JP2011026300A - レジスト組成物の酸発生剤用の塩 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】式(I)で表される塩。
[式(I)中、Q1及びQ2は、F又はペルフルオロアルキル基;X1は、2価飽和炭化水素基、該基中の−CH2−は−O−又は−CO−で置換されていてもよい;Y1は、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基、該脂肪族炭化水素基及び脂環式炭化水素基中の−CH2−は−O−又は−CO−で置換されていてもよい;Rp1及びRp2は、アルキル基;Rp3及びRp4は、H又はアルキル基;Xp1は、−[CH2]p1−、該基に含まれる−CH2−は、−O−、−CO−、2価脂環式炭化水素基又は2価芳香族炭化水素基で置き換わっていてもよく、該基中のHは、水酸基又は脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい;p1は1〜8の整数;Aは重合性基を表す。]
【選択図】なし
Description
例えば、特許文献1には、酸発生剤として、1−〔2−(2−メチル−アクロイロキシ)−エトキシカルボニル〕−テトラヒドロ−チオフェニウム トリフルオロメタンスルホナートと、4−メチルフェニルジフェニルスルホニウム パーフルオロオクタンスルホナートとを含むレジスト組成物が記載されている。
[1]式(I)で表される塩。
[式(I)中、
Q1及びQ2は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
X1は、炭素数1〜17の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい。
Y1は、炭素数1〜36の脂肪族炭化水素基、炭素数3〜36の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜36の芳香族炭化水素基であり、該脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基は、置換基を有していてもよく、該脂肪族炭化水素基及び脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい。
Rp1及びRp2は、互いに独立に、炭素数1〜6のアルキル基を表すか、互いに結合して炭素数2〜10のアルキレン基を形成する。
Rp3及びRp4は、互いに独立に、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。
Xp1は、−[CH2]p1−を表し、該−[CH2]p1−に含まれるメチレン基は、酸素原子、カルボニル基、炭素数3〜36の2価の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜36の2価の芳香族炭化水素基で置き換わっていてもよく、該−[CH2]p1−に含まれる水素原子は、水酸基又は炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい。p1は、1〜8の整数を表す。
Aは、重合性基を表す。]
[式(Xp1−1)中、
Xp2は、単結合又は−[CH2]p2−を表し、該−[CH2]p2−に含まれるメチレン基は、酸素原子、カルボニル基、炭素数3〜36の2価の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜36の2価の芳香族炭化水素基で置き換わっていてもよく、該−[CH2]p2−に含まれる水素原子は、水酸基又は炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい。
p2は、1〜7の整数を表す。
*は、−C(Rp3)(Rp4)−との結合手を表す。]
[式(I−Xp1−a)、式(I−Xp1−b)、式(I−Xp1−c)及び式(I−Xp1−d)中、*は、−C(Rp3)(Rp4)−との結合手を表す。]
[式(X1−1)中、Xa1は、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜15の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい。
*は、−C(Q1)(Q2)−との結合手を表す。]
さらに、「(メタ)アクリル系モノマー」とは、「CH2=CH−CO−」又は「CH2=C(CH3)−CO−」の構造を有するモノマーの少なくとも1種を意味する。同様に「(メタ)アクリレート」及び「(メタ)アクリル酸」とは、それぞれ「アクリレート及びメタクリレートの少なくとも1種」並びに「アクリル酸及びメタクリル酸の少なくとも1種」を意味する。
[式(I)中、
Q1及びQ2は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
X1は、炭素数1〜17の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい。
Y1は、炭素数1〜36の脂肪族炭化水素基、炭素数3〜36の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜36の芳香族炭化水素基であり、該脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基は、置換基を有していてもよく、該脂肪族炭化水素基及び脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい。
Rp1及びRp2は、互いに独立に、炭素数1〜6のアルキル基を表すか、互いに結合して炭素数2〜10のアルキレン基を形成する。
Rp3及びRp4は、互いに独立に、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。
Xp1は、−[CH2]p1−を表し、該−[CH2]p1−に含まれるメチレン基は、酸素原子、カルボニル基、炭素数3〜36の2価の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜36の2価の芳香族炭化水素基で置き換わっていてもよく、該−[CH2]p1−に含まれる水素原子は、水酸基又は炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい。p1は、1〜8の整数を表す。
Aは、重合性基を表す。]
アルキレン基としては、例えば、メチレン基、ジメチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、ノナメチレン基、デカメチレン基、ウンデカメチレン基、ドデカメチレン基、トリデカメチレン基、テトラデカメチレン基、ペンタデカメチレン基、ヘキサデカメチレン基、ヘプタデカメチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、sec−ブチレン基及びtert−ブチレン基などが挙げられる。
[式(X1−A)〜式(X1−C)中、X1A及びX1Bは、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキレン基を表し、該アルキレン基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい。ただし、式(X1−A)〜式(X1−C)で表される基の炭素数は1〜17である。]
脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデカメチル基、テトラデカメチル基、ペンタデカメチル基、ヘキサデカメチル基、ヘプタデカメチル基、2−エチルヘキシル基などのアルキル基等が挙げられる。なかでも、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基などが好ましく、より好ましくは、メチル基である。
脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、ノルボルニル基、1−アダマンチル基、2−アダマンチル基、イソボルニル基などのシクロアルキル基が挙げられる。なかでも、シクロヘキシル基、アダマンチル基等が適している。
アシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基等が挙げられる。
アラルキル基としては、例えば、ベンジル、フェネチル、フェニルプロピル、トリチル、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等が挙げられる。
−[CH2]p1−に含まれるメチレン基が酸素原子又はカルボニル基で置き換わった基としては、例えば、−Xp11−O−、−Xp11−CO−O−、−Xp11−O−CO−、−CO−O−Xp11−O−CO−、−Xp11−O−Xp12−などが挙げられ、好ましくは−Xp11−O−CO−及び−CO−O−Xp11−O−CO−が挙げられ、より好ましくは−CO−O−Xp11−O−CO−が挙げられる。
ここで、Xp11及びXp12は、互いに独立に、単結合又は炭素数1〜6のアルキレン基を表す。ただし、当該アルキレン基に含まれるメチレン基が置き換わった基において、上記の各基の主鎖を構成する原子数は、p1と同じ、1〜8である。
[式(X1−1)中、Xa1は、単結合又は炭素数1〜15の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい。
*は、−C(Q1)(Q2)−との結合手を表す。]
Rp3及びRp4は、水素原子であることが好ましい。
ここで、2価の脂環式炭化水素基としては、シクロヘキシル、アダマンチル及びノルボルニルに由来する基などが適しており、好ましくはシクロヘキシル又はアダマンチルに由来する基が挙げられる。
2価の芳香族炭化水素基としては、フェニル、ナフタレン及びアントラセンに由来する基などが適しており、好ましくはフェニル又はナフタレンに由来する基が挙げられる。
[式(Xp1−1)中、
Xp2は、単結合又は−[CH2]p2−を表し、該−[CH2]p2−に含まれるメチレン基は、酸素原子、カルボニル基、炭素数3〜36の2価の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜36の2価の芳香族炭化水素基で置き換わっていてもよく、該−[CH2]p2−に含まれる水素原子は、水酸基又は炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい。
p2は、1〜7の整数を表す。
*は、−C(Rp3)(Rp4)−との結合手を表す。]
Xp2としては、特に、酸素原子を少なくとも1以上有する基であることが好ましい。
[式(I−Xp1−a)、式(I−Xp1−b)、式(I−Xp1−c)及び式(I−Xp1−d)中、*は、−C(Rp3)(Rp4)−との結合手を表す。]
なかでも、好ましくは、式(I−Xp1−b)、式(I−Xp1−c)及び式(I−Xp1−d)で表される基が挙げられる。
Q1、Q2及びY1は、式(I)における定義と同じである。
X10、X11及びX12は、互いに独立に、単結合又は炭素数1〜15の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい。]
[式(I−1’)〜式(I−4’)中、Rp1、Rp2、Rp3、Rp4、Xp1及びRA1は、上記と同じ意味を表す。]
例えば、式(I’)で表される塩は、式(I’−a)で表される塩と式(I’−b)で表される化合物とを溶剤中で反応させることにより得ることができる。
溶剤としては、クロロホルム等が挙げられる。
式(I’−b)で表される塩としては、特開第2008−209917号公報に記載された方法によって製造することができる。
溶剤としては、アセトン等が挙げられる。
式(I’−d)で表される化合物としては、テトラヒドロチオフェン等が挙げられる。
塩基としては、N−メチルピペリジン等が挙げられる。
溶剤としては、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。
式(I’−e)で表される化合物としては、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル等が挙げられる。
式(I’−f)で表される化合物としては、臭化ブロモアセチル等が挙げられる。
式(I)で表される塩は、酸発生剤として使用する時、単独でも複数種を同時に用いてもよい。
また、式(I)で表される塩は、酸発生剤として使用するとき、重合体として用いてもよい。
塩(a)以外の公知の塩としては、特開2006−257078号公報、特開2007−224008号公報及び特開2004−4561号公報に記載された塩等が挙げられる。レジスト組成物中での、式(I)で表される塩と式(I)で表される塩以外の公知の塩との含有量のモル比は、99:1〜1:99である。
酸に不安定な基としては、例えば、−O−が3級炭素原子(但し、橋かけ環状炭化水素基の橋頭炭素原子を除く)と結合した式(1)で表されるアルコキシカルボニル基が挙げられる。以下、式(1)で表される基を「酸に不安定な基(1)」という場合がある。
ここで、橋かけ環状炭化水素基としては、後述する橋かけ脂環式炭化水素基と同様のものが挙げられる。
脂環式炭化水素基としては、単環式又は多環式のいずれでもよく、単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などのシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、メチルノルボルニル基、下記のような基等が挙げられる。
式(1)では、脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは炭素数1〜16である。
(メタ)アクリル酸2−アルキル−2−アダマンチル、
(メタ)アクリル酸1−(1−アダマンチル)−1−アルキルアルキル、
5−ノルボルネン−2−カルボン酸2−アルキル−2−アダマンチル、
5−ノルボルネン−2−カルボン酸1−(1−アダマンチル)−1−アルキルアルキル、
α−クロロアクリル酸2−アルキル−2−アダマンチル、及び
α−クロロアクリル酸1−(1−アダマンチル)−1−アルキルアルキルなどが挙げられる。
(メタ)アクリル酸2−アルキル−2−アダマンチルとしては、例えば、アクリル酸2−メチル−2−アダマンチル、メタクリル酸2−メチル−2−アダマンチル、アクリル酸2−エチル−2−アダマンチル、メタクリル酸2−エチル−2−アダマンチル、アクリル酸2−イソプロピル−2−アダマンチル、メタクリル酸2−イソプロピル−2−アダマンチル、アクリル酸2−n−ブチル−2−アダマンチル、メタクリル酸2−n−ブチル−2−アダマンチル等が挙げられる。
これらの中でも(メタ)アクリル酸2−エチル−2−アダマンチル又は(メタ)アクリル酸2−イソプロピル−2−アダマンチルが、得られるレジストの感度が優れ耐熱性にも優れる傾向があることから好ましい。
(メタ)アクリル酸2−アルキル−2−アダマンチルは、通常、2−アルキル−2−アダマンタノール又はその金属塩とアクリル酸ハライド又はメタクリル酸ハライドとの反応により製造することができる。
式(2)中、
Rb1及びRb2は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を表し、Rb3は、炭素数1〜20の炭化水素基を表すか、あるいは、Rb2及びRb3は互いに結合して、それらが各々結合する炭素原子及び酸素原子とともに炭素数3〜20の環を形成する。Rb2及びRb3は互いに結合して形成される環又は該炭化水素基がメチレン基を有する場合、それに含まれる−CH2−は、−O−、−S−又は−CO−で置き換わっていてもよい。*は結合手を表す。
Rb2及びRb3は互いに結合して形成される環は、Ra1及びRa2が互いに結合して形成される環と同様のものが挙げられる。
Rb1〜Rb2のうち、少なくとも1つは水素原子であることが好ましい。
橋かけ脂環式炭化水素基としては、例えば、1−アダマンチル基、2−アダマンチル基、ノルボルニル基、メチルノルボルニル、イソボルニル基などが挙げられる。
炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、飽和環状炭化水素基、芳香族炭化水素基が挙げられる。
水酸基を有する2−ノルボルネンに由来する構造単位、
(メタ)アクリロニトリルに由来する構造単位、
水酸基を有するアダマンチル(メタ)アクリレートに由来する構造単位、
p−又はm−ヒドロキシスチレン等のスチレン系モノマーに由来する構造単位、
アルキル基で置換されていてもよいラクトン環を有する化合物に由来する構造単位が挙げられる。
なかでも、水酸基を有するアダマンチル(メタ)アクリレートに由来する構造単位及びアルキル基で置換されていてもよいラクトン環を有する化合物に由来する構造単位が好ましい。
これらのモノマーは市販されているが、例えば、対応するヒドロキシアダマンタンを(メタ)アクリル酸又はそのハライドと反応させることにより、製造することもできる。
樹脂が水酸基を有するアダマンチル(メタ)アクリレートに由来する構造単位を含む場合、水酸基を有するアダマンチル(メタ)アクリレートに由来する構造単位が、樹脂を構成する構成単位の合計100モル%に対して、5〜50モル%含有されることが好ましい。
前記その他の構造単位としては、例えば、
アクリル酸やメタクリル酸等の遊離のカルボン酸基を有するモノマーに由来する構造単位、
無水マレイン酸、無水イタコン酸等の脂肪族不飽和ジカルボン酸無水物に由来する構造単位、
2−ノルボルネンに由来する構造単位、
−CO−O−CH2(R’)基又は−CO−O−CH(R’)(R”)基(R’及びR”は互いに独立にアルキル基、好ましくは炭素数1〜6のアルキル基を表す。)を有する化合物に由来する構造単位、
1−アダマンチル基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する構造単位等が挙げられる。
R5及びR6が−COOUである場合は、カルボキシル基がエステルとなったものであり、Uに相当するアルコール残基としては、例えば、置換基を有していてもよい炭素数1〜8程度のアルキル基、2−オキソオキソラン−3−又は−4−イル基などを挙げることができる。ここで、該アルキル基は、水酸基や脂環式炭化水素残基などが置換基として結合していてもよい。
アルキル基は、上記と同様のものが挙げられる。
水酸基が結合したアルキル基、つまり、ヒドロキシルアルキル基としては、例えば、ヒドロキシメチル基、2−ヒドロキシエチル基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基としては、例えば、炭素数3〜30程度のものが挙げられる。
2−ノルボルネン、
2−ヒドロキシ−5−ノルボルネン、
5−ノルボルネン−2−カルボン酸、
5−ノルボルネン−2−カルボン酸メチル、
5−ノルボルネン−2−カルボン酸2−ヒドロキシ−1−エチル、
5−ノルボルネン−2−メタノール、
5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物等の化合物を挙げることができる。
なお、式(c)中のR5及びR6の−COOUが、カルボキシル基の酸素側に結合する炭素原子が4級炭素原子である脂環式エステルなどの酸に不安定な基であれば、式(c)で表される構造単位は、酸に不安定な基を有する構造単位である。
R7は、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を表す。
ARは、炭素数1〜30の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる水素原子の少なくとも1個以上がフッ素原子に置換されている。該炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子、硫黄原子又は−N(Rc)−で置き換わっていてもよく、該炭化水素基に含まれる水素原子は、水酸基又は炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい。
Rcは、水素原子又は炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基を表す。]
酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶な樹脂であり、酸と作用した該樹脂はアルカリ水溶液で溶解しえる重合体である場合、樹脂(D)における式(I)で表される化合物に由来する構造単位の含有量は、好ましくは1〜20モル%であり、より好ましくは5〜15モル%である。
また、レジスト組成物としてクエンチャーである塩基性化合物を用いる場合は、レジスト組成物の全固形分量を基準に、0.01〜1重量%程度の範囲で含有するのが好ましい。
レジスト組成物としては、さらに、必要に応じて、増感剤、溶解抑止剤、他の樹脂、界面活性剤、安定剤、染料など、各種の添加物を少量含有することもできる。
重量平均分子量は、ポリスチレンを標準品として、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィー(東ソー株式会社製HLC−8120GPC型、カラムはTSKgel Multipore HXL−M3本、溶媒はテトラヒドロフラン)により求めた値である。
また、化合物の構造はNMR(日本電子製EX−270型)、質量分析(LCはAgilent製1100型、MASSはAgilent製LC/MSD型又はLC/MSD TOF型)で確認した。
メタクリル酸2−ヒドロキシエチル25.89部、N−メチルピペリジン39.46部及びメチルイソブチルケトン129.46部を混合し、さらに臭化ブロモアセチル64.25部を滴下して50℃で24時間攪拌した。得られた混合物に、メチルイソブチルケトン100部及びイオン交換水100部を加え、分液して有機層を回収した。回収された有機層にイオン交換水100部を加え、分液して有機層を回収した。回収された有機層に5%炭酸カリウム水溶液100部を加え、分液して有機層を回収した。回収された有機層にイオン交換水100部を加え、分液して有機層を回収した。回収された有機層を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより単離精製して、化合物(I−1−a)を21.94部得た。
MS(ESI(−)Spectrum):M− 339.1
1H−NMR(ジメチルスルホキシド−d6、内部標準物質テトラメチルシラン):δ(ppm)1.35−1.80(m,12H)、1.91(s,3H)、2.10(m,2H)、2.20−2.30(m,4H)、3.57−3.71(m,4H)、3.85(s,2H)、4.36−4.39(m,2H)、4.42(s,1H)、4.45−4.49(m,2H)、4.57(s,2H)、5.73−5.74(m,1H)、6.00(s,1H)
MS(ESI(−)Spectrum):M− 323.0
1H−NMR(ジメチルスルホキシド−d6、内部標準物質テトラメチルシラン):δ(ppm)1.83(d,2H)、1.91(s,3H)、2.00(d,2H)、2.20−2.32(m,11H)、2.53(s,2H)、3.57−3.71(m,4H)、4.36−4.39(m,2H)、4.45−4.49(m,2H)、4.57(s,2H)、5.73−5.74(m,1H)、6.00(s,1H)
MS(ESI(−)Spectrum):M− 311.0
1H−NMR(ジメチルスルホキシド−d6、内部標準物質テトラメチルシラン):δ(ppm)1.57−1.67(m,2H)、1.91(s,3H)、1.91−2.06(m,2H)、2.20−2.30(m,4H)、2.53(m,2H)、3.21(m,1H)、3.57−3.71(m,4H)、4.36−4.39(m,2H)、4.45−4.49(m,2H)、4.51(m,1H)、4.57(s,2H)、4.62(s,1H)、5.73−5.74(m,1H)、6.00(s,1H)
化合物(I−5−a)13.62部、1,4−ジオキサン23.3部を仕込み、室温で攪拌下溶解させた。その混合液に臭素−ジオキサン錯体25.0部を1,4−ジオキサン125部に溶解した混合液を滴下し、室温下で1時間攪拌した。5%炭酸カリウム水溶液140部を加えた後、酢酸エチル115部を添加攪拌後分液を行った。有機層にイオン交換水133部を添加し分液水洗後、有機層の濃縮を行った。濃縮マスにメタノールを加えて再結晶を行い白色固体17.8部を得た。
得られた白色固体17.4部を酢酸エチル69部に溶解後、無水硫酸マグネシウムで脱水を行い濃縮した。濃縮マスにトルエン17部を添加し、攪拌しながらメタクリル酸クロリド8.64部とトルエン17.3部の混合溶液を室温下で滴下した。さらにトリエチルアミン8.36部を加えて12時間攪拌を行った。得られた混合物に酢酸エチル207部及びイオン交換水138部を仕込み、分液して有機層を回収した。回収された有機層に、飽和重曹水68部を仕込み、分液して有機層を回収した。回収された有機層に、イオン交換水138部を仕込み、分液して有機層を回収した後、有機層の濃縮を行った。得られた濃縮物をシリカゲルカラムで精製を行い、白色固体6.48部を得た。
次いで、得られた白色固体6.44部に、アセトン16.07部を仕込み、23℃で攪拌下、テトラヒドロチオフェン2.51部を滴下し、23℃で24時間攪拌した後、析出した結晶を濾過した。得られた析出物を多量のアセトンで攪拌した後、濾過することにより、白色固体として化合物(I−5−c)2.97部(収率6.8%)を得た。
得られた混合物を濃縮した。クロロホルム100.00部及びイオン交換水100.0部を仕込み、分液して有機層を回収した。この水洗操作を3回行った。回収された有機層を濃縮し、アセトニトリル25部添加し攪拌した。その後、さらに濃縮した。得られた濃縮物に、tert−ブチルメチルエーテル20部を加えて攪拌し、結晶を濾過した。得られた結晶を、酢酸エチル20部を加えて攪拌した。結晶を濾過することにより、白色固体として塩(I−5)0.43部(収率7%)を得た。塩(I−5)をA4とした。
MS(ESI(−)Spectrum):M− 339.1
1H−NMR(ジメチルスルホキシド−d6、内部標準物質テトラメチルシラン):δ(ppm)1.35−1.80(m,12H)、1.98(s,3H)、2.10(m,2H)、2.15−2.35(m,4H)、3.52−3.68(m,4H)、3.85(s,2H)、4.42(s,1H)、5.45(s,2H)、5.95(m,1H)、6.30(m,1H)、7.45(m,2H)、8.10(m,2H)
MS(ESI(−)Spectrum):M− 339.1
1H−NMR(ジメチルスルホキシド−d6、内部標準物質テトラメチルシラン):δ(ppm)1.35−1.92(m,21H)、1.96−2.15(m,7H)、2.15−2.42(m,7H)、3.52−3.68(m,4H)、3.85(s,2H)、4.42(s,1H)、5.47(s,2H)、5.96(m,1H)、6.30(m,1H)、7.48(m,2H)、8.10(m,2H)
リチウムアルミニウムハイドライド10.4部、無水テトラヒドロフラン120部を仕込み23℃で30分間攪拌した。次いで、式(A6−a)で表される化合物62.2部を無水THF900部に溶かした溶液を氷冷下で滴下し、23℃で5時間攪拌した。反応マスに酢酸エチル50.0部、6N塩酸50.00部を添加、攪拌後、分液を行った。有機層を濃縮後、カラム(メルク シリカゲル60−200メッシュ 展開溶媒:クロロホルム/メタノール=5/1)分取することにより、式(A6−b)で表される化合物を84.7g(純度60%)を得た。
また、式(A6−c)で表される化合物4.55部、無水THF90部を添加し室温で30分間攪拌し溶解した。この溶液にカルボニルジイミダゾール3.77部、無水THF45部の混合溶液を室温で滴下し、23℃で4時間攪拌した。得られた反応溶液を、(A6−b)7.87部(純度60%)、無水THF50部の混合中に、55℃で30分間かけて滴下した。反応溶液を65℃で18時間加熱し、冷却後、ろ過した。得られたろ液を濃縮し、濃縮物をカラム(メルク シリカゲル60−200メッシュ 展開溶媒:クロロホルム/メタノール=5/1)分取することにより、式(A6−d)で表される化合物4.44部を得た。
次いで、(A6−d)で表される化合物2.90部を含む溶液、イオン交換水5.79部及びアセトニトリル8.69部を添加し攪拌した。(I−5−c)で表される化合物2.97部、イオン交換水2.97部及びアセトニトリル5.93部を添加し、室温で24時間攪拌した。
得られた混合物を濃縮した。クロロホルム100.00部及びイオン交換水100.0部を仕込み、分液して有機層を回収した。この水洗操作を3回行った。回収された有機層を濃縮し、アセトニトリル25部添加し攪拌した。その後、さらに濃縮した。得られた濃縮物に、tert−ブチルメチルエーテル30部を加えて攪拌し、結晶を濾過した。得られた結晶を、酢酸エチル20部を加えて攪拌した。結晶を濾過することにより、白色固体として、(A6)で表される化合物1.68部を得た。
MS(ESI(−)Spectrum):M− 339.1
モノマーA、モノマーB及びモノマーCを、モル比50:25:25の割合で仕込み、次いで、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のジオキサンを加えた。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルとアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)とを全モノマーの合計モル数に対して、それぞれ、1mol%と3mol%との割合で添加し、これを80℃で約8時間加熱した。その後、反応液を、大量のメタノールと水との混合溶媒に注いで沈殿させる操作を3回行なうことにより精製し、重量平均分子量が約9.2×103の共重合体を収率60%で得た。この共重合体を樹脂B1とした。
モノマーA、モノマーD、モノマーB、モノマーC及びモノマーEをモル比32:7:8:43:10で仕込み、全モノマー量の1.5重量倍のジオキサンを加えて溶液とした。そこに開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルとアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を全モノマー量に対してそれぞれ1mol%、3mol%添加し、73℃で約5時間加熱した。その後、反応液を、大量のメタノールと水の混合溶媒に注いで沈殿させる操作を3回行って精製し、重量平均分子量が8.9×103の共重合体を収率78%で得た。この共重合体は、次式の構造単位を有するものであり、これを樹脂B2とする。
塩(I−1)(塩A1)と、塩(I−1)の1.5質量倍のジオキサンとを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルとアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)とを塩(I−1)のモル数に対して、それぞれ、1mol%と3mol%との割合で添加し、これを70℃で約5時間加熱した。その後、反応液を、大量のメタノールと水との混合溶媒に注いで沈殿させる操作を3回行なうことにより精製し、重量平均分子量が約5.8×103の共重合体を収率59%で得た。この共重合体を重合体A’1とした。
塩(I−2)(塩A2)と、塩(I−2)の1.5質量倍のジオキサンとを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルとアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)とを塩(I−2)のモル数に対して、それぞれ、1mol%と3mol%との割合で添加し、これを70℃で約5時間加熱した。その後、反応液を、大量のメタノールと水との混合溶媒に注いで沈殿させる操作を3回行なうことにより精製し、重量平均分子量が約5.9×103の共重合体を収率62%で得た。この共重合体を重合体A’2とした。
塩(I−3)(塩A3)と、塩(I−3)の1.5質量倍のジオキサンとを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルとアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)とを塩(I−3)のモル数に対して、それぞれ、1mol%と3mol%との割合で添加し、これを70℃で約5時間加熱した。その後、反応液を、大量のメタノールと水との混合溶媒に注いで沈殿させる操作を3回行なうことにより精製し、重量平均分子量が約5.5×103の共重合体を収率60%で得た。この共重合体を重合体A’3とした。
塩(I−5)(塩A4)と、塩(I−5)の1.5質量倍のジオキサンとを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルとアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)とを塩(I−4)のモル数に対して、それぞれ、1mol%と3mol%との割合で添加し、これを70℃で約5時間加熱した。その後、反応液を、大量のメタノールと水との混合溶媒に注いで沈殿させる操作を3回行なうことにより精製し、重量平均分子量が約5.9×103の共重合体を収率55%で得た。この共重合体を重合体A’4とした。
塩(I−13)(塩A5)と、塩(I−13)の1.5質量倍のジオキサンとを混合した。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルとアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)とを塩(I−5)のモル数に対して、それぞれ、1mol%と3mol%との割合で添加し、これを70℃で約5時間加熱した。その後、反応液を、大量のメタノールと水との混合溶媒に注いで沈殿させる操作を3回行なうことにより精製し、重量平均分子量が約6.5×103の共重合体を収率68%で得た。この共重合体を重合体A’5とした。
モノマーA、モノマーB、モノマーC及び塩(I−1)(塩A1)を、モル比40:25:25:10の割合で仕込み、次いで、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のジオキサンを加えた。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルとアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)とを全モノマーの合計モル数に対して、それぞれ、1mol%と3mol%との割合で添加し、これを70℃で約5時間加熱した。その後、反応液を、大量のメタノールと水との混合溶媒に注いで沈殿させる操作を3回行なうことにより精製し、重量平均分子量が約7.2×103の共重合体を収率60%で得た。この共重合体を樹脂D1とした。
モノマーA、モノマーB、モノマーC及び塩(I−2)(塩A2)を、モル比40:25:25:10の割合で仕込み、次いで、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のジオキサンを加えた。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルとアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)とを全モノマーの合計モル数に対して、それぞれ、1mol%と3mol%との割合で添加し、これを70℃で約5時間加熱した。
その後、反応液を、大量のメタノールと水との混合溶媒に注いで沈殿させる操作を3回行なうことにより精製し、重量平均分子量が約7.0×103の共重合体を収率55%で得た。この共重合体を樹脂D2とした。
モノマーA、モノマーB、モノマーC及び塩(I−5)(塩A4)を、モル比40:25:25:10の割合で仕込み、次いで、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のジオキサンを加えた。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルとアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)とを全モノマーの合計モル数に対して、それぞれ、1mol%と3mol%との割合で添加し、これを70℃で約5時間加熱した。その後、反応液を、大量のメタノールと水との混合溶媒に注いで沈殿させる操作を3回行なうことにより精製し、重量平均分子量が約6.8×103の共重合体を収率59%で得た。この共重合体を樹脂D3とした。
モノマーA、モノマーB、モノマーC及び塩(I−13)(塩A5)を、モル比40:25:25:10の割合で仕込み、次いで、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のジオキサンを加えた。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルとアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)とを全モノマーの合計モル数に対して、それぞれ、1mol%と3mol%との割合で添加し、これを70℃で約5時間加熱した。その後、反応液を、大量のメタノールと水との混合溶媒に注いで沈殿させる操作を3回行なうことにより精製し、重量平均分子量が約7200の共重合体を収率66%で得た。この共重合体を樹脂D4とした。
モノマーA、モノマーB、モノマーC及び(塩A6)を、モル比40:25:25:10の割合で仕込み、次いで、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のジオキサンを加えた。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルとアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)とを全モノマーの合計モル数に対して、それぞれ、1mol%と3mol%との割合で添加し、これを70℃で約5時間加熱した。その後、反応液を、大量のメタノールと水との混合溶媒に注いで沈殿させる操作を3回行なうことにより精製し、重量平均分子量が約7.1×103の共重合体を収率55%で得た。この共重合体を樹脂D5とした。
モノマーA、モノマーD、モノマーB、モノマーC、モノマーE及び(塩A4)を、モル比32:7:8:38:10:5の割合で仕込み、次いで、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のジオキサンを加えた。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルとアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)とを全モノマーの合計モル数に対して、それぞれ、1mol%と3mol%との割合で添加し、これを70℃で約5時間加熱した。その後、反応液を、大量のメタノールと水との混合溶媒に注いで沈殿させる操作を3回行なうことにより精製し、重量平均分子量が約7.0×103の共重合体を収率48%で得た。この共重合体を樹脂D6とした。
モノマーA、モノマーD、モノマーB、モノマーC、モノマーE及び(塩A6)を、モル比32:7:8:38:10:5の割合で仕込み、次いで、全モノマーの合計質量に対して、1.5質量倍のジオキサンを加えた。得られた混合物に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルとアゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)とを全モノマーの合計モル数に対して、それぞれ、1mol%と3mol%との割合で添加し、これを70℃で約5時間加熱した。その後、反応液を、大量のメタノールと水との混合溶媒に注いで沈殿させる操作を3回行なうことにより精製し、重量平均分子量が約6.9×103の共重合体を収率52%で得た。この共重合体を樹脂D7とした。
塩C1
塩C2:1−〔2−(2−メチル−アクロイロキシ)−エトキシカルボニル〕−テトラヒドロ−チオフェニウム トリフルオロメタンスルホナート
塩C3:4−メチルフェニルジフェニルスルホニウム パーフルオロオクタンスルホナート
クエンチャーQ1:2,6−ジイソプロピルアニリン
<溶剤>
プロピレングリコールモノメチルエーテル 248.5部
2−ヘプタノン 20部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 20部
γ−ブチロラクトン 20部
次いで、前記の有機反射防止膜の上に、表1の組成のフォトレジスト組成物を乾燥後の膜厚が85nmとなるようにスピンコートした。組成物塗布した後、得られたシリコンウェハーをダイレクトホットプレート上にて、表1の「PB」欄に記載される温度で60秒間プリベークした。このようにしてフォトレジスト組成物の膜が形成されたシリコンウェハーに、ArFエキシマステッパー〔FPA5000−AS3;(株)キャノン製、NA=0.75、2/3Annular〕用いて、露光量を段階的に変化させてラインアンドスペースパターンを露光した。
Claims (13)
- 式(I)で表される塩。
[式(I)中、
Q1及びQ2は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
X1は、炭素数1〜17の2価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい。
Y1は、炭素数1〜36の脂肪族炭化水素基、炭素数3〜36の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜36の芳香族炭化水素基であり、該脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基は、置換基を有していてもよく、該脂肪族炭化水素基及び脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基で置換されていてもよい。
Rp1及びRp2は、互いに独立に、炭素数1〜6のアルキル基を表すか、互いに結合して炭素数2〜10のアルキレン基を形成する。
Rp3及びRp4は、互いに独立に、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。
Xp1は、−[CH2]p1−を表し、該−[CH2]p1−に含まれるメチレン基は、酸素原子、カルボニル基、炭素数3〜36の2価の脂環式炭化水素基又は炭素数6〜36の2価の芳香族炭化水素基で置き換わっていてもよく、該−[CH2]p1−に含まれる水素原子は、水酸基又は炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい。p1は、1〜8の整数を表す。
Aは、重合性基を表す。] - Rp3及びRp4が、水素原子である請求項1又は2記載の塩。
- Rp1及びRp2が、互いに結合して形成される炭素数2〜10のアルキレン基である請求項1〜5のいずれか記載の塩。
- Q1及びQ2が、フッ素原子である請求項1〜6のいずれか記載の塩。
- 請求項1〜8のいずれかに記載の塩を有効成分として含有する酸発生剤。
- 請求項1〜8のいずれかに記載の塩に由来する構造単位を有する重合体。
- 請求項1〜8のいずれかに記載の塩に由来する構造単位を有し、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶な樹脂であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る請求項10記載の樹脂。
- 請求項9記載の酸発生剤、請求項10記載の重合体及び/又は請求項11記載の樹脂を含有するフォトレジスト組成物。
- さらに塩基性化合物を含有する請求項12記載のフォトレジスト組成物。
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