JPH11322984A - 透明バリア性フィルムおよびそれを使用した積層体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基材フィルムの一方の面に、プラズマ化学成
膜法による酸化ケイ素等の無機酸化物のコ−ティング膜
を設けたバリア性フィルムであり、そのコ−ティング膜
面の接着性を向上させ、優れた透明性を有すると共に酸
素ガス、水蒸気等に対するガスバリア性に優れ、更に、
ラミネ−ト強度等にも優れ、種々の物品を充填包装する
包装用容器等の製造に有用な透明バリア性フィルムおよ
びそれを使用した積層体を提供することである。 【解決手段】 基材フィルムの一方の面に、プラズマ化
学成膜法による無機酸化物のコ−ティング膜を設け、更
に、該無機酸化物のコ−ティング膜面に、酸素、アルゴ
ン、または、ヘリウムの１種ないしそれ２種以上からな
るガスによるプラズマ処理部を設けたことを特徴とする
透明バリア性フィルムおよびそれを使用した積層体に関
するものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、透明バリア性フィ
ルムおよびそれを使用した積層体に関し、更に詳しく
は、透明性、酸素ガスあるいは水蒸気等に対するバリア
性等に優れ、更に、ラミネ−ト適性を有し、飲食品、医
薬品、化粧品、化学品、電子部品、その他等の種々の物
品を充填包装する包装材料として有用な透明バリア性フ
ィルムおよびそれを使用した積層体に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、酸素ガスバリア性、水蒸気バリア
性等に優れた包装用材料として、種々のものが開発さ
れ、提案されているが、それらの一つとして、近年、プ
ラスチックフィルム等の基材フィルムの一方の面に、真
空蒸着法により酸化珪素、酸化アルミニウム等の無機酸
化物の蒸着膜を設けた蒸着フィルムが提案されている。
上記の蒸着フィルムにおいて、酸化珪素の蒸着膜を設け
た蒸着フィルムは、バリア性を確保するために、蒸着膜
が黄褐色に着色されるという欠点があり、また、酸化ア
ルミニウムの蒸着膜を設けた蒸着フィルムは、上記の酸
化珪素の蒸着膜を設けた蒸着フィルムと比較し、透明性
に優れているという利点を有するが、バリア性に劣ると
いう欠点がある。更に、上記のいずれの蒸着フィルム
も、蒸着膜にクラックが発生し易く、印刷加工、ラミネ
−ト加工、製袋加工等の後加工において、バリア性が劣
化するという欠点があり、そのためにその取り扱いが非
常に困難なバリア性フィルムであるとされている。その
ような問題点を解決するバリア性フィルムとして、近
年、プラズマ化学成膜法を用いた酸化珪素膜を有する透
明バリア性フィルムが開発され、提案されている（特開
平８−１４２２５２号公報参照）。この透明バリア性フ
ィルムは、完全に透明であり、また、バリア性も優れ、
更に、後加工後のバリア性にも優れているという利点を
有するものである。特に、このものは、酸素ガスバリア
性、水蒸気バリア性等に優れ、かつ、透明性を有し、更
に、環境対応に適う包装用材料として注目され、近年、
他のプラスチックフィルム、あるいは、紙基材等の包装
用材料と積層し、例えば、飲食品、医薬品、化粧品、洗
剤、その他等の種々の物品の充填包装に適する包装用容
器を製造することかでき、その需要の拡大が期待されて
いるものである。

【０００３】

【発明が解決しよとする課題】しかしながら、上記の透
明バリア性フィルムにおいては、確かに、透明性に優
れ、かつ、酸素ガスバリア性、水蒸気バリア性等は向上
するが、該透明バリア性フィルムを使用し、これに、他
の樹脂のフィルム等をラミネ−トして包装用材料として
の積層体を製造し、更に、該積層体を使用し、これから
種々の形態からなる包装用容器を製造し、而して、その
包装用容器の中に、種々の物品を充填包装しても、全て
の包装用容器が十分に満足し得る包装製品を製造し得る
というものではないものである。例えば、上記の透明バ
リア性フィルムにおいて、基材フィルムの一方の面に、
プラズマ化学成膜法を利用して、酸化珪素膜を設けたも
のにおいては、該酸化珪素膜が、酸化珪素化合物を主体
とするコ−ティング膜からなり、更に、該コ−ティング
膜中には、炭素、水素、珪素、または、酸素の１種また
は２種以上の元素からなる化合物を少なくとも１種以上
含有し、かつ、該化合物が、その膜表面から深さ方向に
向かって減少して含有している連続コ−ティング膜から
なることから、そのコ−ティング膜表面には、炭素、水
素、珪素、または、酸素の１種または２種以上の元素か
らなる化合物が多く存在することになり、このことが、
包装用材料として、種々の問題点を引き起こす要因にな
るものである。特に、上記のコ−ティング膜の表面に、
炭素、水素、炭化水素等の化合物が多く存在すると、そ
の表面濡れ性が悪く、例えば、他の樹脂のフィルム等を
ラミネ−トする時の接着性に劣るものである。すなわ
ち、上記の透明バリア性フィルムを構成する酸化珪素等
からなるコ−ティング膜面に、例えば、他の樹脂のフィ
ルム等をラミネ−トして、種々の形態からなる包装用容
器を製造し得る積層体を製造したとしても、コ−ティン
グ膜面の濡れ性が悪く、そのため、ラミネ−ト加工時の
接着性に劣り、更に、上記で製造した積層体を使用して
包装用容器を製造し、その包装用容器内に、種々の物品
を充填包装して包装製品を製造したとしても、包装用容
器を構成する積層体において、層間剥離等の現象を引き
起し、その商品価値を著しく損ない、もはや、商品とし
て、流通販売等に供し得ないものであるという問題点が
ある。

【０００４】上記のような問題点を解決するために、例
えば、基材フィルムの一方の面に、プラズマを利用し
て、酸化珪素等の無機酸化物のコ−ティング膜を設けた
透明バリア性フィルムの酸化珪素等の無機酸化物のコ−
ティング膜面に、コロナ放電処理等の前処理を行い、そ
の接着性を向上させる試みもなされているが、上記のコ
ロナ放電処理は、電気のスパ−クを利用することから、
ア−キングアタック等が大きく、その結果、透明バリア
性フィルムを構成する酸化珪素等の無機酸化物のコ−テ
ィング膜に、クラック等を発生させる傾向が強く、而し
て、透明バリア性フィルムを構成する酸化珪素等の無機
酸化物のコ−ティング膜にクラック等が生じると、酸素
ガス、水蒸気等のバリア性は、著しく低下し、その要を
なさないものであり、更にまた、上記のコロナ放電処理
による処理面は、その効果の持続性が低く、その面に、
他の樹脂のフィルム等をラミネ−トしても、十分に満足
し得るラミネ−ト強度を有する積層体を製造することは
極めて困難であるという問題点がある。そこで本発明
は、基材フィルムの一方の面に、プラズマ化学成膜法に
よる酸化ケイ素等の無機酸化物のコ−ティング膜を設け
たバリア性フィルムであり、そのコ−ティング膜面の接
着性を向上させ、優れた透明性を有すると共に酸素ガ
ス、水蒸気等に対するガスバリア性に優れ、更に、ラミ
ネ−ト強度等にも優れ、種々の物品を充填包装する包装
用容器等の製造に有用な透明バリア性フィルムおよびそ
れを使用した積層体を提供することである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記のよう
な問題点を解決すべく種々研究した結果、基材フィルム
の一方の面に、プラズマ化学成膜法により、酸化珪素等
の無機酸化物のコ−ティング膜を設け、更に、該無機酸
化物のコ−ティング膜面に、酸素、アルゴン、または、
ヘリウムの１種ないしそれ２種以上からなるガスによる
プラズマ処理部を設けて透明バリア性フィルムを製造
し、而して、該透明バリア性フィルムを構成するプラズ
マ処理部面に、少なくとも、ヒ−トシ−ル性樹脂のフィ
ルムをラミネ−トして積層体を製造し、該積層体を使用
し、製袋して包装用容器を製造し、該包装用容器内に内
容物を充填包装して包装製品を製造したところ、酸化珪
素等の無機酸化物のコ−ティング膜のプラズマ処理部面
とヒ−トシ−ル性樹脂フィルム面とにおけるラミネ−ト
強度に優れ、包装用容器を構成する積層体の層間におい
て剥離現象は認められず、更に、優れた透明性を有する
と共に酸素ガス、水蒸気等に対するガスバリア性に優
れ、例えば、飲食品、医薬品、化粧品、洗剤、その他等
の種々の物品の充填包装に適する包装用容器等を製造す
るに有用な透明バリア性フィルムおよびそれを使用した
積層体を製造し得ることを見出して本発明を完成したも
のである。

【０００６】すなわち、本発明は、基材フィルムの一方
の面に、プラズマ化学成膜法による無機酸化物のコ−テ
ィング膜を設け、更に、該無機酸化物のコ−ティング膜
面に、酸素、アルゴン、または、ヘリウムの１種ないし
それ２種以上からなるガスによるプラズマ処理部を設け
たことを特徴とする透明バリア性フィルムおよびそれを
使用した積層体に関するものである。

【０００７】

【発明の実施の形態】上記の本発明について図面等を用
いて以下に更に詳しく説明する。まず、本発明にかかる
透明バリア性フィルムおよびそれを使用した積層体につ
いてその一二例を例示しその層構成を示すと、図１およ
び図２は、本発明にかかる透明バリア性フィルムについ
てその一二例の層構成を示す概略的断面図であり、図３
は、本発明にかかる透明バリア性フィルムを使用した積
層体についてその一例の層構成を示す概略的断面図であ
る。

【０００８】まず、本発明にかかる透明バリア性フィル
ム１は、図１に示すように、基材フィルム２の一方の面
に、プラズマ化学成膜法による無機酸化物のコ−ティン
グ膜３を設け、更に、該無機酸化物のコ−ティング膜３
の面に、酸素、アルゴン、または、ヘリウムの１種ない
しそれ２種以上からなるガスによるプラズマ処理部４を
設けた構成からなるものである。更に具体的には、本発
明にかかる透明バリア性フィルム１ａは、図２に示すよ
うに、基材フィルム２の一方の面に、プラズマ化学成膜
法による酸化珪素のコ−ティング膜３ａを設け、更に、
該酸化珪素のコ−ティング膜３ａの面に、酸素、アルゴ
ン、または、ヘリウムの１種ないしそれ２種以上からな
るガスによるプラズマ処理部４を設けた構成からなるも
のである。

【０００９】次に、本発明にかかる透明バリア性フィル
ムを使用した積層体１１としては、図３に示すように、
例えば、上記の図１に示す透明バリア性フィルム１を使
用した例で例示すると、まず、基材フィルム２の一方の
面に、プラズマ化学成膜法による無機酸化物のコ−ティ
ング膜３を設け、更に、該無機酸化物のコ−ティング膜
３の面に、酸素、アルゴン、または、ヘリウムの１種な
いしそれ２種以上からなるガスによるプラズマ処理部４
を設けて透明バリア性フィルム１を構成し、更に、該透
明バリア性フィルム１を構成するプラズマ処理部４の面
に、少なくとも、ヒ−トシ−ル性樹脂層５を設けた構成
からなるものである。上記の例示は、本発明にかかる透
明バリア性フィルムおよびそれを使用した積層体につい
てその一二例を例示するものであり、これによって本発
明は限定されるものではないことは言うまでもないこと
である。

【００１０】次に、上記の本発明にかかる透明バリア性
フィルムおよびそれを使用した積層体を構成する材料、
その製造法等について説明すると、まず、本発明にかか
る透明バリア性フィルム、あるいは、積層体を構成する
基材フィルムとしては、無色透明な各種の樹脂のフィル
ムないしシ−トを使用することができ、具体的には、例
えば、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等のポリオ
レフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレ−トあるいは
ポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステル系樹脂、ポ
リアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリスチレ
ン系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢
酸ビニル共重合体のケン化物、ポリアクリロニトリル系
樹脂、アセタ−ル系樹脂、その他等の各種の樹脂のフィ
ルムないしシ−トを使用することができる。而して、上
記の樹脂のフィルムないしシ−トとしては、例えば、テ
ンタ−方式あるいはチュ−ブ方式等を使用し、縦横等の
２方向に２軸延伸してなるフィルムないしシ−トでも使
用することができる。また、上記の樹脂のフィルムない
しシ−トとしては、単層、あるいは、２層以上の共押し
出し法等で製膜し、ついで、２軸延伸してなる樹脂のフ
ィルムないしシ−ト等も使用することができる。また、
本発明において、基材フィルムの厚さとしては、そのフ
ィルムないしシ−トの製造時の安定性等から適宜に設定
することが可能であるが、約５〜１００μｍ位、好まし
くは、９〜５０μｍ位が望ましい。なお、本発明におい
て、上記の基材フィルムは、無機酸化物のコ−ティング
膜等との密着性を高めるために、必要に応じて、その表
面に、予め、公知のプライマ−コ−ト剤によるプライマ
−コ−ト剤層等を設けることもできる。また、上記の基
材フィルムは、その表面に、必要ならば、例えば、コロ
ナ処理、プラズマ処理、フレ−ム処理、その他等の表面
活性処理を任意に施すこともできる。なお、本発明にお
いて、用途に応じて、例えば、帯電防止剤、紫外線吸収
剤、可塑剤、滑剤、充填剤、その他等の所望の添加剤
を、その透明性に影響しない範囲内で任意に添加し、そ
れらを含有する樹脂のフィルムないしシ−ト等も使用す
ることができる。

【００１１】次に、本発明において、本発明の透明バリ
ア性フィルム、あるいは、積層材を構成するプラズマ化
学成膜法による無機酸化物のコ−ティング膜について説
明すると、本発明においては、基材フィルムの一方の面
に、有機珪素化合物等のコ−ティング用モノマ−ガスを
原料とし、該コ−ティング用モノマ−ガス、酸素ガス、
不活性ガス、その他等からなるコ−ティング用混合ガス
組成物を使用し、低温プラズマ発生装置等を利用するプ
ラズマ化学成膜法（ＰＣＶＤ法）を用いて酸化珪素等の
無機酸化物のコ−ティング膜を形成することができる。
上記において、低温プラズマ発生装置としては、例え
ば、高周波プラズマ、パルス波プラズマ、マイクロ波プ
ラズマ等の発生装置を使用することがてき、而して、本
発明においては、高活性の安定したプラズマを得るため
には、高周波プラズマ方式による発生装置を使用するこ
とが望ましい。具体的に、上記のプラズマ化学成膜法に
ついてその一例を例示して説明すると、図４は、プラズ
マ化学成膜法の概要を示すプラズマ化学成膜装置の概略
的構成図である。上記の図４に示すように、本発明にお
いては、プラズマ化学成膜装置２１の真空チャンバ−２
２内に配置された巻き出しロ−ル２３から基材フィルム
２を繰り出し、更に、該基材フィルム２を、補助ロ−ル
２４を介して所定の速度で冷却・電極ドラム２５周面上
に搬送する。而して、本発明においては、ガス供給装置
２６、２７、および、原料揮発供給装置２８等から酸素
ガス、不活性ガス、有機珪素化合物等のコ−ティング用
モノマ−ガス、その他等を供給し、それらからなるコ−
ティング用混合ガス組成物を調整しなから原料供給ノズ
ル２９を通して真空チャンバ−２２内に導入し、そし
て、上記の冷却・電極ドラム２５周面上に搬送された基
材フィルム２の上に、グロ−放電プラズマによってプラ
ズマ３０を発生させて、これを照射して、酸化珪素等の
無機酸化物のコ−ティング膜を成膜化するものである。
本発明においては、その際に、冷却・電極ドラム２５
は、真空チャンバ−２２外に配置されている電源３１か
ら所定の電力が印加されており、また、冷却・電極ドラ
ム２５の近傍には、マグネット３２を配置してプラズマ
３０の発生が促進されており、次いで、上記で酸化珪素
等の無機酸化物のコ−ティング膜を形成した基材フィル
ム２は、補助ロ−ル３３を介して巻き取りロ−ル３４に
巻き取って、酸化珪素等の無機酸化物のコ−ティング膜
を設けた基材フィルム２を形成することができる。な
お、図中、３５は、真空ポンプを表す。上記の例示は、
本発明にかかるプラズマ化学成膜法の一例を例示するも
のであり、これによって本発明は限定されるものではな
いことは言うまでもないことである。

【００１２】上記のにおいて、酸化珪素等の無機酸化物
のコ−ティング膜を形成する有機珪素化合物等のコ−テ
ィング用モノマ−ガスとしては、例えば、１．１．３．
３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキ
サン、ビニルトリメチルシラン、メチルトリメチルシラ
ン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシ
ラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシ
ラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビ
ニルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチ
ルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロ
キサン、その他等を使用することができる。本発明にお
いて、上記のような有機珪素化合物の中でも、１．１．
３．３−テトラメチルジシロキサン、または、ヘキサメ
チルジシロキサンを原料として使用することが、その取
り扱い性、形成されたコ−ティング膜の特性等から、特
に、好ましい原料である。

【００１３】而して、本発明において、上記のプラズマ
化学成膜法によって形成される酸化珪素のコ−ティング
膜としては、式ＳｉＯ_X （ただし、Ｘは、１〜２の数を
表す）で表される酸化珪素を主体とする連続状のコ−テ
ィング膜であり、更に、透明性等の点から、式ＳｉＯ_X
（ただし、Ｘは、１．３〜１．９の数を表す。）で表さ
れる酸化珪素のコ−ティング膜を主体とする連続膜であ
ることが好ましいものである。また、上記の酸化珪素の
コ−ティング膜は、珪素および酸素を構成元素とする酸
化珪素化合物からなり、更に、炭素、水素、珪素、また
は、酸素からなる微量構成元素の１種ないし２種以上か
らなる化合物の少なくとも１種以上を含有する酸化珪素
の連続コ−ティング膜からなるものである。更に、上記
の酸化珪素のコ−ティング膜は、珪素および酸素を構成
元素とする酸化珪素化合物からなり、更に、炭素、水
素、珪素、または、酸素の１種または２種以上の元素か
らなる化合物を少なくとも１種以上含有し、かつ、該化
合物が、その膜表面から深さ方向に向かって減少してい
る酸化珪素の連続コ−ティング膜からなるものである。
更にまた、上記の酸化珪素のコ−ティング膜は、炭素か
らなる化合物を含有する場合には、その膜厚の深さ方向
において炭素の含有量が減少していることを特徴とする
ものである。而して、上記のようなことは、例えば、Ｘ
線光電子分光装置（Ｘｒａｙ Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒ
ｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ、ＸＰＳ）、二次イオ
ン質量分析装置（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ Ｉｏｎ Ｍａｓ
ｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ、ＳＩＭＳ）等の表面分
析装置を用い、深さ方向にイオンエッチングする等して
分析する方法を利用して、コ−ティング膜の元素分析を
行うことより確認することができるものである。なお、
本発明において、酸化珪素等の無機酸化物のコ−ティン
グ膜の膜厚としては、５０〜２０００Å位、好ましく
は、８０〜１０００Å位が望ましいものである。上記に
おいて、膜厚が、１０００Å、更に、２０００Åを越え
ると、コ−ティング膜の屈曲性等が劣り、例えば、ラミ
ネ−ト加工、印刷加工、製袋加工等の後加工時等におい
て、クラック等が発生する傾向にあることから好ましく
なく、また、膜厚が、８０Å、更に、５０Å未満になる
と、酸素ガスバリア性、水蒸気ばりあ性等に劣る傾向に
あることから好ましくないものである。

【００１４】次にまた、本発明において、本発明にかか
る透明バリア性フィルム、あるいは、積層体を構成する
プラズマ処理部について説明すると、かかるプラズマ処
理部は、気体をア−ク放電により電離させることにより
生じるプラズマガスを利用して表面改質を行なうプラズ
マ表面処理法等を利用してプラズマ処理部を形成するこ
とができるものである。すなわは、本発明においては、
酸素ガス、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス等の
ガスをプラズマガスとして使用する方法でプラズマ処理
を行って、プラズマ処理部を形成することができる。而
して、本発明において、上記のプラズマ処理としては、
プラズマ放電処理の際に、酸素ガス、または、酸素ガス
とアルゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスを使用
してプラズマ処理を行なうことが好ましく、このような
プラズマ処理により、より低い電圧でプラズマ処理を行
なうことが可能であり、これにより、酸化珪素等の無機
酸化物のコ−ティング膜の劣化等を防止して、その表面
に、良好にプラズマ処理部を設けることができるもので
ある。

【００１５】ところで、本発明において、上記のプラズ
マ処理としては、酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウ
ムガスとの混合ガスを使用してプラズマ処理を行うこと
が最も望ましく、また、そのプラズマ処理は、酸化珪素
等の無機酸化物のコ−ティング膜を形成した直後にイン
ラインで行うことが望ましいものである。すなわち、本
発明においては、酸化珪素等の無機酸化物のコ−ティン
グ膜の表面に、例えば、その形成直後で、かつ、コ−テ
ィング膜が、ガイドロ−ル等に接する前に、インライン
でプラズマ処理を行うことにより、酸化珪素等の無機酸
化物のコ−ティング膜の表面に付着している不純物、塵
等を除去すると共に、更に、コ−ティング膜の表層近く
に存在するハイドロカ−ボングル−プ（例えば、Ｃ−
Ｃ、Ｃ−Ｈ、Ｃ＝等）が減少し、かつ、その表面の酸化
度が増加し、多数のカルボキシル基、ケト基、アセト
基、ＯＨ基等が表面にできて、その表面濡れ性が大幅に
向上し、コ−ティング膜の印刷性、接着性等の後加工適
性が向上するものである。而して、本発明においては、
上記のようなプラズマ処理部面上に、後述するように、
少なくとも、ヒ−トシ−ル性樹脂層等を積層することに
より、その密接着性を高め、ラミネ−ト強度等に優れた
積層体を形成することができ、しかも、十分に、酸素ガ
スあるいは水蒸気等に対する極めて高いバリア性を有す
る積層体等を製造することができるものである。しか
も、本発明においては、密接着性に優れ、ラミネ−ト強
度を高めることができることから、例えば、フィルムの
巻き取り、印刷加工、ラミネ−ト加工、あるいは、製袋
加工等の後処理加工において、上記の酸化珪素等の無機
酸化物のコ−ティング膜にクラック等の発生等を防止す
ることができ、いわゆる、後加工適性を向上させること
ができるという利点も有するものである。また、本発明
においては、インラインでプラズマ処理を行うことか
ら、透明バリア性フィルムの製造コスト面においても、
極めて優れているものである。

【００１６】なお、本発明において、上記のプラズマ処
理においては、プラズマ処理条件が極めて重要であり、
その条件によって得られる効果は、全く異なる。而し
て、本発明において、プラズマ処理と化学反応に影響す
る要因としては、プラズマ出力、ガスの種類、ガスの供
給量、および、処理時間等を挙げることができる。本発
明において、プラズマ処理としては、具体的には、酸素
ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスを
使用することが望ましく、そして、その酸素ガスとアル
ゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスのガス圧とし
ては、１〜１×１０^-4ｍｂａｒ位、より好ましくは、１
×１０^-1〜１×１０^-3ｍｂａｒ位が望ましく、また、酸
素ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの比率とし
ては、分圧比でアルゴンガスまたはヘリウムガス：酸素
ガス＝１：１〜１：１０位、より好ましくは、１：２〜
１：６位が望ましく、更に、そのプラズマ出力として
は、０．３〜２０ｋＷ位、より好ましくは、０．５〜１
５ｋＷ位が望ましく、更にまた、その処理速度として
は、５０〜５００ｍ／ｍｉｎ位、より好ましくは、１０
０〜４００ｍ／ｍｉｎ位が望ましい。上記の酸素ガスと
アルゴンガスまたはヘリウムガスとの分圧比において、
アルゴンガスまたはヘリウムガス分圧が高くなると、プ
ラズマで活性化される酸素分子が少なくなり、アルゴン
ガスまたはヘリウムガスが還元性ガスとして作用し、無
機酸化物のコ−ティング膜面に酸化被膜の形成、あるい
は、水酸基等の導入が阻害されることから好ましくない
ものである。また、上記のプラズマ出力が、０．５ｋＷ
未満、更には、０．３ｋＷ未満の場合には、酸素ガスの
活性化が低下し、高活性の酸素原子が生成しにくいこと
から好ましくなく、また、１５ｋＷを越えると、更に
は、２０ｋＷを越えると、プラズマ出力が高すぎるの
で、無機酸化物のコ−ティング膜の劣化によりクラック
等が発生する傾向になり、透明バリア性フィルムそのも
のの物性が低下するという問題を引き起こすことから好
ましくないものである。更に、上記の処理速度が、４０
０ｍ／ｍｉｎ以上、更には、５００ｍ／ｍｉｎ以上であ
ると、酸素プラズマ量が少なく、また、５０ｍ／ｍｉｎ
未満、更には、３０ｍ／ｍｉｎ未満であると、無機酸化
物のコ−ティング膜の劣化等が急速に進み、バリア性が
低下して好ましくないものである。

【００１７】ところで、本発明において、プラズマ処理
において、プラズマを発生させる方法としては、例え
ば、直流グロ−放電、高周波（Ａｕｄｉｏ Ｆｒｅｑｕ
ｅｎｃｙ：ＡＦ、Ｒａｄｉｏ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ：Ｒ
Ｆ）放電、マイクロ波放電等の３通りの装置を利用して
行うことができる。而して、本発明においては、通常
は、１３．５６ＭＨｚの高周波（ＡＦ）放電装置を利用
して行うことができる。

【００１８】なお、本発明において、酸化珪素等の無機
酸化物のコ−ティング膜の表面に上記のようなプラズマ
処理により形成されるプラズマ処理部について、例え
ば、前述のＸ線光電子分光装置（Ｘｒａｙ Ｐｈｏｔｏ
ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ、ＸＰ
Ｓ）、二次イオン質量分析装置（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ
Ｉｏｎ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ、ＳＩＭ
Ｓ）等の表面分析装置を用い、深さ方向にイオンエッチ
ングする等して分析する方法を利用して、プラズマ処理
部の分析を行うことより、前述のように、不純物、塵等
を除去されると共に、更に、その処理面に薄くて平滑性
の高い酸化被膜を形成したプラズマ処理面であること、
更に、例えば、水酸基（−ＯＨ基）等の官能基が形成さ
れているプラズマ処理面であることを確認することがで
きるものである。具体的には、Ｘ線源として、ＭｇＫα
１．２、Ｘ線出力として１５Ｋｖ、２０ｍＡの測定条件
で表面〜１００ÅのＸＰＳ分析を行い、Ｓｉ、Ｃ、Ｏ等
の元素比を測定して処理状態を確認することができる。
また、本発明においては、コ−ティング膜の表面自由エ
ネルギ−は、濡れ試薬を用いて測定することができる。
本発明において、表面自由エネルギ−が、４５ｄｙｎｅ
／ｃｍ未満であると、良好な接着性は得られず、而し
て、表面自由エネルギ−が、４５ｄｙｎｅ／ｃｍ、特
に、５０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上であることが良好な接着性
を得る観点から好ましいものである。

【００１９】次に、本発明において、本発明にかかる透
明バリア性フィルムを使用した積層体を構成するヒ−ト
シ−ル性樹脂層を形成するヒ−トシ−ル性樹脂として
は、熱によって溶融し相互に融着し得る樹脂のフィルム
ないしシ−トを使用することができ、具体的には、例え
ば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度
ポリエチレン、直鎖状（線状）低密度ポリエチレン、ポ
リプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオ
ノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン
−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−メタクリル酸
共重合体、エチレン−メタクリル酸メチル共重合体、エ
チレン−プロピレン共重合体、メチルペンテンポリマ
−、ポリブテンポリマ−、ポリエチレンまたはポリプロ
ピレン等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、メタク
リル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマ−ル酸、イ
タコン酸等の不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオ
レフィン樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ（メタ）ア
クリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、その他等の樹脂
のフィルムないしシ−トを使用することができる。而し
て、上記のフィルムないしシ−トは、その樹脂を含む組
成物によるコ−ティング膜の状態でも使用することがで
きる。その膜もしくはフィルムないしシ−トの厚さとし
ては、５μｍないし３００μｍ位が好ましくは、更に
は、１０μｍないし１００μｍ位が望ましい。

【００２０】ところで、本発明において、本発明にかか
る積層体としては、上記のようなヒ−トシ−ル性樹脂層
の他に、例えば、各種の樹脂のフィルム、紙基材、金属
素材、合成紙、セロハン、その他等の包装用容器を構成
する包装用素材等と任意に組み合わせて、種々の積層体
を製造し、種々の物品を充填包装するに適した包装材料
を製造可能とするものである。上記の樹脂のフィルムと
しては、具体的には、例えば、低密度ポリエチレン、中
密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度ポ
リエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共
重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−
樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン
−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、酸変性ポリ
オレフィン系樹脂、メチルペンテンポリマ−、ポリブテ
ン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹
脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、塩化ビニル−塩化ビニ
リデン共重合体、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリア
クリルニトリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロ
ニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ系樹脂）、アクリロ
ニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体（ＡＢＳ系樹
脂）、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ
−ボネ−ト系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体のケン化物、フッ素系樹脂、
ジエン系樹脂、ポリアセタ−ル系樹脂、ポリウレタン系
樹脂、ニトロセルロ−ス、その他等の公知の樹脂のフィ
ルムないしシ−トから任意に選択して使用することがで
きる。本発明において、上記のフィルムないしシ−ト
は、未延伸、一軸ないし二軸方向に延伸されたもの等の
いずれのものでも使用することができる。また、その厚
さは、任意であるが、数μｍから３００μｍ位の範囲か
ら選択して使用することができる。更に、本発明におい
ては、フィルムないしシ−トとしては、押し出し成膜、
インフレ−ション成膜、コ−ティング膜等のいずれの性
状の膜でもよい。また、上記において、紙基材として
は、例えば、強サイズ性の晒または未晒の紙基材、ある
いは純白ロ−ル紙、クラフト紙、板紙、加工紙等の紙基
材、その他等を使用することができる。上記において、
紙層を構成する紙基材としては、坪量約８０〜６００ｇ
／ｍ²位のもの、好ましくは、坪量約１００〜４５０ｇ
／ｍ² 位のものを使用することが望ましい。また、上記
にといて、金属素材としては、例えば、アルミニウム
箔、あるいは、アルミニウム蒸着膜を有する樹脂のフィ
ルム等を使用することができる。

【００２１】次に、上記の本発明において、上記のよう
な材料を使用して積層体を製造する方法について説明す
ると、かかる方法としては、通常の包装材料をラミネ−
トする方法、例えば、ウエットラミネ−ション法、ドラ
イラミネ−ション法、無溶剤型ドライラミネ−ション
法、押し出しラミネ−ション法、Ｔダイ押し出し成形
法、共押し出しラミネ−ション法、インフレ−ション
法、共押し出しインフレ−ション法、その他等で行うこ
とができる。而して、本発明においては、上記の積層を
行う際に、必要ならば、例えば、コロナ処理、オゾン処
理、フレ−ム処理、その他等の前処理をフィルムに施す
ことができ、また、例えば、ポリエステル系、イソシア
ネ−ト系（ウレタン系）、ポリエチレンイミン系、ポリ
ブタジェン系、有機チタン系等のアンカ−コ−ティング
剤、あるいはポリウレタン系、ポリアクリル系、ポリエ
ステル系、エポキシ系、ポリ酢酸ビニル系、セルロ−ス
系、その他等のラミネ−ト用接着剤等の公知のアンカ−
コ−ト剤、接着剤等を使用することができる。

【００２２】次に、本発明において、上記のような積層
体を使用して製袋ないし製函する方法について説明する
と、例えば、包装用容器がプラスチックフィルム等から
なる軟包装袋の場合、上記のような方法で製造した積層
体を使用し、その内層のヒ−トシ−ル性樹脂層の面を対
向させて、それを折り重ねるか、或いはその二枚を重ね
合わせ、更にその周辺端部をヒ−トシ−ルしてシ−ル部
を設けて袋体を構成することができる。而して、その製
袋方法としては、上記の積層体を、その内層の面を対向
させて折り曲げるか、あるいはその二枚を重ね合わせ、
更にその外周の周辺端部を、例えば、側面シ−ル型、二
方シ−ル型、三方シ−ル型、四方シ−ル型、封筒貼りシ
−ル型、合掌貼りシ−ル型（ピロ−シ−ル型）、ひだ付
シ−ル型、平底シ−ル型、角底シ−ル型、その他等のヒ
−トシ−ル形態によりヒ−トシ−ルして、本発明にかか
る種々の形態の包装用容器を製造することができる。そ
の他、例えば、自立性包装袋（スタンディングパウチ）
等も製造することが可能であり、更に、本発明において
は、上記の複合フィルムを使用してチュ−ブ容器等も製
造することができる。上記において、ヒ−トシ−ルの方
法としては、例えば、バ−シ−ル、回転ロ−ルシ−ル、
ベルトシ−ル、インパルスシ−ル、高周波シ−ル、超音
波シ−ル等の公知の方法で行うことができる。なお、本
発明においては、上記のような包装用容器には、例え
ば、ワンピ−スタイプ、ツウ−ピ−スタイプ、その他等
の注出口、あるいは開閉用ジッパ−等を任意に取り付け
ることができる。

【００２３】次にまた、包装用容器として、紙基材を含
む液体充填用紙容器の場合、例えば、積層体として、紙
基材を積層した積層体を製造し、これから所望の紙容器
を製造するブランク板を製造し、しかる後該ブランク板
を使用して胴部、底部、頭部等を製函して、例えば、ブ
リックタイプ、フラットタイプあるいはゲ−ベルトップ
タイプの液体用紙容器等を製造することができる。ま
た、その形状は、角形容器、丸形等の円筒状の紙缶等の
いずれのものでも製造することができる。

【００２４】本発明において、上記のようにして製造し
た包装用容器は、透明性、酸素、水蒸気等に対するガス
バリア性、耐衝撃性等に優れ、更に、ラミネ−ト加工、
印刷加工、製袋ないし製函加工等の後加工適性を有し、
また、バリア性膜としてのコ−ティング膜の剥離を防止
し、かつ、その熱的クラックの発生を阻止し、また、そ
の劣化を防止して、バリア性膜として優れた耐性を発揮
し、例えば、飲食品、医薬品、洗剤、シャンプ−、オイ
ル、歯磨き、接着剤、粘着剤等の化学品ないし化粧品、
その他等の種々の物品の充填包装適性、保存適性等に優
れているものである。

【００２５】

【実施例】上記の本発明について以下に実施例を挙げて
更に具体的に説明する。 実施例１ （１）．厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを使用し、これをプラズマ化学成膜装置
の送り出しロ−ルに装着し、下記の条件で酸化珪素のコ
−ティング膜を上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ
−トフィルムの上に形成した。 （プラズマ化学成膜条件） 反応ガス混合比：ヘキサメチルジシロキサン：酸素ガ
ス：ヘリウム＝１：３：３（単位；ｓｌｍ） 真空チャンバ−内の真空度；１．０×１０^-5ｍｂａｒ チャンバ−内の真空度；５．０×１０^-2ｍｂａｒ 冷却・電極ドラムの電力；１０ｋＷ フィルムの搬送速度；１００ｍ／分 膜厚：２００Å （２）．次に、上記で厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルムの一方の面に酸化珪素のコ
−ティング膜を形成し、そのプラズマ化学成膜装置内に
おいて、その形成直後の酸化珪素のコ−ティング膜面
に、下記の条件でプラズマ処理して、上記の酸化珪素の
コ−ティング膜面にプラズマ処理部を形成して、本発明
にかかる透明バリア性フィルムを製造した。 （プラズマ処理条件） プラズマ処理ガス；ヘリウムガスと酸素ガス ガス比；ヘリウムガス：酸素ガス＝２：７ プラズマパワ−：３ｋＷ 処理速度；３００ｍ／ｍｉｎ （３）．次に、上記のプラズマ処理した透明バリア性フ
ィルムを使用し、これをドライラミネ−トコ−タ−機の
一方の送り出しロ−ルに装着し、その酸化珪素のコ−テ
ィング膜面に接着剤層を形成し、他方、シ−ラントフィ
ルムである厚さ４０μｍの無延伸ポリプロピレンフィル
ムを使用し、これを他方の送り出しロ−ルに装着し、し
かる後その両者を下記の条件でドライラミネ−トして、
本発明にかかる積層体を製造した。 （接着剤層）；ウレタン系接着剤を使用 （主剤）ウレタン系（武田薬品工業株式会社製、商品
名、タケネ−トＡ−５１５） （硬化剤）イソシアネ−ト系（武田薬品工業株式会社
製、商品名、Ａ−５０） （混合比）主剤：硬化剤＝１０：１ （溶剤）酢酸エチル （塗布量）４．０ｇ／ｍ² （ドライ） （４）．上記において、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエ
チレンテレフタレ−トフィルムの代わりに、厚さ１５μ
ｍの２軸延伸ナイロンフィルムを使用しても、上記と同
様に行って、上記と同様な透明バリア性フィルム、およ
び、積層体を製造することができた。

【００２６】比較例１ （１）．厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを使用し、これをプラズマ化学成膜装置
の送り出しロ−ルに装着し、下記の条件で酸化珪素のコ
−ティング膜を上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ
−トフィルムの上に形成した。 （プラズマ化学成膜条件） 反応ガス混合比：ヘキサメチルジシロキサン：酸素ガ
ス：ヘリウム＝１：３：３（単位；ｓｌｍ） 真空チャンバ−内の真空度；１．０×１０^-5ｍｂａｒ チャンバ−内の真空度；５．０×１０^-2ｍｂａｒ 冷却・電極ドラムの電力；１０ｋＷ フィルムの搬送速度；１００ｍ／分 膜厚：２００Å （２）．次に、上記の透明バリア性フィルムを使用し、
これをドライラミネ−トコ−タ−機の一方の送り出しロ
−ルに装着し、その酸化珪素のコ−ティング膜面に接着
剤層を形成し、他方、シ−ラントフィルムである厚さ４
０μｍの無延伸ポリプロピレンフィルムを使用し、これ
を他方の送り出しロ−ルに装着し、しかる後その両者を
下記の条件でドライラミネ−トして、積層体を製造し
た。 （接着剤層）；ウレタン系接着剤を使用 （主剤）ウレタン系（武田薬品工業株式会社製、商品
名、タケネ−トＡ−５１５） （硬化剤）イソシアネ−ト系（武田薬品工業株式会社
製、商品名、Ａ−５０） （混合比）主剤：硬化剤＝１０：１ （溶剤）酢酸エチル （塗布量）４．０ｇ／ｍ² （ドライ）

【００２７】比較例２ （１）．厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを使用し、これをプラズマ化学成膜装置
の送り出しロ−ルに装着し、下記の条件で酸化珪素のコ
−ティング膜を上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ
−トフィルムの上に形成した。 （プラズマ化学成膜条件） 反応ガス混合比：ヘキサメチルジシロキサン：酸素ガ
ス：ヘリウム＝１：３：３（単位；ｓｌｍ） 真空チャンバ−内の真空度；１．０×１０^-5ｍｂａｒ チャンバ−内の真空度；５．０×１０^-2ｍｂａｒ 冷却・電極ドラムの電力；１０ｋＷ フィルムの搬送速度；１００ｍ／分 膜厚；２００Å （２）．次に、上記で厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルムの一方の面に酸化珪素のコ
−ティング膜を形成し、その酸化珪素のコ−ティング膜
面に、下記の条件でコロナ放電処理して、上記の酸化珪
素のコ−ティング膜面にコロナ放電処理面を形成して、
透明バリア性フィルムを製造した。 （コロナ放電処理条件） フィルム搬送速度：１００ｍ／ｍｉｎ コロナ出力：３ｋＷ （３）．次に、上記のコロナ放電処理した透明バリア性
フィルムを使用し、これをドライラミネ−トコ−タ−機
の一方の送り出しロ−ルに装着し、その酸化珪素のコ−
ティング膜面に接着剤層を形成し、他方、シ−ラントフ
ィルムである厚さ４０μｍの無延伸ポリプロピレンフィ
ルムを使用し、これを他方の送り出しロ−ルに装着し、
しかる後その両者を下記の条件でドライラミネ−トし
て、積層体を製造した。 （接着剤層）；ウレタン系接着剤を使用 （主剤）ウレタン系（武田薬品工業株式会社製、商品
名、タケネ−トＡ−５１５） （硬化剤）イソシアネ−ト系（武田薬品工業株式会社
製、商品名、Ａ−５０） （混合比）主剤：硬化剤＝１０：１ （溶剤）酢酸エチル （塗布量）４．０ｇ／ｍ² （ドライ）

【００２８】比較例３ （１）．厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを使用し、これをプラズマ化学成膜装置
の送り出しロ−ルに装着し、下記の条件で酸化珪素のコ
−ティング膜を上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ
−トフィルムの上に形成した。 （プラズマ化学成膜条件） 反応ガス混合比：ヘキサメチルジシロキサン：酸素ガ
ス：ヘリウム＝１：３：３（単位；ｓｌｍ） 真空チャンバ−内の真空度；１．０×１０^-5ｍｂａｒ チャンバ−内の真空度；５．０×１０^-2ｍｂａｒ 冷却・電極ドラムの電力；１０ｋＷ フィルムの搬送速度；１００ｍ／分 膜厚；２００Å （２）．次に、上記で厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルムの一方の面に酸化珪素のコ
−ティング膜を形成し、そのプラズマ化学成膜装置内に
おいて、その形成直後の酸化珪素のコ−ティング膜面
に、下記の条件でプラズマ処理して、上記の酸化珪素の
コ−ティング膜面にプラズマ処理部を形成して、透明バ
リア性フィルムを製造した。 （プラズマ処理条件） プラズマ処理ガス；ヘリウムガスと酸素ガス ガス比；ヘリウムガス：酸素ガス＝２：７ プラズマパワ−：０．２ｋＷ 処理速度；３００ｍ／ｍｉｎ （３）．次に、上記のプラズマ処理した透明バリア性フ
ィルムを使用し、これをドライラミネ−トコ−タ−機の
一方の送り出しロ−ルに装着し、その酸化珪素のコ−テ
ィング膜面に接着剤層を形成し、他方、シ−ラントフィ
ルムである厚さ４０μｍの無延伸ポリプロピレンフィル
ムを使用し、これを他方の送り出しロ−ルに装着し、し
かる後その両者を下記の条件でドライラミネ−トして、
積層体を製造した。 （接着剤層）；ウレタン系接着剤を使用 （主剤）ウレタン系（武田薬品工業株式会社製、商品
名、タケネ−トＡ−５１５） （硬化剤）イソシアネ−ト系（武田薬品工業株式会社
製、商品名、Ａ−５０） （混合比）主剤：硬化剤＝１０：１ （溶剤）酢酸エチル （塗布量）４．０ｇ／ｍ² （ドライ）

【００２９】実験例１ 上記の実施例１、および、比較例１〜３で製造した各透
明バリア性フィルムおよび積層体について、下記のデ−
タを測定した。 （１）．酸素透過度の測定 これは、温度２３℃、湿度１００％ＲＨの条件で、米
国、モコン（ＭＯＣＯＮ）社製の測定機〔機種名、オク
ストラン（ＯＸＴＲＡＮ）〕にて測定した。 （２）．水蒸気透過度の測定 これは、温度４０℃、湿度９０％ＲＨの条件で、米国、
モコン（ＭＯＣＯＮ）社製の測定機〔機種名、パ−マト
ラン（ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ）〕にて測定した。 （３）．ラミネ−ト強度の測定 これは、積層体について、エ−ジング後、１５ｍｍ巾で
テンシロンにて測定した（引っ張り速度５０ｍｍ／ｍｉ
ｎ）。 （４）．表面自由エネルギ−の測定 これは、透明バリア性フィルムの表面を濡れ試薬にて測
定した。上記の測定結果について、下記の表１、表２、
および、表３に示す。

【００３０】

【表１】 酸素透過度および水蒸気透過度の測定結果 上記の表１において、酸素透過度は、ｃｃ／ｍ² ／ｄａ
ｙ・２３℃・９０％ＲＨの単位であり、また、水蒸気透
過度は、ｇ／ｍ² ／ｄａｙ・４０℃・１００％ＲＨの単
位である。

【００３１】

【表２】 ラミネ−ト強度の測定結果

【００３２】

【表３】 表面自由エネルギ−の測定結果

【００３３】（１）．上記の測定結果から明らかなよう
に、実施例１のものは、透明バリア性フィルム、およ
び、積層体において、酸素ガスバリア性、水蒸気バリア
性等において良好であり、比較例１〜３のそれよりもは
るかに優れていた。これに対し、比較例１〜３のもの
は、いずれも劣っていた。 （２）．実施例１のものは、ラミネ−ト強度において、
経時変化が認められないものであったが、比較例１〜３
のものは、経時変化が認められ、ラミネ−ト強度が、不
十分であった。 （３）．実施例１のものは、表面自由エネルギ−におい
て、経時変化が認められず、良好である。 これに対し、比較例１〜３のものは、いずれも劣ってい
た。

【００３４】

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明
は、基材フィルムの一方の面に、プラズマ化学成膜法に
より、酸化ケイ素等の無機酸化物のコ−ティング膜を設
け、更に、該無機酸化物のコ−ティング膜面に、酸素、
アルゴン、または、ヘリウムの１種ないしそれ２種以上
からなるガスによるプラズマ処理部を設けて透明バリア
性フィルムを製造し、而して、該透明バリア性フィルム
を構成するプラズマ処理部面に、少なくとも、ヒ−トシ
−ル性樹脂のフィルムをラミネ−トして積層体を製造
し、更に、該積層体を使用し、製袋して包装用容器を製
造し、該包装用容器内に内容物を充填包装して包装製品
を製造して、無機酸化物のコ−ティング膜のプラズマ処
理部面とヒ−トシ−ル性樹脂フィルム面とにおけるラミ
ネ−ト強度に優れ、包装用容器を構成する積層体の層間
において剥離現象は認められず、更に、優れた透明性を
有すると共に酸素ガス、水蒸気等に対するガスバリア性
に優れ、例えば、飲食品、医薬品、化粧品、洗剤、化学
品、その他等の種々の物品の充填包装に適する包装用容
器等を製造するに有用な透明バリア性フィルムおよびそ
れを使用した積層体を製造し得ることができるというも
のである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる透明バリア性フィルムについて
その一例の層構成の概略を示す概略的断面図である。

【図２】本発明にかかる透明バリア性フィルムについて
その別の例の層構成の概略を示す概略的断面図である。

【図３】本発明にかかる透明バリア性フィルムを使用し
た積層体についてその一例の層構成の概略を示す概略的
断面図である。

【図４】本発明にかかる透明バリア性フィルムの製造法
についてそのプラズマ化学成膜装置の概要を示す概略的
構成図である。

【符号の説明】

１ 透明バリア性フィルム １ａ 透明バリア性フィルム ２ 基材フィルム ３ 無機酸化物のコ−ティング膜 ３ａ 酸化珪素のコ−ティング膜 ４ プラズマ処理部 ５ ヒ−トシ−ル性樹脂層 １１ 積層体 ２１ プラズマ化学成膜装置 ２２ 真空チャンバ− ２３ 巻き出しロ−ル ２４ 補助ロ−ル ２５ 冷却・電極ドラム ２６ ガス供給装置 ２７ ガス供給装置 ２８ 原料揮発供給装置 ２９ 原料供給ノズル ３０ グロ−放電プラズマ ３１ 電源 ３２ マグネット ３３ 補助ロ−ル ３４ 巻き取りロ−ル ３５ 真空ポンプ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｊ 7/04 ＣＦＤ Ｃ０８Ｊ 7/04 ＣＦＤＰ Ｃ２３Ｃ 16/50 Ｃ２３Ｃ 16/50

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基材フィルムの一方の面に、プラズマ化
   学成膜法による無機酸化物のコ−ティング膜を設け、更
   に、該無機酸化物のコ−ティング膜面に、酸素、アルゴ
   ン、または、ヘリウムの１種ないし２種以上からなるガ
   スによるプラズマ処理部を設けたことを特徴とする透明
   バリア性フィルム。
2. 【請求項２】 基材フィルムが、２軸延伸ポリエチレン
   テレフタレ−トフィルム、または、２軸延伸ナイロンフ
   ィルムからなることを特徴とする上記の請求項１に記載
   する透明バリア性フィルム。
3. 【請求項３】 無機酸化物のコ−ティング膜が、酸化珪
   素の連続コ−ティング膜からなることを特徴とする上記
   の請求項１また２に記載する透明バリア性フィルム。
4. 【請求項４】 無機酸化物のコ−ティング膜が、酸化珪
   素化合物からなり、更に、炭素、水素、珪素、または、
   酸素の１種または２種以上の元素からなる化合物を少な
   くとも１種以上含有する連続コ−ティング膜からなるこ
   とを特徴とする上記の請求項１、２または３に記載する
   透明バリア性フィルム。
5. 【請求項５】 無機酸化物のコ−ティング膜が、酸化珪
   素化合物からなり、更に、炭素、水素、珪素、または、
   酸素の１種または２種以上の元素からなる化合物を少な
   くとも１種以上含有し、かつ、該化合物が、その膜表面
   から深さ方向に向かって減少している連続コ−ティング
   膜からなることを特徴とする上記の請求項１、２、３ま
   たは４に記載する透明バリア性フィルム。
6. 【請求項６】 プラズマ処理部の表面自由エネルギ−
   が、４５ｄｙｎｅ／ｃｍ以上であることを特徴とする上
   記の請求項１、２、３、４または５に記載する透明バリ
   ア性フィルム。
7. 【請求項７】 基材フィルムの一方の面に、プラズマ化
   学成膜法による無機酸化物のコ−ティング膜を設け、更
   に、該無機酸化物のコ−ティング膜面に、酸素、アルゴ
   ン、または、ヘリウムの１種ないしそれ２種以上からな
   るガスによるプラズマ処理部を設けた透明バリア性フィ
   ルムのプラズマ処理部面に、少なくとも、ヒ−トシ−ル
   性樹脂層を設けたことを特徴とする積層体。
8. 【請求項８】 透明バリア性フィルムを構成するプラズ
   マ処理部面とヒ−トシ−ル性樹脂層面とのラミネ−ト強
   度が、６００ｇｆ／１５ｍｍ以上のラミネ−ト強度を有
   することを特徴とする上記の請求項７に記載する積層
   体。