JP4090571B2 - 透明バリア性フィルムおよびそれを使用した積層体 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、透明バリア性フィルムおよびそれを使用した積層体に関し、更に詳しくは、透明性、酸素ガスあるいは水蒸気等に対するバリア性等に優れ、更に、ラミネ−ト適性を有し、飲食品、医薬品、化粧品、化学品、電子部品、その他等の種々の物品を充填包装する包装材料として有用な透明バリア性フィルムおよびそれを使用した積層体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、酸素ガスバリア性、水蒸気バリア性等に優れた包装用材料として、種々のものが開発され、提案されているが、それらの一つとして、近年、プラスチックフィルム等の基材フィルムの一方の面に、真空蒸着法により酸化珪素、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を設けた蒸着フィルムが提案されている。
上記の蒸着フィルムにおいて、酸化珪素の蒸着膜を設けた蒸着フィルムは、バリア性を確保するために、蒸着膜が黄褐色に着色されるという欠点があり、また、酸化アルミニウムの蒸着膜を設けた蒸着フィルムは、上記の酸化珪素の蒸着膜を設けた蒸着フィルムと比較し、透明性に優れているという利点を有するが、バリア性に劣るという欠点がある。
更に、上記のいずれの蒸着フィルムも、蒸着膜にクラックが発生し易く、印刷加工、ラミネ−ト加工、製袋加工等の後加工において、バリア性が劣化するという欠点があり、そのためにその取り扱いが非常に困難なバリア性フィルムであるとされている。
そのような問題点を解決するバリア性フィルムとして、近年、プラズマ化学成膜法を用いた酸化珪素膜を有する透明バリア性フィルムが開発され、提案されている（特開平８−１４２２５２号公報参照）。
この透明バリア性フィルムは、完全に透明であり、また、バリア性も優れ、更に、後加工後のバリア性にも優れているという利点を有するものである。
特に、このものは、酸素ガスバリア性、水蒸気バリア性等に優れ、かつ、透明性を有し、更に、環境対応に適う包装用材料として注目され、近年、他のプラスチックフィルム、あるいは、紙基材等の包装用材料と積層し、例えば、飲食品、医薬品、化粧品、洗剤、その他等の種々の物品の充填包装に適する包装用容器を製造することかでき、その需要の拡大が期待されているものである。
【０００３】
【発明が解決しよとする課題】
しかしながら、上記の透明バリア性フィルムにおいては、確かに、透明性に優れ、かつ、酸素ガスバリア性、水蒸気バリア性等は向上するが、該透明バリア性フィルムを使用し、これに、他の樹脂のフィルム等をラミネ−トして包装用材料としての積層体を製造し、更に、該積層体を使用し、これから種々の形態からなる包装用容器を製造し、而して、その包装用容器の中に、種々の物品を充填包装しても、全ての包装用容器が十分に満足し得る包装製品を製造し得るというものではないものである。
例えば、上記の透明バリア性フィルムにおいて、基材フィルムの一方の面に、プラズマ化学成膜法を利用して、酸化珪素膜を設けたものにおいては、該酸化珪素膜が、酸化珪素化合物を主体とするコ−ティング膜からなり、更に、該コ−ティング膜中には、炭素、水素、珪素、または、酸素の１種または２種以上の元素からなる化合物を少なくとも１種以上含有し、かつ、該化合物が、その膜表面から深さ方向に向かって減少して含有している連続コ−ティング膜からなることから、そのコ−ティング膜表面には、炭素、水素、珪素、または、酸素の１種または２種以上の元素からなる化合物が多く存在することになり、このことが、包装用材料として、種々の問題点を引き起こす要因になるものである。
特に、上記のコ−ティング膜の表面に、炭素、水素、炭化水素等の化合物が多く存在すると、その表面濡れ性が悪く、例えば、他の樹脂のフィルム等をラミネ−トする時の接着性に劣るものである。
すなわち、上記の透明バリア性フィルムを構成する酸化珪素等からなるコ−ティング膜面に、例えば、他の樹脂のフィルム等をラミネ−トして、種々の形態からなる包装用容器を製造し得る積層体を製造したとしても、コ−ティング膜面の濡れ性が悪く、そのため、ラミネ−ト加工時の接着性に劣り、更に、上記で製造した積層体を使用して包装用容器を製造し、その包装用容器内に、種々の物品を充填包装して包装製品を製造したとしても、包装用容器を構成する積層体において、層間剥離等の現象を引き起し、その商品価値を著しく損ない、もはや、商品として、流通販売等に供し得ないものであるという問題点がある。
【０００４】
上記のような問題点を解決するために、例えば、基材フィルムの一方の面に、プラズマを利用して、酸化珪素等の無機酸化物のコ−ティング膜を設けた透明バリア性フィルムの酸化珪素等の無機酸化物のコ−ティング膜面に、コロナ放電処理等の前処理を行い、その接着性を向上させる試みもなされているが、上記のコロナ放電処理は、電気のスパ−クを利用することから、ア−キングアタック等が大きく、その結果、透明バリア性フィルムを構成する酸化珪素等の無機酸化物のコ−ティング膜に、クラック等を発生させる傾向が強く、而して、透明バリア性フィルムを構成する酸化珪素等の無機酸化物のコ−ティング膜にクラック等が生じると、酸素ガス、水蒸気等のバリア性は、著しく低下し、その要をなさないものであり、更にまた、上記のコロナ放電処理による処理面は、その効果の持続性が低く、その面に、他の樹脂のフィルム等をラミネ−トしても、十分に満足し得るラミネ−ト強度を有する積層体を製造することは極めて困難であるという問題点がある。
そこで本発明は、基材フィルムの一方の面に、プラズマ化学成膜法による酸化ケイ素等の無機酸化物のコ−ティング膜を設けたバリア性フィルムであり、そのコ−ティング膜面の接着性を向上させ、優れた透明性を有すると共に酸素ガス、水蒸気等に対するガスバリア性に優れ、更に、ラミネ−ト強度等にも優れ、種々の物品を充填包装する包装用容器等の製造に有用な透明バリア性フィルムおよびそれを使用した積層体を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記のような問題点を解決すべく種々研究した結果、基材フィルムの一方の面に、プラズマ化学成膜法により、酸化珪素等の無機酸化物のコ−ティング膜を設け、更に、該無機酸化物のコ−ティング膜面に、酸素、アルゴン、または、ヘリウムの１種ないしそれ２種以上からなるガスによるプラズマ処理部を設けて透明バリア性フィルムを製造し、而して、該透明バリア性フィルムを構成するプラズマ処理部面に、少なくとも、ヒ−トシ−ル性樹脂のフィルムをラミネ−トして積層体を製造し、該積層体を使用し、製袋して包装用容器を製造し、該包装用容器内に内容物を充填包装して包装製品を製造したところ、酸化珪素等の無機酸化物のコ−ティング膜のプラズマ処理部面とヒ−トシ−ル性樹脂フィルム面とにおけるラミネ−ト強度に優れ、包装用容器を構成する積層体の層間において剥離現象は認められず、更に、優れた透明性を有すると共に酸素ガス、水蒸気等に対するガスバリア性に優れ、例えば、飲食品、医薬品、化粧品、洗剤、その他等の種々の物品の充填包装に適する包装用容器等を製造するに有用な透明バリア性フィルムおよびそれを使用した積層体を製造し得ることを見出して本発明を完成したものである。
【０００６】
すなわち、本発明は、基材フィルムの一方の面に、プラズマ化学成膜法による無機酸化物のコ−ティング膜を設け、更に、該無機酸化物のコ−ティング膜面に、酸素、アルゴン、または、ヘリウムの１種ないしそれ２種以上からなるガスによるプラズマ処理部を設けたことを特徴とする透明バリア性フィルムおよびそれを使用した積層体に関するものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】
上記の本発明について図面等を用いて以下に更に詳しく説明する。
まず、本発明にかかる透明バリア性フィルムおよびそれを使用した積層体についてその一二例を例示しその層構成を示すと、図１および図２は、本発明にかかる透明バリア性フィルムについてその一二例の層構成を示す概略的断面図であり、図３は、本発明にかかる透明バリア性フィルムを使用した積層体についてその一例の層構成を示す概略的断面図である。
【０００８】
まず、本発明にかかる透明バリア性フィルム１は、図１に示すように、基材フィルム２の一方の面に、プラズマ化学成膜法による無機酸化物のコ−ティング膜３を設け、更に、該無機酸化物のコ−ティング膜３の面に、酸素、アルゴン、または、ヘリウムの１種ないしそれ２種以上からなるガスによるプラズマ処理部４を設けた構成からなるものである。
更に具体的には、本発明にかかる透明バリア性フィルム１ａは、図２に示すように、基材フィルム２の一方の面に、プラズマ化学成膜法による酸化珪素のコ−ティング膜３ａを設け、更に、該酸化珪素のコ−ティング膜３ａの面に、酸素、アルゴン、または、ヘリウムの１種ないしそれ２種以上からなるガスによるプラズマ処理部４を設けた構成からなるものである。
【０００９】
次に、本発明にかかる透明バリア性フィルムを使用した積層体１１としては、図３に示すように、例えば、上記の図１に示す透明バリア性フィルム１を使用した例で例示すると、まず、基材フィルム２の一方の面に、プラズマ化学成膜法による無機酸化物のコ−ティング膜３を設け、更に、該無機酸化物のコ−ティング膜３の面に、酸素、アルゴン、または、ヘリウムの１種ないしそれ２種以上からなるガスによるプラズマ処理部４を設けて透明バリア性フィルム１を構成し、更に、該透明バリア性フィルム１を構成するプラズマ処理部４の面に、少なくとも、ヒ−トシ−ル性樹脂層５を設けた構成からなるものである。
上記の例示は、本発明にかかる透明バリア性フィルムおよびそれを使用した積層体についてその一二例を例示するものであり、これによって本発明は限定されるものではないことは言うまでもないことである。
【００１０】
次に、上記の本発明にかかる透明バリア性フィルムおよびそれを使用した積層体を構成する材料、その製造法等について説明すると、まず、本発明にかかる透明バリア性フィルム、あるいは、積層体を構成する基材フィルムとしては、無色透明な各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができ、具体的には、例えば、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレ−トあるいはポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体のケン化物、ポリアクリロニトリル系樹脂、アセタ−ル系樹脂、その他等の各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
而して、上記の樹脂のフィルムないしシ−トとしては、例えば、テンタ−方式あるいはチュ−ブ方式等を使用し、縦横等の２方向に２軸延伸してなるフィルムないしシ−トでも使用することができる。
また、上記の樹脂のフィルムないしシ−トとしては、単層、あるいは、２層以上の共押し出し法等で製膜し、ついで、２軸延伸してなる樹脂のフィルムないしシ−ト等も使用することができる。
また、本発明において、基材フィルムの厚さとしては、そのフィルムないしシ−トの製造時の安定性等から適宜に設定することが可能であるが、約５〜１００μｍ位、好ましくは、９〜５０μｍ位が望ましい。
なお、本発明において、上記の基材フィルムは、無機酸化物のコ−ティング膜等との密着性を高めるために、必要に応じて、その表面に、予め、公知のプライマ−コ−ト剤によるプライマ−コ−ト剤層等を設けることもできる。
また、上記の基材フィルムは、その表面に、必要ならば、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、フレ−ム処理、その他等の表面活性処理を任意に施すこともできる。
なお、本発明において、用途に応じて、例えば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、充填剤、その他等の所望の添加剤を、その透明性に影響しない範囲内で任意に添加し、それらを含有する樹脂のフィルムないしシ−ト等も使用することができる。
【００１１】
次に、本発明において、本発明の透明バリア性フィルム、あるいは、積層材を構成するプラズマ化学成膜法による無機酸化物のコ−ティング膜について説明すると、本発明においては、基材フィルムの一方の面に、有機珪素化合物等のコ−ティング用モノマ−ガスを原料とし、該コ−ティング用モノマ−ガス、酸素ガス、不活性ガス、その他等からなるコ−ティング用混合ガス組成物を使用し、低温プラズマ発生装置等を利用するプラズマ化学成膜法（ＰＣＶＤ法）を用いて酸化珪素等の無機酸化物のコ−ティング膜を形成することができる。
上記において、低温プラズマ発生装置としては、例えば、高周波プラズマ、パルス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装置を使用することがてき、而して、本発明においては、高活性の安定したプラズマを得るためには、高周波プラズマ方式による発生装置を使用することが望ましい。
具体的に、上記のプラズマ化学成膜法についてその一例を例示して説明すると、図４は、プラズマ化学成膜法の概要を示すプラズマ化学成膜装置の概略的構成図である。
上記の図４に示すように、本発明においては、プラズマ化学成膜装置２１の真空チャンバ−２２内に配置された巻き出しロ−ル２３から基材フィルム２を繰り出し、更に、該基材フィルム２を、補助ロ−ル２４を介して所定の速度で冷却・電極ドラム２５周面上に搬送する。
而して、本発明においては、ガス供給装置２６、２７、および、原料揮発供給装置２８等から酸素ガス、不活性ガス、有機珪素化合物等のコ−ティング用モノマ−ガス、その他等を供給し、それらからなるコ−ティング用混合ガス組成物を調整しなから原料供給ノズル２９を通して真空チャンバ−２２内に導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム２５周面上に搬送された基材フィルム２の上に、グロ−放電プラズマによってプラズマ３０を発生させて、これを照射して、酸化珪素等の無機酸化物のコ−ティング膜を成膜化するものである。
本発明においては、その際に、冷却・電極ドラム２５は、真空チャンバ−２２外に配置されている電源３１から所定の電力が印加されており、また、冷却・電極ドラム２５の近傍には、マグネット３２を配置してプラズマ３０の発生が促進されており、次いで、上記で酸化珪素等の無機酸化物のコ−ティング膜を形成した基材フィルム２は、補助ロ−ル３３を介して巻き取りロ−ル３４に巻き取って、酸化珪素等の無機酸化物のコ−ティング膜を設けた基材フィルム２を形成することができる。
なお、図中、３５は、真空ポンプを表す。
上記の例示は、本発明にかかるプラズマ化学成膜法の一例を例示するものであり、これによって本発明は限定されるものではないことは言うまでもないことである。
【００１２】
上記のにおいて、酸化珪素等の無機酸化物のコ−ティング膜を形成する有機珪素化合物等のコ−ティング用モノマ−ガスとしては、例えば、１．１．３．３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他等を使用することができる。
本発明において、上記のような有機珪素化合物の中でも、１．１．３．３−テトラメチルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサンを原料として使用することが、その取り扱い性、形成されたコ−ティング膜の特性等から、特に、好ましい原料である。
【００１３】
而して、本発明において、上記のプラズマ化学成膜法によって形成される酸化珪素のコ−ティング膜としては、式ＳｉＯ_X （ただし、Ｘは、１〜２の数を表す）で表される酸化珪素を主体とする連続状のコ−ティング膜であり、更に、透明性等の点から、式ＳｉＯ_X （ただし、Ｘは、１．３〜１．９の数を表す。）で表される酸化珪素のコ−ティング膜を主体とする連続膜であることが好ましいものである。
また、上記の酸化珪素のコ−ティング膜は、珪素および酸素を構成元素とする酸化珪素化合物からなり、更に、炭素、水素、珪素、または、酸素からなる微量構成元素の１種ないし２種以上からなる化合物の少なくとも１種以上を含有する酸化珪素の連続コ−ティング膜からなるものである。
更に、上記の酸化珪素のコ−ティング膜は、珪素および酸素を構成元素とする酸化珪素化合物からなり、更に、炭素、水素、珪素、または、酸素の１種または２種以上の元素からなる化合物を少なくとも１種以上含有し、かつ、該化合物が、その膜表面から深さ方向に向かって減少している酸化珪素の連続コ−ティング膜からなるものである。
更にまた、上記の酸化珪素のコ−ティング膜は、炭素からなる化合物を含有する場合には、その膜厚の深さ方向において炭素の含有量が減少していることを特徴とするものである。
而して、上記のようなことは、例えば、Ｘ線光電子分光装置（Ｘｒａｙ Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ、ＸＰＳ）、二次イオン質量分析装置（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ Ｉｏｎ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ、ＳＩＭＳ）等の表面分析装置を用い、深さ方向にイオンエッチングする等して分析する方法を利用して、コ−ティング膜の元素分析を行うことより確認することができるものである。
なお、本発明において、酸化珪素等の無機酸化物のコ−ティング膜の膜厚としては、５０〜２０００Å位、好ましくは、８０〜１０００Å位が望ましいものである。
上記において、膜厚が、１０００Å、更に、２０００Åを越えると、コ−ティング膜の屈曲性等が劣り、例えば、ラミネ−ト加工、印刷加工、製袋加工等の後加工時等において、クラック等が発生する傾向にあることから好ましくなく、また、膜厚が、８０Å、更に、５０Å未満になると、酸素ガスバリア性、水蒸気ばりあ性等に劣る傾向にあることから好ましくないものである。
【００１４】
次にまた、本発明において、本発明にかかる透明バリア性フィルム、あるいは、積層体を構成するプラズマ処理部について説明すると、かかるプラズマ処理部は、気体をア−ク放電により電離させることにより生じるプラズマガスを利用して表面改質を行なうプラズマ表面処理法等を利用してプラズマ処理部を形成することができるものである。
すなわは、本発明においては、酸素ガス、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス等のガスをプラズマガスとして使用する方法でプラズマ処理を行って、プラズマ処理部を形成することができる。
而して、本発明において、上記のプラズマ処理としては、プラズマ放電処理の際に、酸素ガス、または、酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスを使用してプラズマ処理を行なうことが好ましく、このようなプラズマ処理により、より低い電圧でプラズマ処理を行なうことが可能であり、これにより、酸化珪素等の無機酸化物のコ−ティング膜の劣化等を防止して、その表面に、良好にプラズマ処理部を設けることができるものである。
【００１５】
ところで、本発明において、上記のプラズマ処理としては、酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスを使用してプラズマ処理を行うことが最も望ましく、また、そのプラズマ処理は、酸化珪素等の無機酸化物のコ−ティング膜を形成した直後にインラインで行うことが望ましいものである。
すなわち、本発明においては、酸化珪素等の無機酸化物のコ−ティング膜の表面に、例えば、その形成直後で、かつ、コ−ティング膜が、ガイドロ−ル等に接する前に、インラインでプラズマ処理を行うことにより、酸化珪素等の無機酸化物のコ−ティング膜の表面に付着している不純物、塵等を除去すると共に、更に、コ−ティング膜の表層近くに存在するハイドロカ−ボングル−プ（例えば、Ｃ−Ｃ、Ｃ−Ｈ、Ｃ＝等）が減少し、かつ、その表面の酸化度が増加し、多数のカルボキシル基、ケト基、アセト基、ＯＨ基等が表面にできて、その表面濡れ性が大幅に向上し、コ−ティング膜の印刷性、接着性等の後加工適性が向上するものである。
而して、本発明においては、上記のようなプラズマ処理部面上に、後述するように、少なくとも、ヒ−トシ−ル性樹脂層等を積層することにより、その密接着性を高め、ラミネ−ト強度等に優れた積層体を形成することができ、しかも、十分に、酸素ガスあるいは水蒸気等に対する極めて高いバリア性を有する積層体等を製造することができるものである。
しかも、本発明においては、密接着性に優れ、ラミネ−ト強度を高めることができることから、例えば、フィルムの巻き取り、印刷加工、ラミネ−ト加工、あるいは、製袋加工等の後処理加工において、上記の酸化珪素等の無機酸化物のコ−ティング膜にクラック等の発生等を防止することができ、いわゆる、後加工適性を向上させることができるという利点も有するものである。
また、本発明においては、インラインでプラズマ処理を行うことから、透明バリア性フィルムの製造コスト面においても、極めて優れているものである。
【００１６】
なお、本発明において、上記のプラズマ処理においては、プラズマ処理条件が極めて重要であり、その条件によって得られる効果は、全く異なる。
而して、本発明において、プラズマ処理と化学反応に影響する要因としては、プラズマ出力、ガスの種類、ガスの供給量、および、処理時間等を挙げることができる。
本発明において、プラズマ処理としては、具体的には、酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスを使用することが望ましく、そして、その酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスのガス圧としては、１〜１×１０^-4ｍｂａｒ位、より好ましくは、１×１０^-1〜１×１０^-3ｍｂａｒ位が望ましく、また、酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの比率としては、分圧比でアルゴンガスまたはヘリウムガス：酸素ガス＝１：１〜１：１０位、より好ましくは、１：２〜１：６位が望ましく、更に、そのプラズマ出力としては、０．３〜２０ｋＷ位、より好ましくは、０．５〜１５ｋＷ位が望ましく、更にまた、その処理速度としては、５０〜５００ｍ／ｍｉｎ位、より好ましくは、１００〜４００ｍ／ｍｉｎ位が望ましい。
上記の酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの分圧比において、アルゴンガスまたはヘリウムガス分圧が高くなると、プラズマで活性化される酸素分子が少なくなり、アルゴンガスまたはヘリウムガスが還元性ガスとして作用し、無機酸化物のコ−ティング膜面に酸化被膜の形成、あるいは、水酸基等の導入が阻害されることから好ましくないものである。
また、上記のプラズマ出力が、０．５ｋＷ未満、更には、０．３ｋＷ未満の場合には、酸素ガスの活性化が低下し、高活性の酸素原子が生成しにくいことから好ましくなく、また、１５ｋＷを越えると、更には、２０ｋＷを越えると、プラズマ出力が高すぎるので、無機酸化物のコ−ティング膜の劣化によりクラック等が発生する傾向になり、透明バリア性フィルムそのものの物性が低下するという問題を引き起こすことから好ましくないものである。
更に、上記の処理速度が、４００ｍ／ｍｉｎ以上、更には、５００ｍ／ｍｉｎ以上であると、酸素プラズマ量が少なく、また、５０ｍ／ｍｉｎ未満、更には、３０ｍ／ｍｉｎ未満であると、無機酸化物のコ−ティング膜の劣化等が急速に進み、バリア性が低下して好ましくないものである。
【００１７】
ところで、本発明において、プラズマ処理において、プラズマを発生させる方法としては、例えば、直流グロ−放電、高周波（Ａｕｄｉｏ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ：ＡＦ、Ｒａｄｉｏ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ：ＲＦ）放電、マイクロ波放電等の３通りの装置を利用して行うことができる。
而して、本発明においては、通常は、１３．５６ＭＨｚの高周波（ＡＦ）放電装置を利用して行うことができる。
【００１８】
なお、本発明において、酸化珪素等の無機酸化物のコ−ティング膜の表面に上記のようなプラズマ処理により形成されるプラズマ処理部について、例えば、前述のＸ線光電子分光装置（Ｘｒａｙ Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ、ＸＰＳ）、二次イオン質量分析装置（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ Ｉｏｎ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ、ＳＩＭＳ）等の表面分析装置を用い、深さ方向にイオンエッチングする等して分析する方法を利用して、プラズマ処理部の分析を行うことより、前述のように、不純物、塵等を除去されると共に、更に、その処理面に薄くて平滑性の高い酸化被膜を形成したプラズマ処理面であること、更に、例えば、水酸基（−ＯＨ基）等の官能基が形成されているプラズマ処理面であることを確認することができるものである。
具体的には、Ｘ線源として、ＭｇＫα１．２、Ｘ線出力として１５Ｋｖ、２０ｍＡの測定条件で表面〜１００ÅのＸＰＳ分析を行い、Ｓｉ、Ｃ、Ｏ等の元素比を測定して処理状態を確認することができる。
また、本発明においては、コ−ティング膜の表面自由エネルギ−は、濡れ試薬を用いて測定することができる。
本発明において、表面自由エネルギ−が、４５ｄｙｎｅ／ｃｍ未満であると、良好な接着性は得られず、而して、表面自由エネルギ−が、４５ｄｙｎｅ／ｃｍ、特に、５０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上であることが良好な接着性を得る観点から好ましいものである。
【００１９】
次に、本発明において、本発明にかかる透明バリア性フィルムを使用した積層体を構成するヒ−トシ−ル性樹脂層を形成するヒ−トシ−ル性樹脂としては、熱によって溶融し相互に融着し得る樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができ、具体的には、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状（線状）低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸メチル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、メチルペンテンポリマ−、ポリブテンポリマ−、ポリエチレンまたはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマ−ル酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレフィン樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、その他等の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
而して、上記のフィルムないしシ−トは、その樹脂を含む組成物によるコ−ティング膜の状態でも使用することができる。
その膜もしくはフィルムないしシ−トの厚さとしては、５μｍないし３００μｍ位が好ましくは、更には、１０μｍないし１００μｍ位が望ましい。
【００２０】
ところで、本発明において、本発明にかかる積層体としては、上記のようなヒ−トシ−ル性樹脂層の他に、例えば、各種の樹脂のフィルム、紙基材、金属素材、合成紙、セロハン、その他等の包装用容器を構成する包装用素材等と任意に組み合わせて、種々の積層体を製造し、種々の物品を充填包装するに適した包装材料を製造可能とするものである。
上記の樹脂のフィルムとしては、具体的には、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、酸変性ポリオレフィン系樹脂、メチルペンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ系樹脂）、アクリロニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体（ＡＢＳ系樹脂）、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリアセタ−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロ−ス、その他等の公知の樹脂のフィルムないしシ−トから任意に選択して使用することができる。
本発明において、上記のフィルムないしシ−トは、未延伸、一軸ないし二軸方向に延伸されたもの等のいずれのものでも使用することができる。
また、その厚さは、任意であるが、数μｍから３００μｍ位の範囲から選択して使用することができる。
更に、本発明においては、フィルムないしシ−トとしては、押し出し成膜、インフレ−ション成膜、コ−ティング膜等のいずれの性状の膜でもよい。
また、上記において、紙基材としては、例えば、強サイズ性の晒または未晒の紙基材、あるいは純白ロ−ル紙、クラフト紙、板紙、加工紙等の紙基材、その他等を使用することができる。
上記において、紙層を構成する紙基材としては、坪量約８０〜６００ｇ／ｍ² 位のもの、好ましくは、坪量約１００〜４５０ｇ／ｍ² 位のものを使用することが望ましい。
また、上記にといて、金属素材としては、例えば、アルミニウム箔、あるいは、アルミニウム蒸着膜を有する樹脂のフィルム等を使用することができる。
【００２１】
次に、上記の本発明において、上記のような材料を使用して積層体を製造する方法について説明すると、かかる方法としては、通常の包装材料をラミネ−トする方法、例えば、ウエットラミネ−ション法、ドライラミネ−ション法、無溶剤型ドライラミネ−ション法、押し出しラミネ−ション法、Ｔダイ押し出し成形法、共押し出しラミネ−ション法、インフレ−ション法、共押し出しインフレ−ション法、その他等で行うことができる。
而して、本発明においては、上記の積層を行う際に、必要ならば、例えば、コロナ処理、オゾン処理、フレ−ム処理、その他等の前処理をフィルムに施すことができ、また、例えば、ポリエステル系、イソシアネ−ト系（ウレタン系）、ポリエチレンイミン系、ポリブタジェン系、有機チタン系等のアンカ−コ−ティング剤、あるいはポリウレタン系、ポリアクリル系、ポリエステル系、エポキシ系、ポリ酢酸ビニル系、セルロ−ス系、その他等のラミネ−ト用接着剤等の公知のアンカ−コ−ト剤、接着剤等を使用することができる。
【００２２】
次に、本発明において、上記のような積層体を使用して製袋ないし製函する方法について説明すると、例えば、包装用容器がプラスチックフィルム等からなる軟包装袋の場合、上記のような方法で製造した積層体を使用し、その内層のヒ−トシ−ル性樹脂層の面を対向させて、それを折り重ねるか、或いはその二枚を重ね合わせ、更にその周辺端部をヒ−トシ−ルしてシ−ル部を設けて袋体を構成することができる。
而して、その製袋方法としては、上記の積層体を、その内層の面を対向させて折り曲げるか、あるいはその二枚を重ね合わせ、更にその外周の周辺端部を、例えば、側面シ−ル型、二方シ−ル型、三方シ−ル型、四方シ−ル型、封筒貼りシ−ル型、合掌貼りシ−ル型（ピロ−シ−ル型）、ひだ付シ−ル型、平底シ−ル型、角底シ−ル型、その他等のヒ−トシ−ル形態によりヒ−トシ−ルして、本発明にかかる種々の形態の包装用容器を製造することができる。
その他、例えば、自立性包装袋（スタンディングパウチ）等も製造することが可能であり、更に、本発明においては、上記の複合フィルムを使用してチュ−ブ容器等も製造することができる。
上記において、ヒ−トシ−ルの方法としては、例えば、バ−シ−ル、回転ロ−ルシ−ル、ベルトシ−ル、インパルスシ−ル、高周波シ−ル、超音波シ−ル等の公知の方法で行うことができる。
なお、本発明においては、上記のような包装用容器には、例えば、ワンピ−スタイプ、ツウ−ピ−スタイプ、その他等の注出口、あるいは開閉用ジッパ−等を任意に取り付けることができる。
【００２３】
次にまた、包装用容器として、紙基材を含む液体充填用紙容器の場合、例えば、積層体として、紙基材を積層した積層体を製造し、これから所望の紙容器を製造するブランク板を製造し、しかる後該ブランク板を使用して胴部、底部、頭部等を製函して、例えば、ブリックタイプ、フラットタイプあるいはゲ−ベルトップタイプの液体用紙容器等を製造することができる。
また、その形状は、角形容器、丸形等の円筒状の紙缶等のいずれのものでも製造することができる。
【００２４】
本発明において、上記のようにして製造した包装用容器は、透明性、酸素、水蒸気等に対するガスバリア性、耐衝撃性等に優れ、更に、ラミネ−ト加工、印刷加工、製袋ないし製函加工等の後加工適性を有し、また、バリア性膜としてのコ−ティング膜の剥離を防止し、かつ、その熱的クラックの発生を阻止し、また、その劣化を防止して、バリア性膜として優れた耐性を発揮し、例えば、飲食品、医薬品、洗剤、シャンプ−、オイル、歯磨き、接着剤、粘着剤等の化学品ないし化粧品、その他等の種々の物品の充填包装適性、保存適性等に優れているものである。
【００２５】
【実施例】
上記の本発明について以下に実施例を挙げて更に具体的に説明する。
実施例１
（１）．厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、これをプラズマ化学成膜装置の送り出しロ−ルに装着し、下記の条件で酸化珪素のコ−ティング膜を上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの上に形成した。
（プラズマ化学成膜条件）
反応ガス混合比：ヘキサメチルジシロキサン：酸素ガス：ヘリウム＝１：３：３（単位；ｓｌｍ）
真空チャンバ−内の真空度；１．０×１０^-5ｍｂａｒ
チャンバ−内の真空度；５．０×１０^-2ｍｂａｒ
冷却・電極ドラムの電力；１０ｋＷ
フィルムの搬送速度；１００ｍ／分
膜厚：２００Å
（２）．次に、上記で厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの一方の面に酸化珪素のコ−ティング膜を形成し、そのプラズマ化学成膜装置内において、その形成直後の酸化珪素のコ−ティング膜面に、下記の条件でプラズマ処理して、上記の酸化珪素のコ−ティング膜面にプラズマ処理部を形成して、本発明にかかる透明バリア性フィルムを製造した。
（プラズマ処理条件）
プラズマ処理ガス；ヘリウムガスと酸素ガス
真空度；１．０×１０^-5ｍｂａｒ（ガス導入前）
１．０×１０^-2ｍｂａｒ（ガス導入後）
ガス比；ヘリウムガス：酸素ガス＝２：７
プラズマパワ−：３ｋＷ
処理速度；３００ｍ／ｍｉｎ
（３）．次に、上記のプラズマ処理した透明バリア性フィルムを使用し、これをドライラミネ−トコ−タ−機の一方の送り出しロ−ルに装着し、その酸化珪素のコ−ティング膜面に接着剤層を形成し、他方、シ−ラントフィルムである厚さ４０μｍの無延伸ポリプロピレンフィルムを使用し、これを他方の送り出しロ−ルに装着し、しかる後その両者を下記の条件でドライラミネ−トして、本発明にかかる積層体を製造した。
（接着剤層）；ウレタン系接着剤を使用
（主剤）ウレタン系（武田薬品工業株式会社製、商品名、タケネ−トＡ−５１５）
（硬化剤）イソシアネ−ト系（武田薬品工業株式会社製、商品名、Ａ−５０）
（混合比）主剤：硬化剤＝１０：１
（溶剤）酢酸エチル
（塗布量）４．０ｇ／ｍ² （ドライ）
（４）．上記において、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの代わりに、厚さ１５μｍの２軸延伸ナイロンフィルムを使用しても、上記と同様に行って、上記と同様な透明バリア性フィルム、および、積層体を製造することができた。
【００２６】
比較例１
（１）．厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、これをプラズマ化学成膜装置の送り出しロ−ルに装着し、下記の条件で酸化珪素のコ−ティング膜を上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの上に形成した。
（プラズマ化学成膜条件）
反応ガス混合比：ヘキサメチルジシロキサン：酸素ガス：ヘリウム＝１：３：３（単位；ｓｌｍ）
真空チャンバ−内の真空度；１．０×１０^-5ｍｂａｒ
チャンバ−内の真空度；５．０×１０^-2ｍｂａｒ
冷却・電極ドラムの電力；１０ｋＷ
フィルムの搬送速度；１００ｍ／分
膜厚：２００Å
（２）．次に、上記の透明バリア性フィルムを使用し、これをドライラミネ−トコ−タ−機の一方の送り出しロ−ルに装着し、その酸化珪素のコ−ティング膜面に接着剤層を形成し、他方、シ−ラントフィルムである厚さ４０μｍの無延伸ポリプロピレンフィルムを使用し、これを他方の送り出しロ−ルに装着し、しかる後その両者を下記の条件でドライラミネ−トして、積層体を製造した。
（接着剤層）；ウレタン系接着剤を使用
（主剤）ウレタン系（武田薬品工業株式会社製、商品名、タケネ−トＡ−５１５）
（硬化剤）イソシアネ−ト系（武田薬品工業株式会社製、商品名、Ａ−５０）
（混合比）主剤：硬化剤＝１０：１
（溶剤）酢酸エチル
（塗布量）４．０ｇ／ｍ² （ドライ）
【００２７】
比較例２
（１）．厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、これをプラズマ化学成膜装置の送り出しロ−ルに装着し、下記の条件で酸化珪素のコ−ティング膜を上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの上に形成した。
（プラズマ化学成膜条件）
反応ガス混合比：ヘキサメチルジシロキサン：酸素ガス：ヘリウム＝１：３：３（単位；ｓｌｍ）
真空チャンバ−内の真空度；１．０×１０^-5ｍｂａｒ
チャンバ−内の真空度；５．０×１０^-2ｍｂａｒ
冷却・電極ドラムの電力；１０ｋＷ
フィルムの搬送速度；１００ｍ／分
膜厚；２００Å
（２）．次に、上記で厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの一方の面に酸化珪素のコ−ティング膜を形成し、その酸化珪素のコ−ティング膜面に、下記の条件でコロナ放電処理して、上記の酸化珪素のコ−ティング膜面にコロナ放電処理面を形成して、透明バリア性フィルムを製造した。
（コロナ放電処理条件）
フィルム搬送速度：１００ｍ／ｍｉｎ
コロナ出力：３ｋＷ
（３）．次に、上記のコロナ放電処理した透明バリア性フィルムを使用し、これをドライラミネ−トコ−タ−機の一方の送り出しロ−ルに装着し、その酸化珪素のコ−ティング膜面に接着剤層を形成し、他方、シ−ラントフィルムである厚さ４０μｍの無延伸ポリプロピレンフィルムを使用し、これを他方の送り出しロ−ルに装着し、しかる後その両者を下記の条件でドライラミネ−トして、積層体を製造した。
（接着剤層）；ウレタン系接着剤を使用
（主剤）ウレタン系（武田薬品工業株式会社製、商品名、タケネ−トＡ−５１５）
（硬化剤）イソシアネ−ト系（武田薬品工業株式会社製、商品名、Ａ−５０）
（混合比）主剤：硬化剤＝１０：１
（溶剤）酢酸エチル
（塗布量）４．０ｇ／ｍ² （ドライ）
【００２８】
比較例３
（１）．厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、これをプラズマ化学成膜装置の送り出しロ−ルに装着し、下記の条件で酸化珪素のコ−ティング膜を上記の２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの上に形成した。
（プラズマ化学成膜条件）
反応ガス混合比：ヘキサメチルジシロキサン：酸素ガス：ヘリウム＝１：３：３（単位；ｓｌｍ）
真空チャンバ−内の真空度；１．０×１０^-5ｍｂａｒ
チャンバ−内の真空度；５．０×１０^-2ｍｂａｒ
冷却・電極ドラムの電力；１０ｋＷ
フィルムの搬送速度；１００ｍ／分
膜厚；２００Å
（２）．次に、上記で厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの一方の面に酸化珪素のコ−ティング膜を形成し、そのプラズマ化学成膜装置内において、その形成直後の酸化珪素のコ−ティング膜面に、下記の条件でプラズマ処理して、上記の酸化珪素のコ−ティング膜面にプラズマ処理部を形成して、透明バリア性フィルムを製造した。
（プラズマ処理条件）
プラズマ処理ガス；ヘリウムガスと酸素ガス
真空度；１．０×１０^-5ｍｂａｒ（ガス導入前）
１．０×１０^-2ｍｂａｒ（ガス導入後）
ガス比；ヘリウムガス：酸素ガス＝２：７
プラズマパワ−：０．２ｋＷ
処理速度；３００ｍ／ｍｉｎ
（３）．次に、上記のプラズマ処理した透明バリア性フィルムを使用し、これをドライラミネ−トコ−タ−機の一方の送り出しロ−ルに装着し、その酸化珪素のコ−ティング膜面に接着剤層を形成し、他方、シ−ラントフィルムである厚さ４０μｍの無延伸ポリプロピレンフィルムを使用し、これを他方の送り出しロ−ルに装着し、しかる後その両者を下記の条件でドライラミネ−トして、積層体を製造した。
（接着剤層）；ウレタン系接着剤を使用
（主剤）ウレタン系（武田薬品工業株式会社製、商品名、タケネ−トＡ−５１５）
（硬化剤）イソシアネ−ト系（武田薬品工業株式会社製、商品名、Ａ−５０）
（混合比）主剤：硬化剤＝１０：１
（溶剤）酢酸エチル
（塗布量）４．０ｇ／ｍ² （ドライ）
【００２９】
実験例１
上記の実施例１、および、比較例１〜３で製造した各透明バリア性フィルムおよび積層体について、下記のデ−タを測定した。
（１）．酸素透過度の測定
これは、温度２３℃、湿度１００％ＲＨの条件で、米国、モコン（ＭＯＣＯＮ）社製の測定機〔機種名、オクストラン（ＯＸＴＲＡＮ）〕にて測定した。
（２）．水蒸気透過度の測定
これは、温度４０℃、湿度９０％ＲＨの条件で、米国、モコン（ＭＯＣＯＮ）社製の測定機〔機種名、パ−マトラン（ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ）〕にて測定した。
（３）．ラミネ−ト強度の測定
これは、積層体について、エ−ジング後、１５ｍｍ巾でテンシロンにて測定した（引っ張り速度５０ｍｍ／ｍｉｎ）。
（４）．表面自由エネルギ−の測定
これは、透明バリア性フィルムの表面を濡れ試薬にて測定した。
上記の測定結果について、下記の表１、表２、および、表３に示す。
【００３０】
【表１】
酸素透過度および水蒸気透過度の測定結果

上記の表１において、酸素透過度は、ｃｃ／ｍ² ／ｄａｙ・２３℃・９０％ＲＨの単位であり、また、水蒸気透過度は、ｇ／ｍ² ／ｄａｙ・４０℃・１００％ＲＨの単位である。
【００３１】
【表２】
ラミネ−ト強度の測定結果

【００３２】
【表３】
表面自由エネルギ−の測定結果

【００３３】
（１）．上記の測定結果から明らかなように、実施例１のものは、透明バリア性フィルム、および、積層体において、酸素ガスバリア性、水蒸気バリア性等において良好であり、比較例１〜３のそれよりもはるかに優れていた。
これに対し、比較例１〜３のものは、いずれも劣っていた。
（２）．実施例１のものは、ラミネ−ト強度において、経時変化が認められないものであったが、比較例１〜３のものは、経時変化が認められ、ラミネ−ト強度が、不十分であった。
（３）．実施例１のものは、表面自由エネルギ−において、経時変化が認められず、良好である。
これに対し、比較例１〜３のものは、いずれも劣っていた。
【００３４】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、本発明は、基材フィルムの一方の面に、プラズマ化学成膜法により、酸化ケイ素等の無機酸化物のコ−ティング膜を設け、更に、該無機酸化物のコ−ティング膜面に、酸素、アルゴン、または、ヘリウムの１種ないしそれ２種以上からなるガスによるプラズマ処理部を設けて透明バリア性フィルムを製造し、而して、該透明バリア性フィルムを構成するプラズマ処理部面に、少なくとも、ヒ−トシ−ル性樹脂のフィルムをラミネ−トして積層体を製造し、更に、該積層体を使用し、製袋して包装用容器を製造し、該包装用容器内に内容物を充填包装して包装製品を製造して、無機酸化物のコ−ティング膜のプラズマ処理部面とヒ−トシ−ル性樹脂フィルム面とにおけるラミネ−ト強度に優れ、包装用容器を構成する積層体の層間において剥離現象は認められず、更に、優れた透明性を有すると共に酸素ガス、水蒸気等に対するガスバリア性に優れ、例えば、飲食品、医薬品、化粧品、洗剤、化学品、その他等の種々の物品の充填包装に適する包装用容器等を製造するに有用な透明バリア性フィルムおよびそれを使用した積層体を製造し得ることができるというものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかる透明バリア性フィルムについてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図である。
【図２】本発明にかかる透明バリア性フィルムについてその別の例の層構成の概略を示す概略的断面図である。
【図３】本発明にかかる透明バリア性フィルムを使用した積層体についてその一例の層構成の概略を示す概略的断面図である。
【図４】本発明にかかる透明バリア性フィルムの製造法についてそのプラズマ化学成膜装置の概要を示す概略的構成図である。
【符号の説明】
１ 透明バリア性フィルム
１ａ 透明バリア性フィルム
２ 基材フィルム
３ 無機酸化物のコ−ティング膜
３ａ 酸化珪素のコ−ティング膜
４ プラズマ処理部
５ ヒ−トシ−ル性樹脂層
１１ 積層体
２１ プラズマ化学成膜装置
２２ 真空チャンバ−
２３ 巻き出しロ−ル
２４ 補助ロ−ル
２５ 冷却・電極ドラム
２６ ガス供給装置
２７ ガス供給装置
２８ 原料揮発供給装置
２９ 原料供給ノズル
３０ グロ−放電プラズマ
３１ 電源
３２ マグネット
３３ 補助ロ−ル
３４ 巻き取りロ−ル
３５ 真空ポンプ

Claims (1)

1. プラズマ化学成膜装置を使用し、その真空チャンバ−内に配置された巻き出しロ−ルから基材フィルムを繰り出し、
   次に、該基材フィルムを、補助ロ−ルを介して、真空チャンバ−外に配置されている電源から所定の電力が印加されている冷却・電極ドラム周面上に搬送し、
   他方、ガス供給装置および原料揮発供給装置から酸素ガス、不活性ガス、および、有機珪素化合物からなるコ−ティング用モノマ−ガスを供給し、それらからなるコ−ティング用混合ガス組成物を調整しなから、これを原料供給ノズルを通して真空チャンバ−内に導入し、
   しかる後、上記の真空チャンバ−外に配置されている電源から所定の電力が印加されている冷却・電極ドラム周面上に搬送された基材フィルムの上に、上記の冷却・電極ドラムの近傍にマグネットを配置してプラズマの発生が促進されているグロ−放電プラズマによってプラズマを発生させて、これを、上記のコ−ティング用混合ガス組成物と共に照射して、酸化珪素のコ−ティング膜を成膜化し、
   次いで、上記で酸化珪素のコ−ティング膜を形成した基材フィルムを、補助ロ−ルを介して巻き取りロ−ルに巻き取る際に、その補助ロ−ルの直前で、上記の酸化珪素のコ−ティング膜成膜化直後の酸化珪素のコ−ティング膜の膜表面に、酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスを使用してプラズマ処理を行い、上記の酸化珪素のコ−ティング膜の膜表面にプラズマ処理部を形成し、
   しかる後、上記の酸化珪素のコ−ティング膜の膜表面にプラズマ処理部を形成した基材フィルムを、補助ロ−ルを介して、巻き取りロ−ルに巻き取ることを特徴とする透明バリア性フィルムの製造法。

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