JP2004500484A - 熱的機械的安定金属/多孔質基体複合膜の形成方法 - Google Patents
熱的機械的安定金属/多孔質基体複合膜の形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004500484A JP2004500484A JP2001553048A JP2001553048A JP2004500484A JP 2004500484 A JP2004500484 A JP 2004500484A JP 2001553048 A JP2001553048 A JP 2001553048A JP 2001553048 A JP2001553048 A JP 2001553048A JP 2004500484 A JP2004500484 A JP 2004500484A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- metal
- solution
- porous
- palladium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 107
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 63
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 63
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 56
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title description 7
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 70
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 22
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 13
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 7
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 5
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 claims description 3
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 claims description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims 9
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 claims 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 2
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 claims 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims 2
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 claims 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 24
- 239000012528 membrane Substances 0.000 abstract description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 41
- 239000010408 film Substances 0.000 description 27
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 18
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 15
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 13
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 5
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 4
- 238000001994 activation Methods 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 4
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 101150003085 Pdcl gene Proteins 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000005431 greenhouse gas Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000011031 large-scale manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000001471 micro-filtration Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
- B01D67/0039—Inorganic membrane manufacture
- B01D67/0069—Inorganic membrane manufacture by deposition from the liquid phase, e.g. electrochemical deposition
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D69/10—Supported membranes; Membrane supports
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/02—Inorganic material
- B01D71/022—Metals
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/02—Inorganic material
- B01D71/022—Metals
- B01D71/0223—Group 8, 9 or 10 metals
- B01D71/02231—Palladium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B3/00—Hydrogen; Gaseous mixtures containing hydrogen; Separation of hydrogen from mixtures containing it; Purification of hydrogen
- C01B3/50—Separation of hydrogen or hydrogen containing gases from gaseous mixtures, e.g. purification
- C01B3/501—Separation of hydrogen or hydrogen containing gases from gaseous mixtures, e.g. purification by diffusion
- C01B3/503—Separation of hydrogen or hydrogen containing gases from gaseous mixtures, e.g. purification by diffusion characterised by the membrane
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B3/00—Hydrogen; Gaseous mixtures containing hydrogen; Separation of hydrogen from mixtures containing it; Purification of hydrogen
- C01B3/50—Separation of hydrogen or hydrogen containing gases from gaseous mixtures, e.g. purification
- C01B3/501—Separation of hydrogen or hydrogen containing gases from gaseous mixtures, e.g. purification by diffusion
- C01B3/503—Separation of hydrogen or hydrogen containing gases from gaseous mixtures, e.g. purification by diffusion characterised by the membrane
- C01B3/505—Membranes containing palladium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/4505—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements characterised by the method of application
- C04B41/4535—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements characterised by the method of application applied as a solution, emulsion, dispersion or suspension
- C04B41/4541—Electroless plating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
- C04B41/51—Metallising, e.g. infiltration of sintered ceramic preforms with molten metal
- C04B41/5111—Ag, Au, Pd, Pt or Cu
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/85—Coating or impregnation with inorganic materials
- C04B41/88—Metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1603—Process or apparatus coating on selected surface areas
- C23C18/1614—Process or apparatus coating on selected surface areas plating on one side
- C23C18/1616—Process or apparatus coating on selected surface areas plating on one side interior or inner surface
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1633—Process of electroless plating
- C23C18/1635—Composition of the substrate
- C23C18/1644—Composition of the substrate porous substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1633—Process of electroless plating
- C23C18/1646—Characteristics of the product obtained
- C23C18/165—Multilayered product
- C23C18/1651—Two or more layers only obtained by electroless plating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/1803—Pretreatment of the material to be coated of metallic material surfaces or of a non-specific material surfaces
- C23C18/1824—Pretreatment of the material to be coated of metallic material surfaces or of a non-specific material surfaces by chemical pretreatment
- C23C18/1837—Multistep pretreatment
- C23C18/1844—Multistep pretreatment with use of organic or inorganic compounds other than metals, first
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/1851—Pretreatment of the material to be coated of surfaces of non-metallic or semiconducting in organic material
- C23C18/1872—Pretreatment of the material to be coated of surfaces of non-metallic or semiconducting in organic material by chemical pretreatment
- C23C18/1886—Multistep pretreatment
- C23C18/1893—Multistep pretreatment with use of organic or inorganic compounds other than metals, first
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/32—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/38—Coating with copper
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/42—Coating with noble metals
- C23C18/44—Coating with noble metals using reducing agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C6/00—Coating by casting molten material on the substrate
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2323/00—Details relating to membrane preparation
- B01D2323/08—Specific temperatures applied
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2323/00—Details relating to membrane preparation
- B01D2323/08—Specific temperatures applied
- B01D2323/081—Heating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
- C04B2111/00474—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00
- C04B2111/00793—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00 as filters or diaphragms
- C04B2111/00801—Membranes; Diaphragms
Abstract
Description
本発明は、米国エネルギ省主契約(Prime Contract)DE−AC26−98FT40413により支援されたもので、かつそれ自体米国政府が本発明における所定の権利を有している。
【0002】
【発明の属する技術分野】
本発明は、金属/セラミックス複合材料の膜(特に、製造規模で高めっき均一性を有するチューブ状膜)の形成方法に関するものである。
【0003】
【従来の技術】
基体に対するパラジウム(palladium)の無電解めっきの手順は、充分に開発されており、かつ基体が所定の順序で種々の溶液と接触する複数の段階を有している。現行の技術は、テフロン(登録商標)テープにより基体のエリア(メッキを望まないところ)が覆われている適切な基体をめっき浴溶液中に浸漬することに基づいている。この技術は、複合膜ディスク[Ilias et al, Separation Science and Technology, 32(1−4), pp 487−504, 1997]並びにチューブ状膜[Collines and Way, Ind. Eng. Chem. Res., 32 pp 3006−3013, 1993]を形成するために使用されてきた。ディスク膜の場合には、膜の一側及び円柱側方エリアが、ディスクの一側面でめっきを可能とするように、テフロン(登録商標)テープにより覆われている。チューブ状膜の場合には、チューブの外表面が、チューブの内側エリアでめっきを可能とするように、テープにより覆われている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
パラジウムの無電解めっきのための現行の技術は、手動でありかつ(通常、1mの長さまでである)市販の長いチューブ状基体に拡大することが難しいであろう。さらに、溶液中に基体を浸漬する従来技術により、このような長いチューブにめっきをすることは均一にならない傾向がある。この技術は、上記参照した刊行物にて記載されているように、小さな試料を形成する際に適しているだけである。しかしながら、実際的用途のための大規模な膜を形成するために、機械化しやすい技術が必要とされている。
【0005】
パラジウムの薄いフィルムにより、純水素(H2)がガス流れから通り抜けることが可能である。H2の分離と精製は、経済的及び政治的最前線において引き続きエネルギ問題及び環境問題となっているので、世界中の多大なR&D努力の焦点となっている。
【0006】
H2分離のために使用されるPdの薄いフィルムは、通常、チューブ状基体の内側に形成されている。Pdの薄いフィルムを析出させるための以前の方法は、無電解めっきを使用していた。このプロセスは理想的とは考えられてはおらず、かつ(12”以上の)長いチューブは達成することが難しかった。フィルム厚さの均質性を制御することができなかったので、長めのチューブにおいて、H2の純度が欠点となることは避けられないであろう。
【0007】
【課題を解決するための手段】
従って、本発明の一目的は、薄い金属層内で高均一な大規模製造を可能とする金属/セラミック複合膜の形成方法を提供することである。
【0008】
本発明のさらなる目的は、大規模に高均質水素製造を提供する金属/セラミック複合膜を使用して、水素を分離するための方法を提供することである。
【0009】
本発明のこれらの目的及び他の目的は、
めっきすべき金属の無電解めっき浴溶液を多孔質基体の第1面上に流すことと、
同時に、前記セラミック基体がガスから金属の溶液を分離するようにガスの圧力を前記第1面とは反対側の多孔質基体の第2面に付与することと、
を備えた金属めっきされたセラミック表面を形成するための方法の解明により達成された。
【0010】
【発明の実施の形態】
添付の図とともに考慮した場合に、以下の詳細説明の記載を参照することにより、本発明のより完全な評価と付随する本発明の多くの有利点ががよりよく理解されるので、該評価と該有利点が直ちに得られよう。
【0011】
本発明は、長いチューブの形態の多孔質基体(特に、セラミック基体)上に金属の薄く均一なフィルムを大規模に製造するための方法を提供する。本発明は、あらゆる形状の基体に金属フィルムのめっきを形成するために使用可能である。好ましくは、基体は筒状形態である。筒状体は、あらゆる種々の断面形状(正方形、矩形、円形、三角形、種々の多角形、及び不規則形状を含むがこれらに限らない)を有することが可能である。最も好ましくは、筒状体は長い円筒形態である。多孔質基体は、好ましくは、5nm〜200nmの孔サイズ、より好ましくは金属フィルムと接触する基体の外側層に対して20nm〜100nmの孔サイズを有している。基体は、処理温度に耐えかつ最終製品の温度を使用するために、充分な熱的物理的安定性を有するあらゆる多孔質材料とすることが可能である。好ましくは、基体は多孔質セラミック又は多孔質金属基体である。適切なセラミック基体は、ジルコニア、アルミナ、及びシリカを含んでいる。適切な多孔質金属基体は、燒結ステンレススチール(sintered stainless steel)及び燒結Ni(sintered Ni)を含んでいる。さらに、基体の多孔質特性は、(フィルムを固着させる際に重要である)薄い金属フィルムと接触している面における孔のサイズとともに、基体の厚さにより変化する可能性がある。基体は、単一基体とすることができ、又はセラミック1−セラミック2−...−セラミック3−金属フィルム;金属−セラミック−金属フィルム、及び多くの他の並べ替えといった異なる基体からなる多層とすることができる。
【0012】
本発明の好適な実施形態は、長いチューブ形態の薄い均一なフィルムを製造することの問題点を解決している。本発明の膜は、熱的機械的に丈夫であり、かつ優れたH2(水素ガス)流動率(flux rate)(フィルムの単位面積当たり単位時間当たりに浸透するH2の体積)を示すように試験されてきた。本方法は、基体の一側で生じるめっきを制御するために、基体の他側におけるガス圧力の使用に依存している。多孔質基体では、通常の無電解めっきプロセスを使用することにより、めっき浴溶液が基体を通り抜けることになり、金属が種々の厚さ及び濃度で通過して析出するであろう。しかしながら、本発明では、無電解めっき浴溶液が浸透する深さを制御するために、ガス圧力がめっきされる表面とは反対の基体の側に付与される。例えば、基体がチューブである場合に、めっきする前に、(Pdといった)金属がチューブを介して連続的に流れる溶液中にある。この流れは、生成する金属フィルムの均一性を確実にするように作用する。
【0013】
本発明のこの好適な実施形態では、多孔質チューブ状基体を介してめっき浴溶液を循環させるようにプロセス中の流れが使用されている。プロセスは、図1に概略的に示されている。多孔質セラミック基体は、チューブ状基体のシェル側で所定のガス圧力を維持可能である一方で、チューブ状基体の内側でめっき溶液が流れる環状シェル内に収容された。適切なガス圧力は、気相及び液相の双方がそれぞれ他側へ貫流することを防止するために必須である。多孔質基体の断面内でのめっき溶液の浸透の深さ(これはめっきの機械的安定性に影響を及ぼす可能性がある)を変化させるために、ガス圧力を変化させることも可能である。パラジウムがアルミナ及びジルコニア基体上にめっきされた実験で確認されたように、めっき溶液の連続的循環により、めっきの均一性が確実になっている。めっきは均一であるので、流動技術により形成された複合膜は、通常の浸漬技術により形成された複合膜と比較してより薄くすることができる一方で、めっきの欠陥のない完全性をなお具備している。この技術は、パラジウム又は他の金属を種々の基体上にめっきするために使用することができる。
【0014】
本発明のプロセスでは、使用されるガスがあらゆる不活性ガス(めっき溶液、めっきされる金属、及び多孔質基体に対して不活性であるガス)とすることができる。好ましくは、ガスは窒素又はアルゴンであり、窒素はパラジウムのめっきの際に最も好ましい。ガス圧力は、上記注意したように、多孔質基体内でのめっき溶液の浸透深さを制御するために変化されよう。さらに、圧力は多孔質基体の孔サイズに依存して変化し、孔サイズが大きくなればなるほど、めっき金属による浸透の高さを同様にするために、より高いガス圧力が必要となる。5nm〜200nmの範囲の孔サイズに対して、チューブ状基体をめっきする際のガス圧力は、好ましくは1psig〜5psigである。
【0015】
選択的実施形態では、めっき溶液は筒状セラミック基体の外表面を貫通し、かつ基体の内部空孔が不活性ガスにより加圧される。これにより、セラミック基体の外部金属めっきが提供される。
【0016】
無電解めっきによりめっき可能であるあらゆる金属が、本発明の方法では使用可能である。本方法でめっきするために適した金属は、選択された基体にめっき可能であるあらゆる遷移金属を含んでおり、好ましくは、パラジウム、白金、金、銀、ニッケル、又は銅、より好ましくはパラジウムである。
【0017】
さらに、上記注意した金属からなる2つ又は3つ以上の金属の層、及び異なる金属からなる多層が、本発明に含まれている。一例として、基体をパラジウムでめっきし、続いて銀の第2層によりめっきし、さらに続いてパラジウムの単層によりめっきすることが可能である。いったん多層が形成されたならば、コーティングされた基体は、好ましくは、多層の金属が層から層へと移動しかつ合金化層を形成することを引き起こすために充分な温度に加熱することを含む合金化段階が施される。このような構成では、なおさら揮発性金属(volatile metal)が好ましくは外側層よりも中間の層(又は各層)に限定されている。好適な実施形態では、基体が、パラジウムによりコーティングされ、続いて銀により、さらに、パラジウムの追加層によりコーティングされる。このように形成された3重にコーティングされた基体は、パラジウムと銀が合金を形成可能とするように、1時間〜100時間の間、500℃〜600℃の温度に作用される。結果として生じる合金化金属層は、膜特性においてよりいっそうの改良を提供することが可能である。このように合金化された金属層は所望の範囲の金属組成物を有することが可能であり、主要成分が重量で合金化組成物の20%〜95%である。
【0018】
めっき溶液の流動速度は、0.5cm/sec〜5.0cm/secであり、好ましくは1cm/sec〜3cm/sec、最も好ましくは2cm/secである。めっき溶液は、一定の混合が維持可能である(すなわち、過剰な沈殿(excessive settling)又は分離が生じない)限り、あらゆる所望の濃度にすることが可能である。無電解めっきで通常使用される金属又は金属塩の濃度を使用して、通常の無電解めっき溶液が使用される。好ましくは、Pdをめっきするために好適な実施形態では、めっき溶液は溶液1リットル当たり5gのPdClの濃度を有している。めっき溶液は、さらに還元剤を含んでいる。理想的には、溶液は水中とすることができるが、金属をセラミック基体表面に運ぶことが可能なあらゆる溶媒を許容することができる。無電極めっきで使用される金属は、通常、塩の形態であり、これは従来技術で一般に知られている。例えば、Pdがめっきされる金属である場合には、めっき溶液浴は、Pd(NH3)2−EDTA錯体を有し、該錯体には、基体上にめっきされた金属をPd0に還元することを開始するために還元剤が加えられている。
【0019】
無電解めっき反応は、所望の温度で、好ましくは、20℃〜60℃の温度で行うことができる。
【0020】
めっきされる側と反対のチューブの側に付与されるガスは、チューブの対向する両側で気相と液相の分離を維持するのに充分な圧力でなければならない。ガスは、基体、めっき溶液、及びめっきされる金属に関して、不活性であるべきである。好ましくは、ガスは窒素又はアルゴンである。
【0021】
通常のPdチューブでは、チューブは扱うことが可能なように少なくとも100milの厚さを有することが必要とされている。しかしながら、本発明では、高価でないセラミック又は多孔質金属基体を使用することが可能であり、該基体上に(Pdといった)金属の薄いフィルムが形成されている。セラミック又は多孔質金属基体を使用することは、必要とされるPdの量が少ないので、非常に低減されたコストで、構造的完全性を提供している。好適な実施形態のPdフィルムの好適な厚さは、1〜2μである。このPdの薄い層は、さらに、通常の全てのPdチューブと比較して、ガス流動率において著しく増大している。
【0022】
本発明は、多孔質基体上に析出した(Pdといった)金属の薄く均一な膜を提供している。これにより、純H2のより高い流動率(膜を通るH2の透過率)が可能となっている。H2のより高い流動率により、H2の分離と精製に対する既存の技術を上回るコストの削減と性能の向上の双方が提供されている。
【 0023】
現在、燃料電池と燃料処理装置(fuel processor)により注意が向けられていることにより、本発明がこのように重要になっている。米国経済は、主として環境の理由のために、内燃機関(ICE)駆動技術から燃料電池技術に徐々に移行して行くと予想されている。燃料電池車両は、ガソリンといった通常の燃料のための処理装置を使用して、圧縮ガスとして供給されるか又は「車上(on−board)」形成されたH2の多量供給を必要としよう。温室効果ガス排出(主としてCO2が重要である)の点で、前記両方法はICEに対して遙かに優位である。
【0024】
多くの多孔性基体は、熱的機械的に安定なパラジウムめっきフィルムを製造するために、所定の各基体の適合が示される実験的作業で評価された。
【0025】
これまで本発明を概略記載してきたが、ある特定の実施例を参照することにより更なる理解を得ることが可能である。該実施例は単に説明の目的でここに提供したものであって、制限することあるいは特定することを意図したものではない。
【0026】
<実施例>
上述したプロセスを使用して、パラジウムがセラミックチューブの内部表面にめっきされた。基体は、U.S. Filter Corporationから入手した外径(OD)10mm、長さ250mmのα−アルミナチューブであった。チューブは精密濾過“Membralox”要素として市販されている。これらの要素は、通常、非対称構造を有しており、粗α−アルミナによる外側チューブと、チューブ状要素の孔サイズの等級(rating)に依存する内側表面の1つ又は2つ以上の細かな孔サイズ層とを有している。5nm,20nm,50nm,100nm,及び200nmを有する異なる孔サイズの等級の各チューブ状要素に、めっきが付与された。20nmの孔サイズの要素と50nmの孔サイズの要素はジルコニアの最内層を含み、5nmの孔サイズの要素はγ−アルミナの最内層を含んでいる。ところが、100nm要素と200nm要素はα−アルミナの最内層を含んでいる。よって、実質的に、このプロセスは、基体として3つの異なるセラミック材料で例示されたものである。
【0027】
3つの段階(すなわち、基体の洗浄、基体表面の増感(sensitization)と活性化、及び無電極パラジウムめっき)からなるパラジウムめっきに対して、文献で報告された如き標準的な無電解めっきプロセスが使用された。各基体は、先ず15分間基体チューブを介して0.1Nの水酸化ナトリウム(sodium hydroxide)を循環させ、次いで、15分間チューブを介して0.1Nの塩酸溶液を循環させ、次いで、15分間チューブを介して脱イオン水を循環させることにより洗浄された。各構成要素(component)に対して各溶液の約250mLが使用され、かつ循環速度は概略50ml/minであった。次いで、基体が、0.2Nの塩酸中で塩化スズ溶液(solution of tin chloride)を1g/l使用して増感され、かつ0.2Nの塩酸中で塩化パラジウム溶液(sokution of palladium chloride)を0.09g/l使用して活性化された。増感及び活性化プロセスのために、増感溶液が、先ず5分間基体チューブを介して循環され、続いて5分間活性化溶液が循環され、続いて1分間脱イオン水が循環された。増感/活性化プロセスは、4回繰り返された。次いで、基体が120℃のオーブン内で2時間乾燥されかつ加圧された。
【0028】
アルミナ基体上へのパラジウムめっきのために、文献で報告された標準的な無電解めっき浴成分が使用され、かつ該成分は塩化パラジウム(palladium chloride)5.4g/l、5Nの水酸化アンモニウム溶液(ammonium hydroxide solution)390ml/l、エチレンジアミン四酢酸(ethylene diamine tetraacetic acid)40g/l、及び1Mのヒドラジン溶液(hydrazine solution)10ml/lから成っている。約185mlの浴成分が単一チューブ状要素に対するパラジウムの単一めっきのために用意された。ヒドラジンを除いて、全ての成分が先ず互いに混合された。前記ヒドラジンはめっき溶液の循環を開始する直前に加えられた。めっき浴溶液は、概略50cc/minの速度で循環された。チューブ内溶液の対応する速度は、約2cm/secであった。循環は周囲温度22℃で1.5時間継続された。次いで、基体が、循環している脱イオン水により10分間洗浄され、120℃のオーブン内で2時間乾燥され、かつ加圧された。無電解めっきプロセスは、所望のパラジウムフィルム厚さを得るために、所望するだけ何回も繰り返すことが可能である。基体の外側表面で使用されるガスは、1psig〜5psigの範囲の圧力の窒素であった。より小さい孔サイズの基体に対してはより低い圧力が使用され、より大きな孔サイズの基体に対してはより高い圧力が使用される。
【0029】
全ての基体上で、均一なパラジウムの析出が観察された。上述したような1.5時間のパラジウムによる単一めっき操作により、概略0.5ミクロンの厚さのパラジウムフィルムが与えられた。走査電子顕微鏡により確認したところ、フィルムは固く、連続しており、ピンホールがないように観察された。
【0030】
本発明のプロセスは、さらに、同様の基体上に銀フィルムを析出させるために使用された。
【0031】
明らかに、本発明の追加の変更及び変形は、上記教示に照らして可能である。従って、特許請求の範囲内で、本発明が本明細書に特に記載したものとは異なって実施されてもよいことは理解すべきである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のプロセスの概略図である。
Claims (22)
- 多孔質基体の第1面上にめっきされる金属の溶液を流する段階と、
同時に、前記多孔質基体がガスから前記金属の溶液を分離するように、前記第1面とは反対の前記多孔質基体の第2面にガスの圧力を付与する段階と、
を含むことを特徴とする金属めっきされた多孔質基体を製造するための方法 - 前記多孔質基体は、セラミックス及び多孔質金属を含む群から選択された材料からなることを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記多孔質基体はセラミック基体であることを特徴とする請求項2記載の方法。
- 前記多孔質基体は多孔質金属基体であることを特徴とする請求項2記載の方法。
- 前記多孔質基体は内側表面と外側表面を有する筒状基体であることを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記内側表面は前記第1面であり、かつ前記外側表面は前記第2面であることを特徴とする請求項5記載の方法。
- 前記外側表面は前記第1面であり、前記内側表面は前記第2面であることを特徴とする請求項5記載の方法。
- 前記セラミック基体が、ジルコニア、アルミナ、及びシリカを含む群から選択されたセラミック材料からなることを特徴とする請求項3記載の方法。
- 前記セラミック基体はジルコニア基体であることを特徴とする請求項8記載の方法。
- 前記セラミック基体はアルミナ基体であることを特徴とする請求項8記載の方法。
- 前記多孔質金属基体が、燒結ステンレススチールと燒結Niを含む群から選択された多孔質金属からなることを特徴とする請求項4記載の方法。
- 前記金属は、パラジウム、白金、金、銀、ニッケル、及び銅を含む群から選択された材料であることを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記金属はパラジウム又は銀であることを特徴とする請求項12記載の方法。
- 前記金属はパラジウムであることを特徴とする請求項12記載の方法。
- 前記金属はパラジウムであり、前記基体はジルコニアであることを特徴とする請求項6記載の方法。
- 前記金属はパラジウムであり、前記基体はアルミナであることを特徴とする請求項6記載の方法。
- 前記溶液を流す段階の前に、プロセスが、
前記基体を洗浄する段階と;
前記基体を増感しかつ活性化する段階と;
をさらに備えることを特徴とする請求項1記載の方法。 - 前記洗浄する段階は、前記基体上に水酸化ナトリウム溶液を循環させ、次いで前記基体上に塩酸溶液を循環させ、次いで前記基体上に脱イオン水を循環させることにより行われることを特徴とする請求項17記載の方法。
- 前記増感しかつ活性化する段階は、前記基体上に酸性塩化スズ溶液を循環させ、次いで前記基体上にめっきされる金属の塩の酸性溶液を循環させ、次いで前記基体上に脱イオン水を循環させることにより行われることを特徴とする請求項17記載の方法。
- めっきされる前記金属の溶液は、塩化パラジウム、水酸化アンモニウム、エチレンジアミン四酢酸、及びヒドラジンの水溶液を含むことを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記基体上に1つ又は2つ以上の金属の追加層を付与するために前記方法を繰り返す段階をさらに備え、前記1つ又は2つ以上の追加層は前記溶液に含まれた金属と同様であるか、又は前記溶液に含まれたものとは異なる金属とすることができることを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記1つ又は2つ以上の金属の追加層が前記基体に付与された後に、全ての金属層が合金化層を形成可能とする段階をさらに備えることを特徴とする請求項21記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US17728100P | 2000-01-21 | 2000-01-21 | |
PCT/US2001/000647 WO2001053005A1 (en) | 2000-01-21 | 2001-01-22 | Method for preparation of thermally and mechanically stable metal/porous substrate composite membranes |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004500484A true JP2004500484A (ja) | 2004-01-08 |
JP4559009B2 JP4559009B2 (ja) | 2010-10-06 |
Family
ID=22647969
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001553048A Expired - Fee Related JP4559009B2 (ja) | 2000-01-21 | 2001-01-22 | 熱的機械的安定金属/多孔質基体複合膜の形成方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6761929B2 (ja) |
EP (1) | EP1251970B1 (ja) |
JP (1) | JP4559009B2 (ja) |
AT (1) | ATE350175T1 (ja) |
AU (1) | AU2001230874A1 (ja) |
DE (1) | DE60125717T2 (ja) |
WO (1) | WO2001053005A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015504362A (ja) * | 2011-11-16 | 2015-02-12 | シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー | 漏れ安定性ガス分離膜システムを作製または再調整する方法 |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8101243B2 (en) | 2002-04-03 | 2012-01-24 | Colorado School Of Mines | Method of making sulfur-resistant composite metal membranes |
WO2003084628A2 (en) | 2002-04-03 | 2003-10-16 | Colorado School Of Mines | Process for preparing palladium alloy composite membranes for use in hydrogen separation, palladium alloy composite membranes and products incorporating or made from the membranes |
FR2850588B1 (fr) * | 2003-01-31 | 2007-08-03 | Inst Francais Du Petrole | Membrane inorganique poreuse contenant du carbone, son procede de preparation et son utilisation |
US20060201342A1 (en) * | 2005-03-01 | 2006-09-14 | Paganessi Joseph E | Use of porous metal membrane for treating liquid foods |
GB0515276D0 (en) * | 2005-07-26 | 2005-08-31 | Accentus Plc | Catalyst |
US7531215B2 (en) * | 2005-11-15 | 2009-05-12 | Praxair Technology, Inc. | Hydrogen transport membrane fabrication method |
WO2008027646A2 (en) * | 2006-06-23 | 2008-03-06 | Colorado School Of Mines | Sulfur-resistant composite metal membranes |
US7700184B2 (en) * | 2006-08-14 | 2010-04-20 | University Of Houston System | Pd nanopore and palladium encapsulated membranes |
CN101534929B (zh) * | 2006-11-06 | 2014-02-19 | 日本碍子株式会社 | 分离膜-多孔材料复合物及用于制造所述复合物的方法 |
US9044715B2 (en) * | 2007-08-22 | 2015-06-02 | Colorado School Of Mines | Unsupported palladium alloy membranes and methods of making same |
CN101687214B (zh) * | 2008-03-24 | 2014-04-16 | 日本碍子株式会社 | 涂敷膜形成方法以及涂敷膜形成装置 |
GB0903642D0 (en) * | 2009-02-27 | 2009-09-30 | Bae Systems Plc | Electroless metal deposition for micron scale structures |
US8778058B2 (en) | 2010-07-16 | 2014-07-15 | Colorado School Of Mines | Multilayer sulfur-resistant composite metal membranes and methods of making and repairing the same |
BR112013014687B1 (pt) | 2010-12-16 | 2019-02-05 | Energia Technologies, Inc. | método de desoxigenação de hidrocarbonetos oxigenados |
US9315736B2 (en) | 2010-12-16 | 2016-04-19 | Energia Technologies, Inc. | Methods of fuel production |
EP2659027A2 (en) * | 2010-12-27 | 2013-11-06 | Council of Scientific & Industrial Research | An electroless plating process |
US9084970B2 (en) | 2012-07-05 | 2015-07-21 | Praxair Technology, Inc. | Method of making a hydrogen transport membrane, and article |
KR102218855B1 (ko) * | 2017-07-12 | 2021-02-23 | 주식회사 엘지화학 | 다공성 기재의 표면 코팅 장치 및 방법 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04221079A (ja) * | 1990-12-20 | 1992-08-11 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 多孔質ステンレス鋼のめっき方法 |
JPH05222576A (ja) * | 1992-02-10 | 1993-08-31 | Tsubakimoto Chain Co | 金属表面処理方法 |
JPH0929079A (ja) * | 1995-07-17 | 1997-02-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 水素分離膜の製造方法 |
JPH10113544A (ja) * | 1996-07-08 | 1998-05-06 | Ngk Insulators Ltd | ガス分離体 |
JPH11286785A (ja) * | 1998-03-31 | 1999-10-19 | Tokyo Gas Co Ltd | 水素透過膜及びその作製方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4496437A (en) * | 1983-06-22 | 1985-01-29 | The Dow Chemical Company | Method for producing a dual porosity body |
US4568442A (en) * | 1985-02-01 | 1986-02-04 | The Dow Chemical Company | Gas diffusion composite electrode having polymeric binder coated carbon layer |
JP3213430B2 (ja) * | 1993-03-31 | 2001-10-02 | 日本碍子株式会社 | ガス分離体及びその製造方法 |
US5451386A (en) | 1993-05-19 | 1995-09-19 | The State Of Oregon Acting By And Through The State Board Of Higher Education On Behalf Of Osu | Hydrogen-selective membrane |
-
2001
- 2001-01-22 JP JP2001553048A patent/JP4559009B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-01-22 WO PCT/US2001/000647 patent/WO2001053005A1/en active IP Right Grant
- 2001-01-22 AT AT01902998T patent/ATE350175T1/de not_active IP Right Cessation
- 2001-01-22 US US10/181,773 patent/US6761929B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-01-22 DE DE60125717T patent/DE60125717T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-01-22 AU AU2001230874A patent/AU2001230874A1/en not_active Abandoned
- 2001-01-22 EP EP01902998A patent/EP1251970B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04221079A (ja) * | 1990-12-20 | 1992-08-11 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 多孔質ステンレス鋼のめっき方法 |
JPH05222576A (ja) * | 1992-02-10 | 1993-08-31 | Tsubakimoto Chain Co | 金属表面処理方法 |
JPH0929079A (ja) * | 1995-07-17 | 1997-02-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 水素分離膜の製造方法 |
JPH10113544A (ja) * | 1996-07-08 | 1998-05-06 | Ngk Insulators Ltd | ガス分離体 |
JPH11286785A (ja) * | 1998-03-31 | 1999-10-19 | Tokyo Gas Co Ltd | 水素透過膜及びその作製方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015504362A (ja) * | 2011-11-16 | 2015-02-12 | シエル・インターナシヨナル・リサーチ・マートスハツペイ・ベー・ヴエー | 漏れ安定性ガス分離膜システムを作製または再調整する方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2001053005A1 (en) | 2001-07-26 |
US20030003233A1 (en) | 2003-01-02 |
EP1251970A1 (en) | 2002-10-30 |
AU2001230874A1 (en) | 2001-07-31 |
JP4559009B2 (ja) | 2010-10-06 |
DE60125717D1 (de) | 2007-02-15 |
ATE350175T1 (de) | 2007-01-15 |
DE60125717T2 (de) | 2007-10-25 |
EP1251970A4 (en) | 2006-06-07 |
EP1251970B1 (en) | 2007-01-03 |
US6761929B2 (en) | 2004-07-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4559009B2 (ja) | 熱的機械的安定金属/多孔質基体複合膜の形成方法 | |
Lun Yeung et al. | Novel preparation techniques for thin metal‐ceramic composite membranes | |
Nam et al. | Preparation of a palladium alloy composite membrane supported in a porous stainless steel by vacuum electrodeposition | |
TWI424871B (zh) | 包含具有經塗佈之無機氧化物顆粒層之基板及氣體選擇性材料外罩之氣體分離薄膜及其製造方法與用途 | |
US8366805B2 (en) | Composite structures with porous anodic oxide layers and methods of fabrication | |
JP4250525B2 (ja) | 分離拡散金属膜とその製造方法 | |
US7727596B2 (en) | Method for fabricating a composite gas separation module | |
Pan et al. | Thin dense Pd membranes supported on α-Al 2 O 3 hollow fibers | |
Itoh et al. | Deposition of palladium inside straight mesopores of anodic alumina tube and its hydrogen permeability | |
Huang et al. | Preparation of hydrogen-permselective palladium–silver alloy composite membranes by electroless co-deposition | |
US8778058B2 (en) | Multilayer sulfur-resistant composite metal membranes and methods of making and repairing the same | |
JP5464422B2 (ja) | 水素分離用フィルム状自立金属薄膜およびその製造方法 | |
JP2007301514A (ja) | 水素分離材及びその製造方法 | |
CN107376661B (zh) | 一种钯基复合膜的制备方法 | |
US9149762B2 (en) | Defectless hydrogen separation membrane, production method for defectless hydrogen separation membrane and hydrogen separation method | |
JP4893992B2 (ja) | 水素分離複合体及びその製造方法 | |
JP4759664B2 (ja) | 水素分離膜及び水素分離方法 | |
JP4112856B2 (ja) | ガス分離体の製造方法 | |
JP2002355537A (ja) | 水素透過膜及びその製造方法 | |
JPH05137979A (ja) | 水素分離膜の製造方法 | |
JP2004122006A (ja) | 水素分離膜、その製造方法及び水素の分離方法 | |
Yogo et al. | Pore-fill-type Palladium–Porous Alumina Composite Membrane for Hydrogen Separation | |
Han | Multiple Layer Caoting and Diffusion Treatment Technique for Fabrication of Pd-Ag Alloy Membranes | |
JP2000317282A (ja) | 水素分離体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080109 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100611 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100622 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100722 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130730 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |