JP2004314407A - ガスバリア性プラスチックフィルム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プラズマCVDにより形成された炭素骨格を主要構成とし、20×10−5ml/日/cm2以下の酸素透過性を備えるアモルファスカーボン被膜2を備えるプラスチックフィルム3と、プラスチックフィルム3に一体的に積層されたプラスチックフィルム4とからなる。被膜2は、40〜55モル%の炭素と、45〜60モル%の水素とを含む。被膜2中に含まれる炭素原子数100に対する窒素原子数の比率が15以下か、酸素原子数の比率が20以下か、窒素原子数と酸素原子数との総和の比率が27以下である。被膜2は、0.007〜0.08μmの範囲の厚さを備える。前記出発原料は、アセチレンを主成分とする。プラスチックフィルム3,4は、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィンからなるフィルムである。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、飲料、食品、薬品、化粧品等の包装材料として用いられるガスバリア性プラスチックフィルムに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
飲料、食品、薬品、化粧品等の包装材料として用いられるプラスチックフィルムは、用途によって種々の物性が求められる。例えば、外気との接触による内容物の酸化、吸湿を避ける用途、内容物に含まれる炭酸ガス、香気成分等の揮散を避ける用途では、前記プラスチックフィルムは酸素、水蒸気、二酸化炭素等に対するガスバリア性を備えていることが必要とされる。
【0003】
従来、前記ガスバリア性を備えるプラスチックフィルムとして、プラズマ蒸着法により形成されたダイアモンド状のアモルファスカーボン被膜を一方の表面に備えるプラスチックフィルムが知られている(例えば特許文献1参照)。
【0004】
前記プラズマ蒸着法は、例えば、中空の処理室に前記プラスチックフィルムを収容し、該処理室内部を排気して所定の真空に保持した状態で、該処理室内部に炭化水素類からなる出発原料をガス状として導入し、高周波電圧を印加してプラズマを発生させるものである。前記プラズマ蒸着法によれば、前記プラスチックフィルム表面に、ダイアモンド構造を備える硬質のアモルファスカーボン被膜が形成される。
【0005】
しかしながら、前記アモルファスカーボン被膜が薄いと、前記プラスチックフィルムが加工工程で変形されたり、固体内容物を包装後に該内容物が該アモルファスカーボン被膜に接触して、該アモルファスカーボン被膜が傷ついたり、剥離したりするという不都合がある。また、前記アモルファスカーボン被膜が薄いと、ガスバリア性が低下して、酸素、水蒸気、二酸化炭素等のガスが透過し易くなり、内容物が酸化、吸湿したり、あるいは内容物に含まれる炭酸ガス、香気成分等が揮散しまうという不都合がある。
【0006】
前記プラスチックフィルムでは、前記アモルファスカーボン被膜を0.09〜0.12μm(900〜1200オングストローム)の厚さとすれば、十分なガスバリア性を得ることができる。しかし、前記アモルファスカーボン被膜は、膜厚が厚くなると着色が目立つようになり、該着色は内容物によっては好まれない場合がある。さらに、前記硬質炭素膜による着色が著しいプラスチックフィルムでは、回収後の再利用の用途が制限されるとの問題もある。
【0007】
【特許文献1】
特開平9−272567号公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、かかる不都合を解消して、優れたガスバリア性を備え、加工工程における変形や固体内容物との接触により、アモルファスカーボン被膜が傷ついたり、剥離したりすることのないガスバリア性プラスチックフィルムを提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
かかる目的を達成するために、本発明のガスバリア性プラスチックフィルムは、炭素原子を含む出発原料からプラズマCVDにより形成された炭素を主要構成元素とし、20×10−5ml/日/cm2以下の酸素透過性を備えるアモルファスカーボン被膜を表面に備える第1のプラスチックフィルムと、第1のプラスチックフィルムの該アモルファスカーボン被膜を備える面に一体的に積層された第2のプラスチックフィルムとからなることを特徴とする。
【0010】
本発明のガスバリア性プラスチックフィルムによれば、第1のプラスチックフィルムの表面に、20×10−5ml/日/cm2以下、より好ましくは10×10−5ml/日/cm2以下の酸素透過性を備えるアモルファスカーボン被膜が形成されているので、酸素、水蒸気、二酸化炭素等のガスに対して優れたガスバリア性を得ることができる。前記酸素透過性は、酸素の他、水蒸気、二酸化炭素等のガスの透過性を示す指標となるものであり、前記アモルファスカーボン被膜の酸素透過性が20×10−5ml/日/cm2を超えると、酸素、水蒸気、二酸化炭素等のガスが透過し易くなる。前記酸素透過性は、例えば、MOCON社製OX−TRAN(商品名)等のガス透過率測定装置を用い、アモルファスカーボン被膜を設けたプラスチックフィルムの酸素透過性を、JIS K 7126に基づいて測定し、該プラスチックフィルム単体の酸素透過性を補正することにより算出することができる。
【0011】
また、本発明のガスバリア性プラスチックフィルムによれば、前記アモルファスカーボン被膜は、第1、第2の両プラスチックフィルムにより被覆されているので、加工工程で変形されても該アモルファスカーボン被膜が剥離することがない。さらに、本発明のガスバリア性プラスチックフィルムによれば、前記アモルファスカーボン被膜は第1、第2の両プラスチックフィルムにより被覆されているので、固体内容物を包装したときにも、該アモルファスカーボン被膜が該内容物と接触することなく保護されており、傷ついたり剥離したりすることがない。
【0012】
本発明者らの検討によれば、前記アモルファスカーボン被膜の酸素透過性は、前記アモルファスカーボン被膜中に含まれる炭素以外の原子、特に窒素原子または酸素原子の割合により大きく変化する。そして、前記アモルファスカーボン被膜は、該被膜中に含まれる炭素原子数に対する窒素原子数または酸素原子数の割合を所定の範囲とすることにより、膜厚をある程度薄くしても、所定の酸素透過性が得られることが判明した。
【0013】
前記被膜中に窒素原子または酸素原子が含まれる原因としては、前記プラズマCVDのための装置を所定の真空度とする際に空気の除去が不十分な場合、該装置の気密性が不十分となりリークが生じた場合、ガス状の出発原料のキャリヤガスとして窒素ガスを使用する場合、出発原料中にジメチルホルムアミド等の含窒素化合物や含酸素化合物を含み、その濃度が高くなった場合、前記第1のプラスチックフィルムに窒素含有成分や酸素含有成分が吸着されている場合等が考えられる。
【0014】
そこで、本発明のガスバリア性プラスチックフィルムは、前記アモルファスカーボン被膜中に含まれる炭素原子数を100とするときに、炭素原子数に対する窒素原子数の比率が15以下であるか、炭素原子数に対する酸素原子数の比率が20以下であるか、炭素原子数に対する窒素原子数と酸素原子数との総和の比率が27以下であるか、炭素原子数に対する窒素原子数の比率が15以下であり、炭素原子数に対する酸素原子数の比率が20以下であり、炭素原子数に対する窒素原子数と酸素原子数との総和の比率が27以下であるか、のいずれかであることを特徴とする。
【0015】
本発明のガスバリア性プラスチックフィルムは、前記アモルファスカーボン被膜中に含まれる炭素原子数に対する窒素原子数または酸素原子数の比率を前記範囲とすることにより、より薄い膜厚で前記範囲の酸素透過性を得ることができる。一方、前記アモルファスカーボン被膜中に含まれる炭素原子数に対する窒素原子数または酸素原子数の比率が前記範囲を超えると、該アモルファスカーボン被膜の酸素透過性が高くなり、酸素、水蒸気、二酸化炭素等のガスに対して十分なガスバリア性を得ることができなくなる。前記アモルファスカーボン被膜中の炭素原子数に対する窒素原子数または酸素原子数の比率は、例えば、X線光電子分光分析装置(ESCA)等により測定することができる。
【0016】
また、前記アモルファスカーボン被膜は、炭素骨格を主要構成とするものであって、40〜55モル%の範囲の炭素と、45〜60モル%の範囲の水素とを含むことを特徴とする。本発明のガスバリア性プラスチックフィルムは、前記アモルファスカーボン被膜が前記範囲の炭素と水素とを含むことにより、第1、第2の両プラスチックフィルムに対して優れた密着性を得ることができると共に、前記両プラスチックフィルムに含まれる低分子量成分の溶出、揮散を抑制することができる。
【0017】
一方、前記アモルファスカーボン被膜に含まれる炭素が40モル%未満で水素が60モル%を超える場合には前記低分子量成分の溶出、揮散を十分に抑制することができなくなり、炭素が55モル%を超え水素が45モル%未満である場合には加工性が低下し、前記両プラスチックフィルムに対する密着性が低下する。
【0018】
また、本発明のガスバリア性プラスチックフィルムにおいて、前記アモルファスカーボン被膜は、前記範囲の酸素透過性を備え、しかも被膜による着色を抑制するために、0.007〜0.08μm(70〜800オングストローム)の範囲の厚さを備えることが好ましい。前記アモルファスカーボン被膜の厚さが0.007μm未満では、前記被膜による着色は抑制されるものの、前記アモルファスカーボン被膜の成分に関わらず酸素透過性が高くなる。また、前記アモルファスカーボン被膜の厚さが0.08μmを超えると、酸素透過性は低くなるものの、着色が濃くなって再利用が困難になる上、第1のプラスチックフィルムに対する前記アモルファスカーボン被膜の密着性が低減する。
【0019】
前記アモルファスカーボン被膜による着色は、前記ガスバリア性プラスチックフィルムに対し色差計により垂直に光を通過させたときのb*値を、該被膜の有無について比較し、両者の差として算出されるΔb*値により表すことができる。前記b*値とは、国際照明委員会(CIE)で規格化されたL*a*b*表色系(JIS Z 8729)で黄色方向の彩度を示す値であり、一般的には、前記Δb*値は前記アモルファスカーボンを含む被膜の厚さが厚くなるほど大になる。
【0020】
前記アモルファスカーボン被膜を形成する前記出発原料としては、アセチレン、エチレン、プロピレン等の不飽和炭化水素化合物、メタン、エタン、プロパン、シクロヘキサン等の飽和炭化水素化合物、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系炭化水素化合物等を挙げることができる。本発明のガスバリア性プラスチックフィルムでは、前記出発原料は、前記各化合物を単独で用いてもよく、2種以上混合して用いてもよいが、前記アモルファスカーボン被膜をポリマー性薄膜とするためには、アセチレン、エチレン等の不飽和炭化水素化合物を単独で用いることが好ましく、特に実質的にアセチレンを単独で用いることが好ましい。
【0021】
前記実質的にアセチレンからなる出発原料は、アセチレン以外の成分として不可避的な不純物を含んでいてもよい。さらに、前記出発原料は、例えば、該出発原料全体の60容量%以上、好ましくは80容量%以上がアセチレンからなるものを用いることができる。前記出発原料は、その他の成分として、水素、有機珪素化合物、被膜形成性有機化合物等の被膜改質剤を含んでいてもよい。また、前記出発原料は、アルゴン、ヘリウム等の希ガスで希釈して用いるようにしてもよい。
【0022】
本発明のガスバリア性プラスチックフィルムにおいて、第1、第2のプラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルからなるフィルム、ポリアミドフィルムまたは、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンからなるフィルムのいずれか1種のフィルムを用いることができる。この場合、第1、第2のプラスチックフィルムの両方をポリエステルフィルム、ポリアミドフィルムまたはポリオレフィンフィルムとしてもよく、それぞれを別のフィルムとしてもよい。尚、包装材としての利用等を考えた場合、後処理におけるフィルム同士の密封接着のためには、第2のプラスチックフィルムは、ポリオレフィンフィルムとすることが好ましい。
【0023】
【発明の実施の形態】
次に、添付の図面を参照しながら本発明の実施の形態についてさらに詳しく説明する。図1は本実施形態のガスバリア性プラスチックフィルムの構成を示す説明的断面図であり、図2はプラスチックフィルムの表面にアモルファスカーボン被膜を形成するプラズマCVD装置の一構成例を示す説明的断面図である。
【0024】
図1に示す本実施形態のガスバリア性プラスチックフィルム1は、飲料、食品、薬品、化粧品等の包装材料として用いられるものであり、アモルファスカーボン被膜2を表面に備えるプラスチックフィルム3と、プラスチックフィルム3のアモルファスカーボン被膜2を備える面に一体的に積層されたプラスチックフィルム4とからなる積層体である。
【0025】
アモルファスカーボン被膜2は、プラズマCVDにより形成され、炭素骨格を主要構成とするものであって、40〜55モル%の範囲の炭素と、45〜60モル%の水素とを含んでいる。また、アモルファスカーボン被膜2は、前記飲料、食品、薬品、化粧品等の内容物の酸化、吸湿を防止し、あるいは該内容物に含まれる二酸化炭素、香気成分等の揮散を防止するために、20×10−5ml/日/cm2以下の酸素透過性を備えている。
【0026】
アモルファスカーボン被膜2は、窒素、酸素等を含んでいてもよく、この場合、前記範囲の酸素透過性を備えるために、該被膜中に含まれる炭素原子数を100とするときに、炭素原子数に対する窒素原子数の比率が15以下であるか、炭素原子数に対する酸素原子数の比率が20以下であるか、または炭素原子数に対する窒素原子数と酸素原子数との総和の比率が27以下である。また、前記アモルファスカーボン被膜は、該被膜中に含まれる炭素原子数を100とするときに、炭素原子数に対する窒素原子数の比率が15以下であり、炭素原子数に対する酸素原子数の比率が20以下であり、かつ、窒素原子数と酸素原子数との総和の比率が27以下であるものであってもよい。
【0027】
また、アモルファスカーボン被膜2は、前記範囲の酸素透過性を備え、着色を抑制するために、0.007〜0.08μm(70〜800オングストローム)の範囲の厚さを備えている。アモルファスカーボン被膜2による着色は、プラスチックフィルム3に対し色差計により垂直に光を通過させたときのb*値を、アモルファスカーボン被膜2を備える場合と、アモルファスカーボン被膜2が無い場合とで比較し、両者の差として算出されるΔb*値により表すことができる。
【0028】
前記Δb*値は、アモルファスカーボン被膜2の膜厚が厚くなるほど大になり、数値が大きいほど見かけ上の着色が濃くなるため、前記範囲の酸素透過性を備える範囲で、できるだけ小さい値となることが望ましい。また、ガスバリア性プラスチックフィルム1は、回収後の再利用のために、アモルファスカーボン被膜2の膜厚が薄いことが望まれる。そこで、ガスバリア性プラスチックフィルム1における前記着色は、前記Δb*値が2〜7の範囲にあることが適しており、さらに2〜6の範囲にあることが好ましい。
【0029】
前記Δb*値が7を超えると、ガスバリア性プラスチックフィルム1の着色が目立つようになり、ガスバリア性プラスチックフィルム1からなる包装材に内容物を収容したときに、フィルムの透明性、フィルムに施した印刷の明瞭性等の外観品質が低下する。また、前記Δb*値が7を超えると、ガスバリア性プラスチックフィルム1の酸化透過性が高くなることがあり、さらには再利用の際に用途が制限される。一方、前記Δb*値が2未満では、アモルファスカーボン被膜2の成分に関わらず酸素透過性が高くなる。
【0030】
プラスチックフィルム3,4は、前記のようにして形成されるアモルファスカーボン被膜2との密着性に優れていることから、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルからなるフィルム、ポリアミドフィルムまたは、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンからなるフィルムのいずれか1種のフィルムであることが好ましいが、ポリカーボネート、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、生分解性プラスチック等の樹脂からなる公知のフィルムを用いることもできる。プラスチックフィルム3,4の厚さは、前記包装材として用いるために、5〜50μmの範囲で適宜選択することができる。
【0031】
アモルファスカーボン被膜2を表面に備えるプラスチックフィルム3は、例えば図2に示すプラズマCVD装置11を用いて製造することができる。
【0032】
プラズマCVD装置11は、マイクロ波導入部がパイレックス(登録商標)ガラスで形成された側壁12により囲まれて気密に形成されており、隔壁13により処理室14とフィルム室15とに分けられている。フィルム室15は、処理室14に供給するプラスチックフィルム3と、アモルファスカーボン被膜2が形成されたプラスチックフィルム3とを収容する。
【0033】
処理室14の外部には、側壁12に臨む位置に複数のマイクロ波発生装置16が備えられ、原料ガス供給装置17が開閉弁18を介して接続される一方、真空装置19が開閉弁20を介して接続されている。また、処理室14には、プラスチックフィルム3をマイクロ波発生装置16に対向させて支持するドラム21が備えられており、ドラム21はその一部がフィルム室15に突出するようにされている。隔壁13とドラム21との間には間隙があり、処理室14とフィルム室15とは該間隙を介して連通している。そこで、フィルム室15には大気開放弁22が備えられている。
【0034】
フィルム室15には、長尺状のプラスチックフィルム3を巻出して処理室14に供給する巻出しロール23と、アモルファスカーボン被膜2が形成されたプラスチックフィルム3を巻き取って回収する巻き取りロール24とが備えられている。巻出しロール23から巻だされるプラスチックフィルム3は、巻出しガイドロール25、セットロール26を介してドラム21に供給され、ドラム21上でアモルファスカーボン被膜2が形成された後、巻取りガイドロール27を介して巻取りロール24に巻き取られて回収される。
【0035】
図2示のプラズマCVD装置11では、まず、プラスチックフィルム3を巻出しロール23に装着し、プラスチックフィルム3の先端を巻出しロール23から巻出して、ドラム21を介して巻取りロール24に取り付ける。プラズマCVD装置11では、プラスチックフィルム3は、例えば巻出しロール23からドラム21の処理室14内に位置する部分の表面に連続的に供給され、巻取りロール24に連続的に巻取られる。
【0036】
次に、前記プラスチックフィルム3が処理室14に供給されたならば、開閉弁18、大気開放弁22を閉じた状態で開閉弁20を開き、真空装置19を作動する。そして、処理室14、フィルム室15の内部を1〜50Paの真空度に減圧する。
【0037】
次に、開閉弁18を開いて、原料ガス供給装置17から処理室14内に原料ガスを供給する。プラズマCVD装置11では、原料ガス供給装置17から前記原料ガスを連続的に供給すると共に、真空装置19により連続的に排気し、処理室14内部が定常的に前記真空度になるように保持する。前記原料ガスの供給量は、対象となるプラスチックフィルム3の面積と、形成されるアモルファスカーボン被膜2の厚さとに応じて適正な量に設定される。前記原料ガスの供給量は、例えば前記プラスチックフィルム3の表面に0.007〜0.08μmの膜厚の前記アモルファスカーボン被膜2を形成するときには、0.1〜2.0sccm/cm2の範囲とされる。
【0038】
前記原料ガスとしては、アセチレン、エチレン、プロピレン等の脂肪族不飽和炭化水素化合物、メタン、エタン、プロパン等の脂肪族飽和炭化水素化合物、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素化合物、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素化合物等の炭素含有化合物を用いることができる。前記原料ガスは、単独で用いても、必要に応じて2種以上混合して用いてもよく、被膜改質剤として少量の水素、有機珪素化合物、その他の被膜形成性有機化合物を併用してもよい。また、前記原料ガスは、アルゴン、ヘリウム等の希ガスで希釈して用いるようにしてもよい。
【0039】
ただし、ガスバリア性に優れた被膜であるポリマー性アモルファスカーボン薄膜をより短時間で形成するためには、前記原料ガスが実質的にアセチレンであることが適しており、前記原料ガスの60容量%以上、好ましくは80容量%以上をアセチレンとする。尚、前記原料ガスが実質的にアセチレンからなる場合、該アセチレンは製造過程等で混入する不可避的な不純物を含んでいてもよい。
【0040】
そして、前記原料ガスを供給しつつ、マイクロ波発生装置16を作動して、例えば周波数2.45GHz、出力100〜2000Wのマイクロ波を照射することにより、前記原料ガスを電磁励起して処理室14内にプラズマを発生せしめ、ドラム21上に保持されたプラスチックフィルム3の表面にアモルファスカーボン被膜2を形成する。マイクロ波発生装置16は、ガスバリア性の優れたアモルファスカーボン被膜2を短時間で形成させるためには、単一マイクロ波発生装置16を配置するよりも、前述のように複数設けられていることが好ましい。
【0041】
このとき、前述のように、前記原料ガスを連続的に供給する一方、連続的に排気して、処理室14の内部を定常的に前記1〜50Paの範囲の真空度に保持することにより、安定なアモルファスカーボン被膜2を形成することができる。前記真空度が50Paを超えると、アモルファスカーボン被膜2のプラスチックフィルム3に対する密着性、加工性が低下する上、酸素透過性が前記範囲よりも大になることがある。一方、前記真空度が1Pa未満では、アモルファスカーボン被膜2の形成に長時間を要する。
【0042】
また、前記マイクロ波の出力が100W未満では形成された被膜の着色が大になることがあり、2000Wを超えると酸素透過性が高くなることがある。
【0043】
また、前記マイクロ波の照射時間が短かすぎるとアモルファスカーボン被膜2において所望の膜厚が得られないことがあり、長すぎるとアモルファスカーボン被膜2の膜厚が大になり、着色が濃くなることがある。
【0044】
次に、前記マイクロ波の照射時間が経過したならば、開閉弁18,20を閉じ、原料ガス供給装置17、マイクロ波発生装置5を停止して、大気開放弁22を開くことにより処理室14とフィルム室15との内部を大気圧に戻す。
【0045】
前記方法によりプラスチックフィルム3の表面にアモルファスカーボン被膜2を形成する処理を連続的に行うことができるが、プラスチックフィルム3を所定長ずつ断続的に供給し、アモルファスカーボン被膜2が形成されたプラスチックフィルム3を、巻取りロール24に断続的に巻取ると同時に、巻出しロール23から前記所定長の新たなプラスチックフィルム3を処理室14に供給し、前記処理をくり返すという方法でもよい。
【0046】
前記プラスチックフィルム3を所定長ずつ断続的に供給する方法では、原料ガス供給装置17を停止した後、大気開放弁22を開く前に、前記マイクロ波の照射をさらに短時間行ってもよく、このようにすることにより、アモルファスカーボン被膜2に吸着されている原料ガスの残存成分を被膜化することができ、さらに優れたガスバリア性を得ることができる。
【0047】
次に、プラスチックフィルム3の全長に亘ってアモルファスカーボン被膜2を形成する処理が終了したならば、プラスチックフィルム3をプラズマCVD装置11から取り出す。そして、プラスチックフィルム3のアモルファスカーボン被膜2が形成された面にプラスチックフィルム4を積層する処理を行う。
【0048】
プラスチックフィルム4の積層は、プラスチックフィルム4が熱圧着可能な樹脂構造を備える場合には、プラスチックフィルム3,4によりアモルファスカーボン被膜2を挟持するようにして、プラスチックフィルム3,4を熱圧着することにより行うことができる。また、プラスチックフィルム4の一方の面に接着剤層を設け、該接着剤層とプラスチックフィルム3とによりアモルファスカーボン被膜2を挟持するようにして、プラスチックフィルム3,4を熱圧着または圧着するようにしてもよい。前記熱圧着または圧着は、プラスチックフィルム3,4を1対のロール間に挟んで加圧することにより行うことができる。
【0049】
また、プラスチックフィルム4の積層は、プラスチックフィルム3のアモルファスカーボン被膜2が形成された面に樹脂を押し出して該樹脂からなるフィルムを形成する押出ラミネート法により行うこともできる。
【0050】
この結果、図1に示す構成を備えるガスバリア性プラスチックフィルム1が得られる。本実施形態のガスバリア性プラスチックフィルム1によれば、アモルファスカーボン被膜2により酸素、水蒸気、二酸化炭素等の透過を妨げることができる。従って、本実施形態のガスバリア性プラスチックフィルム1は、内容物の酸化、吸湿の防止や、内容物に含まれる炭酸ガス、香気成分等の揮散の防止が望まれる飲料、食品、薬品、化粧品等の包装材料として好適に用いることができる。
【0051】
また、本実施形態のガスバリア性プラスチックフィルム1は、着色が少ないので、前記包装材料として用いたときに内容物を透視することができ、該ガスバリア性プラスチックフィルム1に対する印刷を明瞭なものとすることができる。さらに、本実施形態のガスバリア性プラスチックフィルム1は、回収後に再利用する際に用途の制限を低減することができる。
【0052】
また、前記アモルファスカーボン被膜2は、酸素、水蒸気、二酸化炭素等の透過を防止するガスバリア性に優れている上、プラスチックフィルム3,4に対する密着性に優れているので、加工変形を受けた際に剥離しにくいという効果を得ることができる。
【0053】
本実施形態では、アモルファスカーボン被膜2を形成する際に、長尺状のプラスチックフィルム3を連続的に処理室14に供給するようにしているが、断続的に処理室14に供給するようにしてもよい。長尺状のプラスチックフィルム3に代えて、定尺のプラスチックフィルム3を用いるようにしてもよい。
【0054】
また、本実施形態では、プラズマCVD装置11において処理室14の側壁12の外部にマイクロ波発生装置16を複数個配設しているが、処理室14内に供給されたプラスチックフィルム3の表裏両面に臨む位置に電極を配置し、該電極に高周波電圧を印加することによりプラズマを発生させるようにしてもよい。ただし、ガスバリア性、フィルムに対する密着性に優れたアモルファスカーボン被膜2を形成するには、マイクロ波発生装置16によりマイクロ波を照射してプラズマを発生させる方法が適している。
【0055】
また、本実施形態のガスバリア性フィルム1は、図1に示すように、プラスチックフィルム3のアモルファスカーボン被膜2が形成された面にプラスチックフィルム4を積層して一体化した構成となっているが、所望によりプラスチックフィルム3またはプラスチックフィルム4にさらにアモルファスカーボン被膜を追加し、或いは他のガスバリア被膜や他のフィルムを積層してもよい。
【0056】
次に、本発明の実施例を示す。
【0057】
【実施例1〜7】
本実施例では、図2に示すプラズマCVD装置11を用いて、膜厚12μmのポリエチレンテレフタレートフィルム3の表面にアモルファスカーボン被膜2を形成した。
【0058】
原料ガスとしては空気、窒素、酸素を含むアセチレンガスを用い、処理室14に該原料ガスが供されている間、処理室14とフィルム室15との内部の真空度を5〜20Paの範囲に保持した。そして、マイクロ波発生装置16により2.45GHzのマイクロ波を照射した。
【0059】
この結果、膜厚400〜600オングストロームのアモルファスカーボン被膜2を備えるポリエチレンテレフタレートフィルム3が得られた。アモルファスカーボン被膜2は、炭素骨格を主要構成とし、透明で極く僅かに茶色に着色していた。前記着色は、プラスチックフィルム3に対し色差計により垂直に光を通過させたときのΔb*値が2〜4であった。
【0060】
次に、ポリエチレンテレフタレートフィルム3のアモルファスカーボン被膜2が形成された面に、一方の面に接着剤層を備える膜厚12μmのポリエチレンテレフタレートフィルム4を該接着剤層を介して積層した。そして、ポリエチレンテレフタレートフィルム3,4を1対の熱ロール間に挟んで加圧することにより相互に接着して、ガスバリア性プラスチックフィルム1を得た。
【0061】
原料ガスの組成と、プラズマCVD装置11における処理条件とを変えて得られた、実施例1〜7の7種のガスバリア性プラスチックフィルム1について、アモルファスカーボン被膜2に含まれる、窒素、酸素の量、酸素透過性を表1に示す。
【0062】
次に、本実施例で得られたガスバリア性プラスチックフィルム1を粉砕し、押出機を用いてチップを製造した。前記チップの着色は極めて少なく、該チップを用いて実用上問題の無いポリエステルを製造することができた。
【0063】
従って、本実施例で得られたガスバリア性プラスチックフィルム1は、回収後の再利用について前記着色による制限を受けないことが明らかである。
【0064】
【比較例1】
本比較例では、原料ガスの組成と、プラズマCVD装置11における処理条件とを変えた以外は、前記実施例と全く同一にして、ガスバリア性プラスチックフィルム1を得た。本比較例で得られたガスバリア性プラスチックフィルム1について、アモルファスカーボン被膜2に含まれる、窒素、酸素の量、酸素透過性を表1に示す。
【0065】
【比較例2】
本比較例では、アモルファスカーボン被膜2を形成していない膜厚12μmのポリエチレンテレフタレートフィルム3に、一方の面に接着剤層を備える膜厚12μmのポリエチレンテレフタレートフィルム4を該接着剤層を介して積層し、ポリエチレンテレフタレートフィルム3,4を1対の熱ロール間に挟んで加圧することにより熱圧着して、積層フィルムを得た。
【0066】
本比較例で得られた積層フィルムの酸素透過性を表1に示す。
【0067】
【表1】
【0068】
表1から、実施例1〜8のガスバリア性プラスチックフィルム1によれば、アモルファスカーボン被膜2の酸素透過性が20×10−5ml/日/cm2以下、さらに条件を整えることにより10×10−5ml/日/cm2以下であり、優れたガスバリア性を備えていることが明らかである。これに対して、比較例の積層フィルムは、酸素透過性が46×10−5ml/日/cm2以上であり、実施例に比べ、内容物の酸化、吸湿や、内容物に含まれる炭酸ガス、香気成分等の揮散を防止することが望まれる包装材料に適していないことが明らかである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のガスバリア性プラスチックフィルムの構成を示す説明的断面図。
【図2】プラズマCVD装置の一構成例を示す説明的断面図。
【符号の説明】
1…ガスバリア性プラスチックフィルム、 2…アモルファスカーボン被膜、
3,4…プラスチックフィルム、 11…プラズマCVD装置。
Claims (6)
- 炭素原子を含む出発原料からプラズマCVDにより形成された炭素骨格を主要構成とし、20×10−5ml/日/cm2以下の酸素透過性を備えるアモルファスカーボン被膜を表面に備える第1のプラスチックフィルムと、
第1のプラスチックフィルムの該アモルファスカーボン被膜を備える面に一体的に積層された第2のプラスチックフィルムとからなることを特徴とするガスバリア性プラスチックフィルム。 - 前記アモルファスカーボン被膜は、該被膜中に含まれる炭素原子数を100とするときに、
炭素原子数に対する窒素原子数の比率が15以下であるか、
炭素原子数に対する酸素原子数の比率が20以下であるか、
炭素原子数に対する窒素原子数と酸素原子数との総和の比率が27以下であるか、
炭素原子数に対する窒素原子数の比率が15以下であり、炭素原子数に対する酸素原子数の比率が20以下であり、炭素原子数に対する窒素原子数と酸素原子数との総和の比率が27以下であるか、
のいずれかであることを特徴とする請求項1記載のガスバリア性プラスチックフィルム。 - 前記アモルファスカーボン被膜は、40〜55モル%の範囲の炭素と、45〜60モル%の範囲の水素とを含むことを特徴とする請求項1または請求項2記載のガスバリア性プラスチックフィルム。
- 前記アモルファスカーボン被膜は、0.007〜0.08μmの範囲の厚さを備えることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載のガスバリア性プラスチックフィルム。
- 前記出発原料は、アセチレンを主成分とすることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載の内面被覆プラスチック容器。
- 前記第1、第2のプラスチックフィルムは、ポリエステルフィルム、ポリアミドフィルムまたはポリオレフィンフィルムのいずれか1種のフィルムであることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項記載のガスバリア性プラスチックフィルム。
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