JP2004304003A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. プロセスフローにおいて上流側の第１の処理部から被処理基板を受け取るための第１の受け渡しユニットと、
   プロセスフローにおいて下流側の第２の処理部へ前記基板を受け渡すための第２の受け渡しユニットと、
   前記第１の受け渡しユニットおよび前記第２の受け渡しユニットのそれぞれの上または下に多段に積層配置される１つまたは複数の処理ユニットと、
   前記基板を一時的に留め置いて保管するために前記第１の受け渡しユニットおよび／または前記第２の受け渡しユニットと前記処理ユニットを含む多段ユニット部の最上段に配置されるバッファユニットと、
   前記第１および第２の受け渡しユニット、前記処理ユニットならびに前記バッファユニットの間で前記基板を搬送する搬送手段と
   を有する処理システム。
2. 前記多段ユニット部の最下段に、前記処理ユニットに対して所定の用力を供給するための用力供給ユニットを配置する請求項１に記載の処理システム。
3. 前記搬送手段が、垂直方向に昇降可能な昇降搬送体と、前記昇降搬送体上で垂直軸の回りに旋回可能な旋回搬送体と、前記旋回搬送体上で前記基板を支持しながら水平面内で前後方向に伸縮可能な搬送アームとを含む請求項１または２に記載の処理システム。
4. 前記バッファユニットが、前記基板を複数枚多段に収納可能な基板収納空間を与える筐体と、前記基板を１枚ずつ載置するために前記筐体の基板収納空間を横断して設けられる複数の支持板と、前記基板をピン先端で支持するために各々の前記支持板上に離散的に設けられる複数の支持ピンとを有する請求項１〜３のいずれか一項に記載の処理システム。
5. 前記第１の処理部が、前記基板をほぼ水平な姿勢で水平方向に搬送するための第１の搬送路と、前記第１の搬送路上を搬送される前記基板に一連の処理を施す第１の処理手段とを含む請求項１〜４のいずれか一項に記載の処理システム。
6. 前記第２の処理部が、前記基板をほぼ水平な姿勢で水平方向に搬送するための第２の搬送路と、前記第２の搬送路上を搬送される前記基板に一連の処理を施す第２の処理手段とを含む請求項１〜５のいずれか一項に記載の処理システム。
7. 前記処理ユニットが、前記基板に対して前記第１または第２の処理部の処理に付随する熱的な処理を施すための熱処理ユニットである請求項１〜６のいずれか一項に記載の処理システム。
8. 各々の前記多段ユニット部において、全ての前記処理ユニットがユニット収納部に着脱可能に収納され、前記バッファユニットが前記ユニット収納部の上に分離可能に配置される請求項１〜７のいずれか一項に記載の処理システム。
9. 前記基板の前記処理ユニットのいずれかまたは前記第２の処理部への搬入が不可のときに、前記搬送手段が前記第１の受け渡しユニットで受け取った前記基板を前記バッファユニットの１つに格納する請求項１〜８のいずれか一項に記載の処理システム。
10. 搬入不可となった前記処理ユニットまたは前記第２の処理部で行われるべき処理の１つ前または複数前の工程の処理まで済ませてから前記基板を前記バッファユニットに格納する請求項９に記載の処理システム。