JP2004352567A - 断熱・遮熱性ガラスパネル - Google Patents
断熱・遮熱性ガラスパネル Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004352567A JP2004352567A JP2003152864A JP2003152864A JP2004352567A JP 2004352567 A JP2004352567 A JP 2004352567A JP 2003152864 A JP2003152864 A JP 2003152864A JP 2003152864 A JP2003152864 A JP 2003152864A JP 2004352567 A JP2004352567 A JP 2004352567A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- heat
- insulating
- glass panel
- panel according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C27/00—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
- C03C27/06—Joining glass to glass by processes other than fusing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3618—Coatings of type glass/inorganic compound/other inorganic layers, at least one layer being metallic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3652—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the coating stack containing at least one sacrificial layer to protect the metal from oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C27/00—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
- C03C27/06—Joining glass to glass by processes other than fusing
- C03C27/10—Joining glass to glass by processes other than fusing with the aid of adhesive specially adapted for that purpose
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/78—Coatings specially designed to be durable, e.g. scratch-resistant
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E06—DOORS, WINDOWS, SHUTTERS, OR ROLLER BLINDS IN GENERAL; LADDERS
- E06B—FIXED OR MOVABLE CLOSURES FOR OPENINGS IN BUILDINGS, VEHICLES, FENCES OR LIKE ENCLOSURES IN GENERAL, e.g. DOORS, WINDOWS, BLINDS, GATES
- E06B3/00—Window sashes, door leaves, or like elements for closing wall or like openings; Layout of fixed or moving closures, e.g. windows in wall or like openings; Features of rigidly-mounted outer frames relating to the mounting of wing frames
- E06B3/66—Units comprising two or more parallel glass or like panes permanently secured together
- E06B3/663—Elements for spacing panes
- E06B3/66304—Discrete spacing elements, e.g. for evacuated glazing units
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
【課題】製造中に熱処理が施されても遮熱性を維持することができる断熱・遮熱性ガラスパネルを提供する。
【解決手段】断熱・遮熱性ガラスパネル1は、その外周縁部において低温で流動化するシール枠13を介して互いにその一方の面で向かい合うように気密的に接合されて、その間に中空層14を形成する一対の板ガラス11及び12と、中空層14内に大気圧支持部材として挿入されて板ガラス11と板ガラス12の間隔を決定するほぼ円柱状のスペーサとしてのピラー15とから成る。板ガラス11,12の面11a,12aには、高い断熱性能を得るためにスパッタリング法により放射率0.1以下の低放射率透明積層体17が被覆されている。低放射率透明積層体17は、アモルファス層としてのSiNx層34によって膜厚方向に分割された誘電体層としてのZnO層33,35と、Ag及びPdを含む金属層としてのAg−Pd層32とを備える。
【選択図】 図3
【解決手段】断熱・遮熱性ガラスパネル1は、その外周縁部において低温で流動化するシール枠13を介して互いにその一方の面で向かい合うように気密的に接合されて、その間に中空層14を形成する一対の板ガラス11及び12と、中空層14内に大気圧支持部材として挿入されて板ガラス11と板ガラス12の間隔を決定するほぼ円柱状のスペーサとしてのピラー15とから成る。板ガラス11,12の面11a,12aには、高い断熱性能を得るためにスパッタリング法により放射率0.1以下の低放射率透明積層体17が被覆されている。低放射率透明積層体17は、アモルファス層としてのSiNx層34によって膜厚方向に分割された誘電体層としてのZnO層33,35と、Ag及びPdを含む金属層としてのAg−Pd層32とを備える。
【選択図】 図3
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、建物の窓ガラス用等に用いられ、最適な断熱性及び遮熱性を備えた断熱・遮熱性ガラスパネルに関する。
【0002】
【従来の技術】
最近、遮熱性能のみでなく断熱性能をも併せ持つガラスパネルが開発されている。例えば、着色熱線吸収ガラスと、このガラスとの間に中空層を形成すべくスペーサを介して対向して配設されたガラスクリア系ガラスと、着色熱線吸収ガラスの内側ガラス面に形成された低放射率透明積層体とを備え、着色熱線吸収ガラスが室外側に、クリア系ガラスが室内側に配されたガラスパネルが使用されている(例えば、特許文献1)。
【0003】
さらに、室外側に配した着色熱線吸収ガラスの中空層側ガラス面に形成された低放射率透明積層体として、日射遮熱性、高断熱性の機構を発揮するものが開示されている(例えば、特許文献2〜4)。
【0004】
この低放射率透明積層体は、透明基板の上に誘電体層と金属層を合計(2n+1)層積層して構成され、更に最上層に保護層が形成されたものである。そして、この誘電体層としてはZnOが成膜スピードにおいて優れ、また、金属層としてはAgが熱線反射機能において優れることも知られている。
【0005】
更に、保護層としては、SiNx、TiO2、或いはSiAlOxNy(サイアロン)等が知られている。
【0006】
上述した低放射率透明積層体にあっては、金属層が空気中の水分、酸素、塩素等によりマイグレーションを起こして腐食する問題があった。そこで、本出願人は先に、上記空気中の水分等は金属層の上層の金属酸化物層(誘電体層)を透過して金属層まで到達するという知見を得、これに基づき、金属酸化物層を構成する結晶粒子の平均結晶子サイズを20nm以下とすることで金属酸化物層の緻密化が図れ、上記腐食を防止して積層体の耐久性が向上する提案を行っている(例えば、特許文献5)。
【0007】
更に、本出願人は先に、誘電体層がアモルファス層によって分割され、金属層(Ag)の耐久性が向上した低放射率透明積層体を提案している(例えば、特許文献6)。
【0008】
【特許文献1】
特許第2882728号公報
【特許文献2】
特開昭63−30212号公報
【特許文献3】
特開昭63−134232号公報
【特許文献4】
特開昭63−239044号公報
【特許文献5】
特開平9−71441号公報
【特許文献6】
特開2002−173343号公報
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した低放射率透明積層体を中空層側ガラス面に形成する場合、当該ガラスパネルの製造における熱処理によって当該低放射率透明積層体が蒸し焼き状態となり、当該低放射率透明積層体における金属層(Ag)がマイグレーションを起こして腐食し、もって遮熱性が低下するという問題があった。
【0010】
本発明の目的は、製造中に熱処理が施されても遮熱性を維持することができる断熱・遮熱性ガラスパネルを提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するために、請求項1記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、間に中空層を形成すべくピラーを介して所定の間隔を隔てて配設された一対の板ガラスと、前記一対の板ガラスの周縁部において前記中空層を気密に密閉する外周密閉部とから成る断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記中空層に接する板ガラス面に、誘電体層と金属層とを積層した低放射率透明積層体が形成され、前記誘電体層がアモルファス層によって膜厚方向に分割され、前記金属層がAg及びPdを含むことを特徴とする。
【0012】
請求項1記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、誘電体層がアモルファス層によって膜厚方向に分割され、金属層がAg及びPdを含むので、金属層の耐久性を向上させることができ、もって製造において熱処理が施されても、遮熱性を維持することができる。
【0013】
請求項2記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記低放射率透明積層体は、前記中空層及び前記外周密閉部と接する最上層においてSiO2層を有することを特徴とする。
【0014】
請求項2記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、低放射率透明積層体が中空層及び外周密閉部と接する最上層においてSiO2層を有するので、低放射率透明積層体上に外周密閉部を塗布する際に生じる発泡を抑制することができると共に、外周密閉部が中空層側に侵入する度合いを制御することができる。
【0015】
請求項3記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1又は2記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記低放射率透明積層体は前記中空層に接する板ガラス面と接する最下層においてSiO2層を有することを特徴とする。
【0016】
請求項3記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、低放射率透明積層体は中空層に接する板ガラス面と接する最下層においてSiO2層を有するので、低放射率透明積層体と板ガラス面との接着性を向上することができ、もって低放射率透明積層体の板ガラス面からの剥離を防止することができる。
【0017】
請求項4記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記アモルファス層によって分割される誘電体層は、Zn,Sn,Ti,In,Biから成る群から選ばれた少なくとも1種の金属を含む酸化物層であることを特徴とする。
【0018】
請求項5記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項4記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記アモルファス層によって分割される誘電体層は酸化亜鉛を主成分とする層であることを特徴とする。
【0019】
請求項5記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、誘電体層が酸化亜鉛を主成分とする層であるので、外部から低放射率透明積層体への水分やガスの侵入を防ぐことができ、もって低放射率透明積層体の耐久性を向上させることができる。
【0020】
請求項6記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記アモルファス層によって分割される誘電体層のうち少なくとも1層が、前記板ガラスから最も近い金属層を基準として、前記板ガラスとは反対側に位置することを特徴とする。
【0021】
請求項6記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、誘電体層のうち少なくとも1層が、板ガラスから最も近い金属層を基準として、板ガラスとは反対側に位置するので、外部からの水分やガスの侵入を防ぐことができ、もって低放射率透明積層体の耐久性を向上させることができる。
【0022】
請求項7記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記金属層は1層とされ、前記アモルファス層によって分割される誘電体層は当該金属層を基準として、前記板ガラスと反対側に位置することを特徴とする。
【0023】
請求項8記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記金属層は2層以上設けられ、前記アモルファス層によって分割される誘電体層のうち少なくとも1層は、前記板ガラスから最も遠い金属層を基準として、前記板ガラス側に位置することを特徴とする。
【0024】
請求項9記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1乃至8のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記アモルファス層は窒化物層、酸窒化物層、アモルファス酸化物層から成る群から選ばれた少なくとも1層から成ることを特徴とする。
【0025】
請求項10記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項9記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記窒化物層は、Si,Al,Ti,Snから成る群から選ばれた少なくとも1種の金属を含む窒化物から成ることを特徴とする。
【0026】
請求項11記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項9記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記酸窒化物層は、Si,Al,Ti,Snから成る群から選ばれた少なくとも1種の金属を含む酸窒化物から成ることを特徴とする。
【0027】
請求項12記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項9記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記アモルファス酸化物層が、Si,Al,Ti,Snから成る群から選ばれた少なくとも1種の金属を含むアモルファス酸化物から成ることを特徴とする。
【0028】
請求項13記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1乃至12のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記低放射率透明積層体の最外層は、Si,Al,Ti,Snから成る群から選ばれた少なくとも1種の金属を含む窒化物、酸窒化物、又はアモルファス酸化物から成る保護層とされていることを特徴とする。
【0029】
請求項13記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、低放射率透明積層体の最外層は、Si,Al,Ti,Snから成る群から選ばれた少なくとも1種の金属を含む窒化物、酸窒化物、又はアモルファス酸化物から成る保護層とされているので、低放射率透明積層体の耐久性をさらに向上させることができる。
【0030】
請求項14記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1乃至13のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記アモルファス層の膜厚は3nm以上30nm以下であることを特徴とする。
【0031】
請求項15記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項14記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記アモルファス層の膜厚は5nm以上20nm以下であることを特徴とする。
【0032】
請求項16記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1乃至15のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記アモルファス層は少なくとも1層が窒化珪素から成ることを特徴とする。
【0033】
請求項16記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、アモルファス層は少なくとも1層が窒化珪素から成るので、低放射率透明積層体の耐久性や耐磨耗性、及びガラスパネルの断熱性を向上させることができる。
【0034】
請求項17記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1乃至16のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記誘電体層は全て酸化亜鉛を主成分とする層であることを特徴とする。
【0035】
請求項18記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1乃至17のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記金属層と前記誘電体層の界面のうち前記板ガラスから遠い方の界面に、前記金属層の成膜中における劣化を防止する犠牲層が挿入されたことを特徴とする。
【0036】
請求項19記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項18記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記犠牲層はTiを含む酸化物であることを特徴とする。
【0037】
請求項20記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項18記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記犠牲層はNbを含む酸化物であることを特徴とする。
【0038】
請求項20記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、犠牲層はNbを含む酸化物であるので、可視光透過率及び耐熱性を向上することができると共に、膜厚の制御を容易に行うことができる。
【0039】
請求項21記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1乃至20のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記金属層はAgを主成分とすることを特徴とする。
【0040】
請求項22記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1乃至21のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記低放射率透明積層体は、CuKα線を用いたX線回折ピークのうち、32°≦2θ(回折角)≦35°に極大のあるピークの積分幅βiが0.43以上1.20以下であることを特徴とする。
【0041】
請求項23記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項22記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記積分幅βiは0.50以上1.20以下であることを特徴とする。
【0042】
請求項24記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項22又は23記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記32°≦2θ(回折角)≦35°に極大のあるピークは、酸化亜鉛の(002)回折線に基づくピークであることを特徴とする。
【0043】
請求項25記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記低放射率透明積層体は、前記中空層に接する板ガラス面上に形成されたZnを含む酸化物層である第1の誘電体層と、前記第1の誘電体層の上に形成されたAg及びPdを含む金属層と、前記金属層の上に形成されたNbを含む酸化物である犠牲層と、前記犠牲層の上に形成されたZnを含む酸化物層である第2の誘電体層と、前記第2の誘電体層の上に形成された窒化珪素から成る第1のアモルファス層と、前記第1のアモルファス層の上に形成されたZnを含む酸化物層である第3の誘電体層と、前記第3の誘電体層の上に形成された窒化珪素から成る第2のアモルファス層と、前記第2のアモルファス層の上に形成されたZnを含む酸化物層である第4の誘電体層と、前記第4の誘電体層の上に形成された窒化珪素から成る第3のアモルファス層とから成ることを特徴とする。
【0044】
請求項25記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、低放射率透明積層体は、第1の誘電体層と、金属層と、犠牲層と、第2の誘電体層と、第1のアモルファス層と、第3の誘電体層と、第2のアモルファス層と、第4の誘電体層と、第3のアモルファス層とから成るので、熱処理が施されて蒸し焼き状態になったとしても、低放射率透明積層体の耐熱性を維持することができる。
【0045】
請求項26記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項25記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記第1の誘電体層、前記金属層、前記犠牲層、前記第2の誘電体層、前記第1のアモルファス層、前記第3の誘電体層、前記第2のアモルファス層、前記第4の誘電体層、及び前記第3のアモルファス層は、膜厚がそれぞれ25〜30nm,10〜20nm,1〜10nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nmであることを特徴とする。
【0046】
請求項26記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、第1の誘電体層、金属層、犠牲層、第2の誘電体層、第1のアモルファス層、第3の誘電体層、第2のアモルファス層、第4の誘電体層、及び第3のアモルファス層は、膜厚がそれぞれ25〜30nm,10〜20nm,1〜10nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nmであるので、熱処理が施されて蒸し焼き状態になったとしても、低放射率透明積層体の耐熱性を確実に維持することができる。
【0047】
請求項27記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項25又は26記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記低放射率透明積層体は、前記中空層及び前記外周密閉部と接する最上層においてSiO2層を有することを特徴とする。
【0048】
請求項28記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項25乃至27のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記低放射率透明積層体は前記中空層に接する板ガラス面と接する最下層においてSiO2層を有することを特徴とする。
【0049】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態に係る複層ガラスを図面を参照しながら詳述する。
【0050】
図1は、本発明の実施の形態に係る断熱・遮熱性ガラスパネルの斜視図である。
【0051】
図1において、断熱・遮熱性ガラスパネル1は、その外周縁部において低温で流動化するシール枠13を介して互いにその一方の面で向かい合うように気密的に接合されて、その間に中空層14を形成する一対の板ガラス11及び12と、中空層14内に大気圧支持部材として挿入されて板ガラス11と板ガラス12の間隔を決定するほぼ円柱状のスペーサとしてのピラー15とから成る。
【0052】
図2は、図1の線II−IIに関する断面図である。
【0053】
図2において、板ガラス11及び12は、フロート板ガラスで構成され、その厚さは2〜10mm、好ましくは2.5〜8mmの間で任意に設定されている。板ガラス12には、中空層14内を減圧状態にすべく、シール枠13によるシール面の内側の任意の位置に貫通穴16が形成されており、貫通穴16にはガラス管18が挿着され、その接触箇所が所定の方法で封着されている。また、ガラス管18の大気側の端部は所定の方法で密閉されている。
【0054】
中空層14を画成する板ガラス11の面11a、及び中空層14を画成する板ガラス12の面12aには、高い断熱性能を得るためにスパッタリング法により放射率0.1以下の低放射率透明積層体17が被覆されている。
【0055】
以下、図1の断熱・遮熱性ガラスパネル1の製造方法を説明する。
【0056】
所定の厚さを有するフロート板ガラスを用意し、このフロート板ガラスを所定のサイズに切断して板ガラス11と、板ガラス11より所定寸法だけ小さく切断した板ガラス12を作製する。次いで、この板ガラス12に、貫通穴16を加工する。
【0057】
次いで、板ガラス11の面11a及び板ガラス12の面12aに、スパッタ法によって低放射率透明積層体17を被覆する。この低放射率透明積層体17は、板ガラス11及び12のいずれか一方にのみ被覆しても良い。そして、低放射率透明積層体17が上となるように板ガラス11を水平に配置して、この板ガラス11上に所定の間隔でピラー15を配設する。この板ガラス11上にピラー15を介して板ガラス12を面12aがピラー接触面に接するように静かに重ねる。時として、この際に、シール枠13を形成する工程中にピラー15が移動しないように、板ガラス12の上に重りを載せる場合もある。
【0058】
上記重ねられた板ガラス11及び12を上記の重りを載せた状態で、一方の板ガラス12の外周縁に沿ってペースト状の低融点ガラス材料から成るシール枠13を塗布し、この低融点ガラス材料が塗布してあるガラス組み付け体全体を加熱炉内で500℃に加熱して、シール枠13を構成する低融点ガラス材料を溶融させる。次に、加熱炉内の温度を1〜20℃/min程度の降温速度で室温程度まで低下させることでガラス組み付け体を冷却し、両板ガラス11及び12の外周部間を硬化した低融点ガラスから成るシール枠13で封着して中空層14が形成される。また、上記板ガラス11及び12の封着と共に、板ガラス12には、予め加工したガラス管18を貫通穴に挿着し、その接触箇所を封着する。
【0059】
上記冷却が終了した後に、貫通穴に挿着したガラス管18に真空ポンプ取付け用の治具を介して真空ポンプを取付けて、板ガラス11及び12の全体を150℃に加熱しつつ真空ポンプにより中空層14を減圧吸引し、中空層14の内部圧力を約10〜0.01Pa程度まで減圧した後、このガラス管を封じ切り、断熱・遮熱性ガラスパネル1を作製する。
【0060】
なお、本発明の実施の形態においては、板ガラス12に貫通穴16及びガラス管18を設けて、真空ポンプを用いてガラス管18から減圧吸引することにより中空層14を減圧状態としたが、中空層14の減圧方法はこれに限るものではなく、例えば、板ガラス12に貫通穴16及びガラス管18を設けずに、真空環境下で断熱・遮熱性ガラスパネル1を製造することにより中空層14を減圧状態としてもよい。
【0061】
また、本発明の実施の形態においては、ピラー15を配設した板ガラス11上に板ガラス12を重ね、その後、シール枠13の形成を行っているが、これに限定されるものではなく、シール枠13及びピラー15が配設された板ガラス11上に板ガラス12を重ねてもよい。
【0062】
また、本発明の実施の形態では、一方の板ガラス12の外周縁に沿ってペースト状の低融点ガラス材料から成るシール枠13を塗布し、この低融点ガラス材料が塗布してあるガラス組み付け体全体を加熱炉内で500℃に加熱して、シール枠13を構成する低融点ガラス材料を溶融させ、加熱炉内の温度を1〜20℃/min程度の降温速度で室温程度まで低下させることでガラス組み付け体を冷却しているが、これに限定されるものではなく、低融点ガラス材料から成るシール枠13を480℃以上にまで加熱して、接合処理を実行し、その後、シール枠13を構成する低融点ガラス材料の温度変化に伴って、その粘度が1010パスカル秒(Pa・s)を越える前に、両板ガラス11及び12の中空層14を加熱しながら、かつ、シール枠13を構成する低融点ガラス材料の粘度を1010パスカル秒(Pa・s)以下の軟化状態に維持して、ガラス管18から400℃以上に加熱されている中空層14内の気体を吸引除去するベーキング処理を実行してもよい。
【0063】
また、本発明の実施の形態では、シール枠13の材料として低融点ガラスを用いているが、これに限定されるものではなく、例えば、インジウム、鉛、錫または亜鉛などを主成分とする金属はんだであってもよい。この場合、板ガラス11及び12を200℃に加熱しながら超音波はんだ鏝(図示せず)を使用して板ガラス11及び12の周縁部の間隙部分を金属ハンダにより封着し、周縁部のシールが完成した時点で約1℃/分のゆっくりした速度で冷却してシール枠13を形成する。
【0064】
図3は、図1における低放射率透明積層体層17の断面図である。
【0065】
図3において、低放射率透明積層体17は、透明基体としての板ガラス11,12の上に形成された結晶配向性の高い誘電体層としてZnO層31と、このZnO層31の上に形成された金属層としてのPdを含むAg層(Ag−Pd層)32と、このAg−Pd層32の上に形成された結晶配向性の高い誘電体層としてのZnO層33と、このZnO層33の上に形成されたアモルファス層としてのSiNx層34と、このSiNx層34の上に形成された結晶配向性が低くなる誘電体層としてのZnO層35と、このZnO層35の上に形成された保護機能を有する保護層としてのSiNx層36とを備える。
【0066】
上記構成により、誘電体層としてのZnO層33,35がアモルファス層としてのSiNx層34によって膜厚方向に分割され、金属層としてのAg−Pd層32がAg及びPdを含む。
【0067】
図4は、図3における低放射率透明積層体17の第1の変形例の断面図である。
【0068】
図4において、低放射率透明積層体17は、基本的構成は図3における低放射率透明積層体17と同じであるが、金属層としてのAg−Pd層32の上に形成された犠牲層としてのTiOx層41を更に備える点で異なる。このTiOx層41はZnO層33を反応スパッタリングで形成する場合に特に有効に作用する。即ち、Ag−Pd層32の上に、直接、ZnO層33を形成すると、スパッタリングの際にAg−Pd層32のおけるAgが酸素と結合し劣化しやすい。そこで、Ag−Pd層32の上にTiを形成する。すると、このTiがスパッタリングの際に生じる酸素と結合してTiOxとなりAgが酸素と結合するのを防止する。
【0069】
図5は、図3における低放射率透明積層体17の第2の変形例の断面図である。
【0070】
図5において、低放射率透明積層体17は、基本的構成は図3における低放射率透明積層体17と同じであるが、誘電体層としてのZnO層35の上に形成されたアモルファス層としてのSiNx層51と、このSiNx層51の上に形成された結晶配向性が低くなる誘電体層としてのZnO層52とを更に備える点で異なる。
【0071】
図6は、図5における低放射率透明積層体17の変形例の断面図である。
【0072】
図6において、低放射率透明積層体17は、基本的構成は図5における低放射率透明積層体17と同じであるが、Ag−Pd層32の上に形成された犠牲層としてのTiOx層41を更に備える点で異なる。
【0073】
図7は、図3における低放射率透明積層体17の第3の変形例の断面図である。
【0074】
図7において、低放射率透明積層体17は、透明基体としての板ガラス11,12の上に形成された結晶配向性の高い誘電体層としてZnO層31と、2層の金属層としてのAg−Pd層32,71と、各Ag−Pd層32,71の上に形成された犠牲層としてTiOx層41,72と、内側(板ガラス11,12に近い側)の犠牲層としてのTiOx層41の上に形成された誘電体70と、外側(板ガラス11,12に遠い側)の犠牲層としてのTiOx層72の上に形成された誘電体層としてのZnO層73と、このZnO層73の上に形成された保護機能を有する保護層としてのSiNx層36とを備える。
【0075】
この誘電体70は、内側の金属層としてのAg−Pd層32側に形成された結晶配向性の高い誘電体層としてのZnO層33と、このZnO層33の上に形成されたアモルファス層としてのSiNx層34と、このSiNx層34の上に形成された結晶配向性が低くなる誘電体層としてのZnO層35とを備える。
【0076】
図8は、図7における低放射率透明積層体17の変形例の断面図である。
【0077】
図8において、低放射率透明積層体17は、基本的構成は図7における低放射率透明積層体17と同じであるが、Ag−Pd層32,71の上に犠牲層としてのTiOx層41,72が形成されていない点で異なる。
【0078】
図9は、図7における低放射率透明積層体17の第2の変形例の断面図である。
【0079】
図9において、低放射率透明積層体17は、基本的構成は図7における低放射率透明積層体17と同じであるが、誘電体70がZnO層35の上に形成されたアモルファス層としてのSiNx層91と、このSiNx層91の上に形成された結晶配向性が低くなる誘電体層としてのZnO層92とを更に備える点で異なる。
【0080】
図10は、図9における低放射率透明積層体17の変形例の断面図である。
【0081】
図10において、低放射率透明積層体17は、基本的構成は図9における低放射率透明積層体17と同じであるが、金属層としてのAg−Pd層32,71の上に犠牲層としてのTiOx層41,72が形成されていない点で異なる。
【0082】
図11は、図7における低放射率透明積層体17の第3の変形例の断面図である。
【0083】
図11において、低放射率透明積層体17は、基本的構成は図7における低放射率透明積層体17と同じであるが、誘電体層としてのZnO層31の上に形成されたアモルファス層としてのSiNx層111と、このSiNx層111の上に形成された結晶配向性が低くなる誘電体層としてのZnO層112とを更に備える点で異なる。
【0084】
図12は、図11における低放射率透明積層体17の変形例の断面図である。
【0085】
図12において、低放射率透明積層体17は、基本的構成は図11における低放射率透明積層体17と同じであるが、誘電体層としてのZnO層73の上に形成されたアモルファス層としてのSiNx層121と、このSiNx層121の上に形成された結晶配向性が低くなる誘電体層としてのZnO層122とを更に備える点で異なる。
【0086】
本実施の形態では、図7、図9、及び図11の低放射率透明積層体17におけるAg−Pd層71の更に外側に形成されたZnO層73を結晶配向性の低いものにしなかったが、結晶性の低いものとしてもよい。
【0087】
本実施の形態では、低放射率透明積層体17は、保護層としてのSiNx層36が最上層に形成されているが、これに限定されるものではなく、SiNx層36の上にSiO2層を設けてもよい。これにより、低放射率透明積層体17をスパッタリングで板ガラス11,12上に形成する際に生じる発泡を抑制することができると共に、シール枠13が中空層14側に侵入する度合いを制御することができる。
【0088】
本実施の形態では、板ガラス11,12の上に誘電体層としてのZnO層31が形成されているが、これに限定されるものではなく、板ガラス11,12と誘電体層としてのZnO層31との間にSiO2層を設けてもよい。これにより、低放射率透明積層体17と板ガラス11,12面との接着性を向上することができ、もって低放射率透明積層体17の板ガラス11,12面からの剥離を防止することができる。
【0089】
本実施の形態では、犠牲層としてチタン層(TiOx)を用いているが、これに限定されるものではなく、例えばニオブ層(NbOx)を用いてもよい。犠牲層としてニオブ層(NbOx)を用いることにより、可視光透過率及び耐熱性を向上することができると共に、膜厚の制御を容易に行うことができる。
【0090】
上述した低放射率透明積層体17におけるアモルファス層の上に形成される誘電体層(ZnO)は図13に模式的に示されるように結晶の配向性が崩れており、また表面の平滑性が向上している。
【0091】
次に、具体的な実施例と比較例について説明する。
【0092】
(実施例1)
厚さ3mm×2500mm×1800mmの通常のフロートガラスの片側表面に、図15に示すような、カソードを5セット有した、いわゆるロードロック式インライン型マグネトロンスパッタ装置により、図3に示した構造、即ち、ガラス/ZnO/Ag−Pd/ZnO/SiNx/ZnO/SiNxから成る誘電体/金属/誘電体のサンドイッチ構造の低放射率透明積層体を膜付した。
【0093】
膜付は、洗浄した板ガラス(G)を図15に示したコーティング装置の入り口からロードロックチャンバー(1)に搬送して所定の圧力まで真空排気し、コーティングチャンバー(2)に搬送した後、コーティングチャンバー(2)中にスパッタガスを導入し、排気ポンプにより所定の圧力に調整した後、カソード(3)に電力を印加し、放電を発生させて、各カソードにセットされた材料をスパッタすることにより実施した。
【0094】
なお、本実施例では、コーティング時のガラスは特に加熱せず室温にて膜付し、当該膜付されたガラスに対して、断熱・遮熱性ガラスパネル作製における熱処理時の状態を再現すべく、500℃以上で加熱した後で、10〜20℃/min程度の降温速度で室温程度まで低下させた。
【0095】
以下にコーティングの詳細について記述する。
【0096】
まず、チャンバー中に、Arガスに酸素ガスを2%添加した混合ガスを圧力0.40Paとなるように導入し、錫(Sn)を添加した酸化亜鉛焼結体ターゲット(サイズ:3100mm×330mm)をセットしたカソード(3a)に直流30kWを印加してスパッタリングを引き起こし、カソード下でガラスを往復させることにより、第1層として錫(Sn)が添加された酸化亜鉛膜を形成した。
【0097】
次に、チャンバー中のガスをArガスに切り替え圧力を0.45Paとなるようにし、パラジウム(Pd)を添加した銀ターゲット(サイズ:3100mm×330mm)をセットしたカソード(3c)に直流14kWを印加してスパッタリングを引き起こし、カソード下にガラスを通過させることにより、第2層として金属膜を形成した。
【0098】
その次に、第1層と同様の方法で第3層の錫(Sn)が添加された酸化亜鉛膜を形成した。
【0099】
次に、チャンバー中のガスをN2ガスに切り替え、圧力を0.45Paとなるようにし、アルミニウムを10質量%添加した珪素ターゲット(サイズ:2900mm×直径150mm)をセットしたカソード(3e)に直流50kWを印加して反応性スパッタリングを引き起こし、カソード下をガラスを往復させることにより、第4層としてアルミニウムが添加された窒化珪素膜を形成した。その次に、第1層と同様の方法で第5層のアルミニウムが添加された酸化亜鉛膜を形成し、最後に、第4層と同様の方法で第6層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜を形成した。膜の厚さはガラスを通過させる速度と往復回数により調節し、第1層を10nm、第2層を9nm、第3層を26nm、第4層を5nm、第5層を9nm、第6層を7nmとした。
【0100】
(実施例2)
実施例1と同じスパッタ装置を用い、同様のフロートガラスの片側表面に、図6と同様の構成、即ちガラス/ZnO/Ag−Pd/TiOx/ZnO/SiNx/ZnO/SiNx/ZnO/SiNxから成る誘電体/金属/誘電体のサンドイッチ構造の低放射率透明積層体を以下のように膜付した。
【0101】
まず、チャンバー中に酸素ガスを圧力0.40Paとなるように導入し、亜鉛ターゲット(サイズ:3100mm×330mm)をセットしたカソード(3b)に直流55kWを印加して反応性スパッタリングを引き起こし、カソード下をガラスを往復させることにより、第1層として酸化亜鉛膜を形成した。次に、チャンバー中のガスをArガスに切り替え圧力を0.45Paとなるようにし、パラジウム(Pd)を添加した銀ターゲット(サイズ:3100mm×330mm)をセットしたカソード(3c)に直流8kWを印加し、同時に、チタンターゲット(サイズ:3100mm×330mm)をセットしたカソード(3d)に直流8kWを印加して、両カソード下をガラスを通過させることにより、第2層と第3層の金属膜とチタン膜を形成した。次に、第1層と同様の方法で第4層の酸化亜鉛膜を形成した。この第4層の酸化物膜形成時に、第3層のチタン膜は自らを酸化させることにより金属膜中の銀の劣化を防ぐいわゆる犠牲層の役割を果たす。次に、チャンバー中のガスをN2ガスに切り替え圧力を0.45Paとなるようにし、アルミニウムを10wt%添加した珪素ターゲット(サイズ:2900mm×直径150mm)をセットしたカソード(3e)に直流50kWを印加してスパッタリングを引き起こし、カソード下をガラスを往復させることにより、第5層としてアルミニウムが添加された窒化珪素膜を形成した。その次に、第1層と同様の方法で第6層の酸化亜鉛膜を形成し、第5層と同様の方法で第7層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜を形成し、第1層と同様の方法で第8層の酸化亜鉛膜を形成して、最後に、第5層と同様の方法で第9層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜を形成した。膜の厚さはガラスを通過させる速度と往復回数により調節し、第1層を27nm、第2層を13nm、第3層を6nm、第4層を8nm、第5層を10nm、第6層を13nm、第7層を7nm、第8層を9nm、第9層を7nmとした。
【0102】
(実施例3)
実施例1と同じスパッタ装置を用い、同様のフロートガラスの片側表面に、図7と同様の構成、即ちガラス/ZnO/Ag−Pd/TiOx/ZnO/SiNx/ZnO/Ag−Pd/TiOx/ZnO/SiNxから成る誘電体/金属/誘電体/金属/誘電体のサンドイッチ構造の低放射率透明積層体を以下のように膜付した。
【0103】
実施例2と同様の方法で、第1層の酸化亜鉛膜、第2層の金属膜、第3層のチタン膜(犠牲層として働いた後、酸化チタン膜)、第4層の酸化亜鉛膜、第5層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜、第6層の酸化亜鉛膜を形成した。次に、第2層、第3層と同様の方法で第7層の金属膜と第8層のチタン膜を形成し、第1層と同様の方法で第9層の酸化亜鉛膜を形成して(この時、第8層のチタン膜は第3層と同様に犠牲層として酸化される)、最後に、第5層と同様の方法で第10層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜を形成した。膜の厚さはガラスを通過させる速度と往復回数により調節し(第7層だけは電力も調整する)、第1層を13nm、第2層を6nm、第3層を3nm、第4層を45nm、第5層を6nm、第6層を25nm、第7層を13nm、第8層を3nm、第9層を22nm、第10層を8nmとした。
【0104】
(実施例4)
実施例1と同じスパッタ装置を用い、同様のフロートガラスの片側表面に、図9と同様の構成、即ちガラス/ZnO/Ag−Pd/TiOx/ZnO/SiNx/ZnO/SiNx/ZnO/Ag−Pd/TiOx/ZnO/SiNxから成る誘電体/金属/誘電体/金属/誘電体のサンドイッチ構造の低放射率透明積層体を以下のように膜付した。
【0105】
実施例2と同様の方法で、第1層の酸化亜鉛膜、第2層の金属膜、第3層のチタン膜(犠牲層として働いた後、酸化チタン膜)、第4層の酸化亜鉛膜、第5層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜、第6層の酸化亜鉛膜を形成した。次に、第5層、第6層と同様の方法で、第7層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜と第8層の酸化亜鉛膜を形成し、その次に、第2層、第3層、第4層、第5層と同様の方法で、第9層の金属膜、第10層のチタン膜、第11層の酸化亜鉛膜(この時、第10層のチタン膜は同様に犠牲層として酸化される)、第12層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜を形成した。膜の厚さはガラスを通過させる速度と往復回数により調節し(第9層だけは電力も調整する)、第1層を19nm、第2層を6nm、第3層を3nm、第4層を16nm、第5層を13nm、第6層を17nm、第7層を14nm、第8層を18nm、第9層を13nm、第10層を3nm、第11層を11nm、第12層を19nmとした。
【0106】
(実施例5)
実施例1と同じスパッタ装置を用い、同様のフロートガラスの片側表面に、図11と同様の構成、即ちガラス/ZnO/SiNx/ZnO/Ag−Pd/TiOx/ZnO/SiNx/ZnO/Ag−Pd/TiOx/ZnO/SiNxから成る誘電体/金属/誘電体/金属/誘電体のサンドイッチ構造の低放射率透明積層体を以下のように膜付した。
【0107】
第1層の酸化亜鉛膜、第2層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜、第3層の酸化亜鉛膜、第4層の金属膜、第5層のチタン膜(犠牲層として働いた後、酸化チタン膜)、第6層の酸化亜鉛膜、第7層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜、第8層の酸化亜鉛膜を形成した。
【0108】
次に、第4層、第5層、第6層と同様の方法で、第9層の金属膜、第10層のチタン膜、第11層の酸化亜鉛膜(この時、第10層のチタン膜は同様に犠牲層として酸化される)を形成して、最後に第12層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜を形成した。
【0109】
膜の厚さはガラスを通過させる速度と往復回数により調節し(第9層だけは電力も調整する)、第1層を4nm、第2層を5nm、第3層を4nm、第4層を6nm、第5層を3nm、第6層を45nm、第7層を6nm、第8層を25nm、第9層を13nm、第10層を3nm、第11層を22nm、第12層を8nmとした。
【0110】
(実施例6)
実施例1と同じスパッタ装置を用い、同様のフロートガラスの片側表面に、図12と同様の構成、即ちガラス/ZnO/SiNx/ZnO/Ag−Pd/TiOx/ZnO/SiNx/ZnO/Ag−Pd/TiOx/ZnO/SiNx/ZnO/SiNxから成る誘電体/金属/誘電体/金属/誘電体のサンドイッチ構造の低放射率透明積層体を以下のように膜付した。
【0111】
実施例5と同様の方法で、第1層の酸化亜鉛膜、第2層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜、第3層の酸化亜鉛膜、第4層の金属膜、第5層のチタン膜(犠牲層として働いた後、酸化チタン膜)、第6層の酸化亜鉛膜、第7層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜、第8層の酸化亜鉛膜を形成した。
【0112】
次に、第4層、第5層、第6層、第7層、第8層と同様の方法で、第9層の金属膜、第10層のチタン膜、第11層の酸化亜鉛膜(この時、第10層のチタン膜は同様に犠牲層として酸化される)、第12層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜、第13層の酸化亜鉛膜を形成して、最後に第14層のアルミニウムが添加された窒化珪素を形成した。
【0113】
膜の厚さはガラスを通過させる速度と往復回数により調節し(第9層だけは電力も調整する)、第1層を4nm、第2層を5nm、第3層を4nm、第4層を6nm、第5層を3nm、第6層を45nm、第7層を6nm、第8層を25nm、第9層を13nm、第10層を3nm、第11層を10nm、第12層を5nm、第13層を7nm、第14層を8nmとした。
【0114】
(比較例1)
実施例1と同じスパッタ装置を用い、同様のフロートガラスの片側表面に、ガラス/ZnO/Ag/TiOx/ZnO/Ag/TiOx/ZnO/SiNxから成る誘電体/銀/誘電体/銀/誘電体のサンドイッチ構造の低放射率透明積層体を以下のように膜付した。
【0115】
実施例3と同様の方法で、第1層の酸化亜鉛膜、第2層の銀膜、第3層のチタン膜(犠牲層として働いた後、酸化チタン膜)、第4層の酸化亜鉛膜を形成した。次に、第2層、第3層、第4層と同様の方法で、第5層の銀膜、第6層のチタン膜、第7層の酸化亜鉛膜(この時、第6層のチタン膜は同様に犠牲層として酸化される)を形成した。最後に、実施例2の第9層と同様な方法で第8層としてアルミニウムが添加された窒化珪素膜を形成した。
【0116】
膜の厚さはガラスを通過させる速度と往復回数により調節し(第9層だけは電力も調整する)、第1層を16nm、第2層を6nm、第3層を3nm、第4層を74nm、第5層を13nm、第6層を3nm、第7層を19nm、第8層を9nmとした。
【0117】
(比較例2)
比較例1と同じスパッタ装置を用い、同様のフロートガラスの片側表面に、ガラス/ZnO/Ag/TiOx/ZnO/Ag/TiOx/ZnO/SiNxから成る誘電体/銀/誘電体/銀/誘電体のサンドイッチ構造の低放射率透明積層体を以下のように膜付した。
【0118】
比較例1と同様の方法で、第1層の酸化亜鉛膜、第2層の銀膜、第3層のチタン膜(犠牲層として働いた後、酸化チタン膜)、第4層の酸化亜鉛膜、第5層の銀膜、第6層のチタン膜、第7層の酸化亜鉛膜(この時、第6層のチタン膜は同様に犠牲層として酸化される)、第8層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜を形成した。但し、第1層、第4層、第7層の酸化亜鉛膜は、平均結晶子サイズを小さくする目的で、窒素と酸素の1対1の混合ガスを用いて、ガス圧力0.40Paで反応性スパッタにより成膜した。
【0119】
このようにして得られた積層体は2500mm方向に反射色及び透過色の色ムラが生じており、均一性に問題があった。
【0120】
(比較例3)
比較例1と同じスパッタ装置を用い、同様のフロートガラスの片側表面に、ガラス/ZnO/Ag/TiOx/ZnO/Ag/TiOx/ZnO/SiNxから成る誘電体/銀/誘電体/銀/誘電体のサンドイッチ構造の低放射率透明積層体を以下のように膜付した。
【0121】
比較例1と同様の方法で、第1層の酸化亜鉛膜、第2層の銀膜、第3層のチタン膜(犠牲層として働いた後、酸化チタン膜)、第4層の酸化亜鉛膜、第5層の銀膜、第6層のチタン膜、第7層の酸化亜鉛膜(この時、第6層のチタン膜は同様に犠牲層として酸化される)、第8層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜を形成した。但し、第1層、第4層、第7層の酸化亜鉛膜は、平均結晶子サイズを小さくする目的で、酸素ガスの圧力を1.0Paに上げて反応性スパッタにより成膜することを試みた。しかし、ガラスの移動によって真空チャンバ内のコンダクタンスが変化しガス圧力は不安定となった。
【0122】
このようにして得られた積層体は1800mm方向に反射色及び透過色の色ムラが生じており、均一性に問題があった。
(特性評価)
このようにして得られた積層体は、放射率が実施例1では0.090、実施例2では0.057、実施例3では0.035、実施例4では0.030、実施例5では0.028、実施例6では0.026、比較例1では0.040であり、また可視光透過率は、実施例1では83.0%、実施例2では74.1%、実施例3では78.1%、実施例4では78.4%、実施例5では78.6%、実施例6では78.7%、比較例1では77.5%であったので、低放射率透明積層体として申し分ない特性を有していた。
【0123】
また、積分幅βiについては実施例1では0.58、実施例2では0.76、実施例3では0.56、実施例4では0.98、実施例5では0.63、実施例6では0.68、比較例1では0.28であった。
【0124】
以下に、実施例1〜6及び比較例1の特性評価をまとめた(表1)を示す。
【0125】
【表1】
【0126】
コーティングのXRD解析をCuKα線を用いてθ−2θ法で行ったところ、いずれも酸化亜鉛の(002)回折線に基づくと思われるピークが、2θが32〜35°に現れた。この生データを実施例1、実施例3と比較例1について図16に例示する。この回折ピークに対し、Kα1,Kα2の分離、及び標準サンプルによるピーク位置とピークの拡がりの補正を行って積分幅(βi)を計算したところ、実施例1は0.58、実施例3は0.56、実施例4は0.98、比較例1は0.28であった。
【0127】
コーティングの化学的耐久性を調べるため、塩水浸漬テスト(3重量%NaCl水溶液。20℃)を行ったところ、3時間浸漬しても実施例1,2,3のコーティングには全く変化が見られなかったが、比較例1のコーティングは強い光のもとでピンホール状の反射の輝点が認められた。
【0128】
コーティングの耐擦傷性を調べるため、レスカ製スクラッチ試験機CSR−02を用いて、先端半径5μmのダイヤモンド圧子でスクラッチ試験を行ったところ、コーティングが剥離破壊を生じ始める荷重が、実施例3が26mNであるのに対し、比較例1では13mNであった。
【0129】
コーティングの耐熱性を調べるため、Agの凝集量を目視により観察したところ、比較例1においてはAgの凝集量が多く見栄えが悪いのに対し、実施例においてはAgの凝集がさほど見られず、特に実施例2においてはAgの凝集がほとんど観察できなかった。これにより、熱処理が施され、蒸し焼き状態となったとしても、実施例、特に実施例2のコーティングは劣化の度合いが小さい、即ち耐熱性が高いことが分かる。
【0130】
【発明の効果】
請求項1記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、誘電体層がアモルファス層によって膜厚方向に分割され、金属層がAg及びPdを含むので、金属層の耐久性を向上させることができ、もって製造において熱処理が施されても、遮熱性を維持することができる。
【0131】
請求項2記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、低放射率透明積層体が中空層及び外周密閉部と接する最上層においてSiO2層を有するので、低放射率透明積層体上に外周密閉部を塗布する際に生じる発泡を抑制することができると共に、外周密閉部が中空層側に侵入する度合いを制御することができる。
【0132】
請求項3記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、低放射率透明積層体は中空層に接する板ガラス面と接する最下層においてSiO2層を有するので、低放射率透明積層体と板ガラス面との接着性を向上することができ、もって低放射率透明積層体の板ガラス面からの剥離を防止することができる。
【0133】
請求項5記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、誘電体層が酸化亜鉛を主成分とする層であるので、外部から低放射率透明積層体への水分やガスの侵入を防ぐことができ、もって低放射率透明積層体の耐久性を向上させることができる。
【0134】
請求項6記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、誘電体層のうち少なくとも1層が、板ガラスから最も近い金属層を基準として、板ガラスとは反対側に位置するので、外部からの水分やガスの侵入を防ぐことができ、もって低放射率透明積層体の耐久性を向上させることができる。
【0135】
請求項13記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、低放射率透明積層体の最外層は、Si,Al,Ti,Snから成る群から選ばれた少なくとも1種の金属を含む窒化物、酸窒化物、又はアモルファス酸化物から成る保護層とされているので、低放射率透明積層体の耐久性をさらに向上させることができる。
【0136】
請求項16記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、アモルファス層は少なくとも1層が窒化珪素から成るので、低放射率透明積層体の耐久性や耐磨耗性、及びガラスパネルの断熱性を向上させることができる。
【0137】
請求項20記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、犠牲層はNbを含む酸化物であるので、可視光透過率及び耐熱性を向上することができると共に、膜厚の制御を容易に行うことができる。
【0138】
請求項25記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、低放射率透明積層体は、第1の誘電体層と、金属層と、犠牲層と、第2の誘電体層と、第1のアモルファス層と、第3の誘電体層と、第2のアモルファス層と、第4の誘電体層と、第3のアモルファス層とから成るので、熱処理が施されて蒸し焼き状態になったとしても、低放射率透明積層体の耐熱性を維持することができる。
【0139】
請求項26記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、第1の誘電体層、金属層、犠牲層、第2の誘電体層、第1のアモルファス層、第3の誘電体層、第2のアモルファス層、第4の誘電体層、及び第3のアモルファス層は、膜厚がそれぞれ25〜30nm,10〜20nm,1〜10nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nmであるので、熱処理が施されて蒸し焼き状態になったとしても、低放射率透明積層体の耐熱性を確実に維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係る断熱・遮熱性ガラスパネルの斜視図である。
【図2】図1の線II−IIに関する断面図である。
【図3】図1における低放射率透明積層体17の断面図である。
【図4】図3における低放射率透明積層体17の第1の変形例の断面図である。
【図5】図3における低放射率透明積層体17の第2の変形例の断面図である。
【図6】図5における低放射率透明積層体17の変形例の断面図である。
【図7】図3における低放射率透明積層体17の第3の変形例の断面図である。
【図8】図7における低放射率透明積層体17の変形例の断面図である。
【図9】図7における低放射率透明積層体17の第2の変形例の断面図である。
【図10】図9における低放射率透明積層体17の変形例の断面図である。
【図11】図7における低放射率透明積層体17の第3の変形例の断面図である。
【図12】図11における低放射率透明積層体17の変形例の断面図である。
【図13】アモルファス層により膜厚方向に分割された誘電体層の模式図
【図14】従来の誘電体層の結晶成長模式図(柱状結晶構造)
【図15】低放射率透明積層体を施すために用いたスパッタ装置の概略構成図
【図16】結晶配向性を示すX線回折グラフ
【符号の説明】
1 断熱・遮熱性ガラスパネル
11 板ガラス
12 板ガラス
13 シール枠
14 中空層
15 ピラー
17 低放射率透明積層体
33 ZnO層
34 SiNx層
35 ZnO層
【発明の属する技術分野】
本発明は、建物の窓ガラス用等に用いられ、最適な断熱性及び遮熱性を備えた断熱・遮熱性ガラスパネルに関する。
【0002】
【従来の技術】
最近、遮熱性能のみでなく断熱性能をも併せ持つガラスパネルが開発されている。例えば、着色熱線吸収ガラスと、このガラスとの間に中空層を形成すべくスペーサを介して対向して配設されたガラスクリア系ガラスと、着色熱線吸収ガラスの内側ガラス面に形成された低放射率透明積層体とを備え、着色熱線吸収ガラスが室外側に、クリア系ガラスが室内側に配されたガラスパネルが使用されている(例えば、特許文献1)。
【0003】
さらに、室外側に配した着色熱線吸収ガラスの中空層側ガラス面に形成された低放射率透明積層体として、日射遮熱性、高断熱性の機構を発揮するものが開示されている(例えば、特許文献2〜4)。
【0004】
この低放射率透明積層体は、透明基板の上に誘電体層と金属層を合計(2n+1)層積層して構成され、更に最上層に保護層が形成されたものである。そして、この誘電体層としてはZnOが成膜スピードにおいて優れ、また、金属層としてはAgが熱線反射機能において優れることも知られている。
【0005】
更に、保護層としては、SiNx、TiO2、或いはSiAlOxNy(サイアロン)等が知られている。
【0006】
上述した低放射率透明積層体にあっては、金属層が空気中の水分、酸素、塩素等によりマイグレーションを起こして腐食する問題があった。そこで、本出願人は先に、上記空気中の水分等は金属層の上層の金属酸化物層(誘電体層)を透過して金属層まで到達するという知見を得、これに基づき、金属酸化物層を構成する結晶粒子の平均結晶子サイズを20nm以下とすることで金属酸化物層の緻密化が図れ、上記腐食を防止して積層体の耐久性が向上する提案を行っている(例えば、特許文献5)。
【0007】
更に、本出願人は先に、誘電体層がアモルファス層によって分割され、金属層(Ag)の耐久性が向上した低放射率透明積層体を提案している(例えば、特許文献6)。
【0008】
【特許文献1】
特許第2882728号公報
【特許文献2】
特開昭63−30212号公報
【特許文献3】
特開昭63−134232号公報
【特許文献4】
特開昭63−239044号公報
【特許文献5】
特開平9−71441号公報
【特許文献6】
特開2002−173343号公報
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した低放射率透明積層体を中空層側ガラス面に形成する場合、当該ガラスパネルの製造における熱処理によって当該低放射率透明積層体が蒸し焼き状態となり、当該低放射率透明積層体における金属層(Ag)がマイグレーションを起こして腐食し、もって遮熱性が低下するという問題があった。
【0010】
本発明の目的は、製造中に熱処理が施されても遮熱性を維持することができる断熱・遮熱性ガラスパネルを提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
上述の目的を達成するために、請求項1記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、間に中空層を形成すべくピラーを介して所定の間隔を隔てて配設された一対の板ガラスと、前記一対の板ガラスの周縁部において前記中空層を気密に密閉する外周密閉部とから成る断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記中空層に接する板ガラス面に、誘電体層と金属層とを積層した低放射率透明積層体が形成され、前記誘電体層がアモルファス層によって膜厚方向に分割され、前記金属層がAg及びPdを含むことを特徴とする。
【0012】
請求項1記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、誘電体層がアモルファス層によって膜厚方向に分割され、金属層がAg及びPdを含むので、金属層の耐久性を向上させることができ、もって製造において熱処理が施されても、遮熱性を維持することができる。
【0013】
請求項2記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記低放射率透明積層体は、前記中空層及び前記外周密閉部と接する最上層においてSiO2層を有することを特徴とする。
【0014】
請求項2記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、低放射率透明積層体が中空層及び外周密閉部と接する最上層においてSiO2層を有するので、低放射率透明積層体上に外周密閉部を塗布する際に生じる発泡を抑制することができると共に、外周密閉部が中空層側に侵入する度合いを制御することができる。
【0015】
請求項3記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1又は2記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記低放射率透明積層体は前記中空層に接する板ガラス面と接する最下層においてSiO2層を有することを特徴とする。
【0016】
請求項3記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、低放射率透明積層体は中空層に接する板ガラス面と接する最下層においてSiO2層を有するので、低放射率透明積層体と板ガラス面との接着性を向上することができ、もって低放射率透明積層体の板ガラス面からの剥離を防止することができる。
【0017】
請求項4記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記アモルファス層によって分割される誘電体層は、Zn,Sn,Ti,In,Biから成る群から選ばれた少なくとも1種の金属を含む酸化物層であることを特徴とする。
【0018】
請求項5記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項4記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記アモルファス層によって分割される誘電体層は酸化亜鉛を主成分とする層であることを特徴とする。
【0019】
請求項5記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、誘電体層が酸化亜鉛を主成分とする層であるので、外部から低放射率透明積層体への水分やガスの侵入を防ぐことができ、もって低放射率透明積層体の耐久性を向上させることができる。
【0020】
請求項6記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記アモルファス層によって分割される誘電体層のうち少なくとも1層が、前記板ガラスから最も近い金属層を基準として、前記板ガラスとは反対側に位置することを特徴とする。
【0021】
請求項6記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、誘電体層のうち少なくとも1層が、板ガラスから最も近い金属層を基準として、板ガラスとは反対側に位置するので、外部からの水分やガスの侵入を防ぐことができ、もって低放射率透明積層体の耐久性を向上させることができる。
【0022】
請求項7記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記金属層は1層とされ、前記アモルファス層によって分割される誘電体層は当該金属層を基準として、前記板ガラスと反対側に位置することを特徴とする。
【0023】
請求項8記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記金属層は2層以上設けられ、前記アモルファス層によって分割される誘電体層のうち少なくとも1層は、前記板ガラスから最も遠い金属層を基準として、前記板ガラス側に位置することを特徴とする。
【0024】
請求項9記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1乃至8のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記アモルファス層は窒化物層、酸窒化物層、アモルファス酸化物層から成る群から選ばれた少なくとも1層から成ることを特徴とする。
【0025】
請求項10記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項9記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記窒化物層は、Si,Al,Ti,Snから成る群から選ばれた少なくとも1種の金属を含む窒化物から成ることを特徴とする。
【0026】
請求項11記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項9記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記酸窒化物層は、Si,Al,Ti,Snから成る群から選ばれた少なくとも1種の金属を含む酸窒化物から成ることを特徴とする。
【0027】
請求項12記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項9記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記アモルファス酸化物層が、Si,Al,Ti,Snから成る群から選ばれた少なくとも1種の金属を含むアモルファス酸化物から成ることを特徴とする。
【0028】
請求項13記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1乃至12のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記低放射率透明積層体の最外層は、Si,Al,Ti,Snから成る群から選ばれた少なくとも1種の金属を含む窒化物、酸窒化物、又はアモルファス酸化物から成る保護層とされていることを特徴とする。
【0029】
請求項13記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、低放射率透明積層体の最外層は、Si,Al,Ti,Snから成る群から選ばれた少なくとも1種の金属を含む窒化物、酸窒化物、又はアモルファス酸化物から成る保護層とされているので、低放射率透明積層体の耐久性をさらに向上させることができる。
【0030】
請求項14記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1乃至13のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記アモルファス層の膜厚は3nm以上30nm以下であることを特徴とする。
【0031】
請求項15記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項14記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記アモルファス層の膜厚は5nm以上20nm以下であることを特徴とする。
【0032】
請求項16記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1乃至15のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記アモルファス層は少なくとも1層が窒化珪素から成ることを特徴とする。
【0033】
請求項16記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、アモルファス層は少なくとも1層が窒化珪素から成るので、低放射率透明積層体の耐久性や耐磨耗性、及びガラスパネルの断熱性を向上させることができる。
【0034】
請求項17記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1乃至16のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記誘電体層は全て酸化亜鉛を主成分とする層であることを特徴とする。
【0035】
請求項18記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1乃至17のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記金属層と前記誘電体層の界面のうち前記板ガラスから遠い方の界面に、前記金属層の成膜中における劣化を防止する犠牲層が挿入されたことを特徴とする。
【0036】
請求項19記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項18記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記犠牲層はTiを含む酸化物であることを特徴とする。
【0037】
請求項20記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項18記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記犠牲層はNbを含む酸化物であることを特徴とする。
【0038】
請求項20記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、犠牲層はNbを含む酸化物であるので、可視光透過率及び耐熱性を向上することができると共に、膜厚の制御を容易に行うことができる。
【0039】
請求項21記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1乃至20のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記金属層はAgを主成分とすることを特徴とする。
【0040】
請求項22記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1乃至21のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記低放射率透明積層体は、CuKα線を用いたX線回折ピークのうち、32°≦2θ(回折角)≦35°に極大のあるピークの積分幅βiが0.43以上1.20以下であることを特徴とする。
【0041】
請求項23記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項22記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記積分幅βiは0.50以上1.20以下であることを特徴とする。
【0042】
請求項24記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項22又は23記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記32°≦2θ(回折角)≦35°に極大のあるピークは、酸化亜鉛の(002)回折線に基づくピークであることを特徴とする。
【0043】
請求項25記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項1記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記低放射率透明積層体は、前記中空層に接する板ガラス面上に形成されたZnを含む酸化物層である第1の誘電体層と、前記第1の誘電体層の上に形成されたAg及びPdを含む金属層と、前記金属層の上に形成されたNbを含む酸化物である犠牲層と、前記犠牲層の上に形成されたZnを含む酸化物層である第2の誘電体層と、前記第2の誘電体層の上に形成された窒化珪素から成る第1のアモルファス層と、前記第1のアモルファス層の上に形成されたZnを含む酸化物層である第3の誘電体層と、前記第3の誘電体層の上に形成された窒化珪素から成る第2のアモルファス層と、前記第2のアモルファス層の上に形成されたZnを含む酸化物層である第4の誘電体層と、前記第4の誘電体層の上に形成された窒化珪素から成る第3のアモルファス層とから成ることを特徴とする。
【0044】
請求項25記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、低放射率透明積層体は、第1の誘電体層と、金属層と、犠牲層と、第2の誘電体層と、第1のアモルファス層と、第3の誘電体層と、第2のアモルファス層と、第4の誘電体層と、第3のアモルファス層とから成るので、熱処理が施されて蒸し焼き状態になったとしても、低放射率透明積層体の耐熱性を維持することができる。
【0045】
請求項26記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項25記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記第1の誘電体層、前記金属層、前記犠牲層、前記第2の誘電体層、前記第1のアモルファス層、前記第3の誘電体層、前記第2のアモルファス層、前記第4の誘電体層、及び前記第3のアモルファス層は、膜厚がそれぞれ25〜30nm,10〜20nm,1〜10nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nmであることを特徴とする。
【0046】
請求項26記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、第1の誘電体層、金属層、犠牲層、第2の誘電体層、第1のアモルファス層、第3の誘電体層、第2のアモルファス層、第4の誘電体層、及び第3のアモルファス層は、膜厚がそれぞれ25〜30nm,10〜20nm,1〜10nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nmであるので、熱処理が施されて蒸し焼き状態になったとしても、低放射率透明積層体の耐熱性を確実に維持することができる。
【0047】
請求項27記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項25又は26記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記低放射率透明積層体は、前記中空層及び前記外周密閉部と接する最上層においてSiO2層を有することを特徴とする。
【0048】
請求項28記載の断熱・遮熱性ガラスパネルは、請求項25乃至27のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記低放射率透明積層体は前記中空層に接する板ガラス面と接する最下層においてSiO2層を有することを特徴とする。
【0049】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態に係る複層ガラスを図面を参照しながら詳述する。
【0050】
図1は、本発明の実施の形態に係る断熱・遮熱性ガラスパネルの斜視図である。
【0051】
図1において、断熱・遮熱性ガラスパネル1は、その外周縁部において低温で流動化するシール枠13を介して互いにその一方の面で向かい合うように気密的に接合されて、その間に中空層14を形成する一対の板ガラス11及び12と、中空層14内に大気圧支持部材として挿入されて板ガラス11と板ガラス12の間隔を決定するほぼ円柱状のスペーサとしてのピラー15とから成る。
【0052】
図2は、図1の線II−IIに関する断面図である。
【0053】
図2において、板ガラス11及び12は、フロート板ガラスで構成され、その厚さは2〜10mm、好ましくは2.5〜8mmの間で任意に設定されている。板ガラス12には、中空層14内を減圧状態にすべく、シール枠13によるシール面の内側の任意の位置に貫通穴16が形成されており、貫通穴16にはガラス管18が挿着され、その接触箇所が所定の方法で封着されている。また、ガラス管18の大気側の端部は所定の方法で密閉されている。
【0054】
中空層14を画成する板ガラス11の面11a、及び中空層14を画成する板ガラス12の面12aには、高い断熱性能を得るためにスパッタリング法により放射率0.1以下の低放射率透明積層体17が被覆されている。
【0055】
以下、図1の断熱・遮熱性ガラスパネル1の製造方法を説明する。
【0056】
所定の厚さを有するフロート板ガラスを用意し、このフロート板ガラスを所定のサイズに切断して板ガラス11と、板ガラス11より所定寸法だけ小さく切断した板ガラス12を作製する。次いで、この板ガラス12に、貫通穴16を加工する。
【0057】
次いで、板ガラス11の面11a及び板ガラス12の面12aに、スパッタ法によって低放射率透明積層体17を被覆する。この低放射率透明積層体17は、板ガラス11及び12のいずれか一方にのみ被覆しても良い。そして、低放射率透明積層体17が上となるように板ガラス11を水平に配置して、この板ガラス11上に所定の間隔でピラー15を配設する。この板ガラス11上にピラー15を介して板ガラス12を面12aがピラー接触面に接するように静かに重ねる。時として、この際に、シール枠13を形成する工程中にピラー15が移動しないように、板ガラス12の上に重りを載せる場合もある。
【0058】
上記重ねられた板ガラス11及び12を上記の重りを載せた状態で、一方の板ガラス12の外周縁に沿ってペースト状の低融点ガラス材料から成るシール枠13を塗布し、この低融点ガラス材料が塗布してあるガラス組み付け体全体を加熱炉内で500℃に加熱して、シール枠13を構成する低融点ガラス材料を溶融させる。次に、加熱炉内の温度を1〜20℃/min程度の降温速度で室温程度まで低下させることでガラス組み付け体を冷却し、両板ガラス11及び12の外周部間を硬化した低融点ガラスから成るシール枠13で封着して中空層14が形成される。また、上記板ガラス11及び12の封着と共に、板ガラス12には、予め加工したガラス管18を貫通穴に挿着し、その接触箇所を封着する。
【0059】
上記冷却が終了した後に、貫通穴に挿着したガラス管18に真空ポンプ取付け用の治具を介して真空ポンプを取付けて、板ガラス11及び12の全体を150℃に加熱しつつ真空ポンプにより中空層14を減圧吸引し、中空層14の内部圧力を約10〜0.01Pa程度まで減圧した後、このガラス管を封じ切り、断熱・遮熱性ガラスパネル1を作製する。
【0060】
なお、本発明の実施の形態においては、板ガラス12に貫通穴16及びガラス管18を設けて、真空ポンプを用いてガラス管18から減圧吸引することにより中空層14を減圧状態としたが、中空層14の減圧方法はこれに限るものではなく、例えば、板ガラス12に貫通穴16及びガラス管18を設けずに、真空環境下で断熱・遮熱性ガラスパネル1を製造することにより中空層14を減圧状態としてもよい。
【0061】
また、本発明の実施の形態においては、ピラー15を配設した板ガラス11上に板ガラス12を重ね、その後、シール枠13の形成を行っているが、これに限定されるものではなく、シール枠13及びピラー15が配設された板ガラス11上に板ガラス12を重ねてもよい。
【0062】
また、本発明の実施の形態では、一方の板ガラス12の外周縁に沿ってペースト状の低融点ガラス材料から成るシール枠13を塗布し、この低融点ガラス材料が塗布してあるガラス組み付け体全体を加熱炉内で500℃に加熱して、シール枠13を構成する低融点ガラス材料を溶融させ、加熱炉内の温度を1〜20℃/min程度の降温速度で室温程度まで低下させることでガラス組み付け体を冷却しているが、これに限定されるものではなく、低融点ガラス材料から成るシール枠13を480℃以上にまで加熱して、接合処理を実行し、その後、シール枠13を構成する低融点ガラス材料の温度変化に伴って、その粘度が1010パスカル秒(Pa・s)を越える前に、両板ガラス11及び12の中空層14を加熱しながら、かつ、シール枠13を構成する低融点ガラス材料の粘度を1010パスカル秒(Pa・s)以下の軟化状態に維持して、ガラス管18から400℃以上に加熱されている中空層14内の気体を吸引除去するベーキング処理を実行してもよい。
【0063】
また、本発明の実施の形態では、シール枠13の材料として低融点ガラスを用いているが、これに限定されるものではなく、例えば、インジウム、鉛、錫または亜鉛などを主成分とする金属はんだであってもよい。この場合、板ガラス11及び12を200℃に加熱しながら超音波はんだ鏝(図示せず)を使用して板ガラス11及び12の周縁部の間隙部分を金属ハンダにより封着し、周縁部のシールが完成した時点で約1℃/分のゆっくりした速度で冷却してシール枠13を形成する。
【0064】
図3は、図1における低放射率透明積層体層17の断面図である。
【0065】
図3において、低放射率透明積層体17は、透明基体としての板ガラス11,12の上に形成された結晶配向性の高い誘電体層としてZnO層31と、このZnO層31の上に形成された金属層としてのPdを含むAg層(Ag−Pd層)32と、このAg−Pd層32の上に形成された結晶配向性の高い誘電体層としてのZnO層33と、このZnO層33の上に形成されたアモルファス層としてのSiNx層34と、このSiNx層34の上に形成された結晶配向性が低くなる誘電体層としてのZnO層35と、このZnO層35の上に形成された保護機能を有する保護層としてのSiNx層36とを備える。
【0066】
上記構成により、誘電体層としてのZnO層33,35がアモルファス層としてのSiNx層34によって膜厚方向に分割され、金属層としてのAg−Pd層32がAg及びPdを含む。
【0067】
図4は、図3における低放射率透明積層体17の第1の変形例の断面図である。
【0068】
図4において、低放射率透明積層体17は、基本的構成は図3における低放射率透明積層体17と同じであるが、金属層としてのAg−Pd層32の上に形成された犠牲層としてのTiOx層41を更に備える点で異なる。このTiOx層41はZnO層33を反応スパッタリングで形成する場合に特に有効に作用する。即ち、Ag−Pd層32の上に、直接、ZnO層33を形成すると、スパッタリングの際にAg−Pd層32のおけるAgが酸素と結合し劣化しやすい。そこで、Ag−Pd層32の上にTiを形成する。すると、このTiがスパッタリングの際に生じる酸素と結合してTiOxとなりAgが酸素と結合するのを防止する。
【0069】
図5は、図3における低放射率透明積層体17の第2の変形例の断面図である。
【0070】
図5において、低放射率透明積層体17は、基本的構成は図3における低放射率透明積層体17と同じであるが、誘電体層としてのZnO層35の上に形成されたアモルファス層としてのSiNx層51と、このSiNx層51の上に形成された結晶配向性が低くなる誘電体層としてのZnO層52とを更に備える点で異なる。
【0071】
図6は、図5における低放射率透明積層体17の変形例の断面図である。
【0072】
図6において、低放射率透明積層体17は、基本的構成は図5における低放射率透明積層体17と同じであるが、Ag−Pd層32の上に形成された犠牲層としてのTiOx層41を更に備える点で異なる。
【0073】
図7は、図3における低放射率透明積層体17の第3の変形例の断面図である。
【0074】
図7において、低放射率透明積層体17は、透明基体としての板ガラス11,12の上に形成された結晶配向性の高い誘電体層としてZnO層31と、2層の金属層としてのAg−Pd層32,71と、各Ag−Pd層32,71の上に形成された犠牲層としてTiOx層41,72と、内側(板ガラス11,12に近い側)の犠牲層としてのTiOx層41の上に形成された誘電体70と、外側(板ガラス11,12に遠い側)の犠牲層としてのTiOx層72の上に形成された誘電体層としてのZnO層73と、このZnO層73の上に形成された保護機能を有する保護層としてのSiNx層36とを備える。
【0075】
この誘電体70は、内側の金属層としてのAg−Pd層32側に形成された結晶配向性の高い誘電体層としてのZnO層33と、このZnO層33の上に形成されたアモルファス層としてのSiNx層34と、このSiNx層34の上に形成された結晶配向性が低くなる誘電体層としてのZnO層35とを備える。
【0076】
図8は、図7における低放射率透明積層体17の変形例の断面図である。
【0077】
図8において、低放射率透明積層体17は、基本的構成は図7における低放射率透明積層体17と同じであるが、Ag−Pd層32,71の上に犠牲層としてのTiOx層41,72が形成されていない点で異なる。
【0078】
図9は、図7における低放射率透明積層体17の第2の変形例の断面図である。
【0079】
図9において、低放射率透明積層体17は、基本的構成は図7における低放射率透明積層体17と同じであるが、誘電体70がZnO層35の上に形成されたアモルファス層としてのSiNx層91と、このSiNx層91の上に形成された結晶配向性が低くなる誘電体層としてのZnO層92とを更に備える点で異なる。
【0080】
図10は、図9における低放射率透明積層体17の変形例の断面図である。
【0081】
図10において、低放射率透明積層体17は、基本的構成は図9における低放射率透明積層体17と同じであるが、金属層としてのAg−Pd層32,71の上に犠牲層としてのTiOx層41,72が形成されていない点で異なる。
【0082】
図11は、図7における低放射率透明積層体17の第3の変形例の断面図である。
【0083】
図11において、低放射率透明積層体17は、基本的構成は図7における低放射率透明積層体17と同じであるが、誘電体層としてのZnO層31の上に形成されたアモルファス層としてのSiNx層111と、このSiNx層111の上に形成された結晶配向性が低くなる誘電体層としてのZnO層112とを更に備える点で異なる。
【0084】
図12は、図11における低放射率透明積層体17の変形例の断面図である。
【0085】
図12において、低放射率透明積層体17は、基本的構成は図11における低放射率透明積層体17と同じであるが、誘電体層としてのZnO層73の上に形成されたアモルファス層としてのSiNx層121と、このSiNx層121の上に形成された結晶配向性が低くなる誘電体層としてのZnO層122とを更に備える点で異なる。
【0086】
本実施の形態では、図7、図9、及び図11の低放射率透明積層体17におけるAg−Pd層71の更に外側に形成されたZnO層73を結晶配向性の低いものにしなかったが、結晶性の低いものとしてもよい。
【0087】
本実施の形態では、低放射率透明積層体17は、保護層としてのSiNx層36が最上層に形成されているが、これに限定されるものではなく、SiNx層36の上にSiO2層を設けてもよい。これにより、低放射率透明積層体17をスパッタリングで板ガラス11,12上に形成する際に生じる発泡を抑制することができると共に、シール枠13が中空層14側に侵入する度合いを制御することができる。
【0088】
本実施の形態では、板ガラス11,12の上に誘電体層としてのZnO層31が形成されているが、これに限定されるものではなく、板ガラス11,12と誘電体層としてのZnO層31との間にSiO2層を設けてもよい。これにより、低放射率透明積層体17と板ガラス11,12面との接着性を向上することができ、もって低放射率透明積層体17の板ガラス11,12面からの剥離を防止することができる。
【0089】
本実施の形態では、犠牲層としてチタン層(TiOx)を用いているが、これに限定されるものではなく、例えばニオブ層(NbOx)を用いてもよい。犠牲層としてニオブ層(NbOx)を用いることにより、可視光透過率及び耐熱性を向上することができると共に、膜厚の制御を容易に行うことができる。
【0090】
上述した低放射率透明積層体17におけるアモルファス層の上に形成される誘電体層(ZnO)は図13に模式的に示されるように結晶の配向性が崩れており、また表面の平滑性が向上している。
【0091】
次に、具体的な実施例と比較例について説明する。
【0092】
(実施例1)
厚さ3mm×2500mm×1800mmの通常のフロートガラスの片側表面に、図15に示すような、カソードを5セット有した、いわゆるロードロック式インライン型マグネトロンスパッタ装置により、図3に示した構造、即ち、ガラス/ZnO/Ag−Pd/ZnO/SiNx/ZnO/SiNxから成る誘電体/金属/誘電体のサンドイッチ構造の低放射率透明積層体を膜付した。
【0093】
膜付は、洗浄した板ガラス(G)を図15に示したコーティング装置の入り口からロードロックチャンバー(1)に搬送して所定の圧力まで真空排気し、コーティングチャンバー(2)に搬送した後、コーティングチャンバー(2)中にスパッタガスを導入し、排気ポンプにより所定の圧力に調整した後、カソード(3)に電力を印加し、放電を発生させて、各カソードにセットされた材料をスパッタすることにより実施した。
【0094】
なお、本実施例では、コーティング時のガラスは特に加熱せず室温にて膜付し、当該膜付されたガラスに対して、断熱・遮熱性ガラスパネル作製における熱処理時の状態を再現すべく、500℃以上で加熱した後で、10〜20℃/min程度の降温速度で室温程度まで低下させた。
【0095】
以下にコーティングの詳細について記述する。
【0096】
まず、チャンバー中に、Arガスに酸素ガスを2%添加した混合ガスを圧力0.40Paとなるように導入し、錫(Sn)を添加した酸化亜鉛焼結体ターゲット(サイズ:3100mm×330mm)をセットしたカソード(3a)に直流30kWを印加してスパッタリングを引き起こし、カソード下でガラスを往復させることにより、第1層として錫(Sn)が添加された酸化亜鉛膜を形成した。
【0097】
次に、チャンバー中のガスをArガスに切り替え圧力を0.45Paとなるようにし、パラジウム(Pd)を添加した銀ターゲット(サイズ:3100mm×330mm)をセットしたカソード(3c)に直流14kWを印加してスパッタリングを引き起こし、カソード下にガラスを通過させることにより、第2層として金属膜を形成した。
【0098】
その次に、第1層と同様の方法で第3層の錫(Sn)が添加された酸化亜鉛膜を形成した。
【0099】
次に、チャンバー中のガスをN2ガスに切り替え、圧力を0.45Paとなるようにし、アルミニウムを10質量%添加した珪素ターゲット(サイズ:2900mm×直径150mm)をセットしたカソード(3e)に直流50kWを印加して反応性スパッタリングを引き起こし、カソード下をガラスを往復させることにより、第4層としてアルミニウムが添加された窒化珪素膜を形成した。その次に、第1層と同様の方法で第5層のアルミニウムが添加された酸化亜鉛膜を形成し、最後に、第4層と同様の方法で第6層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜を形成した。膜の厚さはガラスを通過させる速度と往復回数により調節し、第1層を10nm、第2層を9nm、第3層を26nm、第4層を5nm、第5層を9nm、第6層を7nmとした。
【0100】
(実施例2)
実施例1と同じスパッタ装置を用い、同様のフロートガラスの片側表面に、図6と同様の構成、即ちガラス/ZnO/Ag−Pd/TiOx/ZnO/SiNx/ZnO/SiNx/ZnO/SiNxから成る誘電体/金属/誘電体のサンドイッチ構造の低放射率透明積層体を以下のように膜付した。
【0101】
まず、チャンバー中に酸素ガスを圧力0.40Paとなるように導入し、亜鉛ターゲット(サイズ:3100mm×330mm)をセットしたカソード(3b)に直流55kWを印加して反応性スパッタリングを引き起こし、カソード下をガラスを往復させることにより、第1層として酸化亜鉛膜を形成した。次に、チャンバー中のガスをArガスに切り替え圧力を0.45Paとなるようにし、パラジウム(Pd)を添加した銀ターゲット(サイズ:3100mm×330mm)をセットしたカソード(3c)に直流8kWを印加し、同時に、チタンターゲット(サイズ:3100mm×330mm)をセットしたカソード(3d)に直流8kWを印加して、両カソード下をガラスを通過させることにより、第2層と第3層の金属膜とチタン膜を形成した。次に、第1層と同様の方法で第4層の酸化亜鉛膜を形成した。この第4層の酸化物膜形成時に、第3層のチタン膜は自らを酸化させることにより金属膜中の銀の劣化を防ぐいわゆる犠牲層の役割を果たす。次に、チャンバー中のガスをN2ガスに切り替え圧力を0.45Paとなるようにし、アルミニウムを10wt%添加した珪素ターゲット(サイズ:2900mm×直径150mm)をセットしたカソード(3e)に直流50kWを印加してスパッタリングを引き起こし、カソード下をガラスを往復させることにより、第5層としてアルミニウムが添加された窒化珪素膜を形成した。その次に、第1層と同様の方法で第6層の酸化亜鉛膜を形成し、第5層と同様の方法で第7層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜を形成し、第1層と同様の方法で第8層の酸化亜鉛膜を形成して、最後に、第5層と同様の方法で第9層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜を形成した。膜の厚さはガラスを通過させる速度と往復回数により調節し、第1層を27nm、第2層を13nm、第3層を6nm、第4層を8nm、第5層を10nm、第6層を13nm、第7層を7nm、第8層を9nm、第9層を7nmとした。
【0102】
(実施例3)
実施例1と同じスパッタ装置を用い、同様のフロートガラスの片側表面に、図7と同様の構成、即ちガラス/ZnO/Ag−Pd/TiOx/ZnO/SiNx/ZnO/Ag−Pd/TiOx/ZnO/SiNxから成る誘電体/金属/誘電体/金属/誘電体のサンドイッチ構造の低放射率透明積層体を以下のように膜付した。
【0103】
実施例2と同様の方法で、第1層の酸化亜鉛膜、第2層の金属膜、第3層のチタン膜(犠牲層として働いた後、酸化チタン膜)、第4層の酸化亜鉛膜、第5層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜、第6層の酸化亜鉛膜を形成した。次に、第2層、第3層と同様の方法で第7層の金属膜と第8層のチタン膜を形成し、第1層と同様の方法で第9層の酸化亜鉛膜を形成して(この時、第8層のチタン膜は第3層と同様に犠牲層として酸化される)、最後に、第5層と同様の方法で第10層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜を形成した。膜の厚さはガラスを通過させる速度と往復回数により調節し(第7層だけは電力も調整する)、第1層を13nm、第2層を6nm、第3層を3nm、第4層を45nm、第5層を6nm、第6層を25nm、第7層を13nm、第8層を3nm、第9層を22nm、第10層を8nmとした。
【0104】
(実施例4)
実施例1と同じスパッタ装置を用い、同様のフロートガラスの片側表面に、図9と同様の構成、即ちガラス/ZnO/Ag−Pd/TiOx/ZnO/SiNx/ZnO/SiNx/ZnO/Ag−Pd/TiOx/ZnO/SiNxから成る誘電体/金属/誘電体/金属/誘電体のサンドイッチ構造の低放射率透明積層体を以下のように膜付した。
【0105】
実施例2と同様の方法で、第1層の酸化亜鉛膜、第2層の金属膜、第3層のチタン膜(犠牲層として働いた後、酸化チタン膜)、第4層の酸化亜鉛膜、第5層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜、第6層の酸化亜鉛膜を形成した。次に、第5層、第6層と同様の方法で、第7層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜と第8層の酸化亜鉛膜を形成し、その次に、第2層、第3層、第4層、第5層と同様の方法で、第9層の金属膜、第10層のチタン膜、第11層の酸化亜鉛膜(この時、第10層のチタン膜は同様に犠牲層として酸化される)、第12層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜を形成した。膜の厚さはガラスを通過させる速度と往復回数により調節し(第9層だけは電力も調整する)、第1層を19nm、第2層を6nm、第3層を3nm、第4層を16nm、第5層を13nm、第6層を17nm、第7層を14nm、第8層を18nm、第9層を13nm、第10層を3nm、第11層を11nm、第12層を19nmとした。
【0106】
(実施例5)
実施例1と同じスパッタ装置を用い、同様のフロートガラスの片側表面に、図11と同様の構成、即ちガラス/ZnO/SiNx/ZnO/Ag−Pd/TiOx/ZnO/SiNx/ZnO/Ag−Pd/TiOx/ZnO/SiNxから成る誘電体/金属/誘電体/金属/誘電体のサンドイッチ構造の低放射率透明積層体を以下のように膜付した。
【0107】
第1層の酸化亜鉛膜、第2層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜、第3層の酸化亜鉛膜、第4層の金属膜、第5層のチタン膜(犠牲層として働いた後、酸化チタン膜)、第6層の酸化亜鉛膜、第7層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜、第8層の酸化亜鉛膜を形成した。
【0108】
次に、第4層、第5層、第6層と同様の方法で、第9層の金属膜、第10層のチタン膜、第11層の酸化亜鉛膜(この時、第10層のチタン膜は同様に犠牲層として酸化される)を形成して、最後に第12層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜を形成した。
【0109】
膜の厚さはガラスを通過させる速度と往復回数により調節し(第9層だけは電力も調整する)、第1層を4nm、第2層を5nm、第3層を4nm、第4層を6nm、第5層を3nm、第6層を45nm、第7層を6nm、第8層を25nm、第9層を13nm、第10層を3nm、第11層を22nm、第12層を8nmとした。
【0110】
(実施例6)
実施例1と同じスパッタ装置を用い、同様のフロートガラスの片側表面に、図12と同様の構成、即ちガラス/ZnO/SiNx/ZnO/Ag−Pd/TiOx/ZnO/SiNx/ZnO/Ag−Pd/TiOx/ZnO/SiNx/ZnO/SiNxから成る誘電体/金属/誘電体/金属/誘電体のサンドイッチ構造の低放射率透明積層体を以下のように膜付した。
【0111】
実施例5と同様の方法で、第1層の酸化亜鉛膜、第2層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜、第3層の酸化亜鉛膜、第4層の金属膜、第5層のチタン膜(犠牲層として働いた後、酸化チタン膜)、第6層の酸化亜鉛膜、第7層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜、第8層の酸化亜鉛膜を形成した。
【0112】
次に、第4層、第5層、第6層、第7層、第8層と同様の方法で、第9層の金属膜、第10層のチタン膜、第11層の酸化亜鉛膜(この時、第10層のチタン膜は同様に犠牲層として酸化される)、第12層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜、第13層の酸化亜鉛膜を形成して、最後に第14層のアルミニウムが添加された窒化珪素を形成した。
【0113】
膜の厚さはガラスを通過させる速度と往復回数により調節し(第9層だけは電力も調整する)、第1層を4nm、第2層を5nm、第3層を4nm、第4層を6nm、第5層を3nm、第6層を45nm、第7層を6nm、第8層を25nm、第9層を13nm、第10層を3nm、第11層を10nm、第12層を5nm、第13層を7nm、第14層を8nmとした。
【0114】
(比較例1)
実施例1と同じスパッタ装置を用い、同様のフロートガラスの片側表面に、ガラス/ZnO/Ag/TiOx/ZnO/Ag/TiOx/ZnO/SiNxから成る誘電体/銀/誘電体/銀/誘電体のサンドイッチ構造の低放射率透明積層体を以下のように膜付した。
【0115】
実施例3と同様の方法で、第1層の酸化亜鉛膜、第2層の銀膜、第3層のチタン膜(犠牲層として働いた後、酸化チタン膜)、第4層の酸化亜鉛膜を形成した。次に、第2層、第3層、第4層と同様の方法で、第5層の銀膜、第6層のチタン膜、第7層の酸化亜鉛膜(この時、第6層のチタン膜は同様に犠牲層として酸化される)を形成した。最後に、実施例2の第9層と同様な方法で第8層としてアルミニウムが添加された窒化珪素膜を形成した。
【0116】
膜の厚さはガラスを通過させる速度と往復回数により調節し(第9層だけは電力も調整する)、第1層を16nm、第2層を6nm、第3層を3nm、第4層を74nm、第5層を13nm、第6層を3nm、第7層を19nm、第8層を9nmとした。
【0117】
(比較例2)
比較例1と同じスパッタ装置を用い、同様のフロートガラスの片側表面に、ガラス/ZnO/Ag/TiOx/ZnO/Ag/TiOx/ZnO/SiNxから成る誘電体/銀/誘電体/銀/誘電体のサンドイッチ構造の低放射率透明積層体を以下のように膜付した。
【0118】
比較例1と同様の方法で、第1層の酸化亜鉛膜、第2層の銀膜、第3層のチタン膜(犠牲層として働いた後、酸化チタン膜)、第4層の酸化亜鉛膜、第5層の銀膜、第6層のチタン膜、第7層の酸化亜鉛膜(この時、第6層のチタン膜は同様に犠牲層として酸化される)、第8層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜を形成した。但し、第1層、第4層、第7層の酸化亜鉛膜は、平均結晶子サイズを小さくする目的で、窒素と酸素の1対1の混合ガスを用いて、ガス圧力0.40Paで反応性スパッタにより成膜した。
【0119】
このようにして得られた積層体は2500mm方向に反射色及び透過色の色ムラが生じており、均一性に問題があった。
【0120】
(比較例3)
比較例1と同じスパッタ装置を用い、同様のフロートガラスの片側表面に、ガラス/ZnO/Ag/TiOx/ZnO/Ag/TiOx/ZnO/SiNxから成る誘電体/銀/誘電体/銀/誘電体のサンドイッチ構造の低放射率透明積層体を以下のように膜付した。
【0121】
比較例1と同様の方法で、第1層の酸化亜鉛膜、第2層の銀膜、第3層のチタン膜(犠牲層として働いた後、酸化チタン膜)、第4層の酸化亜鉛膜、第5層の銀膜、第6層のチタン膜、第7層の酸化亜鉛膜(この時、第6層のチタン膜は同様に犠牲層として酸化される)、第8層のアルミニウムが添加された窒化珪素膜を形成した。但し、第1層、第4層、第7層の酸化亜鉛膜は、平均結晶子サイズを小さくする目的で、酸素ガスの圧力を1.0Paに上げて反応性スパッタにより成膜することを試みた。しかし、ガラスの移動によって真空チャンバ内のコンダクタンスが変化しガス圧力は不安定となった。
【0122】
このようにして得られた積層体は1800mm方向に反射色及び透過色の色ムラが生じており、均一性に問題があった。
(特性評価)
このようにして得られた積層体は、放射率が実施例1では0.090、実施例2では0.057、実施例3では0.035、実施例4では0.030、実施例5では0.028、実施例6では0.026、比較例1では0.040であり、また可視光透過率は、実施例1では83.0%、実施例2では74.1%、実施例3では78.1%、実施例4では78.4%、実施例5では78.6%、実施例6では78.7%、比較例1では77.5%であったので、低放射率透明積層体として申し分ない特性を有していた。
【0123】
また、積分幅βiについては実施例1では0.58、実施例2では0.76、実施例3では0.56、実施例4では0.98、実施例5では0.63、実施例6では0.68、比較例1では0.28であった。
【0124】
以下に、実施例1〜6及び比較例1の特性評価をまとめた(表1)を示す。
【0125】
【表1】
【0126】
コーティングのXRD解析をCuKα線を用いてθ−2θ法で行ったところ、いずれも酸化亜鉛の(002)回折線に基づくと思われるピークが、2θが32〜35°に現れた。この生データを実施例1、実施例3と比較例1について図16に例示する。この回折ピークに対し、Kα1,Kα2の分離、及び標準サンプルによるピーク位置とピークの拡がりの補正を行って積分幅(βi)を計算したところ、実施例1は0.58、実施例3は0.56、実施例4は0.98、比較例1は0.28であった。
【0127】
コーティングの化学的耐久性を調べるため、塩水浸漬テスト(3重量%NaCl水溶液。20℃)を行ったところ、3時間浸漬しても実施例1,2,3のコーティングには全く変化が見られなかったが、比較例1のコーティングは強い光のもとでピンホール状の反射の輝点が認められた。
【0128】
コーティングの耐擦傷性を調べるため、レスカ製スクラッチ試験機CSR−02を用いて、先端半径5μmのダイヤモンド圧子でスクラッチ試験を行ったところ、コーティングが剥離破壊を生じ始める荷重が、実施例3が26mNであるのに対し、比較例1では13mNであった。
【0129】
コーティングの耐熱性を調べるため、Agの凝集量を目視により観察したところ、比較例1においてはAgの凝集量が多く見栄えが悪いのに対し、実施例においてはAgの凝集がさほど見られず、特に実施例2においてはAgの凝集がほとんど観察できなかった。これにより、熱処理が施され、蒸し焼き状態となったとしても、実施例、特に実施例2のコーティングは劣化の度合いが小さい、即ち耐熱性が高いことが分かる。
【0130】
【発明の効果】
請求項1記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、誘電体層がアモルファス層によって膜厚方向に分割され、金属層がAg及びPdを含むので、金属層の耐久性を向上させることができ、もって製造において熱処理が施されても、遮熱性を維持することができる。
【0131】
請求項2記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、低放射率透明積層体が中空層及び外周密閉部と接する最上層においてSiO2層を有するので、低放射率透明積層体上に外周密閉部を塗布する際に生じる発泡を抑制することができると共に、外周密閉部が中空層側に侵入する度合いを制御することができる。
【0132】
請求項3記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、低放射率透明積層体は中空層に接する板ガラス面と接する最下層においてSiO2層を有するので、低放射率透明積層体と板ガラス面との接着性を向上することができ、もって低放射率透明積層体の板ガラス面からの剥離を防止することができる。
【0133】
請求項5記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、誘電体層が酸化亜鉛を主成分とする層であるので、外部から低放射率透明積層体への水分やガスの侵入を防ぐことができ、もって低放射率透明積層体の耐久性を向上させることができる。
【0134】
請求項6記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、誘電体層のうち少なくとも1層が、板ガラスから最も近い金属層を基準として、板ガラスとは反対側に位置するので、外部からの水分やガスの侵入を防ぐことができ、もって低放射率透明積層体の耐久性を向上させることができる。
【0135】
請求項13記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、低放射率透明積層体の最外層は、Si,Al,Ti,Snから成る群から選ばれた少なくとも1種の金属を含む窒化物、酸窒化物、又はアモルファス酸化物から成る保護層とされているので、低放射率透明積層体の耐久性をさらに向上させることができる。
【0136】
請求項16記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、アモルファス層は少なくとも1層が窒化珪素から成るので、低放射率透明積層体の耐久性や耐磨耗性、及びガラスパネルの断熱性を向上させることができる。
【0137】
請求項20記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、犠牲層はNbを含む酸化物であるので、可視光透過率及び耐熱性を向上することができると共に、膜厚の制御を容易に行うことができる。
【0138】
請求項25記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、低放射率透明積層体は、第1の誘電体層と、金属層と、犠牲層と、第2の誘電体層と、第1のアモルファス層と、第3の誘電体層と、第2のアモルファス層と、第4の誘電体層と、第3のアモルファス層とから成るので、熱処理が施されて蒸し焼き状態になったとしても、低放射率透明積層体の耐熱性を維持することができる。
【0139】
請求項26記載の断熱・遮熱性ガラスパネルによれば、第1の誘電体層、金属層、犠牲層、第2の誘電体層、第1のアモルファス層、第3の誘電体層、第2のアモルファス層、第4の誘電体層、及び第3のアモルファス層は、膜厚がそれぞれ25〜30nm,10〜20nm,1〜10nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nmであるので、熱処理が施されて蒸し焼き状態になったとしても、低放射率透明積層体の耐熱性を確実に維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係る断熱・遮熱性ガラスパネルの斜視図である。
【図2】図1の線II−IIに関する断面図である。
【図3】図1における低放射率透明積層体17の断面図である。
【図4】図3における低放射率透明積層体17の第1の変形例の断面図である。
【図5】図3における低放射率透明積層体17の第2の変形例の断面図である。
【図6】図5における低放射率透明積層体17の変形例の断面図である。
【図7】図3における低放射率透明積層体17の第3の変形例の断面図である。
【図8】図7における低放射率透明積層体17の変形例の断面図である。
【図9】図7における低放射率透明積層体17の第2の変形例の断面図である。
【図10】図9における低放射率透明積層体17の変形例の断面図である。
【図11】図7における低放射率透明積層体17の第3の変形例の断面図である。
【図12】図11における低放射率透明積層体17の変形例の断面図である。
【図13】アモルファス層により膜厚方向に分割された誘電体層の模式図
【図14】従来の誘電体層の結晶成長模式図(柱状結晶構造)
【図15】低放射率透明積層体を施すために用いたスパッタ装置の概略構成図
【図16】結晶配向性を示すX線回折グラフ
【符号の説明】
1 断熱・遮熱性ガラスパネル
11 板ガラス
12 板ガラス
13 シール枠
14 中空層
15 ピラー
17 低放射率透明積層体
33 ZnO層
34 SiNx層
35 ZnO層
Claims (28)
- 間に中空層を形成すべくピラーを介して所定の間隔を隔てて配設された一対の板ガラスと、前記一対の板ガラスの周縁部において前記中空層を気密に密閉する外周密閉部とから成る断熱・遮熱性ガラスパネルにおいて、前記中空層に接する板ガラス面に、誘電体層と金属層とを積層した低放射率透明積層体が形成され、前記誘電体層がアモルファス層によって膜厚方向に分割され、前記金属層がAg及びPdを含むことを特徴とする断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記低放射率透明積層体は、前記中空層及び前記外周密閉部と接する最上層においてSiO2層を有することを特徴とする請求項1記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記低放射率透明積層体は前記中空層に接する板ガラス面と接する最下層においてSiO2層を有することを特徴とする請求項1又は2記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記アモルファス層によって分割される誘電体層は、Zn、Sn,Ti,In,Biから成る群から選ばれた少なくとも1種の金属を含む酸化物層であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記アモルファス層によって分割される誘電体層は酸化亜鉛を主成分とする層であることを特徴とする請求項4記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記アモルファス層によって分割される誘電体層のうち少なくとも1層は、前記板ガラスから最も近い金属層を基準として、前記板ガラスとは反対側に位置することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記金属層は1層とされ、前記アモルファス層によって分割される誘電体層は当該金属層を基準として、前記板ガラスと反対側に位置することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記金属層は2層以上設けられ、前記アモルファス層によって分割される誘電体層のうち少なくとも1層は、前記板ガラスから最も遠い金属層を基準として、前記板ガラス側に位置することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記アモルファス層は、窒化物層、酸窒化物層、アモルファス酸化物層から成る群から選ばれた少なくとも1層から成ることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記窒化物層は、Si,Al,Ti,Snから成る群から選ばれた少なくとも1種の金属を含む窒化物から成ることを特徴とする請求項9記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記酸窒化物層は、Si,Al,Ti,Snから成る群から選ばれた少なくとも1種の金属を含む酸窒化物から成ることを特徴とする請求項9記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記アモルファス酸化物層は、Si,Al,Ti,Snから成る群から選ばれた少なくとも1種の金属を含むアモルファス酸化物から成ることを特徴とする請求項9記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記低放射率透明積層体の最外層は、Si,Al,Ti,Snから成る群から選ばれた少なくとも1種の金属を含む窒化物、酸窒化物、又は、アモルファス酸化物から成る保護層とされていることを特徴とする請求項1乃至12のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記アモルファス層の膜厚は3nm以上30nm以下であることを特徴とする請求項1乃至13のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記アモルファス層の膜厚は5nm以上20nm以下であることを特徴とする請求項14記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記アモルファス層の少なくとも1層は窒化珪素から成ることを特徴とする請求項1乃至15のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記誘電体層は全て酸化亜鉛を主成分とする層であることを特徴とする請求項1乃至16のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記金属層と前記誘電体層の界面のうち前記板ガラスから遠い方の界面に、前記金属層の成膜中における劣化を防止する犠牲層が挿入されたことを特徴とする請求項1乃至17のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記犠牲層はTiを含む酸化物であることを特徴とする請求項18記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記犠牲層はNbを含む酸化物であることを特徴とする請求項18記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記金属層はAgを主成分とすることを特徴とする請求項1乃至20のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記低放射率透明積層体は、CuKα線を用いたX線回折ピークのうち、32°≦2θ(回折角)≦35°に極大のあるピークの積分幅βiが0.43以上1.20以下であることを特徴とする請求項1乃至21のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記積分幅βiは0.50以上1.20以下であることを特徴とする請求項22記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記32°≦2θ(回折角)≦35°に極大のあるピークは、酸化亜鉛の(002)回折線に基づくピークであることを特徴とする請求項22又は23記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記低放射率透明積層体は、前記中空層に接する板ガラス面上に形成されたZnを含む酸化物層である第1の誘電体層と、前記第1の誘電体層の上に形成されたAg及びPdを含む金属層と、前記金属層の上に形成されたNbを含む酸化物である犠牲層と、前記犠牲層の上に形成されたZnを含む酸化物層である第2の誘電体層と、前記第2の誘電体層の上に形成された窒化珪素から成る第1のアモルファス層と、前記第1のアモルファス層の上に形成されたZnを含む酸化物層である第3の誘電体層と、前記第3の誘電体層の上に形成された窒化珪素から成る第2のアモルファス層と、前記第2のアモルファス層の上に形成されたZnを含む酸化物層である第4の誘電体層と、前記第4の誘電体層の上に形成された窒化珪素から成る第3のアモルファス層とから成ることを特徴とする請求項1記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記第1の誘電体層、前記金属層、前記犠牲層、前記第2の誘電体層、前記第1のアモルファス層、前記第3の誘電体層、前記第2のアモルファス層、前記第4の誘電体層、及び前記第3のアモルファス層は、膜厚がそれぞれ25〜30nm,10〜20nm,1〜10nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nm,1〜20nmであることを特徴とする請求項25記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記低放射率透明積層体は、前記中空層及び前記外周密閉部と接する最上層においてSiO2層を有することを特徴とする請求項25又は26記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
- 前記低放射率透明積層体は前記中空層に接する板ガラス面と接する最下層においてSiO2層を有することを特徴とする請求項25乃至27のいずれか1項に記載の断熱・遮熱性ガラスパネル。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003152864A JP2004352567A (ja) | 2003-05-29 | 2003-05-29 | 断熱・遮熱性ガラスパネル |
EP04732781A EP1642872A1 (en) | 2003-05-29 | 2004-05-13 | Heat insulating/heat shielding glass panel |
CNB2004800149097A CN100422103C (zh) | 2003-05-29 | 2004-05-13 | 绝热-保温性玻璃嵌板 |
PCT/JP2004/006769 WO2004106255A1 (ja) | 2003-05-29 | 2004-05-13 | 断熱・遮熱性ガラスパネル |
KR1020057022357A KR20060027316A (ko) | 2003-05-29 | 2004-05-13 | 단열·방열성 유리 패널 |
US11/289,231 US7282248B2 (en) | 2003-05-29 | 2005-11-28 | Heat insulating and shielding glass panel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003152864A JP2004352567A (ja) | 2003-05-29 | 2003-05-29 | 断熱・遮熱性ガラスパネル |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004352567A true JP2004352567A (ja) | 2004-12-16 |
Family
ID=33487271
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003152864A Withdrawn JP2004352567A (ja) | 2003-05-29 | 2003-05-29 | 断熱・遮熱性ガラスパネル |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7282248B2 (ja) |
EP (1) | EP1642872A1 (ja) |
JP (1) | JP2004352567A (ja) |
KR (1) | KR20060027316A (ja) |
CN (1) | CN100422103C (ja) |
WO (1) | WO2004106255A1 (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007191384A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-08-02 | Central Glass Co Ltd | 低放射ガラス |
JP2008524030A (ja) * | 2004-12-17 | 2008-07-10 | エージーシー フラット グラス ノース アメリカ,インコーポレイテッド | 光学膜のための耐傷性空気酸化性保護層 |
JP2009514770A (ja) * | 2005-11-08 | 2009-04-09 | サン−ゴバン グラス フランス | 熱的性質を有する多層コーティングを備えた基板 |
JP2009528973A (ja) * | 2006-03-06 | 2009-08-13 | サン−ゴバン グラス フランス | 熱特性を有する積層体を備えた基材 |
KR101359480B1 (ko) * | 2005-11-08 | 2014-02-07 | 쌩-고벵 글래스 프랑스 | 열적 특성을 지닌 스택이 장착된 기판 |
WO2014103301A1 (ja) * | 2012-12-28 | 2014-07-03 | 日本板硝子株式会社 | 減圧複層ガラスパネル |
JP2016538229A (ja) * | 2013-09-03 | 2016-12-08 | ガーディアン インダストリーズ コーポレイションGuardian Industries Corp. | 日射熱取得係数(shgc)対熱膨張係数(u値)の比率を増加させた二重銀コーティングを含む断熱ガラス(ig)窓ユニット、及びig窓ユニット又はその他の窓に使用するための対応する被覆製品 |
WO2017047983A1 (ko) * | 2015-09-14 | 2017-03-23 | (주)엘지하우시스 | 창호용 기능성 건축 자재 |
WO2018179908A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | ガラスパネルユニットの製造方法、およびガラス窓の製造方法 |
JPWO2018221208A1 (ja) * | 2017-05-31 | 2020-04-02 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | ガラスパネルユニットの製造方法及びガラス窓の製造方法 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
PL1978199T3 (pl) * | 2007-04-05 | 2017-01-31 | Grenzebach Maschinenbau Gmbh | Element budowlany z izolowaną próżniowo szybą zespoloną oraz sposób i urządzenie do jego wytwarzania |
US8186113B2 (en) * | 2007-07-09 | 2012-05-29 | Raytheon Canada Limited | Building window having a visible-light-reflective optical interference coating thereon |
US7901781B2 (en) * | 2007-11-23 | 2011-03-08 | Agc Flat Glass North America, Inc. | Low emissivity coating with low solar heat gain coefficient, enhanced chemical and mechanical properties and method of making the same |
KR101302273B1 (ko) * | 2008-08-14 | 2013-09-02 | (주)엘지하우시스 | 저방사 유리 및 이의 제조방법 |
US8603397B2 (en) * | 2009-05-12 | 2013-12-10 | The Procter & Gamble Company | Dispenser for dispensing volatile compositions |
WO2017170076A1 (ja) | 2016-03-31 | 2017-10-05 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | ガラスパネルユニットの製造方法、建具の製造方法、ガラスパネルユニットの製造装置、及びガラスパネルユニット |
CN114105498B (zh) * | 2021-12-21 | 2023-04-25 | 龙岩学院 | 防紫外线节能隔热玻璃及其智能生产线 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07115355B2 (ja) | 1986-07-25 | 1995-12-13 | ヤマハ発動機株式会社 | 繊維強化プラスチツク製品の成形用金型 |
JPS63134232A (ja) | 1986-11-27 | 1988-06-06 | 旭硝子株式会社 | 高透過率を有する赤外反射物品 |
JPH0832436B2 (ja) | 1986-11-27 | 1996-03-29 | 旭硝子株式会社 | 透明導電性積層体 |
JP2882728B2 (ja) | 1993-06-29 | 1999-04-12 | セントラル硝子株式会社 | 熱遮断ガラスおよびそれを用いた複層ガラス |
JPH08104547A (ja) | 1994-08-01 | 1996-04-23 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 断熱ガラス |
JPH08104758A (ja) * | 1994-10-04 | 1996-04-23 | Mitsubishi Chem Corp | ポリカーボネート粉粒体及びその製造方法 |
JPH0971441A (ja) | 1995-09-04 | 1997-03-18 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 高耐久性低熱輻射多層膜構造 |
JPH10236848A (ja) * | 1997-02-26 | 1998-09-08 | Sun Tec Corp Kk | 低放射率板ガラス |
EP0922681B2 (fr) * | 1997-12-11 | 2007-09-05 | Saint-Gobain Glass France | Substrat transparent muni de couches minces à propriétés de réflexion dans l'infrarouge |
JP2000302486A (ja) * | 1999-04-15 | 2000-10-31 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 日射遮蔽性透光板およびこれを用いた日射遮蔽性複層透光板 |
JPH11268932A (ja) | 1998-03-23 | 1999-10-05 | Asahi Techno Glass Corp | 磁気記録媒体用ガラス基板およびその製造方法 |
US6497931B1 (en) * | 2000-01-11 | 2002-12-24 | Guardian Industries Corp. | Vacuum IG unit with colored spacers |
JP2002211956A (ja) * | 2000-10-23 | 2002-07-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 透光性基板とその製造方法及び建物と乗り物 |
JP4733880B2 (ja) * | 2001-09-25 | 2011-07-27 | 日本板硝子株式会社 | 低放射率透明積層体の製造方法 |
JP4003921B2 (ja) * | 2001-09-27 | 2007-11-07 | 日本板硝子株式会社 | 熱線遮蔽ガラス及びこれを用いた複層ガラス |
-
2003
- 2003-05-29 JP JP2003152864A patent/JP2004352567A/ja not_active Withdrawn
-
2004
- 2004-05-13 KR KR1020057022357A patent/KR20060027316A/ko not_active Application Discontinuation
- 2004-05-13 CN CNB2004800149097A patent/CN100422103C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-05-13 EP EP04732781A patent/EP1642872A1/en not_active Withdrawn
- 2004-05-13 WO PCT/JP2004/006769 patent/WO2004106255A1/ja active Application Filing
-
2005
- 2005-11-28 US US11/289,231 patent/US7282248B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008524030A (ja) * | 2004-12-17 | 2008-07-10 | エージーシー フラット グラス ノース アメリカ,インコーポレイテッド | 光学膜のための耐傷性空気酸化性保護層 |
JP2009514770A (ja) * | 2005-11-08 | 2009-04-09 | サン−ゴバン グラス フランス | 熱的性質を有する多層コーティングを備えた基板 |
KR101358826B1 (ko) * | 2005-11-08 | 2014-02-06 | 쌩-고벵 글래스 프랑스 | 열적 성질을 가진 스택을 구비한 기재 |
KR101359480B1 (ko) * | 2005-11-08 | 2014-02-07 | 쌩-고벵 글래스 프랑스 | 열적 특성을 지닌 스택이 장착된 기판 |
JP2007191384A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-08-02 | Central Glass Co Ltd | 低放射ガラス |
JP2009528973A (ja) * | 2006-03-06 | 2009-08-13 | サン−ゴバン グラス フランス | 熱特性を有する積層体を備えた基材 |
KR101400421B1 (ko) | 2006-03-06 | 2014-05-26 | 쌩-고벵 글래스 프랑스 | 열 특성을 갖는 스택을 포함하는 기판 |
JP5989802B2 (ja) * | 2012-12-28 | 2016-09-07 | 日本板硝子株式会社 | 減圧複層ガラスパネル |
WO2014103301A1 (ja) * | 2012-12-28 | 2014-07-03 | 日本板硝子株式会社 | 減圧複層ガラスパネル |
US9856692B2 (en) | 2012-12-28 | 2018-01-02 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Reduced pressure double glazed glass panel |
JP2016538229A (ja) * | 2013-09-03 | 2016-12-08 | ガーディアン インダストリーズ コーポレイションGuardian Industries Corp. | 日射熱取得係数(shgc)対熱膨張係数(u値)の比率を増加させた二重銀コーティングを含む断熱ガラス(ig)窓ユニット、及びig窓ユニット又はその他の窓に使用するための対応する被覆製品 |
WO2017047983A1 (ko) * | 2015-09-14 | 2017-03-23 | (주)엘지하우시스 | 창호용 기능성 건축 자재 |
US10287208B2 (en) | 2015-09-14 | 2019-05-14 | Lg Hausys, Ltd. | Functional building material for windows and doors |
WO2018179908A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | ガラスパネルユニットの製造方法、およびガラス窓の製造方法 |
JPWO2018179908A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2020-01-23 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | ガラスパネルユニットの製造方法、およびガラス窓の製造方法 |
JPWO2018221208A1 (ja) * | 2017-05-31 | 2020-04-02 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | ガラスパネルユニットの製造方法及びガラス窓の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20060027316A (ko) | 2006-03-27 |
WO2004106255A1 (ja) | 2004-12-09 |
US7282248B2 (en) | 2007-10-16 |
CN1798709A (zh) | 2006-07-05 |
US20060083873A1 (en) | 2006-04-20 |
CN100422103C (zh) | 2008-10-01 |
EP1642872A1 (en) | 2006-04-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7282248B2 (en) | Heat insulating and shielding glass panel | |
JP4052941B2 (ja) | 低放射率透明積層体 | |
JP4310872B2 (ja) | ガラス積層体、機能性透明物品およびその製造方法 | |
KR20140012998A (ko) | Ni 및/또는 Ti를 포함하는 배리어층, 배리어층을 함유하는 코팅된 물품, 및 이를 제조하는 방법 | |
KR102565397B1 (ko) | 저방사율 코팅, 그를 포함하는 유리 표면, 및 그를 제조하는 방법 | |
US20160272537A1 (en) | Nickel-aluminum blocker film low-emissivity coatings | |
US10563451B2 (en) | Nickel-aluminum blocker film controlled transmission coating | |
CN112250322A (zh) | 一种单银层low-e真空玻璃 | |
EP2557932B1 (en) | Method of making coated article having anti-bacterial and/or anti-microbial coating | |
AU2016213183B2 (en) | Coated glass sheet and insulated glazing | |
JP4733880B2 (ja) | 低放射率透明積層体の製造方法 | |
KR102269782B1 (ko) | 차폐성능이 향상된 열처리 가능한 저방사 유리 및 그 제조방법 | |
JP2019518708A (ja) | 太陽光線制御グレイジング | |
JP2019182684A (ja) | 低放射ガラス | |
WO2021049179A1 (ja) | 積層体および複層ガラス | |
KR20170068182A (ko) | 단열·방열성 유리 패널 | |
JPH08293379A (ja) | 透明積層体 | |
JP2006143525A (ja) | 複層ガラス | |
JPH0597476A (ja) | 熱処理可能な断熱ガラスおよびその製法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060124 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20060124 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20090109 |