JP2004326096A - 平板表示素子 - Google Patents

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Abstract

【課題】画面上に縞を生じさせずに画像品質が向上した平板表示素子を提供することを目的とする。
【解決手段】駆動薄膜トランジスタ、前記駆動薄膜トランジスタによって駆動される第1電極、及び前記第1電極と共に発光部を駆動する第2電極を具備したサブピクセルがマトリックス状に配列された平板表示素子であって、前記駆動薄膜トランジスタの半導体チャンネルを形成する半導体層には直線状の不均一部が所定の間隔で形成されており、1列の駆動薄膜トランジスタの半導体チャンネルそれぞれを接続する仮想線L2は前記不均一部と平行しないことを特徴とする平板表示素子。これにより、各半導体チャンネルが不均一部を含まないためにサブピクセル間に輝度差がなく、したがって非常に均一な輝度を示して画像の品質が向上するという長所がある。
【選択図】図9

Description

本発明は平板表示素子に係り、より詳細には駆動薄膜トランジスタを具備したアクティブマトリックス平板表示素子に関する。
図1には通常の平板表示素子の回路図が図示されており、図2には図1のA部分の構成が概略的に図示されており、図3には図1のB部分の構成が概略的に図示されているが、図3に図示された駆動薄膜トランジスタ50は図4(A)及び図4(B)のような断面を有する。ここで、図4(A)は平板表示素子が電界発光素子である場合であり、図4(B)は平板表示素子が液晶表示素子である場合であるが、いずれの場合にも駆動薄膜トランジスタの構成は同一または類似しているといえる。
図4(A)及び図4(B)から分かるように、前記駆動薄膜トランジスタ50の通電チャンネルを形成する半導体チャンネル80は基板81、91上に形成されたバッファ層82、92上に形成されるが、この半導体チャンネルが多結晶質半導体層で形成される場合には、図5に図示されたように非晶質半導体層80aにレーザー光線80cを照射して多結晶質半導体層80bに結晶化する。このようなレーザー光線を利用した半導体層の結晶化方法、すなわちELA(Excimer Laser Annealing)方法は米国特許第6,495,405号公報に開示されている。前記結晶化において、幅が狭いレーザー光線で広い面積の非晶質半導体層を結晶化するためには、非晶質半導体層の一領域にレーザーを照射した後、図5に図示された矢印方向の側方向に一定距離だけシフトを反復する。この時、前記シフトされる距離はレーザー光線の幅より狭く、通常的に前記レーザー光線の幅の1%〜15%程度シフトされるので、80%〜99%の領域はオーバーラップされて結晶化される。このような方法で結晶化を進めれば一領域は数回にかけてレーザー光線を照射されて結晶化される。
しかし、このような方法で結晶化された多結晶質半導体層には図6に図示されたような直線状の縞Mが形成されるが、この縞は他の部分とその特性が異なるので不均一部と称する。この不均一部Mは、レーザー光線自体の不安定性及びエッジ部の光不均一性によって形成されるものと推定され、この部分は駆動薄膜トランジスタの作動条件によって他の領域とは異なる導電性を有するために画像の輝度不均一性の原因となる。このような事項は図7に図示された半導体層の位置による導電性グラフ(90%のオーバーラップ条件)から分かるところ、前記導電性は前記不均一部の位置に対応して反復性を有する。
図8には、前記不均一部の位置を考慮せずに一列L1に沿って配列された従来の平板表示素子の半導体チャンネルが図示されているが、半導体チャンネルの黒/白で図示されたように半導体チャンネルの一部列は前記不均一部を含んでおらず、他の一部列は不均一部を含んでいる。
米国特許第6,495,405号公報
したがって、半導体チャンネルの導電性に差が発生するが、このためにサブピクセルに同じ信号が与えられても、不均一部を有する駆動薄膜トランジスタを具備したサブピクセルの発光部60と不均一部のない駆動薄膜トランジスタを具備したサブピクセルの発光部60間には輝度差があり、これは画面上に縞を生じさせて画像品質を低下させるという問題を引き起こす。
本発明は、前記のような問題を解決して、画面上に縞を生じさせずに画像品質が向上した平板表示素子を提供することを目的とする。
前記のような目的を達成するために本発明は、駆動薄膜トランジスタ、前記駆動薄膜トランジスタによって駆動される第1電極、及び前記第1電極と共に発光部を駆動する第2電極を具備したサブピクセルがマトリックス状に配列された平板表示素子であって、前記駆動薄膜トランジスタは半導体層から形成された半導体チャンネルを含み、前記半導体層上には直線状の不均一部が互いに離隔されており、1列の駆動薄膜トランジスタの半導体チャンネルそれぞれを接続する仮想線は前記不均一部と平行しないことを特徴とする平板表示素子を提供する。
前記駆動薄膜トランジスタの半導体チャンネルを接続する仮想線は直線でないことが望ましく、ジグザグ状になっていることがさらに望ましい。また、前記ジグザグ状は規則的なジグザグ状であることもあり、不規則的なジグザグ状であることもある。さらに、前記ジグザグ状は2段のジグザグ状であることもあり、3段のジグザグ状であることもある。前記不均一部は一定の間隔で形成され、前記ジグザグ状の幅は前記不均一部の幅より大きいことが望ましい。
また、前記のような目的を達成するために本発明は、駆動薄膜トランジスタ、前記駆動薄膜トランジスタによって駆動される第1電極、及び前記第1電極と共に発光部を駆動する第2電極を具備したサブピクセルがマトリックス状に配列された平板表示素子であって、前記駆動薄膜トランジスタは半導体層から形成された半導体チャンネルを含み、前記半導体層上には直線状の不均一部が互いに離隔されており、前記駆動薄膜トランジスタの半導体チャンネルそれぞれは少なくとも一つの不均一部を具備したことを特徴とする平板表示素子を提供する。前記半導体チャンネルそれぞれは同数の不均一部を具備することが望ましい。前記駆動薄膜トランジスタの半導体チャンネルは、非結晶質シリコンを多結晶質シリコンに結晶化させるために照射されるレーザービームの幅と、前記レーザービームがオーバーラップされていない部分の比率とを乗算した数値の長さを有することが望ましい。
さらに、前記のような目的を達成するために本発明は、駆動薄膜トランジスタ、前記駆動薄膜トランジスタによって駆動される第1電極、及び前記第1電極と共に発光部を駆動する第2電極を具備したサブピクセルがマトリックス状に配列された平板表示素子であって、前記駆動薄膜トランジスタは半導体層から形成された半導体チャンネルを含み、前記半導体層上には直線状の不均一部が互いに離隔されており、前記駆動薄膜トランジスタの半導体チャンネルは前記不均一部間に形成されたことを特徴とする平板表示素子を提供する。前記不均一部は一定の間隔で形成される。
本実施例によれば、各半導体チャンネルが不均一部を含まないためにサブピクセル間に輝度差がなく、したがって非常に均一な輝度を示して画像の品質が向上するという長所がある。
添付された図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図9には本発明の第1実施例による平板表示素子のサブピクセルが図示されており、図10には第1実施例による平板表示素子の半導体チャンネルの配列が図示されている。また、この平板表示素子の回路図は図1に図示されており、一サブピクセルの構造は図3に概略的に図示されており、平板表示素子の例として図4(A)には電界発光素子が図示されており、図4(B)には液晶表示素子が図示されている。
前記平板表示素子は、駆動薄膜トランジスタ50、前記駆動薄膜トランジスタによって駆動される第1電極61、及び前記第1電極と共に発光部を駆動する第2電極62を具備したサブピクセルがマトリックス状に配列された平板表示素子である。前記駆動薄膜トランジスタの半導体チャンネル80は多結晶質シリコンで形成された半導体層80bがエッチングされることによって形成されるが、前記半導体層には直線状の不均一部Mが所定の間隔で形成されており、したがって、前記駆動薄膜トランジスタの半導体チャンネルにはその位置によって不均一部が含まれることもあり、含まれないこともある。前記不均一部の間隔は一定であることが一般的であるが、一定でない場合もありうる。
前記駆動薄膜トランジスタ50は各サブピクセル毎に個別的に接続されてほぼマトリックス状に配列されるが、第1方向に配列された1列の薄膜トランジスタが前記第1方向に直交する第2方向に配列されることによって全体的にマトリックス状に配列される。前記第1方向とは、例えば第3導線70が延びた方向でもあり、これに直交する方向でもある。また、駆動薄膜トランジスタの一部を構成する半導体チャンネルもほぼマトリックス状に配列される。
本実施例において、前記1列の駆動薄膜トランジスタの半導体チャンネルはこれらそれぞれを接続する仮想線L2が前記不均一部Mと平行しないように配列される。前記1列の半導体チャンネルを不均一部と平行しないように配列する方法は多様であるが、例えば、1列の半導体チャンネルを全体的に対角線状に配列する場合(図示せず)がある。この場合には、前記1列の半導体チャンネルを接続する仮想線が直線をなすが、前記不均一部と所定の角度をなすので不均一部と平行にならない。
1列の半導体チャンネルの他の配列方法として、半導体チャンネルが直線を形成しないように配列する方法がある。その代表的な方法としては、図9及び図10に図示されたようにこれらをジグザグ状に配列する方法がある。この場合には1列をなす半導体チャンネルが規則的にジグザグ状L2で配列されている。本実施例では不均一部の間隔が一定である場合を想定しているが、この場合に前記ジグザグ状の幅、すなわち半導体チャンネルを接続する仮想線L2の最右側地点と最左側地点間の水平距離は前記不均一部Mの幅より長いことが望ましい。前記ジグザグ状の幅が狭すぎれば前記仮想線L2が実質的に直線と同一になるからである。
図10には、半導体チャンネルのうち不均一部Mを含んでいる半導体チャンネルはその内部を黒く表示し、不均一部を含んでいない半導体チャンネルはその内部を白く図示した。半導体チャンネルを図10に図示されたように規則的なジグザグ状に配列することによって、1列の半導体チャンネル全体が不均一部を含んでいる場合と、1列の半導体チャンネル全体が不均一部を含んでいない場合とが防止される。したがって、不均一部を含んでいるかどうかによる輝度差が1列に発生せずに画面全体に均一に分布され、結局作動時に画面上に縞が生じなくなる。輝度差を有するサブピクセルが画面全体に均一に分布されれば、輝度差を肉眼で識別し難くて画像の品質が向上する。
第1実施例の変形例として、2以上の隣接した半導体チャンネルを縛ってジグザグに配列する場合がありえる。すなわち、ジグザグ状が図10に図示されたように左側及び右側に折れる2段ジグザグ状である場合に、左側に2つの半導体チャンネルが連続して配置され、その次に右側に2つの半導体チャンネルが連続して配置される形態が反復されたジグザグ状も可能である。もちろん3つの半導体チャンネルを縛ってジグザグ状に配列することもできる。
以下、前記平板表示素子の全体的な構成及び作動について説明する。
図1には平板表示素子に使われる回路の一実施例が図示されている。前記回路はスイッチング薄膜トランジスタ10、駆動薄膜トランジスタ50、ストレージキャパシタ40、及び発光部60を具備するが、前記スイッチング薄膜トランジスタの第1ソース電極12は第1導線20によって水平駆動回路Hに接続され、スイッチング薄膜トランジスタの第1ゲート電極11は第2導線30によって垂直駆動回路Vに接続され、スイッチング薄膜トランジスタの第1ドレイン電極13はストレージキャパシタの第1キャパシタ電極41及び駆動薄膜トランジスタ50の第2ゲート電極51と接続される。前記ストレージキャパシタの第2キャパシタ電極42及び駆動薄膜トランジスタの第2ソース電極52は第3導線70と接続され、駆動薄膜トランジスタの第2ドレイン電極53は発光部60の第1電極61と接続され、発光部の第2電極62は前記第1電極と所定の間隙をおいて第1電極に対向して配置され、第1電極と第2電極間には平板表示素子の種類によって有機物、無機物、または液晶などが配置される。
図3には、前記スイッチング薄膜トランジスタ10及び駆動薄膜トランジスタ50を具備した平板表示素子の一サブピクセルが図示されている。図3には電気が通じる部分だけ図示され、図4(A)及び図4(B)に図示された基板81、91、バッファ層82、92、各種絶縁層83、84、85、平坦化層86、発光層87、液晶層98、第2電極62、偏光層103、配向層97、99、カラーフィルタ層101は図示されなかった。図3の各構成部分が重なった部分のうち、斜線が引かれた部分だけ通電されるように接続されている。
前記第1ゲート電極11に電圧が印加されれば第1ソース電極12と第1ドレイン電極13とを接続する半導体チャンネルに導電チャンネルが形成されるが、この時、前記第1導線によって第1ソース電極12に電荷が供給されれば第1ドレイン電極13に電荷が移動する。第3導線70には前記一サブピクセルによって表現される輝度を決定する電荷量が供給され、前記第1ドレイン電極によって第2ゲート電極51に電荷が供給されれば第2ソース電極52の電荷が第2ドレイン電極53に移動して発光部の第1電極53(61)を駆動する。前記ストレージキャパシタ40は第1電極の作動を維持するかまたは駆動速度を向上させる機能を行う。参考的に、前記スイッチング薄膜トランジスタと駆動薄膜トランジスタとの断面構造は互いに類似しており、接続される隣接構成要素は相異なる。
図4(A)に図示された電界発光素子は基板81、駆動薄膜トランジスタ50、第1導線20、第2導線30、及び第1電極61、発光層87、及び第2電極62を具備する。電界発光素子が背面発光型である場合には前記基板81が透明な素材、例えばガラスで形成され、前記第2電極はアルミニウムのように反射率の良好な金属素材で形成されることが望ましい。電界発光素子が全面発光型の場合には前記第2電極が透明な導電体、例えばITOで形成され、第1電極は反射率が良い金属素材で形成されることが望ましい。
前記基板上には全体的にバッファ層82が形成され、その上には半導体層80が形成され、その上には全体的に第1絶縁層83が形成され、その上には第2ゲート電極51が所定パターンで形成され、その上には全体的に第2絶縁層84が形成される。第2絶縁層が形成された後にはドライエッチングなどの工程によって前記第1絶縁層及び第2絶縁層をエッチングして前記半導体層から半導体チャンネル80を形成し、その一部分を所定のパターンで形成される第2ソース電極52及び第2ドレイン電極53と接続させる。前記第2ソース電極52及び第2ドレイン電極53が形成された後にはこれら上に第3絶縁層85を形成し、その一部をエッチングして第2ドレイン電極53と第1電極61との導電通路を形成する。前記第3絶縁層上に第1電極を形成した後には平坦化層86を形成し、第1電極に対応する部分をエッチングする。その後、前記第1電極上に発光層87を形成し、発光層上に第2電極62を形成する。
前記駆動薄膜トランジスタ50は第2ソース電極52、第2ドレイン電極53、第2ゲート電極51、及び半導体チャンネル80を具備するが、一般的に前記第2ソース電極52と第2ドレイン電極53とは同じ水平面上で互いに間隙をおいて配置されるものの前記半導体チャンネル80によって通電されるようにそれぞれ半導体チャンネルと接続され、前記第2ゲート電極51は第2ソース電極、第2ドレイン電極、及び半導体チャンネルと絶縁されるものの前記半導体チャンネルの上側、そして第2ソース電極と第2ドレイン電極間に配置される。一方、薄膜トランジスタは前記電極及び半導体層の配置構造によってスタガ型、逆スタガ型及びコプラナー型、逆コプラナー型に区切られるが、本実施例ではコプラナー型を例として説明するが、本発明がこれに限定されることではない。本実施例においては前記第1導線はデータを伝送するデータラインに該当し、第2導線はスキャンラインに該当するとする。
図4(A)を参照して電界発光素子の構造を詳細に説明する。電界発光素子においては前記第1電極61上に発光層87が形成され、前記発光層上に第2電極62が形成される。電界発光素子は有機電界発光素子と無機電界発光素子とに区切られるところ、有機電界発光素子の場合には前記発光層が大きく電子輸送層、発光物質層、及びホール輸送層で構成され、無機電界発光素子の場合には前記第1電極及び第2電極それぞれと発光層間に絶縁層が介在される。
有機電界発光素子の発光物質層を形成する有機物としては、フタロシアニン(CuPc)、N,N−ジ(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ジフェニル−ベンジジン(NPB)、トリス−8−ヒドロキシキノリンアルミニウム(Alq3)等が利用されるが、前記第1電極及び第2電極に電荷を供給すればホールと電子とが結合されて励起子を生成し、この励起子が励起状態から基底状態に変わるにつれて前記発光物質層が発光する。
無機電界発光素子の場合には、前記第1電極及び第2電極の内側面に配置された絶縁層間の無機物層が発光するが、前記無機物としては金属硫化物であるZnS、SrS、CsSなどが利用され、最近ではCaCa2S4、SrCa2S4などのアルカリ土類カルシウム硫化物と金属酸化物なども利用されている。前記無機物と共に発光層を形成する発光中心原子ではMn、Ce、Tb、Eu、Tm、Er、Pr、Pbなどを含む遷移金属またはアルカリ希土類金属が利用される。前記第1電極及び第2電極に電圧を加えれば電子が加速されて発光中心原子と衝突するが、この時、発光中心原子の電子がさらに高いエネルギー準位に励起されていて基底状態に遷移され、これにより前記無機物層が発光する。
以下、図4(B)を参照して液晶表示素子の前記電界発光素子と相異なる事項を中心として説明する。前記液晶表示素子は第1基板91、駆動薄膜トランジスタ50、第1導線20、第2導線30、第1電極61、第1配向層97、第2基板102、第2電極62、第2配向層99、液晶層98、及び偏光層103を具備するが、第1基板は電界発光素子の基板81に対応する。前記第2基板102は前記第1基板とは別途に製造され、その内側面にはカラーフィルタ層101が形成される。第2電極62は前記カラーフィルタ層上に形成される。第1電極61と第2電極62上にはそれぞれ第1配向層97と第2配向層99とが形成されるが、これらはこれらの間に形成される液晶層98の液晶を配向する。偏光層103は前記第1基板と第2基板との外面に形成される。スペーサ104は前記第1基板と第2基板間の間隔を維持させる。
前記液晶表示素子は前記液晶の配列によって光を通過または通過させないが、この液晶は前記第1電極と第2電極間の電位差によってその配列が決定され、前記液晶層を通過した光は前記カラーフィルタ層101の色を帯びるようになって画像を具現する。
図11を参照して本発明による第2実施例の前記第1実施例と相異なる事項を中心として説明する。本実施例が第1実施例と相異なる点は半導体チャンネルが形成するジグザグ状L3が不規則的であるということである。本発明の半導体チャンネルの配列形態が必ず規則的に左右に往復するジグザグ状に限定されることではないので、本実施例のように不規則的に往復するジグザグ状も本発明の範囲に属する。前記第1実施例の場合のように半導体チャンネルを規則的に配列せずに本実施例のように不規則的に配列しても第1実施例から得られる効果と類似した効果を得られる。
図12を参照して本発明による第3実施例を前記第2実施例と相異なる事項を中心として説明する。本実施例が第2実施例と相異なる点は、半導体チャンネルが形成するジグザグ状L4が不規則な3段のジグザグ状であるという点である。本発明でいうジグザグ状が必ず2段のジグザグ状に限定されることではないので、本実施例の場合のように不規則な3段のジグザグ状も本発明の範囲に属する。前記第2実施例の場合のように半導体チャンネルを2段に配列せずに本実施例のように不規則な3段に配列しても第2実施例から得られる効果と類似した効果を得られる。本実施例の変形例として、1列の半導体チャンネルを規則的な3段のジグザグ状に構成することもできる。1列の半導体チャンネルを3段のジグザグ状に配列する場合にも前記第1実施例と類似した効果を得られ、特に前記不均一部の間隔が広い場合に有利である。
図13を参照して本発明による第4実施例の前記第1実施例と相異なる事項を中心として説明する。本実施例が第1実施例と相異なる点は、半導体チャンネル80いずれも不均一部を含むように形成されるということである。
本実施例による平板表示素子は駆動薄膜トランジスタ、前記駆動薄膜トランジスタによって駆動される第1電極、及び前記第1電極と共に発光部を駆動する第2電極を具備したサブピクセルがマトリックス状に配列された平板表示素子であって、前記駆動薄膜トランジスタの半導体チャンネルを形成する半導体層には直線状の不均一部が所定の間隔で形成されており、前記駆動薄膜トランジスタの半導体チャンネルいずれも不均一部を具備する。
すなわち、半導体チャンネルはジグザグ状に配列されることではなく仮想線L5に沿って平行に配列され、各半導体チャンネルいずれも不均一部Mを具備する。図13には、一つの半導体チャンネルが一つの不均一部を具備していると図示されているが、一つの半導体チャンネルが2以上の不均一部を含むことも本発明の範囲に含まれる。また、本発明は各半導体チャンネルが有する不均一部の数が一定な場合に限定されず、例えば一部の半導体チャンネルは一つの不均一部を、他の半導体チャンネルは二つの不均一部を有する場合も本発明に含まれる。但し、各サブピクセルの輝度差を減らすために各半導体チャンネルが有する不均一部の数が同一であることが望ましい。
本実施例においては、各半導体チャンネルの横方向間隔と不均一部の横方向間隔間に整数倍の関係があることが望ましく、半導体層の形成後に半導体チャンネルを形成する時、各半導体チャンネルが不均一部を含む必要がある。特に前記駆動薄膜トランジスタの半導体チャンネルは、非結晶質シリコンを多結晶質シリコンに結晶化させるために照射されるレーザービームの幅と、前記レーザービームがオーバーラップされていない部分との比率を乗算した数値の長さを有することが望ましい。
本実施例によれば、各半導体チャンネルが同数の不均一部を含むためにサブピクセル間に輝度差がなく、したがって非常に均一な輝度を示すので画像の品質が向上するという長所がある。
図14を参照して本発明による第5実施例の前記第4実施例と相異なる事項を中心として説明する。本実施例が第4実施例と相異なる点は、半導体チャンネル80のいずれも不均一部を含まないように形成されるということである。すなわち、前記駆動薄膜トランジスタの半導体チャンネルは前記不均一部間に形成される。本実施例においても、半導体チャンネルはジグザグ状に配列されることではなく仮想線L6に沿って平行に配列されるが、各半導体チャンネルは不均一部M間に形成される。
本実施例において各半導体チャンネルの横方向間隔と不均一部の横方向間隔間に整数倍の関係があることが望ましく、半導体層形成後に半導体チャンネルを形成する時、各半導体チャンネルを不均一部間に配置する必要がある。
本発明は図面に図示された実施例を参考として説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、当業者ならばこれより多様な変形及び均等な他の実施例が可能であるという点を理解できる。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は特許請求の範囲の技術的思想によって定められねばならない。
本発明は、薄膜トランジスタによって駆動されるアクティブマトリックス平板表示素子に適用できる。
平板表示素子の回路を示す回路図である。 図1のA部分を示す概略図である。 図1のB部分を示す概略図である。 (A)は図3のIV−IV線に沿った電界発光素子の断面図であり、(B)は図3のIV−IV線に沿った液晶表示素子の断面図である。 半導体層の結晶化工程を示す斜視図である。 結晶化工程が完了した状態の半導体層を示す平面図である。 結晶化工程が完了した半導体層の位置別導電性を示すグラフである。 従来の平板表示素子の半導体チャンネルの配列を示す概略図である。 図2に対応して本発明の第1実施例による平板表示素子を示す概略図である。 図8に対応して本発明の第1実施例による平板表示素子の半導体チャンネルの配列を示す概略図である。 図8に対応して本発明の第2実施例による平板表示素子を示す概略図である。 図8に対応して本発明の第3実施例による平板表示素子の半導体チャンネルの配列を示す概略図である。 図8に対応して本発明の第4実施例による平板表示素子の半導体チャンネルの配列を示す概略図である。 図8に対応して本発明の第5実施例による平板表示素子の半導体チャンネルの配列を示す概略図である。
符号の説明
V 垂直駆動回路
L2 仮想線
H 水平駆動回路

Claims (15)

  1. 駆動薄膜トランジスタ、前記駆動薄膜トランジスタによって駆動される第1電極、及び前記第1電極と共に発光部を駆動する第2電極を具備したサブピクセルがマトリックス状に配列された平板表示素子であって、
    前記駆動薄膜トランジスタは半導体層から形成された半導体チャンネルを含み、前記半導体層上には直線状の不均一部が互いに離隔されており、1列の駆動薄膜トランジスタの半導体チャンネルそれぞれを接続する仮想線は前記不均一部と平行しないことを特徴とする平板表示素子。
  2. 前記駆動薄膜トランジスタの半導体チャンネルを接続する仮想線は直線でないことを特徴とする請求項1に記載の平板表示素子。
  3. 前記駆動薄膜トランジスタの半導体チャンネルを接続する仮想線はジグザグ状になっていることを特徴とする請求項2に記載の平板表示素子。
  4. 前記ジグザグ状は規則的なジグザグ状であることを特徴とする請求項3に記載の平板表示素子。
  5. 前記ジグザグ状は不規則的なジグザグ状であることを特徴とする請求項3に記載の平板表示素子。
  6. 前記ジグザグ状は2段のジグザグ状であることを特徴とする請求項3に記載の平板表示素子。
  7. 前記ジグザグ状は3段のジグザグ状であることを特徴とする請求項3に記載の平板表示素子。
  8. 前記不均一部は一定の間隔で形成されたことを特徴とする請求項1に記載の平板表示素子。
  9. 前記不均一部は一定の間隔で形成され、前記ジグザグ状の幅は前記不均一部の幅より大きいことを特徴とする請求項3に記載の平板表示素子。
  10. 駆動薄膜トランジスタ、前記駆動薄膜トランジスタによって駆動される第1電極、及び前記第1電極と共に発光部を駆動する第2電極を具備したサブピクセルがマトリックス状に配列された平板表示素子であって、
    前記駆動薄膜トランジスタは半導体層から形成された半導体チャンネルを含み、前記半導体層上には直線状の不均一部が互いに離隔されており、前記駆動薄膜トランジスタの半導体チャンネルそれぞれは少なくとも一つの不均一部を具備したことを特徴とする平板表示素子。
  11. 前記半導体チャンネルそれぞれは同数の不均一部を具備したことを特徴とする請求項10に記載の平板表示素子。
  12. 前記駆動薄膜トランジスタの半導体チャンネルは、非結晶質シリコンを多結晶質シリコンに結晶化させるために照射されるレーザービームの幅と、前記レーザービームがオーバーラップされていない部分の比率とを乗算した数値の長さを有することを特徴とする請求項11に記載の平板表示素子。
  13. 前記不均一部は一定の間隔で形成されたことを特徴とする請求項10に記載の平板表示素子。
  14. 駆動薄膜トランジスタ、前記駆動薄膜トランジスタによって駆動される第1電極、及び前記第1電極と共に発光部を駆動する第2電極を具備したサブピクセルがマトリックス状に配列された平板表示素子であって、
    前記駆動薄膜トランジスタは半導体層から形成された半導体チャンネルを含み、前記半導体層上には直線状の不均一部が互いに離隔されており、前記駆動薄膜トランジスタの半導体チャンネルは前記不均一部間に形成されたことを特徴とする平板表示素子。
  15. 前記不均一部は一定の間隔で形成されたことを特徴とする請求項14に記載の平板表示素子。
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