JP2004265917A5 - 減圧処理装置 - Google Patents

Description

【特許請求の範囲】
【請求項１】 内部を減圧可能なチャンバを具備し、該チャンバは、チャンバ本体と、前記チャンバの上部にて前記チャンバ本体に対して開閉可能に設けられたチャンバリッド及び該チャンバリッドを開閉するための開閉支持手段を有するチャンバ開閉機構と、を備えた減圧処理装置であって、前記チャンバリッドの上方に、前記チャンバに供給される原料を収容する原料容器が配置されていることを特徴とする減圧処理装置。
【請求項２】 前記開閉支持手段は、前記チャンバリッドを水平姿勢にて上下に移動可能に、かつ、前記チャンバリッドが上昇して前記チャンバ本体から離間したときに前記チャンバリッドの周辺位置に設定された垂直軸回りに回動可能に支持していることを特徴とする請求項１に記載の減圧処理装置。
【請求項３】 前記開閉支持手段は、前記チャンバリッドが上昇して前記チャンバ本体から離間した状態で前記チャンバリッドを回動させたときに前記チャンバリッドを所定高さに維持するように構成されていることを特徴とする請求項２に記載の減圧処理装置。
【請求項４】 前記周辺位置を中心として回動可能に軸支され、前記周辺位置から離れる方向に広がって前記チャンバリッドの上方に配置される支持体を有し、前記チャンバリッドは、前記支持体に対して直接若しくは間接的に支持されていることを特徴とする請求項２又は３に記載の減圧処理装置。
【請求項５】 前記チャンバリッドを上方に付勢する付勢手段を有することを特徴とする請求項２乃至４のいずれか一項に記載の減圧処理装置。
【請求項６】 前記原料容器は、前記チャンバリッドに対して相対的に固定されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の減圧処理装置。
【請求項７】 上方から前記チャンバリッドを通して前記チャンバに原料を供給する原料供給路を有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の減圧処理装置。
【請求項８】 前記チャンバリッドを通して前記チャンバリッドの上方に引き出され、前記原料供給路に接続するガス供給路を有することを特徴とする請求項７に記載の減圧処理装置。

本発明は減圧処理装置に係り、特に、チャンバ上部に開閉可能に設けられたチャンバリッドを備えた減圧処理装置に適用する場合に好適な装置構成に関する。

【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明の減圧処理装置は、内部を減圧可能なチャンバを具備し、該チャンバは、チャンバ本体と、前記チャンバの上部にて前記チャンバ本体に対して開閉可能に設けられたチャンバリッド及び該チャンバリッドを開閉するための開閉支持手段を有するチャンバ開閉機構とを備えた減圧処理装置であって、前記チャンバリッドの上方に、前記チャンバに供給される原料を収容する原料容器が配置されていることを特徴とする。

本発明によれば、チャンバリッドの上方に原料容器を配置することによって、原料容器とチャンバとの間の距離を短く構成することができるとともに、占有面積を増加させることなく配管径を大きく構成できるため、原料容器とチャンバとの間のコンダクタンスを大きく構成することが可能になる。したがって、液体原料を気化させてなる原料ガスをチャンバに供給する場合、或いは、固体原料を昇華させてなる原料ガスをチャンバに供給する場合などにおいて、原料ガスの供給量を十分に確保することが可能になるとともに、供給途中における原料ガスの変性を防止することができるため、高品位の処理を行うことができる。

本発明において、前記開閉支持手段は、前記チャンバリッドを水平姿勢にて上下に移動可能に、かつ、前記チャンバリッドが上昇して前記チャンバ本体から離間したときに前記チャンバリッドの周辺位置に設定された垂直軸回りに回動可能に支持していることが好ましい。これによれば、チャンバリッドを上昇させてから、垂直軸回りに回動させることによってチャンバリッドをチャンバ本体上からずらし、チャンバを開放することができる。ここで、チャンバリッドはそのままの姿勢で上昇した後に垂直軸回りに水平に回動するため、従来デッドスペースとなっていたチャンバの上方空間に装置の他の構成要素を配置することが可能になる。また、開閉支持手段としては、上記の垂直軸と同軸に設置された支持構造だけで構成することが可能になるため、その構造を複雑に構成する必要もなく、大型化する必要もない。さらに、チャンバリッドを水平姿勢に保ったままでチャンバを開放することができるので、チャンバリッド上に原料容器を固定した場合でも、チャンバの開放時における原料容器内の原料への影響を低減することができる。ちなみに、従来構造のようにチャンバリッドを水平軸回りに開く場合には、チャンバリッドが上方に大きく回動し、傾斜したり反転したりするため、チャンバリッドの上方に装置の一部を配置したり、或いは、チャンバリッド上に原料容器を固定することは不可能である。

なお、この場合において、上記開閉支持手段は、チャンバリッドを上下に移動させるとともに垂直軸回りに回動させるための昇降可能な垂直軸体を上記垂直軸と同軸に設けることが好ましい。これにより開閉支持手段を簡易、かつ、コンパクトに構成できる。また、前記チャンバリッドが所定高さまで上昇しないとチャンバリッドの回動を許容しないように構成されていることが好ましい。これによって、誤操作によってチャンバ本体やチャンバリッドに損傷を与えることを防止できる。

本発明において、前記開閉支持手段は、前記チャンバリッドが上昇して前記チャンバ本体から離間した状態で前記チャンバリッドを回動させたときに前記チャンバリッドを所定高さに維持するように構成されていることが好ましい。これによって、チャンバリッドを回動させる過程でチャンバリッドの高さを保つ操作が不要になるため、より安全かつ容易に操作を行うことができる。

本発明において、前記周辺位置を中心として回動可能に軸支され、前記周辺位置から離れる方向に広がって前記チャンバリッドの上方に配置される支持体を有し、前記チャンバリッドは、前記支持体に対して直接若しくは間接的に支持されていることが好ましい。これによれば、チャンバリッドがその上方に広がる支持体に対して直接若しくは間接的に支持されていることにより、チャンバリッドの姿勢や位置をより高精度に保持することが可能になる。

本発明において、前記チャンバリッドを上方に付勢する付勢手段を有することが好ましい。これによれば、チャンバリッドを昇降動作させる場合により小さな操作力で操作することが可能になり、より容易に作業を行うことが可能になる。

ここで、本発明の減圧処理装置は、チャンバ内を減圧した状態で何らかの処理を行う装置を広く包含するものである。たとえば、ＣＶＤなどの成膜装置、ドライエッチャーなどのエッチング装置、プラズマアッシャーなどのアッシング装置、アニール炉などの加熱処理装置などが挙げられる。

本発明において、前記原料容器は、前記チャンバリッドに対して相対的に固定されていることが好ましい。これによれば、原料容器がチャンバリッドに対して相対的に固定されていることにより、たとえば、原料容器とチャンバリッドとの間の供給ラインを固定配管で構成することが可能になるため、装置をより簡易な構造とすることができる。

また、上方から前記チャンバリッドを通して前記チャンバに原料を供給する原料供給路を有することが好ましい。これによれば、チャンバリッドを介して原料が供給されるが、本発明ではチャンバリッドが開閉動作を行っても姿勢変更がないため、原料供給路をチャンバリッドに接続しても支障がない。たとえば、原料供給路をチャンバリッドに対して支障なく固定することができ、しかも、固定された原料供給路の姿勢変化が生じない。この場合、前記チャンバリッドを通して前記チャンバリッドの上方に引き出され、前記原料供給路に接続するガス供給路を有することが望ましい。