JP2004253776A - 半導体レーザ素子及び光学式情報記録装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体レーザ素子の構成を、クラッド層における基本次水平横モードの光と1次水平横モードの光に対する放射損失差が10cm-1以上である構成や、クラッド層の屈折率が基本次水平横モードに対する等価屈折率未満であり1次水平横モードの光に対する等価屈折率以上である構成や、上部クラッド層が一部の活性層上にのみ設けられてリッジストライプ構造の少なくとも一部を形成する構成とする。
【選択図】 図1
Description
本実施の形態に係る半導体レーザ素子は、リッジストライプ構造を有する窒化物系半導体レーザ素子である。本窒化物系半導体レーザ素子の構造は図1に示された半導体レーザ素子と同じ構造であるため、図1を参照しながらその構成を説明する。
まず、(0001)C面を結晶成長用面とするn型GaNからなる基板101を洗浄した(洗浄工程)。洗浄したGaN基板101をMOCVD装置内に導入し、H2雰囲気の中で、約1100℃の高温でクリーニングを行った(清浄化工程)。
図5は、本発明の実施の形態2に係る窒化物系半導体レーザ素子の構造例を模式的に表した断面図であり、半導体レーザ素子の導波路部分における共振器方向に垂直な断面を表している。本窒化物系半導体レーザ素子は、下部クラッド層が、基板側から第1下部クラッド層第2下部クラッド層及び第3下部クラッド層からなる3層積層構造を有していること以外は、実施の形態1に係る窒化物系半導体レーザ素子と同じ構造を有する。
図6は、図5に示された実施の形態2に係る窒化物半導体レーザ素子の模式的な断面図に基づいて、屈折率が異なる境界線を簡略化して示したものである。図7及び図8は、実施の形態2に係る窒化物系半導体レーザ素子における、基本次水平横モード及び1次水平横モードの光強度分布を等高線表示したものであって、共振器方向に垂直な断面における光強度の対数値を表わしている。なお、図7及び図8は、図6に示された屈折率分布における横モード光強度分布を計算したものである。
曲線1801は(2.1−W)×(0.1075−d)=0.0127、
曲線1802は(2.1−W)×(0.08−d)=0.0129、
曲線1803は(2.1−W)×(0.08−d)=0.0162
と近似できる。
したがって、本発明に係る効果を得るためには、W及びdが以下の関係式
(2.1−W)×(0.1075−d)≧0.0127
を満たす範囲内で作製することが望ましく、
(2.1−W)×(0.08−d)≧0.0129
を満たす範囲内で作製することがより望ましく、
(2.1−W)×(0.08−d)≧0.0162
を満たす範囲内で作製することがさらに望ましい。
本実施の形態3に係る窒化物系半導体レーザ素子は、図1に示された窒化物半導体レーザ素子と同じ構造であるが、上部クラッド層のAl混晶比が下部クラッド層のAl混晶比よりも大きい構成、つまり、上部クラッド層の屈折率が下部クラッド層の屈折率よりも小さい構成を有する。例えば、下部クラッド層がn型Al0.06Ga0.94Nからなり、上部クラッド層がp型Al0.10Ga0.90Nからなる構成である。
曲線1901はW=6.1586×Δx+1.7625、
曲線1902はW=7.4186×Δx+1.6009、
曲線1903はW=7.9586×Δx+1.4959と近似できる。
したがって、本発明に係る効果を得るためには、W及びΔxが以下の関係式
W<6.1586×Δx+1.7625
を満たす範囲内で作製することが望ましく、
W<7.4186×Δx+1.6009
を満たす範囲内で作製することがより望ましく、
W<7.9586×Δx+1.4959
を満たす範囲内で作製することがさらに望ましい。
本実施の形態4は、図5に示された実施の形態2にかかる窒化物半導体レーザ素子の構造に、更に、下部クラッド層側に、下部光導波層と距離を隔てて、吸収層を設けた構成を有する素子である。本実施の形態4においては、基本次水平横モードに比べて1次水平横モードの方が光電界分布(光強度分布)が吸収層にかかる割合が大きいため、吸収層での光吸収による伝搬損失が、前者に比べ後者の方が大きくなる。
本実施の形態5に係る消去可能型の光学式情報記録再生装置は、本発明に係る窒化物系半導体レーザ素子を記録光用の光源として用いた構成である。光源以外の構成については公知の構成を用いた。図10は、本光学式情報記録再生装置での記録動作における記録用のレーザ光の伝搬経路、再生動作における再生用の光の伝搬経路及び消去動作における消去用の光の伝搬経路並びに光学系を説明するための模式図である。
102、502、1102、1202 下地層
103、1103、1203 下部クラッド層
513 第1下部クラッド層
523 第2下部クラッド層
533 第3下部クラッド層
104、504、1104、1204 下部光導波層
105、505、1105、1205 活性層
106、506、1106、1206 キャリアブロック層
107、507、1107、1207 上部光導波層
108、508、1108、1208 上部クラッド層
109、509、1109、1209 コンタクト層
110、510、1110、1210 埋め込み層
111、511、1111、1211 第1導電型用の電極
112、512、1112、1212 第2導電型用の電極
914 光吸収層
1001、1701 光源
1002、1702 コリメータレンズ
1003、1703 ビームスプリッタ
1004、1704 対物レンズ
1005、1705 光ディスク
1006、1706 光検出系
1707 成形プリズム
Claims (17)
- 基板と、前記基板上に形成された第1導電型の下部クラッド層と、前記下部クラッド層上に設けられ、前記第1導電型と導電型が異なる第2導電型の上部クラッド層と、前記下部クラッド層と前記上部クラッド層の間に設けられた活性層とを含み、光を水平方向に閉じ込めるリッジストライプ構造を有する半導体レーザ素子において、
前記下部クラッド層と前記上部クラッド層の少なくとも一方のクラッド層において、前記活性層で発生する基本次水平横モードの光に対する前記活性層と反対側の主面への放射損失と前記活性層で発生する1次水平横モードの光に対する前記活性層と反対側の主面への放射損失との放射損失差が、10cm-1以上であることを特徴とする半導体レーザ素子。 - 基板と、前記基板上に形成された第1導電型である下部クラッド層と、前記第1導電型と導電型が異なる第2導電型の上部クラッド層と、前記下部クラッド層と前記上部クラッド層との間に設けられた活性層とを含み、光を水平方向に閉じ込めるリッジストライプ構造を有する半導体レーザ素子において、
前記下部クラッド層及び前記上部クラッド層の少なくとも一方のクラッド層の屈折率が、前記活性層で発生する基本次水平横モードの光に対する等価屈折率未満であり、かつ前記活性層で発生する1次水平横モードの光に対する等価屈折率以上であることを特徴とする半導体レーザ素子。 - 前記上部クラッド層が、一部の前記活性層上に設けられ、前記リッジストライプ構造の少なくとも一部を構成することを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体レーザ素子。
- 基板と、前記基板上に設けられた第1導電型の下部クラッド層と、前記下部クラッド層上に設けられ、前記第1導電型と導電型が異なる第2導電型の上部クラッド層と、前記下部クラッド層と前記上部クラッド層との間に設けられた活性層とを含み、光を水平方向に閉じ込めるリッジストライプ構造を有する半導体レーザ素子において、
前記上部クラッド層は、一部の前記活性層上に設けられ、前記リッジストライプ構造の少なくとも一部を構成することを特徴とする半導体レーザ素子。 - 前記活性層と前記上部クラッド層との間に設けられた、ストライプ形状の突出部を有する第2導電型の上部光導波層を更に含み、
前記上部光導波層の前記突出部は、前記リッジストライプ構造の一部を構成することを特徴とする請求項3又は4に記載の半導体レーザ素子。 - 前記下部クラッド層、前記上部クラッド層及び前記活性層が窒化物系半導体からなることを特徴とする請求項1〜5に記載の半導体レーザ素子。
- 前記下部クラッド層の屈折率と前記上部クラッド層の屈折率が異なることを特徴とする請求項1〜6に記載の半導体レーザ素子。
- 前記下部クラッド層の屈折率が前記上部クラッド層の屈折率よりも大きいことを特徴とする請求項7に記載の半導体レーザ素子。
- 前記下部クラッド層と前記上部クラッド層のうち屈折率の大きい方のクラッド層の前記活性層側表面から0.1μm以下の距離を隔てて設けられ、前記発光層で発生する光に対して100cm-1以上の吸収を有する吸収層を更に含むことを特徴とする請求項7に記載の半導体レーザ素子。
- 前記基板の屈折率が、前記活性層で発生する基本次水平横モードの光に対する等価屈折率より大きいことを特徴とする請求項2〜9に記載の半導体レーザ素子。
- 前記リッジストライプ構造の上辺〜活性層間の距離からリッジストライプ構造の高さを引いた値をd[μm]とし、前記リッジストライプ構造のストライプ幅をW[μm]とすると、
前記dと、前記Wとが以下の式
(2.1−W)×(0.1075−d)≧0.0127
を満たすことを特徴とする請求項1〜10に記載の半導体レーザ素子。 - 前記上部クラッド層および前記下部クラッド層がアルミニウム原子を含む混晶層からなり、
前記上部クラッド層のアルミニウム原子の混晶比から前記下部クラッド層のアルミニウム原子の混晶比を減じた値をΔxとすると、
前記Δxと、前記Wとが以下の式
W<6.1586×Δx+1.7625
を満たすことを特徴とする請求項11に記載の半導体レーザ素子。 - 前記下部クラッド層は、前記基板側から順に積層された、第1導電型の第1下部クラッド層と、第1導電型の第2下部クラッド層と、第1導電型の第3下部クラッド層とを含み、
前記下部クラッド層の屈折率は、第1下部クラッド層の屈折率、第2下部クラッド層の屈折率及び第3下部クラッド層の屈折率の各層厚で重みをつけた加重平均値であり、かつ、
前記第2下部クラッド層の屈折率は、前記第1下部クラッド層の屈折率及び第3下部クラッド層の屈折率より小さく、かつ、
前記第1下部クラッド層の屈折率及び前記第3下部クラッド層の屈折率が、前記活性層で発生する基本次水平横モードの光に対する等価屈折率より小さい、
ことを特徴とする請求項1〜12に記載の半導体レーザ素子。 - 前記下部クラッド層と前記活性層の間に第1導電型の下部光導波層を更に含み、
前記下部光導波層の屈折率が、前記第1下部クラッド層の屈折率よりも大きく、かつ前記第3下部クラッド層の屈折率より大きいことを特徴とする請求項13に記載の半導体レーザ素子。 - 電気的信号で与えられる情報を光記録媒体に記録する光学式情報記録装置において、
請求項1〜14のいずれか一項に記載の半導体レーザ素子と、
前記電気的信号に応じて前記半導体レーザ素子から記録用のレーザ光を射出させる記録光射出制御手段と、
前記半導体レーザ素子から射出したレーザ光を集光する集光手段と、
前記集光手段で集光されたレーザ光を前記光記録媒体の所定の位置に照射して前記情報を記録する照射位置制御手段と、
を含むことを特徴とする光学式情報記録装置。 - 再生用の光を射出する再生用光源と、
再生命令信号に応じて前記再生用光源から前記再生用の光を射出させる再生光射出制御手段と、
前記再生用光源から射出された光を集光する再生用集光手段と、
前記集光手段で集光された光を前記光記録媒体の所定の位置に照射する再生光照射位置制御手段と、
前記光記録媒体で反射した光又は前記光記録媒体を透過した光を検出する光検出手段と、
前記光検出手段で検出された光学的信号を電気的信号に変換して前記光記録媒体に記録された情報を再生する光電気変換手段と、
を更に含むことを特徴とする請求項15に記載の光学式情報記録装置。 - 消去用の光を射出する消去用光源と
消去命令信号に応じて前記消去用光源から前記消去用の光を射出させる消去光射出制御手段と、
前記消去用光源から射出された光を集光する消去用集光手段と、
前記集光手段で集光された光を前記光記録媒体の所定の位置に照射して記録された前記情報を消去する消去光照射位置制御手段と、
を更に含むことを特徴とする請求項15又は16に記載の光学式情報記録装置。
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