JP2004162040A - 化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びスルホニウム塩 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】〔1〕式(Ia)で示されるスルホニウム塩。
〔2〕(A)前記〔1〕に記載のスルホニウム塩などを含む少なくとも1種の酸発生剤と、(B)酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂とを含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
【選択図】 なし
Description
しかしながら、従来公知の化学増幅型レジスト組成物では、定在波の発生等によりラインエッジラフネスすなわちパターン側壁の平滑性が低下する結果、線幅の均一性が悪くなるという問題点や基板との密着性によりパターン倒れが発生する問題が生じる。
(式中、Q1、Q2は、互いに独立に、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数3〜10のシクロアルキル基を表す。また、Q1、Q2は、互いに結合して環を形成してもよい。Q3、Q6、Q7は水素原子またはメチル基を表す。Q4は、カルボニル基、エステル結合、エーテル結合及び不飽和結合からなる群から選ばれた少なくとも1種の官能基もしくは結合を有する炭化水素鎖又は前記の少なくとも1種の官能基もしくは結合を有する炭素数3〜10のシクロアルキル基を表す。n1は、0又は1以上の整数を表す。n1が0の場合は、単結合を示す。n1が1以上の場合、Q4は、炭素数3〜10のシクロアルキル基でもよく、nが2以上の場合、Q4は、炭素数1〜10のアルキル基でもよい。Q5SO3 -は、有機スルホナートイオンを表す。Q5は、炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜12の置換基を含んでもよい芳香族基又はカンファー基を表す。)
(式中、Q11、Q12は、互いに独立に、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数3〜10のシクロアルキル基を表す。また、Q11、Q12は、互いに結合して環を形成してもよい。Q13、Q16、Q17、Q8は水素原子またはメチル基を表す。n11は、0又は1以上の整数を表す。n11が0の場合は、単結合を示す。Q15SO3 -は、有機スルホナートイオンを表し、Q15は、炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜12の置換基を含んでもよい芳香族基又はカンファー基を表す。)
(式中、Q21、Q22は、互いに独立に、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基を表す。また、Q21、Q22は、互いに結合して環を形成してもよい。Q23は、水素原子またはメチル基を表す。Q9は、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、カルボニル基、エステル結合、エーテル結合及び不飽和結合からなる群から選ばれた少なくとも1種の官能基もしくは結合を有する炭化水素鎖を表す。Q25SO3 -は、有機スルホナートイオンを表し、Q25は、炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜12の置換基を含んでもよい芳香族基又はカンファー基を表す。)
(式中、P1〜P3は、互いに独立に、水素原子、水酸基、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基を表し、P6SO3 -は、有機スルホナートイオンを表す。)
(式中、P4、P5は、互いに独立に、水素原子、水酸基、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基を表し、P7SO3 -は、有機スルホナートイオンを表す。)
式(Ib)において、Q11、Q12は、互いに独立に炭素数1〜6のアルキル基、又は炭素数3〜10のシクロアルキル基であることができ、炭素数3以上の場合は、直鎖でも分岐していてもよい。また、Q11、Q12は、互いに結合して環を形成してもよい。
式(Ic)において、Q21、Q22は、互いに独立に炭素数1〜6のアルキル基、又は炭素数3〜10のシクロアルキル基であることができ、炭素数3以上の場合は、直鎖でも分岐していてもよい。また、Q21、Q22は、互いに結合して環を形成してもよい。
これらの具体的なアルキル基、シクロアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。また、Q1、Q2;Q21、Q22;Q21、Q22がそれぞれ互いに結合して環を形成してなる脂環式炭化水素基の少なくとも1個の−CH2−がケトン基、酸素原子もしくは硫黄原子に置換されていてもよい。
Q1、Q2;Q21、Q22;Q21、Q22がそれぞれ互いに結合して環を形成してなる炭素数5〜7の脂環式炭化水素としてはテトラヒドロチオフェン、チオキサン、ジチアン、テトラヒドロチオフェン−3−オン、テトラヒドロチオピラン−4−オンなどが挙げられる。
式(Ia)におけるQ3、Q6、Q7は、水素原子またはメチル基を表す。
式(Ib)におけるQ13、Q16、Q17、Q8は、水素原子またはメチル基を表す。
式(Ic)におけるQ23は、水素原子またはメチル基を表す。
式(Ia)におけるQ4は、n1が1以上の場合、Q4は、炭素数3〜10のシクロアルキル基でもよく、nが2以上の場合、Q4は、炭素数1〜10のアルキル基でもよい。
具体的には、式(Ia)におけるQ4として、下式(X)で示される基が好ましい。
(式中、Tは、水素原子、炭素数1〜10のアルキル又は炭素数3〜10のシクロアルキルである。Zは、水素原子、炭素数1〜10のアルキル又は炭素数3〜10のシクロアルキルである。Kは、以下の式から選ばれた2価の基である。
nは、0〜10の整数である。pは、0〜3の整数である。
n又はpが2以上の場合は、複数のTは、同一でも異なってもよい。nが2以上の場合は、複数のKは、同一でも異なってもよい。)
より具体的には、Q4として、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基;アルキルカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アクリロイロキシアルコキシカルボニル基、メタクリロイロキシアルコキシカルボニル基、アルケニル基、アルケニルカルボニルオキシ基、などが挙げられる。
式(Ic)におけるQ9は、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、カルボニル基、エステル結合、エーテル結合及び不飽和結合からなる群から選ばれた少なくとも1種の官能基もしくは結合を有してもよい炭化水素基を表す。
具体的には、式(Ic)におけるQ9として、式(Ia)におけるQ4として例示した式(X)で示される基が好ましい。
Q9として、下式(II)で示される基であるものがさらに好ましい。
また、(Ib)において、Q15SO3 -は、有機スルホナートイオンを表す。ここで、Q15は、炭素数1〜12程度の有機基であればよく、例えば炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜12の芳香族基、カンファー基であることができる。
また、式(Ic)において、Q25SO3 -は、有機スルホナートイオンを表す。ここで、Q25は、炭素数1〜12程度の有機基であればよく、例えば炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜12の芳香族基、カンファー基であることができる。
該パーフルオロアルキル基に該当する具体例としては、トリフルオロメチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロオクチル基などが挙げられ、炭素数1〜8のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基などが挙げられ、芳香族基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、メジチル基、ナフチル基などが挙げられる。
メタンスルホナート、エタンスルホナート、ブタンスルホナート、トリフルオロメタンスルホナート、パーフルオロブタンスルホナート、パーフルオロオクタンスルホナート、p−トルエンスルホナート、カンファースルホナート。
さらに、本発明におけるレジスト組成物では、酸発生剤として、(A)のスルホニウム塩とともに、(A’)式(IVa)で示されるトリフェニルスルホニウム塩及び(IVb)で示されるジフェニルヨードニウム塩からなる群から選ばれた少なくとも1種のオニウム塩を併用することにより、(A)の酸発生剤を単独で用いた場合に比べ、感度と解像度を上げることができ、また(A’)のオニウム塩系酸発生剤を単独で用いた場合に比べ、ラインエッジラフネスを向上させパターン倒れを改善することができるので好ましい。
具体的なアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などが挙げられ、アルコキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。
また、式(IVa)及び(IVb)において、陰イオンを構成するP6SO3 -、P7SO3 -は、有機スルホナートイオンを表す。ここで、P6、P7は、それぞれ独立に、炭素数1〜12程度の有機基であれば良く、例えば炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜12の芳香族基、カンファー基であることができる。炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜12の芳香族基等の具体例としては、前記したものと同様のものが挙げられる。
トリフェニルスルホニウム塩(IVa)の製法としては、例えば、相当するトリフェニルスルホニウムブロマイドを目的とする化合物の陰イオンと同じスルホン酸の銀塩と反応させる方法や、 Chem. Pharm. Bull., Vol.29, 3753 (1981) の記載に準じて、相当するジフェニルスルホキシドとベンゼン系化合物とパーフルオロアルカンスルホン酸とを、トリフルオロ酢酸無水物の存在下で反応させる方法、特開平 8-311018 号公報の記載に準じて、相当するアリールグリニヤ試薬を塩化チオニルと反応させ、次いでトリオルガノシリルハライドと反応させてトリアリールスルホニウムハライドとした後、目的とする化合物の陰イオンと同じスルホン酸の銀塩と反応させる方法などにより製造できる。
また、式(IVa)中のP1、P2及び/又はP3が水酸基である化合物は、上記特開平8−311018号公報の記載に準じて、ベンゼン環上にtert−ブトキシ基を有するトリフェニルスルホニウム塩を、その化合物の陰イオンと同じスルホン酸で処理してtert−ブチル基を脱離させることにより製造できる。
トリフェニルスルホニウム エタンスルホナート、
トリフェニルスルホニウム ブタンスルホナート、
トリフェニルスルホニウム パーフルオロブタンスルホナート、
トリフェニルスルホニウム p−トルエンスルホナート、
トリフェニルスルホニウム カンファースルホナート、
4−メチルフェニルジフェニルスルホニウム メタンスルホナート、
4−メチルフェニルジフェニルスルホニウム エタンスルホナート、
4−メチルフェニルジフェニルスルホニウム ブタンスルホナート、
4−メチルフェニルジフェニルスルホニウム ベンゼンスルホナート、
4−メチルフェニルジフェニルスルホニウム p−トルエンスルホナート、
4−メチルフェニルジフェニルスルホニウム カンファースルホナート、
4−メチルフェニルジフェニルスルホニウム パーフルオロオクタンスルホナート、
4−ヒドロキシフェニルジフェニルスルホニウム パーフルオロブタンスルホナート、
4−メトキシフェニルジフェニルスルホニウム パーフルオロブタンスルホナート、
トリス(4−メチルフェニル)スルホニウム パーフルオロブタンスルホナート、
トリス(4−メトキシフェニル)スルホニウム パーフルオロブタンスルホナート、
4−メチルフェニルジフェニルスルホニウム パーフルオロオクタンスルホナート、
4−ヒドロキシフェニルジフェニルスルホニウム パーフルオロオクタンスルホナート、
4−メトキシフェニルジフェニルスルホニウム パーフルオロオクタンスルホナート、
トリス(4−メチルフェニル)スルホニウム パーフルオロオクタンスルホナート、
トリス(4−メトキシフェニル)スルホニウム パーフルオロオクタンスルホナート、
ジ(4−メトキシフェニル)ヨードニウム パーフルオロオクタンスルホナート、
ジ(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム パーフルオロオクタンスルホナート、
ジ(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム メタンスルホナート、
ジ(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム エタンスルホナート、
ジ(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム ブタンスルホナート、
ジ(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム ベンゼンスルホナート、
ジ(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム p−トルエンスルホナート、
ジ(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム カンファースルホナート、
など。
酸に不安定な基として具体的には、カルボン酸の各種エステル、例えば、メチルエステル及びtert−ブチルエステルに代表されるアルキルエステル、メトキシメチルエステル、エトキシメチルエステル、1−エトキシエチルエステル、1−イソブトキシエチルエステル、1−イソプロポキシエチルエステル、1−エトキシプロピルエステル、1−(2−メトキシエトキシ)エチルエステル、1−(2−アセトキシエトキシ)エチルエステル、1−〔2−(1−アダマンチルオキシ)エトキシ〕エチルエステル、1−〔2−(1−アダマンタンカルボニルオキシ)エトキシ〕エチルエステル、テトラヒドロ−2−フリルエステル及びテトラヒドロ−2−ピラニルエステルのようなアセタール型エステル、イソボルニルエステル及び2−アルキル−2−アダマンチルエステル、1−(1−アダマンチル)−1−アルキルアルキルエステルのような脂環式エステルなどが挙げられる。このようなカルボン酸エステルを有する重合単位へ導くモノマーは、メタクリル酸エステルやアクリル酸エステルのような(メタ)アクリル系のものでもよいし、ノルボルネンカルボン酸エステル、トリシクロデセンカルボン酸エステル、テトラシクロデセンカルボン酸エステルのように、カルボン酸エステル基が脂環式モノマーに結合したものでもよい。
このような嵩高い基を含むモノマーとしては、(メタ)アクリル酸2−アルキル−2−アダマンチル、(メタ)アクリル酸1−(1−アダマンチル)−1−アルキルアルキル、5−ノルボルネン−2−カルボン酸2−アルキル−2−アダマンチル、5−ノルボルネン−2−カルボン酸1−(1−アダマンチル)−1−アルキルアルキルなどが挙げられる。
とりわけ(メタ)アクリル酸2−アルキル−2−アダマンチルをモノマーとして用いた場合は、解像度が優れるので好ましい。このような(メタ)アクリル酸2−アルキル−2−アダマンチルの代表例としては、例えばアクリル酸2−メチル−2−アダマンチル、メタクリル酸2−メチル−2−アダマンチル、アクリル酸2−エチル−2−アダマンチル、メタクリル酸2−エチル−2−アダマンチル、アクリル酸2−n−ブチル−2−アダマンチルなどが挙げられる。
これらの中では、特に(メタ)アクリル酸2−エチル−2−アダマンチルを用いた場合、感度、耐熱性のバランスが良いので好ましい。もちろん必要に応じて、酸の作用により解裂する基を持つ他のモノマーを併用してもよい。
また、(メタ)アクリロイロキシ−γ−ブチロラクトンは、ラクトン環がアルキルで置換されていてもよいα−もしくはβ−ブロモ−γ−ブチロラクトンにアクリル酸もしくはメタクリル酸を反応させるか、又はラクトン環がアルキルで置換されていてもよいα−もしくはβ−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトンにアクリル酸ハライドもしくはメタクリル酸ハライドを反応させることにより製造できる。
式(IIIa)、(IIIb)で示される脂環式ラクトンの重合単位に導くためのモノマーは、具体的には例えば、次のような水酸基を有する脂環式ラクトンの(メタ)アクリル酸エステル、それらの混合物等が挙げられる。
これらのエステルは、例えば対応する水酸基を有する脂環式ラクトンと(メタ)アクリル酸類との反応により製造し得る(例えば特開2000−26446号公報)。
R3及び/又はR4がアルキルである場合の具体例としては、メチル、エチル、プロピルなどが挙げられ、同じくヒドロキシアルキルである場合の具体例としては、ヒドロキシメチル、2−ヒドロキシエチルなどが挙げられる。
R3及び/又はR4が基−COO−Gである場合は、カルボキシルがエステルとなったものであり、Gに相当するアルコール残基としては、例えば、置換されていてもよい炭素数1〜8程度のアルキル、2−オキソオキソラン−3−又は−4−イルなどを挙げることができ、ここにアルキルの置換基としては、水酸基や脂環式炭化水素残基などが挙げられる。
そこで、R3及び/又はR4が−COO−Gで示されるカルボン酸エステル残基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、2−ヒドロキシエトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル、2−オキソオキソラン−3−イルオキシカルボニル、2−オキソオキソラン−4−イルオキシカルボニル、1,1,2−トリメチルプロポキシカルボニル、1−シクロヘキシル−1−メチルエトキシカルボニル、1−(4−メチルシクロヘキシル)−1−メチルエトキシカルボニル、1−(1−アダマンチル)−1−メチルエトキシカルボニルなどが挙げられる。
2−ヒドロキシ−5−ノルボルネン、
5−ノルボルネン−2−カルボン酸、
5−ノルボルネン−2−カルボン酸メチル、
5−ノルボルネン−2−カルボン酸−t−ブチル、
5−ノルボルネン−2−カルボン酸1−シクロヘキシル−1−メチルエチル、
5−ノルボルネン−2−カルボン酸1−(4−メチルシクロヘキシル)−1−メチルエチル、
5−ノルボルネン−2−カルボン酸1−(4−ヒドロキシシクロヘキシル)−1−メチルエチル、
5−ノルボルネン−2−カルボン酸1−メチル−1−(4−オキソシクロヘキシル)エチル、
5−ノルボルネン−2−カルボン酸1−(1−アダマンチル)−1−メチルエチル、
5−ノルボルネン−2−カルボン酸1−メチルシクロヘキシル、
5−ノルボルネン−2−カルボン酸2−メチル−2−アダマンチル、
5−ノルボルネン−2−カルボン酸2−エチル−2−アダマンチル
5−ノルボルネン−2−カルボン酸2−ヒドロキシ−1−エチル、
5−ノルボルネン−2−メタノール、
5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物など。
また、酸に不安定な基を持つ重合単位に加えて、酸の作用で解裂しにくい他の重合単位、例えば、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシ−1−アダマンチルの重合単位、(メタ)アクリル酸3、5−ジヒドロキシ−1−アダマンチル、α−(メタ)アクリロイロキシ−γ−ブチロラクトンの重合単位、β−(メタ)アクリロイロキシ−γ−ブチロラクトンの重合単位、式(IIIa)、(IIIb)で示される脂環式ラクトンの重合単位、ヒドロキシスチレンの重合単位、式(VI)で示される2−ノルボルネンの重合単位、脂肪族不飽和ジカルボン酸無水物の重合単位である式(VII)で示される無水マレイン酸の重合単位、式(VIII)で示される無水イタコン酸の重合単位などを存在させる場合は、それらの合計が、樹脂全体のうち20〜90モル%の範囲となるようにすることが好ましい。
R14、R15及びR16は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアルコキシを表す。該アルキル、シクロアルキル、アリール、又はアルコキシは、それぞれ独立に、水酸基、アミノ基、又は炭素数1〜6のアルコキシ基、で置換されていてもよい。該アミノ基は、炭素数1〜4のアルキル基で置換されていてもよい。また、該アルキルは、炭素数1〜6程度が好ましく、該シクロアルキルは、炭素数5〜10程度が好ましく、該アリールは、炭素数6〜10程度が好ましく、該アルコキシは、炭素数1〜6程度が好ましい。
R17は、アルキル又はシクロアルキルを表す。該アルキル又はシクロアルキルは、それぞれ独立に、水酸基、アミノ基、炭素数1〜6のアルコキシ基、で置換されていてもよい。該アミノ基は、炭素数1〜4のアルキル基で置換されていてもよい。また、該アルキルは、炭素数1〜6程度が好ましく、該シクロアルキルは、炭素数5〜10程度が好ましい。
Aは、アルキレン、カルボニル、イミノ、スルフィド又はジスルフィドを表す。該アルキレンは、炭素数2〜6程度であることが好ましい。
また、R12〜R18において、直鎖構造と分岐構造の両方をとり得るものについては、そのいずれでもよい。
クェンチャーとしての塩基性化合物を用いる場合は、同じくレジスト組成物の樹脂100重量部に対して、0.001〜1重量部の範囲、さらには0.01〜1重量部の割合で含有することが好ましい。
本発明の組成物は、また、必要に応じて、増感剤、溶解抑止剤、他の樹脂、界面活性剤、安定剤、染料など、各種の添加物を少量含有することもできる。
上記において、本発明の実施の形態について説明を行なったが、上記に開示された本発明の実施の形態は、あくまで例示であって、本発明の範囲はこれらの実施の形態に限定されない。本発明の範囲は、特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲の記載と均等の意味及び範囲内でのすべての変更を含むものである。
(1)四つ口フラスコにメタクリル酸2−ヒドロキシエチル25.89部、N−メチルピペリジン39.46部、メチルイソブチルケトン129.46部を仕込み、ここに臭化ブロモアセチル64.25部を滴下し50℃で24時間攪拌した。メチルイソブチルケトン100部、イオン交換水100部を加えた後分液した。ここにイオン交換水100部、5%炭酸カリウム水溶液100部、イオン交換水100部をそれぞれ加え洗浄を行った。その後濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより単離精製して、濃縮中間体ブロミドを21.94部得た。
(2)四つ口フラスコにテトラヒドロチオフェン14.34部、アセトン50部を仕込み、ここに(1)で得られた中間体ブロミド10.00部を滴下し、攪拌した後パーフルオロブタンスルホン酸カリウム13.47部を加えて24時間攪拌した。析出した固体を濾別した後溶液を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより単離精製したものを濃縮することで目的物を14.38部得た。この化合物が次式で示される1−〔2−(2−メチルアクリロイロキシ)エトキシカルボニル〕テトラヒドロチオフェニウム パーフルオロブタンスルホナートであることを、NMR(日本電子製“GX-270”)で確認した。
19F−NMR(ジメチルスルホキシド−d6、外部標準物質ヘキサフルオロベンゼン):δ(ppm)‐85.71 (s, 3F);119.81 (s, 2F);126.41 (s, 2F);130.81 (s, 2F).
四つ口フラスコに、窒素脱気を行ったジオキサンを6.0g加えて58℃に昇温し、酸発生剤合成例1で示した酸発生剤B1 5.0gと、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを0.1gとジオキサン9.0gの混合溶液を滴下した。その後、58℃で約11時間加熱した。その後、反応液を室温に戻した後、溶媒を減圧除去し収率80%で下記構造単位を有する重合体を得た。重合していることは、1H−NMRにおけるピークがブロードになっていることで確認した。これを酸発生剤B2とする。
(1)四つ口フラスコにテトラヒドロチオフェン 70.17部、アセトン750部を仕込み、ここに1−ブロモピナコロン150部を滴下し、室温で24時間攪拌した。析出した結晶を濾取し、tert−ブチルメチルエーテル100部で洗浄し、乾燥することにより、3,3−ジメチル−2−オキソブチル チアシクロペンタニウム ブロミド161.3部を得た。
(2)四つ口フラスコに(1)で得られた3,3−ジメチル−2−オキソブチル チアシクロペンタニウム ブロミド80部とアセトニトリル3200部を仕込み、ここにパーフルオロブタンスルホン酸カリウム101部を滴下し、室温で18時間攪拌した。析出した臭化カリウムを濾別し、濾液を濃縮した。ここに、アセトンを加え、室温で16時間攪拌し、不溶物を濾別した。この濾液をさらに濃縮し、アセトンを加えた後tert−ブチルメチルエーテルへチャージすることにより、目的物137部を得た。この化合物が次式で示される3,3−ジメチル−2−オキソブチル チアシクロペンタニウム パーフルオロブタンスルホナートであることを、 1H−NMR(日本電子製“GX-270”)で確認した。
1.15 (s, 9H); 2.13−2.23 (m, 4H);3.33−3.38 (m, 2H); 3.47−3.54 (m, 2H ); 4.85 (s, 2H).
メタクリル酸2−エチル−2−アダマンチル、メタクリル酸3−ヒドロキシ−1−アダマンチル、及びα−メタクリロイロキシ−γ−ブチロラクトンを、5:2.5:2.5のモル比(20.0部:9.5部:7.3部)で仕込み、全モノマーに対して2重量倍のメチルイソブチルケトンを加えて、溶液とした。そこに、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを全モノマー量に対して2モル%添加し、80℃で約8時間加熱した。その後、反応液を大量のヘプタンに注いで沈殿させる操作を3回行い、精製した。その結果、重量平均分子量が約 9,200の共重合体を得た。この共重合体を樹脂A1とする。
酸発生剤B2: 1−〔2−(2−メチル−アクロイロキシ)−エトキシカルボニル〕−テトラヒドロ−チオフェニウム パーフルオロブタンスルホナート
酸発生剤B3: 3,3−ジメチル−2−オキソブチル チアシクロペンタニウム パーフルオロブタンスルホナート
酸発生剤C1: 4−メチルフェニルジフェニルスルホニウム パーフルオロオクタンスルホナート
酸発生剤C2: 4−メチルフェニルジフェニルスルホニウム パーフルオロブタンスルホナート
表1に示す樹脂、酸発生剤を、以下に示す各成分と混合し、さらに孔径0.2μmのフッ素樹脂製フィルターで濾過してレジスト液を調製した。
樹脂:10部(種類は表1のとおり)
酸発生剤:種類と量は、表1のとおり。
クェンチャー:2、6−ジイソプロピルアニリン 0.0075部
溶剤:プロピレングリコールモノメチルエ−テルアセテート 85.4部
γ−ブチロラクトン 4.5部
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
例 No. 樹脂 酸発生剤 プリベーク(℃) PEB(℃)
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
実施例1 A1 B1(0.5部)+C1(0.2部) 130 120
実施例2 A2 B1(0.5部)+C2(0.2部) 110 110
実施例3 A2 B2(0.5部)+C2(0.2部) 110 110
────────────────────────────────
比較例1 A1 B3(0.5部)+C1(0.2部) 130 120
比較例2 A1 C1(0.2部) 110 110
比較例3 A2 C1(0.2部) 110 110
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
例 No. 実効感度 解像度 パターンが倒れ始める パターン壁面の
mJ/cm2 μm サイズμm 平滑性
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
実施例1 22.5 0.12 0.12 ○
実施例2 24.0 0.12 <0.12 ○
実施例3 25.5 0.12 <0.12 ○
─────────────────────────────────────
比較例1 24 0.13 0.14
比較例2 45 0.13 0.15
比較例3 44 0.12 0.14
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
Claims (11)
- 式(Ia)で示されるスルホニウム塩。
(式中、Q1、Q2は、互いに独立に、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数3〜10のシクロアルキル基を表す。また、Q1、Q2は、互いに結合して環を形成してもよい。Q3、Q6、Q7は水素原子またはメチル基を表す。Q4は、カルボニル基、エステル結合、エーテル結合及び不飽和結合からなる群から選ばれた少なくとも1種の官能基もしくは結合を有する炭化水素鎖又は前記の少なくとも1種の官能基もしくは結合を有する炭素数3〜10のシクロアルキル基を表す。n1は、0又は1以上の整数を表す。n1が0の場合は、単結合を示す。n1が1以上の場合、Q4は、炭素数3〜10のシクロアルキル基でもよく、nが2以上の場合、Q4は、炭素数1〜10のアルキル基でもよい。Q5SO3 -は、有機スルホナートイオンを表す。Q5は、炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜12の置換基を含んでもよい芳香族基又はカンファー基を表す。) - (A)請求項1に記載のスルホニウム塩、請求項2記載の重合体化合物及び下式(Ic)で示されるスルホニウム塩からなる群から選ばれた少なくとも1種の酸発生剤と、(B)酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂とを含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
(式中、Q21、Q22は、互いに独立に、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基を表す。また、Q21、Q22は、互いに結合して環を形成してもよい。Q23は、水素原子またはメチル基を表す。Q9は、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、カルボニル基、エステル結合、エーテル結合及び不飽和結合からなる群から選ばれた少なくとも1種の官能基もしくは結合を有してもよい炭化水素基を表す。Q25SO3 -は、有機スルホナートイオンを表し、Q25は、炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜12の置換基を含んでもよい芳香族基又はカンファー基を表す。) - (A)請求項1に記載のスルホニウム塩、請求項2記載の重合体化合物及び請求項3記載の式(Ic)で示されるスルホニウム塩からなる群から選ばれた少なくとも1種の酸発生剤と、(A’)下式(IVa)で示されるトリフェニルスルホニウム塩及び下式(IVb)で示されるジフェニルヨードニウム塩からなる群から選ばれた少なくとも1種の酸発生剤と、(B)酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂とを含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
(式中、P1〜P3は、互いに独立に、水素原子、水酸基、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基を表し、P6SO3 -は、有機スルホナートイオンを表す。)
(式中、P4、P5は、互いに独立に、水素原子、水酸基、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基を表し、P7SO3 -は、有機スルホナートイオンを表す。) - 式(Ia)におけるQ4及び式(Ic)におけるQ9が少なくとも1つの不飽和結合を有する請求項3又は4に記載の組成物。
- 樹脂中の酸に不安定な基を持つ重合単位の含有率が、10〜80モル%である請求項3〜6のいずれかに記載の組成物。
- 樹脂中の酸に不安定な基を持つ重合単位が、(メタ)アクリル酸2−アルキル−2−アダマンチル及び/又は(メタ)アクリル酸1−(1−アダマンチル)−1−アルキルアルキルの重合単位である請求項3〜7のいずれかに記載の組成物。
- 樹脂がさらに、p−ヒドロキシスチレンの重合単位、m−ヒドロキシスチレンの重合単位、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシ−1−アダマンチルの重合単位、(メタ)アクリル酸3、5−ジヒドロキシ−1−アダマンチルの重合単位、ラクトン環がアルキルで置換されていてもよい(メタ)アクリロイロキシ−γ−ブチロラクトンの重合単位、及び下式(IIIa)、(IIIb)で示される脂環式ラクトンの重合単位からなる群から選ばれた少なくとも1種の重合単位を含有する請求項3〜8のいずれかに記載の組成物。
(式中、R1は、水素原子、メチル又はトリフルオロメチルを表す。R2は、メチル又はトリフルオロメチルを表す。nは、1〜3の数を表す。式(IIIa)におけるR1と(IIIb)におけるR1とは互いに同一でも異なってもよい。式(IIIa)におけるR2と(IIIb)におけるR2とは互いに同一でも異なってもよい。) - 樹脂がさらに2−ノルボルネンの重合単位と脂肪族不飽和ジカルボン酸無水物の重合単位とを有する請求項9記載の組成物。
- さらに、アミン類をクェンチャーとして含有する請求項3〜10のいずれかに記載の組成物。
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