JP2004149332A - 水素製造装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】従来では必須であった粒状等の改質触媒を不要とし、従来の水素製造装置に比べて格段に単純化し、小型化できるなど各種有用な効果が得られる水素製造装置、そのための円筒型反応管及び平板型反応板を得る。
【解決手段】円筒状改質触媒兼支持体と、該改質触媒兼支持体の外周面又は内周面に水素透過膜を配置してなり、円筒状改質触媒兼支持体の内側に原料ガスを通して円筒状改質触媒兼支持体で改質ガスを生成し、改質ガスを水素透過膜により精製して高純度水素を製造するようにしてなる水素製造装置、およびそのための円筒型反応管。改質触媒兼支持体を平板状とし、平板型反応板として構成してもよい。
【選択図】図3

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、炭化水素ガスの水蒸気改質により改質ガスを生成し、且つ、生成改質ガスを精製して高純度の水素を製造する水素製造装置、そのための円筒型反応管及び平板型反応板に関する。
【0002】
【従来の技術】
水素の工業的製造方法の一つとして炭化水素ガスの水蒸気改質法がある。水蒸気改質法では、通常、粒状等の改質触媒を充填した改質器が用いられる。改質器で得られる改質ガスには主成分である水素のほか、CO、CO等の副生成分や余剰HOが含まれている。このため改質ガスを、例えば燃料電池にそのまま用いたのでは電池性能を阻害してしまう。
【0003】
燃料電池のうちリン酸形燃料電池(PAFC)で用いる水素ガス中のCOは1%(vol%、以下同じ)程度、固体高分子形燃料電池(PEFC)では100ppm(volppm、以下同じ)程度が限度であり、これらを超えると電池性能が著しく劣化する。このためそれら副生成分は燃料電池へ導入する前に除去する必要がある。また、不飽和結合への水素添加用あるいは酸水素炎用の水素は通常ボンベに詰めたものが使用されており、純度は5N(=99.999%)以上が要求されている。
【0004】
改質器による改質ガスの生成と該改質ガスの精製とを一つの装置で行えるように一体化した装置としてメンブレンリアクタがある。図1はメンブレンリアクタを原理的に示す図である。炭化水素ガスは、バーナでの発生熱を加熱源とし、水蒸気による改質反応により改質触媒層で改質されて改質ガスとなる。改質ガス中の水素はPd膜などの水素透過膜により選択的に分離され精製水素として取り出される。
【0005】
図2はメンブレンリアクタの構成例を説明する図である。図2のとおり、反応管(外管)内に水素分離管を配置した多重管で構成される。外管及び水素分離管間の間隙に粒状等の改質触媒が充填され、ここに原料ガス、すなわち炭化水素ガス及び水蒸気が供給され炭化水素ガスが改質される。水素分離管は、多孔質セラミックスや多孔質ステンレス鋼等の支持体上に水素透過機能を有するPdなどの金属製の膜を形成することで構成される。
【0006】
このように、メンブレンリアクタは改質ガスの生成と精製とを一つの装置で行えることから原理的には非常に有用である。しかし、特に水素透過膜について、これが破損するという問題がある。水素透過膜が破損すると所期の精製水素が得られず、メンブレンリアクタとして致命的となる。破損の原因としては、(1)水素透過膜が改質触媒と接触することにより破損する、(2)水素透過膜が支持体により阻害される等の原因が考えられる。
【0007】
これらの破損原因を回避するため、水素透過膜と改質触媒とを非接触とすることが考えられる。このため、水素分離膜の外側に網状等の保護管を配置することが考えられるが、保護管への原料ガスの吹抜けにより改質反応率が低下するという問題が生じる。同じく、水素透過膜と改質触媒とを非接触とするため、改質触媒をハニカム体に担持することが提案されている(特開2001−348205号公報)。しかし、この場合にはハニカム体での原料ガスの吹抜けにより改質反応率が低下するという問題が生じる。
【0008】
【特許文献1】特開2001−348205号公報
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、メンブレンリアクタ、すなわち炭化水素ガスの水蒸気改質により改質ガスを生成し且つ生成改質ガスを高純度に精製する水素製造装置で生じる以上の問題を解決するためになされたものであり、水素透過膜の支持体として改質触媒兼支持体を用い、別途粒状触媒等の改質触媒を不要としてなる水素製造装置、および、そのための反応管及び反応板を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明は(1)円筒状改質触媒兼支持体と、該改質触媒兼支持体の外周面に水素透過膜を配置してなり、円筒状改質触媒兼支持体の内側に原料ガスを通して円筒状改質触媒兼支持体で改質ガスを生成し、改質ガスを水素透過膜により精製して高純度水素を製造するようにしてなることを特徴とする水素製造装置を提供する。
【0011】
本発明は(2)円筒状改質触媒兼支持体と、該改質触媒兼支持体の内周面に水素透過膜を配置してなり、円筒状改質触媒兼支持体の外側に原料ガスを通して円筒状改質触媒兼支持体で改質ガスを生成し、改質ガスを水素透過膜により精製して高純度水素を製造するようにしてなることを特徴とする水素製造装置を提供する。
【0012】
本発明は(3)平板状改質触媒兼支持体と、該改質触媒兼支持体の一面に水素透過膜を配置してなり、平板状改質触媒兼支持体側に原料ガスを通して平板状改質触媒兼支持体で改質ガスを生成し、改質ガスを水素透過膜により精製して高純度水素を製造するようにしてなることを特徴とする水素製造装置を提供する。
【0013】
本発明は(4)円筒状改質触媒兼支持体と、該改質触媒兼支持体の外周面に配置された水素透過膜からなることを特徴とする水素製造装置用円筒型反応管を提供し、また、本発明は(5)円筒状改質触媒兼支持体と、該改質触媒兼支持体の内周面に配置された水素透過膜からなることを特徴とする水素製造装置用円筒型反応管を提供し、さらに、本発明は(6)平板状改質触媒兼支持体と、該改質触媒兼支持体の一面に配置された水素透過膜からなることを特徴とする水素製造装置用平板型反応板を提供する。
【0014】
【発明の実施の形態】
本発明の水素製造装置は、水素透過膜を改質触媒兼支持体に配置して、すなわち水素透過膜を改質触媒兼支持体に支持して構成される。改質触媒兼支持体は、改質触媒としての役割と水素透過膜を支持する役割を同時に果たすもので、本発明において重要な構成である。これにより、炭化水素ガスを改質触媒兼支持体で水蒸気改質して改質ガスを生成し、生成改質ガスを改質触媒兼支持体に支持した水素透過膜により精製し、高純度の水素を製造する。
【0015】
改質触媒兼支持体としては、それ自体改質触媒としての機能を有し且つ水素透過膜を支持する機能を有する多孔質材料が用いられ、その例としてはニッケルとイットリア安定化ジルコニアの混合物の焼結体(=Ni−YSZサーメット)その他、それらの機能を有する多孔質セラミックス、多孔質サーメットなどが挙げられる。
【0016】
Ni−YSZサーメットの場合、例えばNi粒子、NiO粒子及びYSZ(=イットリア安定化ジルコニア)粒子を混合し、混合物を押し出し成形、加圧成形等により成形し、焼成することにより作製される。焼結体中のNi成分の含有量は10〜70wt%の範囲で選定される。この材料は、改質温度=600℃、S/C比=3.0の場合、触媒単体として39%程度のメタン転化率を示し、従来の粒状改質触媒とほぼ同等の改質性能を有している。
【0017】
水素透過膜としてはPd膜やPd合金膜などの金属膜が用いられる。Pd合金において、Pdと合金化する金属としてはAg、Pt、Rh、Ru、Ir、Ce、Y又はGdが挙げられる。金属膜は改質触媒兼支持体に対してめっき法や蒸着法その他適宜の方法により支持される。ここで、多孔質セラミックスの孔径は、金属膜の膜厚等との関係で10μm以下であるのが好ましい。金属膜の膜厚を20μmとする場合、多孔質セラミックスの孔径は10μm程度であるのが好ましく、金属膜の膜厚を20μm以下とする場合、これに対応して多孔質セラミックスの孔径は10μm程度以下とするのが好ましい。
【0018】
本改質触媒兼支持体は、改質触媒としての役割と水素透過膜を支持する役割を同時に果たすので、従来のメンブレンリアクタでは必須とする改質触媒層を別途必要とせず、このため、本発明の水素製造装置は従来の水素製造装置に比べて格段に小型化できる。特に、本改質触媒兼支持体は、それ自体改質触媒としての役割を果たし、改質触媒層を別途必要としないので、従来の水素製造装置では生じる、改質触媒との接触による水素透過膜の破損の問題を生じない。
【0019】
本改質触媒兼支持体は、円筒状に構成してもよく、平板状に構成してもよい。図3〜4は円筒状に構成した態様を示す図で、図3は内膜式円筒型反応管、図4は外膜式円筒型反応管である。図3のとおり、内膜式円筒型反応管では、円筒状改質触媒兼支持体の内側すなわち内周面に水素透過膜を配置して構成される。図4のとおり、外膜式円筒型反応管では、円筒状改質触媒兼支持体の外側すなわち外周面に水素透過膜を配置して構成される。
【0020】
図5は、本発明に係る外膜式円筒型反応管を用いた水素製造装置の態様を示す図である。図5のとおり、外膜式円筒型反応管を外管内に配置し、原料ガスすなわち炭化水素ガス及び水蒸気を円筒状改質触媒兼支持体の内側に流通させる。炭化水素ガスは円筒状改質触媒兼支持体を通過しながら水蒸気により改質され、生成改質ガス中の水素は水素透過膜により選択的に分離され、円筒状改質触媒兼支持体と外管の間を経て高純度水素として取り出される。
【0021】
図6は改質触媒兼支持体を平板状に構成し、これを用いて構成した平板型反応板の態様を示す図である。図6のとおり、平板状の改質触媒兼支持体の一面(上下両面のうちの片面)に水素透過膜を配置して構成される。図7は本発明に係る平板型反応板を用いた水素製造装置の態様を示す図である。図7のとおり、平板型反応板を挟んで原料ガス(炭化水素ガス+水蒸気)供給層、水素透過膜側に水素回収層を配置し、原料ガスを該供給層に流通させる。
【0022】
炭化水素ガスは平板型反応板の改質触媒兼支持体を通過しながらその触媒作用により水蒸気により改質され、生成改質ガス中の水素は水素透過膜により選択的に分離され、高純度の水素として水素回収層を経て取り出される。平板型反応板の場合には、積層化することによりスケールアップが容易である。
【0023】
【実施例】
以下、実施例に基づき本発明をさらに詳しく説明するが、本発明がこれら実施例に限定されないことは勿論である。以下の実施例において、改質触媒兼支持体以外の構成材料としてはステンレス鋼(SUS304鋼)を用いた。
【0024】
《実施例1〜4》
図8は、本発明に係る円筒型反応管を用いた水素製造装置を示す図で、図8(b)は図8(a)中A−A線断面図である。図示のとおり、反応筒すなわち燃焼炉中に21個の円筒型反応管を配置する。反応筒にはバーナを配置、臨ませ、都市ガスを燃料として空気で燃焼させる。生成した燃焼ガスにより反応筒内の円筒型反応管を加熱し、反応管での水蒸気改質用の熱源として利用する。
【0025】
〈実施例1〉
図9は本実施例1を示す図である。円筒型反応管としては図3に示す内膜式円筒型反応管を用い、これを図8に示す水素製造装置における円筒型反応管としてセットした。本反応管はNi−YSZサーメットで構成した円筒状改質触媒兼支持体の内周面にPd膜を無電解めっき法により形成して構成したものである。図9のとおり、円筒型反応管の上部及び外管の上部は蓋により塞がれている。この円筒型反応管を隔壁管内に配置し、隔壁管を囲んで外管が配置されている。
【0026】
本装置の作動に際しては、都市ガスをバーナにより空気で燃焼させ、反応管を昇温する。所定温度に到達後、原料ガス(炭化水素ガス+水蒸気)を円筒型反応管と隔壁管との間に下部から供給する。炭化水素ガスは円筒状改質触媒兼支持体の触媒作用により改質される。生成改質ガス中の水素はPd膜により選択的に分離され、円筒型反応管内の空隙を経て高純度の水素として取り出される。生成改質ガス中の水素以外の成分、すなわちCO、CO、H(Pd膜で未透過のH)等は隔壁管と外管の間を通り、オフガスとして排出される。オフガスは可燃性ガスを含むので、起動後、定常運転時にバーナ用燃料として利用してもよい。この点以下の例でも同じである。
【0027】
〈実施例2〉
図10は本実施例2を示す図である。円筒型反応管は実施例1と同様に構成した図3に示す内膜式円筒型反応管を用い、これを図8に示す水素製造装置における円筒型反応管としてセットした。図10のとおり、円筒型反応管の上部は蓋により塞がれている。この円筒型反応管を隔壁管内に配置し、隔壁管を囲んで外管が配置されている。
【0028】
本装置の作動に際しては、都市ガスをバーナにより空気で燃焼させ、反応管を昇温する。所定温度に到達後、原料ガス(炭化水素ガス+水蒸気)を外管と隔壁管の間に下部から供給し、上部で折返して隔壁管と円筒状改質触媒兼支持体との間に供給する。炭化水素ガスは円筒状改質触媒兼支持体の触媒作用により改質される。生成改質ガス中の水素は、Pd膜により選択的に分離され、円筒型反応管内の空隙を経て高純度の水素として取り出される。生成改質ガス中の水素以外の成分、すなわちCO、CO、H(Pd膜で未透過のH)等は隔壁管と円筒状改質触媒兼支持体の間の下部から、オフガスとして排出される。
【0029】
〈実施例3〉
図11は本実施例3を示す図である。円筒型反応管として図4に示す外膜式円筒型反応管を用い、これを図8に示す水素製造装置における円筒型反応管としてセットした。本反応管はNi−YSZサーメットで構成した円筒状改質触媒兼支持体の外周面にPd膜を無電解めっき法により形成して構成したものである。図11のとおり、円筒型反応管の上部及び外管の上部は蓋により塞がれている。円筒型反応管内に間隔を置いて内管を配置し、円筒型反応管を囲んで外管が配置されている。
【0030】
本装置の作動に際しては、都市ガスをバーナにより空気で燃焼させ、反応管を昇温する。所定温度に到達後、原料ガス(炭化水素ガス+水蒸気)を下部から内管に供給し、上部で折返して内管と円筒型反応管との間に導入する。炭化水素ガスは円筒状改質触媒兼支持体の触媒作用により改質される。生成改質ガス中の水素はPd膜により選択的に分離され、円筒型反応管と外管との間の空隙を経て高純度の水素として取り出される。生成改質ガス中の水素以外の成分、すなわちCO、CO、H(Pd膜で未透過のH)等は内管と円筒型反応管の間を通り、オフガスとして排出される。
【0031】
〈実施例4〉
図12は本実施例4を示す図である。円筒型反応管として実施例3と同様に構成した図4に示す外膜式円筒型反応管を用い、これを図8に示す水素製造装置における円筒型反応管としてセットした。図12のとおり、円筒型反応管内に間隔を置いて内管を配置し、円筒型反応管を囲んで外管が配置されている。円筒型反応管の上部及び外管の上部は蓋により塞がれている。
【0032】
本装置の作動に際しては、都市ガスをバーナにより空気で燃焼させ、反応管を昇温する。所定温度に到達後、原料ガス(炭化水素ガス+水蒸気)を内管と円筒型反応管の間に下部から供給する。炭化水素ガスは円筒状改質触媒兼支持体の触媒作用により改質される。生成改質ガス中の水素は、Pd膜により選択的に分離され、円筒型反応管と外管との間の空隙を経て高純度の水素として取り出される。生成改質ガス中の水素以外の成分、すなわちCO、CO、H(Pd膜で未透過のH)等は、上部で折り返して内管内を通り、その下部からオフガスとして排出される。
【0033】
《実施例5》
図13〜15は、本発明に係る平板型反応板を角形に構成し、その4個を積層して構成した水素製造装置を示す図である。図14は水素製造装置の内部、すなわち積層した平板型反応板の部分を拡大して示した図である。各反応板はNi−YSZサーメットで構成した角形平板状改質触媒兼支持体の一面にPd膜を無電解めっき法により形成して構成したものである。
【0034】
図13〜14のとおり、平板型反応板の4個を積層して反応筒すなわち燃焼炉中に配置する。反応筒にはバーナを配置、臨ませ、都市ガスを燃料として空気で燃焼させる。生成した燃焼ガスにより反応筒内の平板型反応板を加熱し、反応板での水蒸気改質反応用の熱源として利用する。図15は図14中A−A線断面図で、A−A線に示した矢印(→)は当該断面を見た方向を示している。
【0035】
図15中点線で示した部分は、当該断面では見えないが、その矢印(→)方向の奥(すなわち前方)に位置する構造(水素導管、オフガス導管等)を示している。図15のとおり、4個の反応板のうち最上部の反応板は膜側を上にし、次の反応板は膜側を下にし、その次の反応板は膜側を上にし、最下部の反応板は膜側を下にして配置されている。また、図15中に示した矢印は、作動時における各ガスの流動方向を示している。
【0036】
本装置の作動に際しては、都市ガスをバーナにより空気で燃焼させ、反応板を昇温する。所定温度に到達後、原料ガス(炭化水素ガス+水蒸気)を相対する反応板の平板状改質触媒兼支持体側に供給し、炭化水素ガスを平板状改質触媒兼支持体の触媒作用により改質する。生成改質ガス中の水素はPd膜により選択的に分離され、反応板のPd膜側の空隙を経て、水素導管から高純度の水素として取り出される。生成改質ガス中の水素以外の成分、すなわちCO、CO、H(Pd膜で未透過のH)等は相対する反応板の改質触媒兼支持体側を通り、オフガス導管からオフガスとして排出される。
【0037】
【発明の効果】
本発明によれば、水素透過膜の支持体として改質触媒兼支持体を用いることにより、従来では必須であった粒状等の改質触媒を不要とし、これにより、水素製造装置を、従来の水素製造装置に比べて格段に単純化し、小型化できるなど各種有用な効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のメンブレンリアクタを原理的に示す図
【図2】従来のメンブレンリアクタの構成例を説明する図
【図3】本発明の改質触媒兼支持体を円筒状に構成した内膜式円筒型反応管を示す図
【図4】本発明の改質触媒兼支持体を円筒状に構成した外膜式円筒型反応管を示す図
【図5】本発明の外膜式円筒型反応管を用いた水素製造装置の態様を示す図
【図6】本発明の改質触媒兼支持体を平板状に構成し、これを用いて構成した平板型反応板の態様を示す図
【図7】本発明の平板型反応板を用いた水素製造装置の態様を示す図
【図8】本発明の円筒型反応管を用いた水素製造装置の例を示す図
【図9】本発明の実施例1を示す図
【図10】本発明の実施例2を示す図
【図11】本発明の実施例3を示す図
【図12】本発明の実施例4を示す図
【図13】本発明の実施例5を示す図
【図14】本発明の実施例5を示す図
【図15】本発明の実施例5を示す図

Claims (11)

  1. 円筒状改質触媒兼支持体と、該改質触媒兼支持体の外周面に水素透過膜を配置してなり、円筒状改質触媒兼支持体の内側に原料ガスを通して円筒状改質触媒兼支持体で改質ガスを生成し、改質ガスを水素透過膜により精製して高純度水素を製造するようにしてなることを特徴とする水素製造装置。
  2. 円筒状改質触媒兼支持体と、該改質触媒兼支持体の内周面に水素透過膜を配置してなり、円筒状改質触媒兼支持体の外側に原料ガスを通して円筒状改質触媒兼支持体で改質ガスを生成し、改質ガスを水素透過膜により精製して高純度水素を製造するようにしてなることを特徴とする水素製造装置。
  3. 平板状改質触媒兼支持体と、該改質触媒兼支持体の一面に水素透過膜を配置してなり、平板状改質触媒兼支持体側に原料ガスを通して平板状改質触媒兼支持体で改質ガスを生成し、改質ガスを水素透過膜により精製して高純度水素を製造するようにしてなることを特徴とする水素製造装置。
  4. 前記改質触媒兼支持体がニッケルとイットリア安定化ジルコニアの混合物の焼結体からなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の水素製造装置。
  5. 円筒状改質触媒兼支持体と、該改質触媒兼支持体の外周面に配置された水素透過膜からなることを特徴とする水素製造装置用円筒型反応管。
  6. 円筒状改質触媒兼支持体と、該改質触媒兼支持体の内周面に配置された水素透過膜からなることを特徴とする水素製造装置用円筒型反応管。
  7. 前記円筒状改質触媒兼支持体がニッケルとイットリア安定化ジルコニアの混合物の焼結体からなることを特徴とする請求項5または6に記載の水素製造装置用用円筒型反応管。
  8. 前記水素透過膜がPd膜またはPd合金の膜であることを特徴とする請求項5乃至7のいずれか1項に記載の水素製造装置用円筒型反応管。
  9. 平板状改質触媒兼支持体と、該改質触媒兼支持体の一面に配置された水素透過膜からなることを特徴とする水素製造装置用平板型反応板。
  10. 前記平板状改質触媒兼支持体がニッケルとイットリア安定化ジルコニアの混合物の焼結体からなることを特徴とする請求項9に記載の水素製造装置用平板型反応板。
  11. 前記水素透過膜がPd膜またはPd合金の膜であることを特徴とする請求項9または10に記載の水素製造装置用平板型反応板。
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