ^（Ｒ）ＰＧＰＨ）、ジイソステアリン酸ポリグリセリル−３（Ｌａｍｅｆｏｒｍ^（Ｒ）ＴＧＩ）、イソステアリン酸ポリグリセリル−４（Ｉｓｏｌａｎ^（Ｒ）ＧＩ３４）、オレイン酸ポリグリセリル−３、ジイソステアリン酸ジイソステアリルポリグリセリル−３（Ｉｓｏｌａｎ^（Ｒ）ＰＤＩ）、ジステアリン酸メチルグルコースポリグリセリル−３（Ｔｅｇｏ　Ｃａｒｅｙ^（Ｒ）４５０）、蜜蝋ポリグリセリル−３（Ｃａｒａ　Ｂｅｌｌｉｎａ^（Ｒ））、カプリン酸ポリグリセリル−４（カプリン酸ポリグリセロール　Ｔ２０１０／９０）、ポリグリセリル−３セチルエーテル（Ｃｈｉｍｅｘａｎｅ^（Ｒ）ＮＬ）、ジステアリン酸ポリグリセリル−３（Ｃｒｅｍｏｐｈｏｒ^（Ｒ）ＧＳ　３２）、ステアリン酸ポリグリセリル−２（Ｈｏｓｔａｃｅｒｉｎ^（Ｒ）ＤＧＭＳ）およびポリリシンオレイン酸ポリグリセリル（Ａｄｍｕｌ^（Ｒ）ＷＯＬ１４０３）並びにそれらの混合物により形成される群である。
【００６３】
各事例で使用することができる、化粧品または皮膚科学的補助剤および担体物質および香料の量は、問題の製品の性状に応じて、簡単な試行錯誤により当業者により容易に決定することができる。
【００６４】
抗酸化剤の更なる含有は概括的に好ましい。本発明に従って使用することができる好ましい抗酸化剤は、化粧品および／または皮膚科学的適用に通常のまたは適するすべての抗酸化剤である。
【００６５】
抗酸化剤は有利には、非常に少量の許容投与量（例えばｐｍｏｌ〜μｍｏｌ／ｋｇ）における、アミノ酸（例えばグリシン、ヒスチジン、チロシン、トリプロファン）およびそれらの誘導体、イミダゾール（例えばウロカニン酸）およびそれらの誘導体、Ｄ，Ｌ−カルノシン、Ｄ−カルノシン、Ｌ−カルノシンおよびそれらの誘導体（例えばアンセリン）のようなペプチド、カロテノイド、カロテン（例えばα−カロテン、β−カロテン、リコペン）およびそれらの誘導体、クロロゲン酸およびその誘導体、リポ酸およびその誘導体（例えばジヒドロリポ酸）、アウロチオグルコース、プロピルチオウラシルおよび他のチオール（例えばチオレドキシン、グルタチオン、システイン、シスチン、シスタミン並びに、それらのグリコシル、Ｎ−アセチル、メチル、エチル、プロピル、アミル、ブチルおよびラウリル、パルミトイル、オレイル、γ−リノレイル、コレステリルおよびグリセリルエステル）およびそれらの塩、チオジプロピオン酸ジラウリル、チオジプロピオン酸ジステアリル、チオジプロピオン酸およびその誘導体（エステル、エーテル、ペプチド、脂質、ヌクレオチド、ヌクレオシドおよび塩）並びにスルホキシイミン化合物（例えばブチオニン・スルホキシイミン、ホモシステイン・スルホキシイミン、ブチオニン・スルホン、ペンタ−、ヘキサ−およびヘプタチオニン・スルホキシイミン）、並びに更に、（金属）錯体形成剤（例えばα−ヒドロキシ脂肪酸、パルミチン酸、フィチン酸、ラクトフェリン）、α−ヒドロキシ酸（例えばクエン酸、乳酸、リンゴ酸）、フミン酸、胆汁酸、胆汁抽出物、ビリルビン、ビリベルジン、ＥＤＴＡ、ＥＧＴＡおよびそれらの誘導体、不飽和脂肪酸およびそれらの誘導体（例えばγ−リノレン酸、リノール酸、オレイン酸）、葉酸およびその誘導体、ユビキノンおよびユビキノールおよびそれらの誘導体、ビタミンＣおよび誘導体（例えば、パルミチン酸アスコルビル、リン酸アスコルビルＭｇ、酢酸アスコルビル）、トコフェロールおよび誘導体（例えば酢酸ビタミンＥ）、ビタミンＡおよび誘導体（パルミチン酸ビタミンＡ）、並びにベンゾイン樹脂の安息香酸コニフェリル、ルチン酸およびその誘導体、α−グリコシルルチン、フェルラ酸、フルフリリデングルシトール、カルノシン、ブチルヒドロキシトルエン、ブチルヒドロキシアニソール、ノルジヒドログアヤク酸、ノルジヒドログアヤレチン酸、トリヒドロキシブチロフェノン、尿酸およびその誘導体、マンノースおよびその誘導体、亜鉛およびその誘導体（例えばＺｎＯ、ＺｎＳＯ_４）、セレンおよびその誘導体（例えばセレノメチオニン）、スチルベンおよびそれらの誘導体（例えば酸化スチルベン、トランス−酸化スチルベン）並びに、本発明に従って適切な前記の有効成分の誘導体（塩、エステル、エーテル、糖、ヌクレオチド、ヌクレオシド、ペプチド及び脂質）から成る群から選択される。
【００６６】
調製物中の前記の抗酸化剤（１種類以上の化合物）の量は好ましくは、調製物の総重量に基づいて、０．００１〜３０重量％、特に好ましくは０．０５〜２０重量％、とりわけ、１〜１０重量％である。
【００６７】
ビタミンＥおよび／またはその誘導体が１種もしくは複数の抗酸化剤を表わす場合は、調製物の総重量に基づいて、０．００１〜１０重量％の範囲からそれらそれぞれの濃度を選択することが有利である。
【００６８】
ビタミンＡまたはビタミンＡ誘導体、あるいはカロテンまたはそれらの誘導体が１種もしくは複数の抗酸化剤を表わす場合は、調製物の総重量に基づいて、０．００１〜１０重量％の範囲からそれらそれぞれの濃度を選択することが有利である。
【００６９】
脂質相は有利には、下記の群の物質から選択することができる、
−鉱油、鉱物ワックス、
−油（例えば、カプリン酸またはカプリル酸のトリグリセリド）および更に天然油（例えば、ヒマシ油）、
−脂肪、ワックス並びに他の天然および合成脂肪物質、好ましくは低炭素数のアルコール（例えば、イソプロパノール、プロピレングリコールまたはグリセロール）との脂肪酸のエステル、または低炭素数のアルカン酸との、または脂肪酸との脂肪アルコールのエステル、
−安息香酸アルキル、
−シリコーン油（例えば、ジメチルポリシロキサン、ジエチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサンおよびそれらの混合形態）。
【００７０】
本発明の目的のためのエマルション、オレオゲルおよびヒドロ分散物または脂質分散物の油相は有利には、３〜３０炭素原子の鎖長を有する飽和および／または不飽和の、分枝および／または非分枝アルカンカルボン酸と、３〜３０炭素原子の鎖長を有する飽和および／または不飽和の、分枝および／または非分枝アルコールとのエステルの群から、芳香族カルボン酸と３〜３０炭素原子の鎖長を有する飽和および／または不飽和の、分枝および／または非分枝アルコールとのエステルの群から選択される。その場合、これらのエステル油は有利には、ミリスチン酸イソプロピル、パルミチン酸イソプロピル、ステアリン酸イソプロピル、オレイン酸イソプロピル、ステアリン酸ｎ−ブチル、ラウリン酸ｎ−ヘキシル、オレイン酸ｎ−デシル、ステアリン酸イソオクチル、ステアリン酸イソノニル、イソノナン酸イソノニル、パルミチン酸２−エチルヘキシル、ラウリン酸エチルヘキシル、ステアリン酸２−ヘキシルデシル、パルミチン酸２−オクチルドデシル、オレイン酸オレイル、エルカ酸オレイル、オレイン酸エルシルおよび、これらのエステルの合成、半合成および天然の混合物（例えばジョジョバ油）の群から選択することができる。
【００７１】
更に、油相は有利には、分枝および非分枝炭化水素および炭化水素ワックス、シリコーン油、ジアルキルエーテルの群、飽和もしくは不飽和の、分枝もしくは非分枝アルコールおよび脂肪酸トリグリセリド（すなわち８〜２４、とりわけ１２〜１８炭素原子の鎖長を有する飽和および／または不飽和の、分枝および／または非分枝アルカンカルボン酸のトリグリセロールエステル、の群から選択することができる。脂肪酸トリグリセリドは有利には、例えば合成、半合成および天然油（例えば、オリーブ油、ヒマワリ油、大豆油、落花生油、菜種油、アーモンド油、ヤシ油、ココナツ油、ヤシの芯油等）の群から選択することができる。
【００７２】
これらの油およびワックス成分のあらゆる混合物もまた、本発明の目的のために有利に使用することができる。場合によっては、更に、油相の単独脂質成分としてワックス（例えば、パルミチン酸セチル）を使用することも有利であるかも知れない。
【００７３】
油相は有利には、イソステアリン酸２−エチルヘキシル、オクチルドデカノール、イソノナン酸イソトリデシル、イソエイコサン、ココア酸２−エチルヘキシル、安息香酸Ｃ_{１２−１５}−アルキル、カプリル酸／カプリン酸トリグリセリド、ジカプリリルエーテルの群から選択される。
【００７４】
特に有利な混合物は安息香酸Ｃ_{１２−１５}−アルキルおよびイソステアリン酸２−エチルヘキシルの混合物、安息香酸Ｃ_{１２−１５}−アルキルおよびイソノナン酸イソトリデシルの混合物、安息香酸Ｃ_{１２−１５}−アルキル、イソノナン酸２−エチルヘキシルおよびイソノナン酸イソトリデシルの混合物である。
【００７５】
１種もしくは複数のシリコーン油の他に、それらの油相成分を更に含有することは好ましいが、油相は有利にはまた、環状または線状シリコーン油を含有するかまたはこれらの油のみから成ることができる。
【００７６】
本発明に従って使用することができるシリコーン油としては、シクロメチコン（オクタメチルシクロテトラシロキサン）が有利に使用される。しかし、他のシリコーン油（例えば、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、ポリジメチルシロキサン、ポリ（メチルフェニルシロキサン））もまた本発明の目的のために有利に使用することができる。
【００７７】
シクロメチコンおよびイソノナン酸イソトリデシルの混合物並びにシクロメチコンおよびイソステアリン酸２−エチルヘキシルの混合物もまた特に有利である。
【００７８】
本発明に従う調製物の水相は場合によっては、有利には、アルコール、ジオールまたはポリオール（低級アルキル）およびそれらのエーテル（好ましくは、エタノール、イソプロパノール、プロピレングリコール、グリセロール、エチレングリコール−モノエチルもしくはモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチル、−モノエチルもしくはモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルもしくは−モノエチルエーテルおよび類似製品）並びに更にアルコール（低級アルキル）（例えば、エタノール、１，２−プロパンジオール、グリセロール）およびとりわけ、有利には二酸化ケイ素、ケイ酸アルミニウム、多糖類およびそれらの誘導体（例えば、ヒアルロン酸、キサンタンゴム、ヒドロキシプロピルメチルセルロース）からなる群から、特に有利には、ポリアクリレート（好ましくは、それぞれの事例において、個別にまたは組み合わせた、いわゆるカーボポール（例えば、カーボポール等級９８０、９８１、１３８２、２９８４、５９８４）の群からのポリアクリレートの群から選択することができる１種以上の増粘剤、を含んで成る。
【００７９】
化粧品組成物中に使用される原料および有効成分の包括的説明はドイツ特許第１９９　１９　６３０号明細書に与えられている。
【００８０】
本発明に従うインダニリデン化合物が欧州特許第８２３　４１８号明細書から知られる化合物に比較して、優れた選択物を表わすことは予知されることが出来なかった。
【００８１】
【実施例】
光安定性
実施例により、範疇Ａの化合物および範疇Ｂの化合物および他の標準の市販のＵＶフィルター（例えば、ＯＭＣ＝メトキシケイ皮酸オクチルまたはＢＭＤＭ＝ｔｅｒｔ−ブチルメトキシジベンゾイルメタン）との組み合わせ物の間の比較測定値を下表に示す。範疇Ｂの物質は範疇Ａの物質に対して改善を示す。放射線照射は７６５Ｗ／ｍ^２の照射強度において（Ｇｌｏｂａｌセンサーに基づく）ＨｅｒａｅｕｓからのＳｕｎｅｓｔｅｒにおいて実施した。数値は照射（線量Ｊ／ｃｍ^２）後のＵＶフィルターの濃度減少百分率を与える。
【００８２】
表１　　調製実施例１に従う調製物

表２　　調製実施例１２に従う調製物

表３　　処方に従う調製物

表１〜３中の化合物：
【００８３】
【化１１】

【００８４】
実施例１
２−（５，６−ジメトキシ−３，３−ジメチル−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル
【００８５】
【化１２】

【００８６】
５，６−ジメトキシ−３，３−ジメチル−１−インダノン４４ｇ（０．２モル）、ピバロイルアセトニトリル２５ｇ（０．２モル）、プロピオン酸３２ｇおよび酢酸アンモニウム１７ｇをキシレン８０ｇ中で混合し、１２０℃で７時間加熱した。系を室温に冷却し、有機相を洗浄後、キシレンを留去し、残留している粗生成物をメタノール中で再結晶する。収率：理論値の５０％；Ｅ^１／１７３０（□_ｍａｘ３７３ｎｍ）。
実施例２
２−（５−メトキシ−３，３，４，６−テトラメチル−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル
【００８７】
【化１３】

【００８８】
手順は５−メトキシ−３，３，４，６−テトラメチル−１−インダノンから出発して、実施例１のものに類似していた。収率：理論値の５０％；Ｅ^１／１５８８（□_ｍａｘ３４０ｎｍ）．
実施例３
２−（３，３，５，６−テトラメチル−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル
【００８９】
【化１４】

【００９０】
手順は、３，３，５，６−テトラメチル−１−インダノンから出発して、実施例１のものに類似していた。収率：理論値の５５％；Ｅ^１／１６３０（□_{ｍａ ｘ}３４２ｎｍ）．
実施例４
２−（３，３，６−トリメチル−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル
【００９１】
【化１５】

【００９２】
手順は、３，３，６−トリメチル−１−インダノンから出発して、実施例１のものに類似していた。収率：理論値の４５％；Ｅ^１／１　５２３／５０５（□_ｍａｘ３３５／３１６ｎｍ）．
実施例５
２−（５，６−エチレンジオキソ−３，３−ジメチル−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル
【００９３】
【化１６】

【００９４】
手順は、５，６−エチレンジオキソ−３，３−ジメチル−１−インダノンから出発して、実施例１のものに類似していた。収率：理論値の５５％；Ｅ^１／１　６４０（□_ｍａｘ３６９ｎｍ）．
実施例６
２−（５−メトキシ−３，３，６−トリメチル−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル
【００９５】
【化１７】

【００９６】
手順は、５−メトキシ−３，３，６−トリメチル−１−インダノンから出発して、実施例１のものに類似していた。収率：理論値の６０％；Ｅ^１／１　８５０（□_ｍａｘ３５９ｎｍ）．
実施例７
２−［（５−メトキシ−３，３−ジメチル−（２−メチル−３−（１，３，３，３−テトラメチル−１−（トリメチル−シリルオキシ）−ジシロキサニル）−プロピル）−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル
【００９７】
【化１８】

【００９８】
ａ）２−（５−メトキシ−３，３−ジメチル−６−ヒドロキシ−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル
【００９９】
【化１９】

【０１００】
５−メトキシ−３，３−ジメチル−６−ヒドロキシ−１−インダノンを実施例１に従って反応させる。収率：理論値の５０％．
ｂ）２−（５−メトキシ−３，３−ジメチル−６−（２−メチル−プロペニルオキシ）−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル
【０１０１】
【化２０】

【０１０２】
ａ）項の化合物１３６ｇ（０．４３モル）をＮ−メチルピロリジノン４７０ｇに、炭酸カリウム９５ｇと一緒に添加し、７０℃に加熱し、塩化メタリル４２ｇ（０．４６モル）を３０分間にわたりそれに添加する。混合物を更に７０℃で３時間加熱し、次に室温に冷却し、生成物を酢酸エチルで抽出する。収率：理論値の４５％。
【０１０３】
ｂ）項の化合物９０ｇ（１３０ミリモル）、１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチルトリシロキサン２９ｇ（１３０ミリモル）を触媒量のジビニルテトラメチル白金錯体（９０ｇのトルエン中）および窒素雰囲気の存在下で２０時間、８０℃に維持する。溶媒を留去後、残留物を球形管（Ｋｕｇｅｌｒｏｈｒ）上で蒸留すると、黄色油として所望の生成物５０ｇ（理論値の７０％）を与えた；Ｅ^１／１　４００（□_ｍａｘ３７３ｎｍ）．
実施例８
２−（６−アセトキシ−３，３−ジメチル−５−メトキシ−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル
【０１０４】
【化２１】

【０１０５】
ａ）項の化合物５４ｇ（０．１７モル）を塩化アセチル１３ｇ（０．１７モル）（Ｎ−メチルピロリジノン中）と４０℃で５時間にわたり反応させる。収率：理論値の９８％；Ｅ^１／１　４２０／２８０（□_ｍａｘ３５５／３０２ｎｍ）．
実施例９
２−（３，３−ジメチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−１−インダニリデン）−３−（１’−メチルシクロヘキシル）−３−オキソ−プロピオノニトリル
【０１０６】
【化２２】

【０１０７】
３，３−ジメチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−１−インダノンを実施例１と同様に３−（１’−メチルシクロヘキシル）−３−オキソ−プロピオノニトリルと反応させる。収率：理論値の４０％；Ｅ^１／１　５８０（□_ｍａｘ３５５ｎｍ）．
実施例１０
２−（３，３，５−トリメチル−１−インダニリデン）−３−フェニル−３−オキソ−プロピオノニトリル
【０１０８】
【化２３】

【０１０９】
３，３，５−トリメチル−１−インダノンを実施例１と同様にベンゾイルアセトニトリルと反応させる。収率：理論値の５０％；Ｅ^１／１　６００（□_ｍａｘ３５０ｎｍ）．
調製実施例１
日焼け止めソフトクリーム（Ｏ／Ｗ）、インビトロＳＰＦ３、耐水性

調製法
部分Ａ：約８５℃に加熱。
部分Ｂ：カーボポールを除く原料を秤量添加する。Ｕｌｔｒａ　Ｔｕｒｒａｘを使用してその中にカーボポールを分散させる。約８５℃に加熱する。ＢをＡに添加する。
部分Ｃ：即座にＡ／Ｂに添加し、次に熱いうちにホモジナイズする（Ｕｌｔｒａ　Ｔｕｒｒａｘ）。撹拌しながら、放置冷却する。
部分Ｄ：添加し、撹拌する。
【０１１０】
インビトロＳＰＦ（Ｌａｂｓｐｈｅｒｅ紫外線透過率分析装置）　 ３
ブーツスター定格　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 ４
ブロードスペクトル定格（Ｄｉｆｆｅｙ）　　　　　　　　　　　 ４
臨界波長（９０％吸収λｎｍ）　　　　　　　　　　　　 　　　　３８５
水処理後のＵＶフィルター残留率　　　　　　　　　　　　　 　　９７％
調製実施例２
日焼け止めローション（Ｏ／Ｗ）インビトロＳＰＦ２０

製法
部分Ａ：約８５℃に加熱。
部分Ｂ：カーボポールを除く原料を秤量添加する。Ｕｌｔｒａ　Ｔｕｒｒａｘを使用してその中にカーボポールを分散させる。約８５℃に加熱する。ＢをＡに添加する。
部分Ｃ：即座にＡ／Ｂに添加し、次に熱い間にホモジナイズする（Ｕｌｔｒａ　Ｔｕｒｒａｘ）。撹拌しながら、放置冷却する。
部分Ｄ：添加し、撹拌する。
【０１１１】
インビトロＳＰＦ（Ｌａｂｓｐｈｅｒｅ紫外線透過率分析装置）　 ２０
ブーツスター定格　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 ２
ブロードスペクトル定格（Ｄｉｆｆｅｙ）　　　　　　　　　　　 ４
臨界波長（９０％吸収λｎｍ）　　　　　　　　　　 　　　　　　３７８
調製実施例３
日焼け止め乳剤（Ｏ／Ｗ）インビトロＳＰＦ６

製法
部分Ａ：８０〜８５℃に加熱。
部分Ｂ：８０〜８５℃に加熱し、撹拌しながら部分Ｂを部分Ａに添加する。部分Ｃ：カーボポールを水中に分散し、撹拌しながらＮａＯＨで中和する。撹拌しながら約６０℃で部分Ｃを添加する。室温に放置冷却する。
部分Ｄ：添加し、撹拌する。
【０１１２】
インビトロＳＰＦ（Ｌａｂｓｐｈｅｒｅ紫外線透過率分析装置）　　　 ６
ブーツスター定格　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 ４
ブロードスペクトル定格（Ｄｉｆｆｅｙ）　　　　　　　　　　　　　 ４
臨界波長（９０％吸収λｎｍ）　　　　　　　　　　　　　　 　　３８５
調製実施例４
日焼け止めローション（Ｏ／Ｗ）インビトロＳＰＦ２１

製法
部分Ａ：８０〜８５℃に加熱。
部分Ｂ：８０〜８５℃に加熱し、撹拌しながら部分Ｂを部分Ａに添加する。部分Ｃ：カーボポールを水中に分散し、撹拌しながらＮａＯＨで中和する。撹拌しながら約６０℃で部分Ｃを添加する。室温に放置冷却する。
部分Ｄ：添加し、撹拌する。
【０１１３】
インビトロＳＰＦ（Ｌａｂｓｐｈｅｒｅ紫外線透過率分析装置）　 　 ２１
ブーツスター定格　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３
ブロードスペクトル定格（Ｄｉｆｆｅｙ）　　　　　　　　　　　　　４
臨界波長（９０％吸収λｎｍ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　３７９
調製実施例５
日焼け止めローション（Ｏ／Ｗ）インビトロＳＰＦ１１

製法
部分Ａ：式Ｉに従うＵＶ吸収剤を油または液体ＵＶフィルターに溶解する（約７０℃に加熱することにより）。約３０℃に放置冷却し、カーボポールおよびＰｅｍｕｌｒｅｎを除く残りの成分を添加し、室温で混合する（約５分間撹拌）。ＣａｒｂｏｐｏｌおよびＰｅｍｕｌｒｅｎを添加撹拌する。
部分Ｂ：加熱しながらフェノキシエタノール中にＳｏｌｂｒｏｌを溶解する。水およびグリセロールと混合し、撹拌しながら部分Ａに添加する。約６０分間撹拌する。
部分Ｃ：Ａ／Ｂに添加し、Ｕｌｔｒａ　Ｔｕｒｒａｘを使用してホモジナイズする。
【０１１４】
インビトロＳＰＦ（Ｌａｂｓｐｈｅｒｅ紫外線透過率分析装置）　　 １１
ブーツスター定格　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 ４
ブロードスペクトル定格（Ｄｉｆｆｅｙ）　　　　　　　　　　　　　 ４
臨界波長（９０％吸収λｎｍ）　　　　　　　　　　　　　　 　　３８２
調製実施例６
日焼け止めクリーム（Ｗ／Ｏ）インビトロＳＰＦ４、耐水性

製法
部分Ａ：約８５℃に加熱。
部分Ｂ：約８５℃に加熱（酸化亜鉛を含まず、Ｕｌｔｒａ　Ｔｕｒｒａｘを使用して酸化亜鉛をその中に分散する）。ＢをＡに添加する。撹拌しながら放置冷却し、次にホモジナイズする。
【０１１５】
インビトロＳＰＦ（Ｌａｂｓｐｈｅｒｅ紫外線透過率分析装置）　　　４
ブーツスター定格　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４
ブロードスペクトル定格（Ｄｉｆｆｅｙ）　　　　　　　　　　　　　４
臨界波長（９０％吸収λｎｍ）　　　　　　　　　　　　　　　　３８４
水処理後のＵＶフィルター残留率　　　　　　　　　　　　　　　　９５％
調製実施例７
日焼け止めソフトクリーム（Ｗ／Ｏ）インビトロＳＰＦ４０

製法
部分Ａ：約８５℃に加熱。
部分Ｂ：約８５℃に加熱（酸化亜鉛を含まず、Ｕｌｔｒａ　Ｔｕｒｒａｘを使用して酸化亜鉛をその中に分散する）。ＢをＡに添加する。撹拌しながら放置冷却する。
部分Ｃ：添加し、次にホモジナイズする。
【０１１６】
インビトロＳＰＦ（Ｌａｂｓｐｈｅｒｅ紫外線透過率分析装置）　 　 ４０
ブーツスター定格　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３
ブロードスペクトル定格（Ｄｉｆｆｅｙ）　　　　　　　　　　　　　　４
臨界波長（９０％吸収λｎｍ）　　　　　　　　　　　　　　　　　３７９
調製実施例８
日焼け止め乳剤（Ｗ／Ｏ）

製法
部分Ａ：約８５℃に加熱。
部分Ｂ：約８５℃に加熱。ＢをＡに添加する。撹拌しながら放置冷却する。
部分Ｃ：添加し、次にホモジナイズする。
【０１１７】
調製実施例９
ＵＶ遮蔽を含むデイケアクリーム

製法
部分Ａ：約８０℃に加熱。
部分Ｂ：約８０℃に加熱。撹拌しながら部分Ａに添加する。
部分Ｃ：水中にＣａｒｂｏｐｏｌを分散し、水酸化ナトリウム溶液で中和する。
部分Ａ／Ｂに約５５℃で添加する。
部分Ｄ：室温で添加し、ホモジナイズする。
【０１１８】
調製実施例１０
日焼け止めスプレー

製法
部分Ａ：Ｌａｒａ　ＣａｒｅＡ−２００を撹拌しながら部分Ａの他の成分中に溶解する。
部分Ｂ：すべての原料（Ｐｅｍｕｌｒｅｎを除く）を秤量添加し、晶質物質を加熱しながら溶解する。その中にＰｅｍｕｌｒｅｎを分散する。部分Ａに部分Ｂを添加し、次に１分間ホモジナイズする。部分Ｃ＋Ｄを添加し、Ｕｌｔｒａ　Ｔｕｒｒａｘを使用して１〜２分間再度ホモジナイズする。
【０１１９】
調製実施例１１
日焼け止めヒドロ分散物ゲル（バルサム）

製法
部分Ａ：カーボポールを水中に分散し、水酸化ナトリウム溶液で中和する。
部分Ｂ：部分Ａに撹拌しながら添加する。
部分Ｃ：暖めながら（最高４０℃）部分Ｃの他の原料中に晶質成分を溶解し、部分Ａ／Ｂに添加する。十分に撹拌し、次にホモジナイズする（Ｈｏｍｏｚｅｎｔａ）．
調製実施例１２
ＵＶフィルターを含む毛髪コンディショナー

製法
部分Ａ：８０℃に加熱する。
部分Ｂ：８０℃に加熱する。部分Ａに撹拌しながら添加する。
部分Ｃ：４０℃で添加し、室温に冷却する。
【０１２０】
調製実施例１３
日焼け止めローション（Ｏ／Ｗ）

製法
部分Ａ：８０〜８５℃に加熱する。
部分Ｂ：８０〜８５℃に加熱し、撹拌しながら部分Ｂを部分Ａに添加する。
部分Ｃ：Ｃａｒｂｏｐｏｌを水中に分散し、撹拌しながらＮａＯＨで中和する。
約６０℃で撹拌しながら部分Ｃを添加する。

Claims (16)

1. 式
   

   

   式中
   Ｒ^１〜Ｒ^４は相互に独立に、水素、Ｃ_１−Ｃ_２０−アルキルまたはＣ_５−Ｃ_１０−シクロアルキルである、ただし隣接する炭素原子上の２置換基は一緒になって、場合により置換されていてもよいＣ_１−Ｃ_４−アルキレン基であってもよく、
   更にまた、相互に独立に、少なくとも１メチレン基が酸素、Ｃ_３−Ｃ_２０−アルケニル、Ｃ_３−Ｃ_２０−アルキニルまたは基Ｓにより置換されていてもよい、Ｃ_２−Ｃ_２０−アルキルであってもよく、
   ここでＳはシラン、オリゴシロキサンまたはポリシロキサン基であってもよく、
   Ｒ^５〜Ｒ^８は相互に独立に、水素、Ｃ_１−Ｃ_２０−アルキルまたはＣ_５−Ｃ_１０−シクロアルキルまたはＣ_１−Ｃ_２０−アルコキシ、Ｃ_５−Ｃ_１０−シクロアルコキシ、ヒドロキシル、アセトキシ、アセトアミノ、カルボキシル、カルボアルコキシまたはカルバモイルであり、
   更に、隣接炭素原子上のＲ^５〜Ｒ^８のうちの２置換基は一緒になって３個までのヘテロ原子、とりわけ酸素または窒素を含有する５〜７員環を形成することができ、そこで環原子は環外二重結合の酸素（ケト基）により置換されていてもよく、
   更に、アルコキシの場合には、相互に独立に、少なくとも１メチレン基が酸素、Ｃ_３−Ｃ_２０−アルケニル、Ｃ_３−Ｃ_２０−アルキニルまたは基Ｓで置換されていてもよいＣ_２−Ｃ_２０−アルキルであってもよく、
   ここでＳはシラン、オリゴシロキサンまたはポリシロキサン基であってもよく、
   Ｘはシアノ、ＣＯＮ（Ｒ）_２またはＣＯ_２Ｒであり、ここでＲは水素またはＣ_１−Ｃ_８−アルキルであり、
   ｎは１または０であり、
   Ｒ^９〜Ｒ^１１は、ｎ＝１の場合は、水素、Ｃ_１−Ｃ_２０−アルキルまたはＣ_５−Ｃ_１０−シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールであってもよく、
   更に、Ｒ^９〜Ｒ^１１のうちの２置換基はβ−原子と一緒になって、３個までのヘテロ原子、とりわけ酸素または窒素、を含有してもよい３〜７員環を形成することができ、
   更に、ｎ＝０の場合には、Ｒ^９およびＲ^１０はβ−原子と一緒になってアリールまたはヘテロアリール基である、
   のインダニリデン化合物。
2. 式
   

   

   の、請求項１記載のインダニリデン化合物。
3. ２−（５，６−ジメトキシ−３，３−ジメチル−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル、
   ２−（５−メトキシ−３，３，４，６−テトラメチル−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル、
   ２−（３，３，５，６−テトラメチル−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル、
   ２−（３，３，６−トリメチル−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル、
   ２−（５，６−エチレンジオキソ−３，３−ジメチル−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル、
   ２−（５−メトキシ−３，３，６−トリメチル−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル、
   ２−［（５−メトキシ−３，３−ジメチル−（２−メチル−３−（１，３，３，３−テトラメチル−１−（トリメチル−シリルオキシ）−ジシロキサニル）−プロピル）−インダニリデン）］−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリルおよび
   ２−（６−アセトキシ−３，３−ジメチル−５−メトキシ−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル。
4. 式
   

   

   ［式中
   Ｒ^１〜Ｒ^４は相互に独立に、水素、Ｃ_１−Ｃ_２０−アルキルまたはＣ_５−Ｃ_１０−シクロアルキルである、ただし隣接する炭素原子上の２置換基は一緒になって、場合により置換されていてもよいＣ_１−Ｃ_４−アルキレン基であってもよく、
   更にまた、相互に独立に、少なくとも１メチレン基が酸素、Ｃ_３−Ｃ_２０−アルケニル、Ｃ_３−Ｃ_２０−アルキニルまたは基Ｓにより置換されていてもよい、Ｃ_２−Ｃ_２０−アルキルであってもよく、
   ここでＳはシラン、オリゴシロキサンまたはポリシロキサン基であってもよく、
   Ｒ^５〜Ｒ^８は相互に独立に、水素、Ｃ_１−Ｃ_２０−アルキルまたはＣ_５−Ｃ_１０−シクロアルキルまたはＣ_１−Ｃ_２０−アルコキシ、Ｃ_５−Ｃ_１０−シクロアルコキシ、ヒドロキシル、アセトキシ、アセトアミノ、カルボキシル、カルボアルコキシまたはカルバモイルであり、
   更に、隣接炭素原子上のＲ^５〜Ｒ^８のうちの２置換基は一緒になって３個までのヘテロ原子、とりわけ酸素または窒素を含有する５〜７員環を形成することができ、そこで環原子は環外二重結合の酸素（ケト基）により置換されていてもよく、
   更に、アルコキシの場合には、相互に独立に、少なくとも１メチレン基が酸素、Ｃ_３−Ｃ_２０−アルケニル、Ｃ_３−Ｃ_２０−アルキニルまたは基Ｓで置換されていてもよいＣ_２−Ｃ_２０−アルキルであってもよい、
   ここでＳはシラン、オリゴシロキサンまたはポリシロキサン基であってもよく、
   Ｘはシアノ、ＣＯＮ（Ｒ）_２またはＣＯ_２Ｒであり、ここでＲは水素またはＣ_１−Ｃ_８−アルキルであり、
   ｎは１または０であり、
   Ｒ^９〜Ｒ^１１は、ｎ＝１の場合には、水素、Ｃ_１−Ｃ_２０−アルキルまたはＣ_５−Ｃ_１０−シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールであってもよく、
   更に、Ｒ^９〜Ｒ^１１のうちの２置換基はβ−原子と一緒になって、３個までのヘテロ原子、とりわけ酸素または窒素、を含有してもよい３〜７員環を形成することができ、
   更に、ｎ＝０の場合には、Ｒ^９およびＲ^１０はβ−原子と一緒になってアリールまたはヘテロアリール基である］
   のインダニリデン化合物を含んで成る、皮膚および毛髪を保護するための化粧品組成物。
5. 

   を含んで成る、請求項４記載の、皮膚および毛髪を保護するための化粧品組成物。
6. ２−（５，６−ジメトキシ−３，３−ジメチル−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル、
   ２−（５−メトキシ−３，３，４，６−テトラメチル−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル、
   ２−（３，３，５，６−テトラメチル−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル、
   ２−（３，３，６−トリメチル−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル、
   ２−（５，６−エチレンジオキソ−３，３−ジメチル−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル、
   ２−（５−メトキシ−３，３，６−トリメチル−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル、
   ２−［（５−メトキシ−３，３−ジメチル−（２−メチル−３−（１，３，３，３−テトラメチル−１−（トリメチル−シリルオキシ）−ジシロキサニル）−プロピル）−インダニリデン）］−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリルまたは
   ２−（６−アセトキシ−３，３−ジメチル−５−メトキシ−１−インダニリデン）−４，４−ジメチル−３−オキソ−ペンタノニトリル、
   を含んで成る、請求項４記載の、皮膚および毛髪を保護するための化粧品組成物。
7. 皮膚および／または毛髪をＵＶ光線から保護するための化粧品組成物中へのＵＶ吸収剤としての、請求項１〜３記載のインダニリデン化合物の使用。
8. メトキシケイ皮酸エステル誘導体型またはジベンゾイルメタン誘導体型のＵＶ吸収剤と組み合わせるＵＶ吸収剤としての、請求項１〜３記載のインダニリデン化合物の使用。
9. ジベンゾイルメタン誘導体およびメトキシケイ皮酸エステル型のＵＶ吸収剤の光安定化のための、請求項１〜３記載のインダニリデン化合物の使用。
10. 脂質相中および／または水相中の個々の物質としてまたは相互の混合物としての、１種以上のＵＶ−Ａ、ＵＶ−Ｂおよび／または広域フィルターと組み合わせるＵＶ吸収剤としての、請求項１〜３記載のインダニリデン化合物の使用。
11. メトキシケイ皮酸エステル誘導体を含んで成る型のＵＶ吸収剤のジベンゾイルメタン誘導体との組み合わせ物の光安定化のための、請求項１〜３記載のインダニリデン化合物の使用。
12. それらがまた、皮膚のための少なくとも１種の日焼け剤および／または人工的自己日焼け剤を含んで成ることを特徴とする、請求項４記載の化粧品組成物。
13. 本発明に従う式Ｉの化合物に加えて、１種以上の更なるＵＶ吸収剤を含んで成ることを特徴とする、請求項４記載の化粧品組成物。
14. 本発明に従う式Ｉの化合物に加えて、メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、アクリル酸２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニル、２−フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、メチルベンジリデンカンファー、４−ｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、フェニレン−ビス−ベンズイミダジル−テトラスルホン酸二ナトリウム塩、テレフタリリデン−ジボルナンスルホン酸およびその塩、フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（２−メチル−３（１，３，３，３−テトラメチル−１−（トリ−メチルシリル）−オキシ）−ジシロキシアニル）−プロピル）、マロン酸ポリシロキサンベンジリデン、２，２’−メチレン−ビス−（６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−１，１，３，３，−テトラメチルブチル）−フェノール）、２，４−ビス［｛（４−（２−エチル−ヘキシルオキシ−２−ヒドロキシ｝−フェニル］−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、４，４’，４−（１，３，５−トリアジン−２，４，６−トリイルトリイミノ）−トリス−安息香酸トリス（２−エチルヘキシルエステル）、４，４’−［（６−［４−（１，１−ジメチル）−アミノカルボニル）−フェニルアミノ］−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル）ジイミノ］−ビス−（安息香酸−２−エチルヘキシルエステル）、酸化亜鉛および二酸化チタン、を含んで成る群からの１種以上の他のＵＶ吸収剤を含有することを特徴とする、請求項４記載の化粧品物質。
15. 更なるＵＶ吸収剤および更に金属酸化物の被覆もしくは非被覆顔料またはナノ顔料を含んで成ることを特徴とする、請求項４記載の化粧品組成物。
16. それから臨界波長λ_ｃｒｔ．＞３８０ｎｍを有するＵＶ広域遮蔽能がもたらされるように、それらが更なるＵＶ吸収剤および更に微粉砕顔料を含んで成ることを特徴とする、請求項４記載の化粧品組成物。